JP6076504B2 - リキッド・クリスタル・オン・シリコン・チップにおける画素テスト - Google Patents
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Description
配線上において、生じた電圧を感知するように構成される。
アレイ)102などのドライバ・チップを備える。LCOS IC124を制御するのに、FPGA102はコマンド、同期信号、デジタル・データ、変化するアナログ信号、デジタル信号、又はこれらの組合せを通信する。これに加えて、FPGA102はLCOS
IC124から、様々な信号及び/又はデジタル・データ信号、出力同期信号、その他を受信し得る。
リセット信号と補助的なデジタル・データ信号とは、同期信号としてデジタル・クロック信号を含み得る。データ・アウト信号と出力クロック信号とは、LCOS IC124の同期と作動状況とに関する情報を、FPGA102に対して通信し得る。
例えば、いくつかの実施形態において、画素126が256通り以上のレベルの明度を表示するようにプログラミングすることもできる。画素126に対して目標電圧を供給するプロセスは、「画像の書き込み」と示され得る。
とを説明するために、楕円が含められる。いくつかの実施形態において、アレイ・コア120は複数の列バンクへと分離されてもよく、その列バンクはデジタル・ポート142の1つに接続され得る(前述に詳しい)。
ンプ300は、センス・アンプ300を列配線222A及び222Bの一方に対して選択的に接続するセンス・アンプ・スイッチ220を備え得る。センス・アンプ・スイッチ220は、図2及び図3の両方に図示される。
から隔離され得る。
図4は、図2に記載のテスト・システム200の一例のシーケンスを図示する、一例の信号図400である。図2と図4とを組み合わせて参照すると、信号図400は、第1の画素202Aに生じた電圧を感知するシーケンスを示す。図示される実施形態においては第1の画素202Aがテストされるが、何れの画素202も類似のシーケンスによってテストされ得る。
得る。いくつかの実施形態において、画素に対して第1の電圧を書き込む工程は、第1の電圧源に接続されているヤンク・アップ・スイッチを閉じることを含んでもよい。
Claims (20)
- 画素導通テストシステムを有するリキッド・クリスタル・オン・シリコン集積回路における画素の導通テスト方法であって、前記画素導通テストシステムは複数の画素を有し、同複数の画素はそれぞれNMOS/PMOS相補型スイッチと金属−絶縁体−金属(MIM)キャパシタとを有する方法であって、
前記方法は、
前記複数の画素のうちの第1の画素に対して第1の電圧を書き込む工程であって、同第1の電圧を書き込む工程は、前記第1の画素を配線に選択的に接続する第1の画素スイッチを閉じるとともに、前記配線を第1の電圧源に接続するヤンク・アップ・スイッチを閉じ、それにより、前記第1の電圧源の電圧が前記ヤンク・アップ・スイッチと第1の画素スイッチとを介して、前記第1の画素に印加される工程と、
前記第1の画素を隔離する工程と、
前記第1の画素に選択的に接続される前記配線を、前記第1の画素スイッチを介して放電する工程と、
前記配線上の電圧を感知するように構成されているセンス・アンプをイネーブルする工程と、
前記配線を前記複数の画素のうちの前記第1の画素以外の全ての画素から隔離しつつ、前記第1の画素を前記配線に電気的に接続する工程と、
前記配線上において、生じた電圧を感知する工程とを備える、導通テスト方法。 - 前記第1の画素を隔離する工程は前記第1の画素スイッチを開く工程を含み、前記第1の画素スイッチはイネーブル・アンプによって制御される、請求項1に記載の導通テスト方法。
- 前記第1の画素と前記複数の画素のうちの第2の画素とが第1の電圧に書き込まれるように、前記第2の画素を前記配線に電気的に接続する工程をさらに備える、請求項1に記載の導通テスト方法。
- 前記配線は列配線を含み、前記列配線は前記第1の画素及び前記第2の画素と列ドライバとを電気的に接続するように構成されている、請求項3に記載の導通テスト方法。
- 前記生じた電圧をスキャン・レジスタに蓄積する工程、又は前記生じた電圧を前記リキッド・クリスタル・オン・シリコン集積回路から送り出す工程をさらに備える、請求項1に記載の導通テスト方法。
- 前記第1の画素が前記配線に電気的に結合される時に電荷共有が生じるように、前記第1の画素の画素電気容量が前記配線の配線電気容量よりも小さい、請求項1に記載の導通テスト方法。
- 前記センス・アンプがPVT(プロセス、電圧、温度)変化を補償するためのしきい値をプログラミングする工程と、
前記センス・アンプ用の捕捉時間をプログラミングする工程をさらに備える、請求項1に記載の導通テスト方法。 - 前記配線を放電する工程は、前記配線を電気接地に接続するヤンク・ダウン・スイッチを閉じることを含む、請求項1に記載の導通テスト方法。
- リキッド・クリスタル・オン・シリコン集積回路の画素導通テスト・システムであって、
