JP6072591B2 - 加工装置 - Google Patents

加工装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6072591B2
JP6072591B2 JP2013081101A JP2013081101A JP6072591B2 JP 6072591 B2 JP6072591 B2 JP 6072591B2 JP 2013081101 A JP2013081101 A JP 2013081101A JP 2013081101 A JP2013081101 A JP 2013081101A JP 6072591 B2 JP6072591 B2 JP 6072591B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
polishing
polishing pad
wrapping head
frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013081101A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014200901A (ja
Inventor
尚一 島田
尚一 島田
宇田 豊
豊 宇田
清野 慧
慧 清野
泰幸 郷
泰幸 郷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nagase Integrex Co Ltd
Original Assignee
Nagase Integrex Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nagase Integrex Co Ltd filed Critical Nagase Integrex Co Ltd
Priority to JP2013081101A priority Critical patent/JP6072591B2/ja
Publication of JP2014200901A publication Critical patent/JP2014200901A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6072591B2 publication Critical patent/JP6072591B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

本発明は、加工技術に関し、特にワークの表面を高精度にラッピング加工できる加工装置に関する。
ワークの表面を,例えば高精度な平面形状又は放物面形状に研磨することが求められている。特許文献1には、ウエハ等の表面を平面に加工する研磨装置が開示されている。特許文献1の技術では、ウエハ等のワークを回転する定盤上に載置して、表面にスラリを供給しつつ、ワークを回転させながら、回転する研磨ヘッドをワークに接触させて表面加工を行っている。
特開平10−156704号公報
ここで、特許文献1の技術では、回転する研磨ヘッドをワークに対して相対移動させる際に、駆動系のブレ等の影響が研磨ヘッドを介してワークの被加工面に伝達され、高精度な研磨を行えないという問題がある。
本発明は、かかる問題点に鑑み、駆動系のブレの影響を抑えつつ、ワークの表面を高精度にラッピング加工できる加工装置を提供することを目的とする。
本明細書中、「研磨パッドの高さ」とは、ラッピングヘッドの取り付け面から研磨パッドの研磨面までの距離をいう。
尚、中央の研磨パッドを基準としたとき、前後のパッドがワークにならってラッピングヘッドがピッチング動作をすれば良いので、必ずしも中央のパッドの研磨面とワークとの接線を中心とする必要はない。ワークの傾斜や形状に関係なく、常に3つの研磨パッドがワークを研磨すれば足りる。但し、ピッチング動作の支点は、パッド研磨面とワークとの接線に近い方が研磨力によるラッピングヘッドを回転させるモーメントが小さくなりスムーズにピッチング動作ができる。
請求項に記載の加工装置は、
ワークに対して、直線方向に相対的に往復移動可能に保持されたフレームと、
前記直線方向に沿って配置された3個の研磨パッドを備えたラッピングヘッドと、
前記フレームに対して前記ラッピングヘッドを枢動可能に保持する保持部と、
前記フレームに対して前記ラッピングヘッドに向かって付勢する付勢手段とを有し、
隣接する前記研磨パッドの間隔を一致させ、前記研磨パッドの高さを変えており、
前記研磨パッドを前記ワークの被加工面に接触させながら、前記保持部を前記直線方向に相対移動させたとき、前記保持部に対して前記ラッピングヘッドがピッチング動作するように枢動することで、前記ワークの被加工面を放物面形状にラッピングすることを特徴とする。
本発明によれば、ワークに対して、直線方向に相対的に往復移動するように保持されたフレームに対して、前記付勢手段により付勢された前記ラッピングヘッドを枢動可能に設けたので、3個の前記研磨パッドにより、駆動系のブレの影響を抑制しながら、ワークの被加工面を高精度にラッピング加工できる。このとき、隣接する前記研磨パッドの間隔を一致させ、前記研磨パッドの高さを変えることで、前記ワークの被加工面を放物面形状にラッピングすることができる。
請求項に記載の加工装置は、請求項に記載の発明において、前記研磨パッドは、前記直線方向に直交する軸回りに回転可能となっていることを特徴とする。


