JP6076667B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施形態のプラズマ処理装置を示す模式図である。図1に示すプラズマ処理装置は、大気圧近傍の圧力下で被処理物11を放電処理するプラズマ処理装置であって、放電室66と、放電室66にガスを導入するためのガス導入口69と、放電室66に導入されたガスを排出するためのガス排出口65と、放電室66の一端に設けられた被処理物導入口661と、放電室66の他端に設けれらた被処理物導出口662と、放電室66内に設けられた少なくとも一つの電極対(上部電極63aおよび下部電極63b)とを備える。プラズマ処理装置において、被処理物導出口662は、被処理物導入口661より大きい開口部で構成されている。このように構成することにより、被処理物導出口662から有害成分が漏洩することを防止することができる。被処理物導出口662の大きさは、被処理物導入口661の大きさの120〜600%であることが好ましい。
図1に示す大気圧プラズマ処理装置を用いた被処理物の放電処理では、大気圧近傍の圧力下で、上部電極63aと下部電極63bの間に被処理物11を配置し、ガス貯蔵タンク610からガス導入管611を介してガス導入口69より処理ガスを放電室66に供給する。そして、電極63a,63bの対向面間に処理ガスが導入され、電源から対向する電極63a,63b間に電圧を印加してプラズマを発生させることにより、該プラズマと被処理物11とが接触し、被処理物11の表面が放電処理される。
表示デバイス用カラーフィルタに供する、ガラス基板(支持基材)の表面に、ブラックマトリックス(隔壁)形成材料である黒色レジストからなる材料層が形成された表示デバイス基材〔ミクロ技研研究所製:600mm×800mm×0.7mm(厚み)〕を準備し、これを、毎分10mの搬送速度で図1に示すプラズマ処理装置に搬送し放電処理を行った。使用した処理ガスと発生した副生物は有害成分除外手段を通じて有害成分を吸着除外した後、装置外へ排出した。具体的なプラズマ処理装置の構成および処理条件、搬送途中でのエアー吹き付け処理条件は、以下のとおりである。
放電室66内に、上部電極63aと下部電極63bとからなる対向電極が、基板の搬送方向に2対配置され、上部電極63aと下部電極63bとの間隔が5mmであり、ガス排出口65が基板の搬送方向において最下流の電極63a,63bと被処理物導出口662の中間位置に設けられているプラズマ処理装置を用いた。処理ガスとして、ArガスおよびCF4ガスからなる混合ガスを使用し、Arガスを340L/分、CF4ガスを3.4L/分の割合で、放電室66内に供給した。すなわち、Arガスに対するCF4ガスの比率は1.0体積%とした。
プラズマ処理装置の被処理物導入口661の高さと、被処理物導出口662の高さをともに、搬送される表示デバイス基材の上面から10mmとした点以外は、実施例1と同様に実施した。位置P11、位置P12、位置P2、位置P3の圧力を測定したところ、(位置P2の圧力≒位置P11の圧力≒位置P12の圧力>位置P3の圧力)の関係であった。
プラズマ処理装置の被処理物導出口662の下流側に設けたエアーノズルを作動させずエアーの吹き付けを行なわなかった点以外は、比較例1と同様に実施した。位置P11、位置P12、位置P2、位置P3の圧力を測定したところ、(位置P2の圧力≒位置P11の圧力≒位置P12の圧力>位置P3の圧力)の関係になることが確認された。
Claims (2)
- 大気圧近傍の圧力下で被処理物を放電処理するプラズマ処理装置であって、
放電室と、
前記放電室にガスを導入するためのガス導入口と、
前記放電室に導入されたガスを排出するためのガス排出口と、
前記放電室の一端に設けられた被処理物導入口と、
前記放電室の他端に設けれらた被処理物導出口と、
前記放電室内に設けられた少なくとも一つの電極対と、
前記被処理物導入口から前記放電室内に前記被処理物を導入し、前記電極対の電極間を通過させた後に、前記被処理物導出口から前記放電室の下流方向に前記被処理物を搬送する、搬送手段と、
前記放電室の下流の前記被処理物の搬送路上に、前記被処理物の表面に、前記被処理物の表面から前記放電室の前記被処理物導出口に向かうようにエアーを吹き付けるエアー吹き付け手段と、
前記ガス排出口から排出されるガスに含まれる有害成分を除去した後に外部へ排出する有害成分除去手段と、を備え、
前記被処理物導出口は前記被処理物導入口より大きい開口部で構成され、
前記放電室内において、前記被処理物の搬送方向に順に、全ての前記電極対、前記ガス排出口、前記被処理物導出口が設けられ、
前記被処理物導入口の上流方向に1000mm離れた位置P11と、前記被処理物導出口から1000mm離れた位置P12と、前記ガス排出口付近の位置P2と、前記有害成分除去手段の外部の位置P3との圧力とが、
位置P11の圧力≒位置P12の圧力>位置P2の圧力>位置P3の圧力
の関係を満たすように用いられる、プラズマ処理装置。 - 前記エアー吹き付け手段のエアー吹き出し位置は、前記放電室の前記被処理物導出口から前記被処理物の搬送方向に2000mm以内の位置である、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
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JP2012219490A JP6076667B2 (ja) | 2012-10-01 | 2012-10-01 | プラズマ処理装置 |
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