JP6075040B2 - 表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
<概要>
本実施形態の表示装置の製造方法は、第一透明基板にピラミッド状ITO結晶を成長させ第一電極を形成し、第一電極と対向して第二透明基板に平坦面からなる第二電極を形成させ、第一電極と第二電極間に金属クラスターを封止することを特徴とする。当該構成を有することにより、効果的な黒面表示を可能とする表示装置を簡易な工程のみで製造することが可能になる。
図1は、本実施形態の表示装置の製造方法の処理の流れの一例を示す図である。同図において示されているように、本実施形態の表示装置の製造方法は以下のステップからなる。最初にステップS0101では、第一透明基板にピラミッド状ITO結晶を成長させ第一電極を形成する(第一電極形成ステップ)。次にステップS0102では、第一電極と対向して第二透明基板に平坦面からなる第二電極を形成する(第二電極形成ステップ)。そしてステップS0103では、第一電極と第二電極間に金属クラスターを封止する(封止ステップ)。なお、同図はあくまで一例あり、別の一例としてステップS0102の処理をステップS0101の前に行う方法を採用してもよい。
なお電極を形成するのであるから各ITO結晶間は電気的につながっていて導電性が保証されなければならない。
従来技術においてはITO膜を形成する具体的な方法としてスパッタリング法が用いられることが多かったが、本実施形態においては、結晶成長を促すスプレーCVD法(実施形態2において詳述する。)やディップコート法等の溶液塗布法を用いることでITO結晶を成長させる。ただし、必ずしもこれらの方法に限定されるものではなく、上記結晶成長が可能となる方法であればどのような方法であってもよい。
本実施形態の表示装置の製造方法を採用することにより、ムラのない黒面表示を可能とする表示装置を簡易な工程のみで製造することが可能になる。
ここで、本実施形態の製造方法により製造される表示装置の作用について、各図を用いて説明する。まずは、表示装置の第二電極上に金属クラスターが電着している様子の拡大写真として図7を示す。同図は、金属クラスターとして銀系金属を採用し、同金属クラスターの粒子が第二電極上に電着している様子を電子顕微鏡(SEM)を用いて15万倍に拡大した写真である。同図においては複数の「金属クラスター粒子」0701がそれぞれ結合し、第二電極上にまんべんなく電着している様子が示されている。
<概要>
本実施形態の表示装置の製造方法は、基本的に実施形態1で説明した表示装置の製造方法と同様であるが、第一電極の形成においてはスプレーCVD法によってピラミッド状ITO結晶を成長させることを特徴とする。当該特徴を備える構成とすることにより、第一透明基板上に微細な粒子のITO分子を付着させて結晶成長させ、同基板上に多くのピラミッド状の凹凸形状のITO膜を形成させることが可能になり、極めてムラの少ない黒表示が可能な第一電極を形成することが可能になる。
図10は、本実施形態の表示装置の製造方法の処理の流れの一例を示す図である。同図において示されているように、本実施形態の表示装置の製造方法は以下のステップからなる。最初にステップS1001では、第一透明基板にピラミッド状ITO結晶を成長させ第一電極を形成する(第一電極形成ステップ)。ここで第一電極形成ステップにおいては、サブステップSS1010として、スプレーCVD法によってピラミッド状ITO結晶を成長させる(スプレーCVDサブステップ)。次にステップS1002では、第二透明基板に平坦面からなる第二電極を形成し、第一電極と対向配置する(第二電極形成ステップ)。そしてステップS1003では、第一電極と第二電極間に金属クラスター(荷電した金属クラスター)を封止する(封止ステップ)。基本的な構成は実施形態1で説明した表示装置の製造方法と共通するため、以下、相違点であるスプレーCVDサブステップを中心に説明する。
本実施形態の表示装置の製造方法を採用することにより、実施形態1で説明した第一電極における効果をより強調できるような黒色表示を実現可能な表示装置を製造・提供することが可能になる。
<概要>
本実施形態の表示装置の製造方法は、基本的に実施形態1で説明した表示装置の製造方法と同様であるが、第一電極形成ステップにおいてITOを(400)面に強配向させる強配向サブステップを備えることを特徴とする。当該特徴を備える構成とすることにより、実施形態1で説明した第一電極における効果をより好適に実現可能な表示装置を製造・提供することが可能になる。
図11は、本実施形態の表示装置の製造方法の処理の流れの一例を示す図である。同図において示されているように、本実施形態の表示装置の製造方法は以下のステップからなる。最初にステップS1101では、第一透明基板にピラミッド状ITO結晶を成長させ第一電極を形成する(第一電極形成ステップ)。ここで第一電極形成ステップにおいては、サブステップSS1110として、ITOを(400)面に強配向させる(強配向サブステップ)。次にステップS1102では、第二透明基板に平坦面からなる第二電極を形成し、第一電極と対向配置する(第二電極形成ステップ)。そしてステップS1103では、第一電極と第二電極間に金属クラスターを封止する(封止ステップ)。基本的な構成は実施形態1で説明した表示装置の製造方法と共通するため、以下、相違点である強配向サブステップを中心に説明する。