これにより、加工の効率化を図れる。
本発明によれば、駆動系のブレの影響を抑えつつ、ワークの表面を高精度にラッピング加工できる加工装置を提供することができる。
本実施の形態にかかる加工装置の側面図である。 別な実施の形態に用いるラッピングヘッド4’の側面図である。 研磨パッドの変形例を示す図である。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図1は、本実施の形態にかかる加工装置の側面図である。不図示の定盤等に取り付けられたフレーム1が、不図示の移動ステージに載置されたワークWの被加工面WPに対向して配置され、ここでは左右方向に直線的に相対移動可能となっている。
フレーム1の下方には、付勢手段としてのばね体2を介して保持部3が取り付けられている。保持部3は、ラッピングヘッド4を紙面垂直方向に延在する枢動軸P回りに揺動可能に取り付けている。ラッピングヘッド4は、その下面に3個の研磨パッド4a、4b、4cを相対移動方向に沿って取り付けている。研磨パッド4a、4bの中心間隔d1は、研磨パッド4b、4cの中心間隔d2と異なっている。ラッピングヘッド4を水平に維持したときに、研磨パッド4a、4b、4cの高さ(ラッピングヘッド4の取り付け面から研磨面までの距離)を等しくするように、ドレッシングを行っている。
本実施の形態の動作について説明する。移動ステージを駆動することで、ワークWがフレーム1に対して左右方向に相対移動する。このとき、ばね体2の付勢力でワークWの被加工面WPに向かって押しつけられたラッピングヘッド4は、ワークWの被加工面WPに倣って保持部3に対して枢動軸P回りに揺動し(ピッチング動作のみを行い)、このとき被加工面WPの相対的に高い部位には研磨パッド4a、4b、4cのいずれかが強く当たり研磨圧が高まり、相対的に低い部位には研磨パッド4a、4b、4cのいずれかが弱く当たり研磨圧が低くなる。このように被加工面WPの研磨量を局所的に調整することができるから、被加工面WPに対して繰り返し加工することで、駆動系のブレ等にかかわらず、高精度な平面形状にラッピング加工できる。
更に、研磨パッド4a、4bの中心間隔d1と、研磨パッド4b、4cの中心間隔d2とを異ならせているので、被加工面WPのうねり成分を除去することができ、更に高精度なラッピング加工を行える。
図2は、別な実施の形態に用いるラッピングヘッド4’の側面図である。この例では、研磨パッド4a、4b、4cの高さを変えている。より具体的には、並び方向中央の研磨パッド4bの高さを最も低くし、それよりも研磨パッド4aをa1だけ長くし、研磨パッド4cをa2だけ長くしている。尚、研磨パッド4a、4b、4cの中心間隔dは等しい。それ以外の構成は、上述した実施の形態と同様である。
3つの研磨パッド4a、4b、4cの間隔がdで、中央の研磨パッド4bに対し左右の研磨パッド4a、4cがそれぞれa1,a2だけ出っ張っていると、長さLのワークWを加工する際に、高さy、長手方向xとして、y=−((a1+a2)/2)x2であらわされる凸型の放物線になる。逆に引っ込んでいると凹型の放物線になる。よって、このようなラッピングヘッド4’を用いてワークをラッピング加工すると、高さが(a1+a2)・2・(L/d)2で変化する被加工面を得ることができる。
図3は、研磨パッドの変形例を示す図である。図3において、ラッピングヘッド4は、上面にモータ5を取り付けており、モータ5の回転軸5aはラッピングヘッド4を垂直に貫通して下面に至り、その先端に回転盤5bを形成している。回転盤5bの下面には、円環状の研磨パッド4aが取り付けられている。図示していないが、研磨パッド4b、4cも同様な構成を有する。
本変形例に形態によれば、ワークをフレームに対して相対移動させると同時に、モータ5を駆動して回転軸5aとともに研磨パッド4aを回転させる。これにより、研磨の効率を高めることができる。
尚、以上の実施の形態において、ワークを固定した状態で、直進ガイド等を用いてフレームを移動させても良い。
1 フレーム
2 ばね体
3 保持部
4、4’ ラッピングヘッド
4a 研磨パッド
4b 研磨パッド
4c 研磨パッド
5 モータ
5a 回転軸
5b 回転盤
P 枢動軸
W ワーク
WP 被加工面

