JP2015013983A - 表面改質剤及び物品 - Google Patents
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Abstract
【課題】撥水撥油性、高滑水性である上に、耐UV性、耐熱性、耐薬品性(耐アルカリ性)に優れたコーティング膜が得られる表面改質剤を提供する。【解決手段】式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー、その部分加水分解物及びそれらの部分加水分解縮合物から選ばれる1種又は2種以上を含有する表面改質剤。(RfはC1−10の直鎖状又は分岐状のパーフルオロアルキル基;R1〜R3は各々独立してC1〜10の1価の炭化水素基;Zは加水分解性又は水酸基;a〜fは各々0又は1以上の整数;gは0又は1;h、kは2〜6の整数;mは1〜3の整数)【選択図】なし
Description
本発明は、さまざまな基材の表面上に防汚、低摩擦(滑り性)などの機能を付与する層を形成するのに用いられる表面改質剤、及び該表面改質剤により処理された物品に関するものである。
従来、加水分解性シリル基を有するフッ素ポリマー、及びこれらポリマーを各種基材の表面にコーティング処理し、撥水性や防汚性を付与する方法は、後述する種々の特許文献で提案されている。これらのコーティングを施した製品は屋外で使用される場合があり、耐紫外線(UV)性が求められる。また、基材にガラスを使用する場合、製造工程において、アルカリなどの薬品に触れたり、熱処理工程を経たりすることがあり、これらの観点から、耐薬品性、耐熱性の向上が求められている。
特許第2705105号公報(特許文献1)は、フッ素ポリマー部位と加水分解性シリル基とを結ぶ連結部位にヨウ素原子を含有している。この場合、長期の使用において、ヨウ素が離脱して着色することがあり、離脱による構造変化から耐UV性、耐熱性に劣る可能性がある。
特表2008−534696号公報(特許文献2)では、フッ素ポリマー部位と加水分解性シリル基との連結部位に、Xで表される二価の有機基の記載がある。しかし、XがSi元素を含有するという明確な記載がなく、実施例においては、XはO(酸素原子)のみの例示となっている。XがOの場合、エーテル結合を形成するので、分子の回転自由度が増し、滑り性の向上が期待されるが、反面、耐UV性、耐熱性、耐薬品性に劣ってしまう。
特許第4672095号公報(特許文献3)においても、フッ素ポリマーと加水分解性シリル基とを結ぶ連結基にエーテル結合を含んでおり、耐UV性、耐熱性、耐薬品性に劣る。
特許第4672095号公報(特許文献3)においても、フッ素ポリマーと加水分解性シリル基とを結ぶ連結基にエーテル結合を含んでおり、耐UV性、耐熱性、耐薬品性に劣る。
特許第5074927号公報(特許文献4)では、フッ素ポリマーと加水分解性シリル基との連結部位にシリコーン(シロキサン)スペーサーを介在させている。一般にシロキサン結合は、耐UV性や耐熱性に優れているが、酸やアルカリなどの薬品に対する耐久性に劣る。
特開2012−157856号公報(特許文献5)も前記と同様に、フッ素ポリマーと加水分解性シリル基との連結部位にシロキサン結合を含有している。
特開2012−157856号公報(特許文献5)も前記と同様に、フッ素ポリマーと加水分解性シリル基との連結部位にシロキサン結合を含有している。
特開2012−072272号公報(特許文献6)においても、フッ素ポリマーと加水分解性シリル基との連結基に2価の有機基Qの記載があるが、Si元素の含有については記載されていない。また、シロキサン構造を有したり、エーテル結合を有したりする構造であるため、耐UV性、耐熱性、耐薬品性に劣る。
特許第2860979号公報(特許文献7)では、フッ素ポリマーと加水分解性シリル基との連結基が短鎖アルキレン基であり、シンプルな構造となっているが、構造的には耐久性に優れるものの、ガラス基材表面へのコーティング膜のアルカリ耐久性は十分ではなく、更なる向上が求められていた。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、撥水撥油性、高滑水性である上に、耐UV性、耐熱性、耐薬品性(耐アルカリ性)に優れたコーティング膜が得られる表面改質剤、及び該表面改質剤により処理された物品を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成するために、耐UV性、耐熱性、耐薬品性の更なる向上について鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(1)で表されるフッ素ポリマーと加水分解性シリル基との連結基にシルアルキレン構造を導入した有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物、その部分加水分解物あるいはそれらの部分加水分解縮合物が、撥水撥油性、高滑水性である上に、耐UV性、耐熱性、耐薬品性に優れた表面改質剤として有効であることを見出し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は、下記の表面改質剤及び物品を提供する。
〔1〕
下記一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物、その部分加水分解物及びそれらの部分加水分解縮合物から選ばれる1種又は2種以上を含有する表面改質剤。