本実施形態の表示装置の製造方法を採用することにより、実施形態1で説明した第一電極における効果をより好適に実現可能な表示装置を製造・提供することが可能になる。
<概要>
図12は、本実施形態の製造方法により製造された表示装置の機能の一例を示す図である。同図においては、「2名の子供のソリ」1202の背後に「表示装置」1201を配置し、同装置上に「発光表示」1210をさせている図である。本実施形態の表示装置の製造方法は、基本的に実施形態1で説明した表示装置の製造方法のうち、第二電極形成ステップにて用いる基板として第二透明基板を採用した場合と同様であるが、第二電極をITO電極とするととともに、第二透明基板側又は/及び第一透明基板側に透明有機EL発光層を設ける透明有機EL発光層形成ステップをさらに有することを特徴とする。当該特徴を備える構成とすることにより、透明、鏡面、黒面に加え、発光表示をも一の表示装置にてスイッチャブルに実現することが可能になる。
図13は、本実施形態の表示装置の製造方法の処理の流れの一例を示す図である。同図において示されているように、本実施形態の表示装置の製造方法は以下のステップからなる。最初にステップS1301では、第一透明基板にピラミッド状ITO結晶を成長させ第一電極を形成する(第一電極形成ステップ)。次にステップS1302では、第二透明基板に平坦面からなる第二電極を形成し、第一電極と対向配置する(第二電極形成ステップ)。そしてステップS1303では、第一電極と第二電極間に金属クラスターを封止する(封止ステップ)。そしてステップS1304では、第二透明基板側又は/及び第一透明基板側に透明有機EL発光層を設ける(透明有機EL発光層形成ステップ)。なお、同図はあくまで一例あり、例えば、ステップS1304は前記各ステップのいずれの段階において処理されてもよい。すなわち、ステップS1301ないしステップS1303のいずれの段階が完了した後に行われてもよいし、これらの各ステップと並行して行われてもよい。上記の基本的な構成は実施形態1で説明した表示装置の製造方法と共通するため、以下、相違点である透明有機EL発光層形成ステップを中心に説明する。
なお、前記表示装置における各電極あるいは接合に用いる各素子はいずれも透明素材を用いているため、表示装置の片面のみならず、両面に対して前記発光表示を行うことが可能になる。すなわち、本実施形態の表示装置の製造方法を採用することにより、実施形態1等で説明した効果に加え、透明、鏡面、黒面に加え、発光表示をも一の表示装置にてスイッチャブルに実現することが可能になる。そして、これらの様々な表示が可能な表示装置は、屋内外における広告媒体や、美術館や博物館、劇場等の芸術分野、あるいは学校や塾、研究所等の学術分野の各場面における情報の提示方法の多様化を実現することが可能になる。
Claims (7)
- 第一透明基板にスプレーCVD法によってピラミッド状ITO結晶を成長させ第一電極を形成する第一電極形成ステップと、
第二透明基板に平坦面からなる第二電極を形成し、第一電極と対向させる第二電極形成ステップと、
第一電極と第二電極間に金属クラスターを封止する封止ステップと、
からなる表示装置の製造方法。 - 第二透明基板に平坦面からなる第二電極を形成する第二電極形成ステップと、
第一透明基板にスプレーCVD法によってピラミッド状ITO結晶を成長させ第一電極を形成し、第二電極と対向させる第一電極形成ステップと、
第一電極と第二電極間に金属クラスターを封止する封止ステップと、
からなる表示装置の製造方法。 - 金属クラスターは、金系金属、銀系金属、銅系金属、プラチナ系金属、アルミ系金属、鉄系金属の中から選択される一以上の金属クラスターである請求項1又は2に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第一電極形成ステップは、ITOを(400)面に強配向させる強配向サブステップをさらに有する請求項1から3のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。
- 第二電極をITO電極とするとともに、
第二透明基板側又は/及び第一透明基板側に透明有機EL発光層を設ける透明有機EL発光層形成ステップをさらに有する請求項1から4のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。 - 第二透明基板に代えて不透明基板とした請求項1から4のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。
- 第二透明基板と第二電極に代えて両者を兼用する金属基板とした請求項1から4のいずれか一に記載の表示装置の製造方法。
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