JP6060884B2 - 表面改質剤及び表面改質方法 - Google Patents
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Description
〔1〕
下記一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物、その部分加水分解物及びそれらの部分加水分解縮合物から選ばれる1種又は2種以上を含有する表面改質剤。
(式中、Rfは炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のパーフルオロアルキル基を表す。a、b、c、d、e、fはそれぞれ独立して0又は1以上の整数を表し、a+b+c+d+eは1以上である。なお、a、b、c、d、eでくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において限定されない。gは0又は1、hは0,1又は2、jは0又は1、kは2〜6の整数、mは1〜3の整数。Xはフッ素原子又はトリフルオロメチル基、R1は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R2及びR3はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子又は炭素数1〜20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であり、該アルキル基は、水素原子の一部又は全てがハロゲン原子で置換されていてもよく、エーテル結合を含んでいてもよい。)
〔2〕
一般式(1)において、下記式
で示される基が、下記式
−OCH2Rf’
(Rf’は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキルエーテル基を示す。)
で示される基である〔1〕に記載の表面改質剤。
〔3〕
一般式(1)において、hは1、jは1、kは3である〔1〕又は〔2〕に記載の表面改質剤。
〔4〕
一般式(1)において、hは0、jは0、kは2である〔1〕又は〔2〕に記載の表面改質剤。
〔5〕
一般式(1)において、aは0〜3、bは0〜3、cは0〜100、dは0〜100、eは1〜200、gは0又は1、a+b+c+d+eは1〜300である〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の表面改質剤。
〔6〕
一般式(1)において、aは0〜3、bは1〜200、cは0〜3、dは0〜3、eは0〜3、gは0又は1、a+b+c+d+eは1〜200である〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の表面改質剤。
〔7〕
一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物の数平均分子量が、500〜50,000であり、かつ、下記一般式(1’)で表されるフルオロアルコキシシリル基部分の数平均分子量が1,500未満である〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の表面改質剤。
〔8〕
(1)〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の表面改質剤をエチルパーフルオロブチルエーテルで0.1〜0.5質量%の濃度に希釈し、処理浴を調製する工程、及び
(2)(1)で調製した処理浴に化学強化ガラスを30秒浸漬後、150mm/分の速度で引上げ、22〜28℃、50〜60%RHで1時間放置させて硬化被膜を形成する工程
を経ることにより、水に対する接触角が110°以上であり、かつ、オレイン酸に対する接触角が70°以上である硬化被膜を化学強化ガラス上に形成することを含む化学強化ガラスの表面改質方法。
〔9〕
(1)〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の表面改質剤をエチルパーフルオロブチルエーテルで0.1〜0.5質量%の濃度に希釈し、処理浴を調製する工程、及び
(2)(1)で調製した処理浴に化学強化ガラスを30秒浸漬後、150mm/分の速度で引上げ、22〜28℃、50〜60%RHで1時間放置させて硬化被膜を形成する工程
を経ることにより、エチルパーフルオロブチルエーテルで掛け流し洗浄した前後の水に対する接触角の差及びオレイン酸に対する接触角の差がそれぞれ3°未満である硬化被膜を化学強化ガラス上に形成することを含む化学強化ガラスの表面改質方法。
あるいは、一般式(1)において、好ましくはaは0〜3、bは1〜200、cは0〜3、dは0〜3、eは0〜3、gは0又は1、a+b+c+d+eは1〜200であるような組み合わせ、より好ましくはaは0〜2、bは1〜150、cは0、dは0〜3、eは0〜3、gは1、a+b+c+d+eは1〜150であるような組み合わせ、更に好ましくはaは0〜2、bは3〜100、cは0、dは0〜3、eは0〜3、gは1、a+b+c+d+eは3〜100であるような組み合わせ、特に好ましくはaは0、bは5〜60、cは0、dは0、eは0、gは1、a+b+c+d+eは5〜60であるような組み合わせとなる値である。
また、R1は炭素数1〜10、好ましくは1〜8の1価炭化水素基であり、R1の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基などの飽和炭化水素基、フェニル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基などの芳香族炭化水素基などが挙げられ、好ましくはメチル基である。
で示される基は、下記式
−OCH2Rf’
(Rf’は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキルエーテル基を示す。)
で示される基であることが好ましい。
で表されるフルオロアルコキシシリル基部分の数平均分子量が、1,500未満、特に50〜1,000、とりわけ80〜600であることが好ましい。フルオロアルコキシシリル基部分の数平均分子量が大きすぎると、基材との反応によって生じた離脱基がその他の官能基と基材との反応の妨げになる場合がある。
[測定条件]
展開溶媒:ハイドロクロロフルオロカーボン(HCFC)−225
流量:1mL/min.