(式中、Rfは炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のパーフルオロアルキル基を表す。a、b、c、d、e、fはそれぞれ独立して0又は1以上の整数を表し、a+b+c+d+eは1以上である。なお、a、b、c、d、eでくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において限定されない。gは0又は1、h、kは2〜6の整数、mは1〜3の整数。Xはフッ素原子又はトリフルオロメチル基、R1、R2、R3はそれぞれ独立して炭素数1〜10の1価炭化水素基、Zは加水分解性基又は水酸基を示す。)
〔2〕
一般式(1)において、hは2、kは2である〔1〕に記載の表面改質剤。
〔3〕
一般式(1)において、hは3、kは3である〔1〕に記載の表面改質剤。
〔4〕
一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物の数平均分子量が、500〜50,000である〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の表面改質剤。
〔5〕
一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物が、下記式で示される化合物から選ばれるものである〔1〕に記載の表面改質剤。
(上記6個の式において、e/d=0.1〜10、e+d=5〜200である。)
(上記3個の式において、c=1〜100である。)
(上記3個の式において、b=1〜100である。)
(上記式において、c=1〜100、e=1〜100である。)
(上記式において、b=1〜100、d=1〜100、e=1〜100である。)
〔6〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された物品。
〔7〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された光学物品。
〔8〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理されたタッチパネル。
〔9〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された反射防止フイルム。
〔10〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理されたSiO2処理ガラス。
〔11〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された強化ガラス。
〔12〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された石英基板。
〔1〕
下記一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物、その部分加水分解物及びそれらの部分加水分解縮合物から選ばれる1種又は2種以上を含有する表面改質剤。
〔2〕
一般式(1)において、hは2、kは2である〔1〕に記載の表面改質剤。
〔3〕
一般式(1)において、hは3、kは3である〔1〕に記載の表面改質剤。
〔4〕
一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物の数平均分子量が、500〜50,000である〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の表面改質剤。
〔5〕
一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物が、下記式で示される化合物から選ばれるものである〔1〕に記載の表面改質剤。
〔6〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された物品。
〔7〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された光学物品。
〔8〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理されたタッチパネル。
〔9〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された反射防止フイルム。
〔10〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理されたSiO2処理ガラス。
〔11〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された強化ガラス。
〔12〕
〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の表面改質剤で処理された石英基板。
本発明の表面改質剤は、フッ素ポリマーと加水分解性シリル基との連結部位にシルアルキレン構造を有する有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物、その部分加水分解物あるいはそれらの部分加水分解縮合物を含有するため、撥水撥油性、高滑水性である上に、耐UV性、耐熱性、耐薬品性に優れるコーティング層を形成する。