Claims (2)

  1. ワークに対して、直線方向に相対的に往復移動可能に保持されたフレームと、
    前記直線方向に沿って配置された3個の研磨パッドを備えたラッピングヘッドと、
    前記フレームに対して前記ラッピングヘッドを枢動可能に保持する保持部と、
    前記フレームに対して前記ラッピングヘッドに向かって付勢する付勢手段とを有し、
    隣接する前記研磨パッドの間隔を一致させ、前記研磨パッドの高さを変えており、
    前記研磨パッドを前記ワークの被加工面に接触させながら、前記保持部を前記直線方向に相対移動させたとき、前記保持部に対して前記ラッピングヘッドがピッチング動作するように枢動することで、前記ワークの被加工面を放物面形状にラッピングすることを特徴とする加工装置。
  2. 前記研磨パッドは、前記直線方向に直交する軸回りに回転可能となっていることを特徴とする請求項に記載の加工装置。
JP2013081101A 2013-04-09 2013-04-09 加工装置 Active JP6072591B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013081101A JP6072591B2 (ja) 2013-04-09 2013-04-09 加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013081101A JP6072591B2 (ja) 2013-04-09 2013-04-09 加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014200901A JP2014200901A (ja) 2014-10-27
JP6072591B2 true JP6072591B2 (ja) 2017-02-01

Family

ID=52351814

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013081101A Active JP6072591B2 (ja) 2013-04-09 2013-04-09 加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6072591B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6653777B1 (ja) * 2019-02-01 2020-02-26 株式会社大気社 自動研磨システム

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08162432A (ja) * 1994-11-30 1996-06-21 Ricoh Co Ltd 半導体基板の研磨方法及び研磨装置並びに研磨されたウエハ
JP2008137118A (ja) * 2006-12-01 2008-06-19 Ntn Corp 欠陥修正装置および欠陥修正方法
US8366518B2 (en) * 2010-02-11 2013-02-05 Miles Supply, Inc. Orbital smoothing device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014200901A (ja) 2014-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102625451B1 (ko) 평탄 가공 장치
JP7080552B2 (ja) 切削ブレードのドレッシング方法
JP6127235B2 (ja) 触媒支援型化学加工方法および触媒支援型化学加工装置
TW201535503A (zh) 研磨裝置及研磨方法
JP5530815B2 (ja) ドレスボード保持テーブル
KR20170021948A (ko) 자기 유변 유체를 이용한 글래스 에지 연마 장치
JP6072591B2 (ja) 加工装置
JP6552924B2 (ja) 加工装置
KR101511593B1 (ko) 디스플레이패널용 유리판, 그의 연삭을 위한 연마지석 및 연삭장치
TW201416178A (zh) 研磨刀具、三軸機台及其加工方法及殼體的加工方法
US20170182622A1 (en) Lens-centering method for spherical center-type processing machine, lens-processing method, and spherical center-type processing machine
KR20170023223A (ko) 패널의 에지 폴리싱 장치 및 방법
JP2016060031A (ja) 研削ホイール
JP6453228B2 (ja) 研磨工具、研磨方法および研磨装置
KR102267749B1 (ko) 판재의 테두리 가공 지석 및 모따기 장치
KR102098993B1 (ko) 웨이퍼 에지 연마용 드럼 패드의 드레싱 장치
KR102047717B1 (ko) 블레이드의 드레싱 기구 및 그 기구를 구비한 절삭 장치 및 그 기구를 사용한 블레이드의 드레싱 방법
JP2017109295A (ja) 研磨加工装置
JP5019203B2 (ja) 半導体ウェハの研磨方法及び半導体ウェハの研磨装置
JP2019141924A (ja) 機械加工装置
JP2014193514A (ja) 導光板加工装置
KR101441276B1 (ko) 톱날 연마 장치
JP5690599B2 (ja) 加工装置
KR20210000792U (ko) 다중 그룹 연마 기구를 구비하는 그라인딩 머신
KR101759278B1 (ko) 가공장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160108

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161027

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161028

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161205

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161228

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161228

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6072591

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250