第1の画素と、第2の画素とであって、同第1の画素および第2の画素のそれぞれは、NMOS/PMOS相補型スイッチと金属−絶縁体−金属(MIM)キャパシタとを有する、第1の画素と、第2の画素と、
第1の画素スイッチを介して前記第1の画素に選択的に接続される第1の配線と、
ヤンク構造であって、前記第1の配線を第1の電圧源に接続するように構成されているヤンク・アップ・スイッチと、前記第1の配線を第2の電圧源に接続するように構成されているヤンク・ダウン・スイッチとを備えるヤンク構造と、
センス・アンプであって、センス・アンプ・スイッチを介して前記第1の配線に選択的に接続されるように構成され、
前記第1の画素スイッチが閉じられることに続いて、前記第1の画素からの前記第1の配線上における第1の生じた電圧を感知し、
前記第2の画素スイッチが閉じられることに続いて、前記第2の画素からの前記第1の配線上における第2の生じた電圧を感知するように構成されているセンス・アンプとを備える、画素導通テスト・システム。 - 前記第2の電圧源は電気接地を含む、請求項9に記載の画素テスト・システム。
- 前記第1の生じた電圧および前記第2の生じた電圧を蓄積するスキャン・レジスタをさらに備える、請求項9に記載の画素テスト・システム。
- 前記第1の画素スイッチの状態を制御するように構成されている第1のイネーブル・アンプと、
前記第2の画素スイッチの状態を制御するように構成されている第2のイネーブル・アンプと
をさらに備える、請求項9に記載の画素テスト・システム。 - 前記第1の配線は第1の列配線を含む、請求項12に記載の画素テスト・システム。
- 前記画素テスト・システムはさらに、
第3の画素と、
第4の画素と、
第3の画素スイッチを介して前記第3の画素に選択的に接続される第2の列配線であって、同第2の列配線はまた、第4の画素スイッチを介して前記第4の画素に選択的に接続される、第2の列配線とを有し、
前記第1のイネーブル・アンプは、前記第3の画素スイッチの状態を制御するように構成されており、前記第2のイネーブル・アンプは、前記第4の画素スイッチの状態を制御するように構成されている、請求項13に記載の画素テスト・システム。 - ヤンク配線をさらに備え、前記ヤンク配線は、
前記第1の列配線を前記ヤンク構造に選択的に接続するように構成されている第1の列ヤンク・スイッチと、
前記第2の列配線を前記ヤンク構造に選択的に接続するように構成されている第2の列ヤンク・スイッチとを備える、請求項14に記載の画素テスト・システム。 - 前記第1の画素に対して画像を書き込む前記第1の配線に接続されている列ドライバをさらに備える、請求項9に記載の画素テスト・システム。
- 前記センス・アンプは、
センス回路と、
プログラミング可能なしきい値を含むトリガとを備える、請求項9に記載の画素テスト・システム。 - リキッド・クリスタル・オン・シリコン集積回路であって、
第1の画素、第2の画素、第3の画素、および第4の画素を有する複数の画素であって、同第1の画素、同第2の画素、同第3の画素、および同第4の画素のそれぞれは、NMOS/PMOS相補型スイッチと金属−絶縁体−金属(MIM)キャパシタとを有する、複数の画素と、
第1の列配線であって、第1の画素スイッチを介して前記第1の画素に選択的に接続されるとともに、第2の画素スイッチを介して前記第2の画素に選択的に接続される第1の列配線と、
第2の列配線であって、第3の画素スイッチを介して前記第3の画素に選択的に接続されるとともに、第4の画素スイッチを介して前記第4の画素に選択的に接続される第2の列配線と、
ヤンク構造であって、前記第1の列配線と前記第2の列配線とを第1の電圧源に接続するように構成されているヤンク・アップ・スイッチと、前記第1の列配線と前記第2の列配線とを電気接地に接続するように構成されているヤンク・ダウン・スイッチとを備える、ヤンク構造と、
第1の行配線であって、前記第1の画素スイッチに選択的に接続されるとともに、前記第3の画素スイッチに選択的に接続される第1の行配線と、
第2の行配線であって、前記第2の画素スイッチに選択的に接続されるとともに、前記第4の画素スイッチに選択的に接続される第2の行配線と、
第1のセンス・アンプであって、前記第1の列配線の上において生じた電圧を感知するように構成されている、第1のセンス・アンプと、
第2のセンス・アンプであって、前記第2の列配線の上において生じた電圧を感知するように構成されている、第2のセンス・アンプと、
を備える、リキッド・クリスタル・オン・シリコン集積回路。 - 前記第1の行配線を介して前記第1の画素スイッチと前記第3の画素スイッチの状態を制御するように構成された第1の行イネーブル・アンプをさらに備える、請求項18に記載のリキッド・クリスタル・オン・シリコン集積回路。
- 前記第1のセンス・アンプおよび前記第2のセンス・アンプのそれぞれは、前記複数の画素の内の1つの画素から生じた電圧を感知するように構成されている、請求項19に記載のリキッド・クリスタル・オン・シリコン集積回路。
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