上記一般式(1)において、Rfは炭素数1〜10、好ましくは1〜6の直鎖状又は分岐鎖状のパーフルオロアルキル基であり、具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、1−(トリフルオロメチル)−1,2,2,2−テトラフルオロエチル基、ノナフルオロブチル基、1,1−ジ(トリフルオロメチル)−2,2,2−トリフルオロエチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフルオロオクチル基などが挙げられ、この中でも好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基であり、特に好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基である。
また、a、b、c、d、e、fはそれぞれ独立して0又は1以上の整数を表し、a+b+c+d+eは1以上である。好ましくは、aは0〜100、bは0〜150、cは0〜150、dは1〜200、eは1〜200、fは0〜5、a+b+c+d+eは1〜300であり、特に好ましくは、aは0〜50、bは0〜100、cは0〜100、dは1〜100、eは1〜100、fは0〜3、a+b+c+d+eは2〜100である。なお、a、b、c、d、eでくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において限定されない。
更に、gは0又は1、h、kは2〜6の整数、mは1〜3の整数であり、好ましくは、hは2又は3、kは2又は3、mは2又は3である。
加えて、Xはフッ素原子又はトリフルオロメチル基である。
また、R1、R2、R3は炭素数1〜10、好ましくは1〜8の1価炭化水素基であり、R1、R2、R3の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基などの飽和炭化水素基、フェニル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基などの芳香族炭化水素基などが挙げられ、好ましくはメチル基である。
また、R1、R2、R3は炭素数1〜10、好ましくは1〜8の1価炭化水素基であり、R1、R2、R3の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基などの飽和炭化水素基、フェニル基、ベンジル基、1−フェニルエチル基などの芳香族炭化水素基などが挙げられ、好ましくはメチル基である。
Zは水酸基又は加水分解可能な置換基である。加水分解可能な置換基としては、下記の基が例示され、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基のようなアルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロエトキシ基、トリクロロエトキシ基のようなハロゲン化アルコキシ基、メトキシエトキシ基のようなアルコキシ基置換アルコキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基のようなアシルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、イソブテニルオキシ基のようなアルケニルオキシ基、ジメチルケトキシム基、メチルエチルケトキシム基、ジエチルケトキシム基、シクロヘキサンオキシム基のようなイミンオキシ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基のような置換アミノ基、N−メチルアセトアミド基、N−エチルアミド基のようなアミド基、ジメチルアミノオキシ基、ジエチルアミノオキシ基のような置換アミノオキシ基、塩素原子などのようなハロゲン基などが挙げられる。Zの例の中では、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロエトキシ基、アセトキシ基、イソプロペニルオキシ基、塩素原子、ジメチルケトキシム基、メチルエチルケトキシム基が好ましく、水酸基及びメトキシ基が特に好ましい。Zは、1種又は2種以上の組合せとして、本発明の含フッ素有機シラン化合物に含めることができる。
本発明に用いられる含フッ素有機シラン化合物は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィによって求めたポリスチレン換算の数平均分子量が、好ましくは500以上50,000以下、特に好ましくは500以上30,000以下、更に好ましくは1,000以上20,000以下の範囲であるものを用いることが望ましい。数平均分子量が500未満ではパーフルオロアルキレンエーテル構造の特徴である撥水撥油性、防汚性などを十分に発揮することができない場合があり、50,000を超えると末端官能基の濃度が小さくなりすぎて、基材との反応性や密着性が低下する場合がある。
本発明で言及する数平均分子量とは、下記条件で測定したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算の数平均分子量を指す(以下、同じ)。
[測定条件]
展開溶媒:ハイドロクロロフルオロカーボン(HCFC)−225
流量:1mL/min.
検出器:蒸発光散乱検出器
カラム:東ソー社製 TSKgel Multipore HXL−M