検出器:蒸発光散乱検出器
カラム:東ソー社製 TSKgel Multipore HXL−M
7.8mmφ×30cm 2本使用
カラム温度:35℃
試料注入量:100μL(濃度0.3質量%のHCFC−225溶液)
なお、上記溶剤は、1種を単独に用いても2種以上を混合するようにしてもよく、いずれにしても上記成分を均一に溶解させるものを用いることが好ましい。
(1)一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物、その部分加水分解物及びそれらの部分加水分解縮合物から選ばれる1種又は2種以上をエチルパーフルオロブチルエーテルで0.1〜0.5質量%の濃度に希釈し、処理浴を調製する工程、及び
(2)(1)で調製した処理浴に化学強化ガラスを30秒浸漬後、150mm/分の速度で引上げ、22〜28℃、50〜60%RHで1時間放置させて硬化被膜を形成する工程
を経て得られた硬化被膜の水に対する接触角が110°以上、特に110〜130°であることが好ましく、またオレイン酸に対する接触角が70°以上、特に70〜90°であることが好ましい。
更に、上記工程を経て得られた硬化被膜を、エチルパーフルオロブチルエーテルで掛け流し洗浄した前後の水に対する接触角の差が、3°未満、オレイン酸に対する接触角の差が3°未満であることが好ましい。
ジムロート、滴下ロート、温度計、磁気撹拌子を備えた100mLの3つ口フラスコに、下記平均組成式(1a)で示される末端にアリル基を有する含フッ素化合物(数平均分子量3,700、アリル基濃度=0.026mol/100g)30g、塩化白金酸を1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンで変性した触媒のトルエン溶液(白金濃度0.5質量%)0.05gを仕込み、撹拌しながら内温80℃に加温した。滴下ロートに下記式(2a)で示されるフッ素変性アルコキシシラン(SiH基濃度=0.00068mol/g)13.8gを約5分で滴下し、内温80〜90℃で1時間熟成した。その後、100℃/5mmHgの条件でストリップ処理により、残余のシランを除去し、下記式(3a)で示される生成物41gを得た。FT−IR測定及び1H−NMR測定から、アリル基の消失及びSiH基の消失を確認した。なお、式(3a)で示される生成物は、数平均分子量が5,100であり、フッ素原子量が63質量%であった。
合成例1に記載されているのと同じ処方で、式(2a)の代わりに下記式(4a)で示されるフッ素変性アルコキシシラン(SiH基濃度=0.00307mol/g)2.8gを使用し、下記式(5a)で示される生成物32gを得た。なお、式(5a)で示される生成物は、数平均分子量が4,000であり、フッ素原子量が62質量%であった。
合成例1に記載されているのと同じ処方で、式(1a)の代わりに下記式(6a)で示される末端にビニル基を有する含フッ素化合物(数平均分子量4,100、ビニル基濃度=0.024mol/100g)30g、式(2a)の代わりに前記式(4a)で示されるフッ素変性アルコキシシラン2.8gを使用し、下記式(7a)で示される生成物32gを得た。なお、式(7a)で示される生成物は、数平均分子量が4,400であり、フッ素原子量が66質量%であった。
ジムロート、滴下ロート、温度計、磁気撹拌子を備えた100mLの3つ口フラスコに、前記平均組成式(1a)で示される末端にアリル基を有する含フッ素化合物(数平均分子量3,700、アリル基濃度=0.026mol/100g)30g、塩化白金酸を1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンで変性した触媒のトルエン溶液(白金濃度0.5質量%)0.05gを仕込み、撹拌しながら内温80℃に加温した。滴下ロートにトリメトキシシラン(SiH基濃度=0.0082mol/g)1.2gを約5分で滴下し、内温80〜90℃で2時間熟成した。その後、100℃/5mmHgの条件でストリップ処理により、残余のシランを除去し、下記式(8a)で示される生成物31gを得た。FT−IR測定及び1H−NMR測定から、アリル基の消失及びSiH基の消失を確認した。なお、式(8a)で示される生成物は、数平均分子量が3,800であり、フッ素原子量が62質量%であった。