7.8mmφ×30cm 2本使用
カラム温度:35℃
試料注入量:100μL(濃度0.3質量%のHCFC−225溶液)
[測定条件]
展開溶媒:ハイドロクロロフルオロカーボン(HCFC)−225
流量:1mL/min.
検出器:蒸発光散乱検出器
カラム:東ソー社製 TSKgel Multipore HXL−M
7.8mmφ×30cm 2本使用
カラム温度:35℃
試料注入量:100μL(濃度0.3質量%のHCFC−225溶液)
本発明に用いられる含フッ素有機シラン化合物は、更に19F−NMRによって求めたフッ素原子量が、20質量%以上70質量%未満、特に40質量%以上70質量%未満の範囲であるものを用いることが好ましい。フッ素原子量が20質量%未満では、目的とする撥水撥油性、防汚性などの特性が得られない場合があり、70質量%以上では、目的とする密着性や耐久性が得られない場合がある。
上記式(1)で示される含フッ素有機シラン化合物は、例えば、下記一般式(I)で示される末端にヨウ素を有する含フッ素化合物と、下記一般式(II)で示されるシラン化合物とを、ラジカル開始剤の存在下、公知の方法で反応させた後、還元剤等を使用して公知の方法で化合物中のヨウ素を還元することにより得ることができる。
(式中、Rf、R1〜R3、X、a、b、c、d、e、f、g、k、m及びa+b+c+d+eは上記と同じである。nは0〜4の整数、好ましくは0又は1である。)
上記式(I)で示される末端にヨウ素を有する含フッ素化合物と式(II)で示されるシラン化合物との反応割合としては、式(I)で示される末端にヨウ素を有する含フッ素化合物の末端ヨウ素基と、式(II)で示されるシラン化合物のアルケニル基とのモル比(アルケニル基/ヨウ素基)で0.5〜20.0、特に1.0〜10.0であることが好ましい。
上記反応条件としては、例えば乾燥窒素雰囲気下において、ラジカル開始剤をヨウ素基に対して0.001〜1モル当量添加し、内温50〜180℃で30分〜4時間程度、加温すればよい。ラジカル開始剤としては、ジベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ−t−ブチルパーオキシヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ系開始剤などが挙げられる。
得られた化合物中のヨウ素は、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウムなどの水素化物や、鉄、亜鉛、ニッケル、アルミニウム、マグネシウムなどの金属の使用により還元することができる。還元剤の量は、還元当量で考えた場合、ヨウ素の量に対して1当量以上であることが好ましく、より好ましくは1.5当量以上である。還元反応の温度、時間は、還元剤の種類・方法によって最適な条件で行えばよいが、一般には室温(23℃)〜100℃、1〜24時間の範囲で行えばよい。
このようにして得られた式(1)で示される含フッ素有機シラン化合物としては、下記に示すものが例示できる。
(上記6個の式において、d、eは上記の通りであるが、好ましくはe/d=0.1〜10、e+d=5〜200であり、更に好ましくはe/d=0.2〜5、e+d=10〜100である。)
(上記3個の式において、cは上記の通りであるが、好ましくはc=1〜100であり、更に好ましくはc=5〜50である。)
(上記3個の式において、bは上記の通りであるが、好ましくはb=1〜100であり、更に好ましくはb=5〜50である。)
(上記式において、c、eは上記の通りであるが、好ましくはc=1〜100、e=1〜100であり、更に好ましくはc=5〜50、e=5〜50である。)
(上記式において、b、d、eは上記の通りであるが、好ましくはb=1〜100、d=1〜100、e=1〜100であり、更に好ましくはb=5〜50、d=5〜50、e=5〜50である。)
本発明の表面改質剤は、上記式(1)で示される含フッ素有機シラン化合物、その部分加水分解物あるいはそれらの部分加水分解縮合物の他に、溶剤もしくは希釈剤を含んでもよい。このような溶剤もしくは希釈剤としては、例えば、アルコール類(エチルアルコール、イソプロピルアルコールなど)、炭化水素系溶剤(石油ベンジン、ミネラルスピリッツ、トルエン、キシレンなど)、エステル系溶剤(酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなど)、エーテル系溶剤(ジエチルエーテル、イソプロピルエーテルなど)、ケトン系溶剤(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど)が挙げられ、アルコール、エステル、エーテル、ケトン類等の極性溶媒を用いることが好ましく、溶解性、濡れ性、安全性などの点で、特にイソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトンが好ましい。フッ素系溶剤(パーフルオロ溶剤)も好ましく使用され、その例としては、フッ素化脂肪族炭化水素系溶剤(パーフルオロヘプタン等)、フッ素化芳香族炭化水素系溶剤(m−キシレンヘキサフロライド、ベンゾトリフロライド等)、フッ素化エーテル系溶剤[メチルパーフルオロブチルエーテル、エチルパーフルオロブチルエーテル、パーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル等]が挙げられ、中でも、溶解性、濡れ性等の点で、フッ素化エーテル系溶剤が好適に用いられる。
なお、上記溶剤は、1種を単独に用いても2種以上を混合するようにしてもよく、いずれにしても上記成分を均一に溶解させるものを用いることが好ましい。
なお、上記溶剤は、1種を単独に用いても2種以上を混合するようにしてもよく、いずれにしても上記成分を均一に溶解させるものを用いることが好ましい。
溶剤の使用量は特に制限されるものではなく、処理方法により最適濃度は異なるが、該改質剤中の固形分量が0.05〜5.0質量%、特に0.1〜1.0質量%となる量を用いることが好ましい。なお固形分量は不揮発成分の質量を意味し、改質剤に後述する硬化触媒等を添加する場合には、式(1)の化合物、その部分加水分解物あるいはそれらの部分加水分解縮合物とそれらの合計質量となる。
上記表面改質剤は、速い硬化速度を必要とする場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。硬化触媒の例としては、有機チタン酸エステル、有機チタンキレート化合物、有機アルミニウム化合物、有機ジルコニウム化合物、有機スズ化合物、有機カルボン酸の金属塩、アミン化合物及びその塩、4級アンモニウム化合物、アルカリ金属の低級脂肪酸塩、ジアルキルヒドロキシアミン、グアジニル基含有有機ケイ素化合物、無機酸、パーフルオロカルボン酸、パーフルオロアルコールなどが挙げられ、好ましくはパーフルオロカルボン酸が使用される。
硬化触媒の添加量は触媒量であり、本発明の含フッ素有機シラン化合物、その部分加水分解物あるいはそれらの部分加水分解縮合物100質量部に対して0.05〜5質量部、特に0.1〜1質量部であることが好ましい。
このようにして得られた表面改質剤を基材に施与する方法としては、刷毛塗り、ディッピング、スプレー、蒸着処理など公知の方法がある。
施与した表面改質剤の処理温度は、施与方法によって最適な温度が異なるが、例えば刷毛塗りやディッピングの場合は、10〜200℃の範囲が望ましい。処理湿度としては、加湿下で行うことが反応を促進する上で望ましい。処理時間は温度、湿度の条件によって異なるが、例えば室温(23℃),50%RHであれば24時間以上、80℃,80%RHであれば1時間以上が好ましい。なお、上記処理条件は、基材、硬化触媒等に応じて、適宜最適化することが望ましい。
上記表面改質剤で処理される基材は特に制限されず、紙、布、金属及びその酸化物、ガラス、プラスチック、セラミック、石英など各種材質のものであってよい。本発明の表面改質剤は、前記基材に撥水撥油性を付与することができる。特に、SiO2処理されたガラスやフイルムの表面改質剤として好適に使用することができる。
上記各種基材あるいは物品表面に形成される硬化被膜の膜厚は、基材の種類により適宜選定されるが、好ましくは1〜50nm、より好ましくは3〜20nmである。
得られる被膜は、撥水撥油性、高滑水性である上に、従来品に比べて耐熱性、耐薬品性、耐UV性などの耐久性に優れる。かかる特性は、水や紫外線に晒されることが多く、メンテナンスが容易でない用途や、油脂や指紋、化粧品、日焼け止めクリーム、人や動物の排泄物、油等が付着し易い用途に有効であり、例えば自動車、電車、船舶、航空機、高層ビル等の窓ガラス又は強化ガラス、ヘッドランプカバー、アウトドア用品、電話ボックス、屋外用の大型ディスプレイ、浴槽、洗面台のようなサニタリー製品、化粧道具、台所用建材、水槽、美術品などの指紋付着防止付与のコーティング等が挙げられる。その他、コンパクトディスク、DVDなどの指紋付着防止コーティング、金型用に離型剤あるいは塗料添加剤、樹脂改質剤としても有用である。また、カーナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、PDA、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、PC、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ、保護フイルム、反射防止フイルムなどの光学物品が挙げられる。本発明の表面改質剤は、前記物品に指紋及び皮脂が付着するのを防止し、更に傷つき防止性を付与することができるため、特にタッチパネルディスプレイ、反射防止フイルムなどの撥水撥油層として有用である。
以下、合成例、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記例において、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算値であり、フッ素原子量は、19F−NMRによって求めた値である。
[合成例1]
ジムロート、滴下ロート、温度計、磁気撹拌子を備えた100mLの3つ口フラスコに、下記平均組成式(1a)で示される末端にヨウ素基を有する含フッ素化合物(数平均分子量3,700、ヨウ素基濃度=0.026mol/100g)30g、ジ−t−ブチルパーオキサイド1.12g、下記式(2a)で示されるビニル基含有シラン化合物(ビニル基濃度=0.427mol/100g)7.3g、1,3−ビストリフルオロメチルベンゼン30gを仕込み、フラスコ内部を窒素置換した。撹拌しながら内温100℃で3時間反応させ、室温まで冷却した。その後、亜鉛粉末1.02gとメチルアルコール30gを加え、激しく撹拌させながら内温60℃で12時間反応させた。反応液をろ過フィルターでろ過して固形分を除去し、100℃/1mmHgの条件でストリップ処理することにより、溶剤成分、未反応シラン及び低沸成分を除去し、下記式(3a)で示される生成物28gを得た。FT−IR、1H−NMR、19F−NMRから、末端ヨウ素基の消失、ビニル基の消失及びメトキシ基の存在を確認した。なお、式(3a)で示される生成物は、数平均分子量が3,900であり、フッ素原子量が61質量%であった。