合成例3に記載されているのと同じ処方で、式(4a)の代わりにトリメトキシシラン(SiH基濃度=0.0082mol/g)1.2gを使用し、下記式(9a)で示される生成物31gを得た。なお、式(9a)で示される生成物は、数平均分子量が4,200であり、フッ素原子量が68質量%であった。
表面処理剤の調製及び硬化被膜の形成
上記合成例1〜3及び比較合成例1,2で得られたフッ素ポリマー化合物を、濃度0.2質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて処理浴を調製した。化学強化ガラス(50mm×100mm、コーニング社製、商品名:Gorilla)を、処理浴に30秒浸漬後、150mm/分の速度で引上げ、室温(25℃、55%RH)で1時間放置させて硬化被膜を形成した。
上記で形成した被膜表面にNovec 7200をかけ流し処理し、未硬化の処理剤を洗い流した。
得られた硬化被膜のかけ流し処理前後の撥水撥油性を下記の方法により評価した。結果を表1に示す。
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスを用い、上記かけ流し処理前後の撥水撥油性について、接触角計Drop Master(協和界面科学社製)を用いて、硬化被膜の水に対する接触角(撥水性)及びオレイン酸に対する接触角(撥油性)をそれぞれ測定した。
一方、比較例1,2は、フッ素原子を含んでいない通常の加水分解性シリル基であるが、硬化が遅いため、Novec 7200によるかけ流し処理によって、一部の処理剤が洗い流され、接触角が低下している。
Claims (9)
- 下記一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物、その部分加水分解物及びそれらの部分加水分解縮合物から選ばれる1種又は2種以上を含有する表面改質剤。
- 一般式(1)において、hは1、jは1、kは3である請求項1又は2に記載の表面改質剤。
- 一般式(1)において、hは0、jは0、kは2である請求項1又は2に記載の表面改質剤。
- 一般式(1)において、aは0〜3、bは0〜3、cは0〜100、dは0〜100、eは1〜200、gは0又は1、a+b+c+d+eは1〜300である請求項1〜4のいずれか1項に記載の表面改質剤。
- 一般式(1)において、aは0〜3、bは1〜200、cは0〜3、dは0〜3、eは0〜3、gは0又は1、a+b+c+d+eは1〜200である請求項1〜4のいずれか1項に記載の表面改質剤。
- (1)請求項1〜7のいずれか1項に記載の表面改質剤をエチルパーフルオロブチルエーテルで0.1〜0.5質量%の濃度に希釈し、処理浴を調製する工程、及び
(2)(1)で調製した処理浴に化学強化ガラスを30秒浸漬後、150mm/分の速度で引上げ、22〜28℃、50〜60%RHで1時間放置させて硬化被膜を形成する工程
を経ることにより、水に対する接触角が110°以上であり、かつ、オレイン酸に対する接触角が70°以上である硬化被膜を化学強化ガラス上に形成することを含む化学強化ガラスの表面改質方法。 - (1)請求項1〜7のいずれか1項に記載の表面改質剤をエチルパーフルオロブチルエーテルで0.1〜0.5質量%の濃度に希釈し、処理浴を調製する工程、及び
(2)(1)で調製した処理浴に化学強化ガラスを30秒浸漬後、150mm/分の速度で引上げ、22〜28℃、50〜60%RHで1時間放置させて硬化被膜を形成する工程
を経ることにより、エチルパーフルオロブチルエーテルで掛け流し洗浄した前後の水に対する接触角の差及びオレイン酸に対する接触角の差がそれぞれ3°未満である硬化被膜を化学強化ガラス上に形成することを含む化学強化ガラスの表面改質方法。
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