(e1/d1≒0.9、e1+d1≒38)
ジムロート、滴下ロート、温度計、磁気撹拌子を備えた100mLの3つ口フラスコに、下記平均組成式(1a)で示される末端にヨウ素基を有する含フッ素化合物(数平均分子量3,700、ヨウ素基濃度=0.026mol/100g)30g、ジ−t−ブチルパーオキサイド1.12g、下記式(2a)で示されるビニル基含有シラン化合物(ビニル基濃度=0.427mol/100g)7.3g、1,3−ビストリフルオロメチルベンゼン30gを仕込み、フラスコ内部を窒素置換した。撹拌しながら内温100℃で3時間反応させ、室温まで冷却した。その後、亜鉛粉末1.02gとメチルアルコール30gを加え、激しく撹拌させながら内温60℃で12時間反応させた。反応液をろ過フィルターでろ過して固形分を除去し、100℃/1mmHgの条件でストリップ処理することにより、溶剤成分、未反応シラン及び低沸成分を除去し、下記式(3a)で示される生成物28gを得た。FT−IR、1H−NMR、19F−NMRから、末端ヨウ素基の消失、ビニル基の消失及びメトキシ基の存在を確認した。なお、式(3a)で示される生成物は、数平均分子量が3,900であり、フッ素原子量が61質量%であった。
[合成例2]
合成例1に記載されているのと同じ処方で、式(2a)の代わりに下記式(4a)で示されるシラン化合物(アリル基濃度=0.329mol/100g)9.5gを使用し、下記式(5a)で示される生成物28gを得た。なお、式(5a)で示される生成物は、数平均分子量が3,900であり、フッ素原子量が61質量%であった。
(e1/d1≒0.9、e1+d1≒38)
合成例1に記載されているのと同じ処方で、式(2a)の代わりに下記式(4a)で示されるシラン化合物(アリル基濃度=0.329mol/100g)9.5gを使用し、下記式(5a)で示される生成物28gを得た。なお、式(5a)で示される生成物は、数平均分子量が3,900であり、フッ素原子量が61質量%であった。
[合成例3]
合成例1に記載されているのと同じ処方で、式(1a)の代わりに下記式(6a)で示される含フッ素化合物(数平均分子量4,100、ヨウ素基濃度=0.024mol/100g)30g、を使用し、下記式(7a)で示される生成物27gを得た。なお、式(7a)で示される生成物は、数平均分子量が4,300であり、フッ素原子量が67質量%であった。
(c1≒22)
合成例1に記載されているのと同じ処方で、式(1a)の代わりに下記式(6a)で示される含フッ素化合物(数平均分子量4,100、ヨウ素基濃度=0.024mol/100g)30g、を使用し、下記式(7a)で示される生成物27gを得た。なお、式(7a)で示される生成物は、数平均分子量が4,300であり、フッ素原子量が67質量%であった。
(c1≒22)
[比較合成例1;連結部位にエーテル結合を有する化合物]
ジムロート、滴下ロート、温度計、磁気撹拌子を備えた100mLの3つ口フラスコに、下記平均組成式(8a)で示される末端にアリル基を有する含フッ素化合物(数平均分子量3,700、アリル基濃度=0.026mol/100g)30g、塩化白金酸を1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンで変性した触媒のトルエン溶液(白金濃度0.5質量%)0.05gを仕込み、撹拌しながら内温80℃に加温した。滴下ロートにトリメトキシシラン(SiH基濃度=0.0082mol/g)1.2gを約5分で滴下し、内温80〜90℃で2時間熟成した。その後、100℃/5mmHgの条件でストリップ処理により、残余のシランを除去し、下記式(9a)で示される生成物31gを得た。FT−IR、1H−NMR、19F−NMRから、アリル基の消失及びSiH基の消失を確認した。なお、式(9a)で示される生成物は、数平均分子量が3,800であり、フッ素原子量が62質量%であった。
(e1/d1≒0.9、e1+d1≒38)
ジムロート、滴下ロート、温度計、磁気撹拌子を備えた100mLの3つ口フラスコに、下記平均組成式(8a)で示される末端にアリル基を有する含フッ素化合物(数平均分子量3,700、アリル基濃度=0.026mol/100g)30g、塩化白金酸を1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンで変性した触媒のトルエン溶液(白金濃度0.5質量%)0.05gを仕込み、撹拌しながら内温80℃に加温した。滴下ロートにトリメトキシシラン(SiH基濃度=0.0082mol/g)1.2gを約5分で滴下し、内温80〜90℃で2時間熟成した。その後、100℃/5mmHgの条件でストリップ処理により、残余のシランを除去し、下記式(9a)で示される生成物31gを得た。FT−IR、1H−NMR、19F−NMRから、アリル基の消失及びSiH基の消失を確認した。なお、式(9a)で示される生成物は、数平均分子量が3,800であり、フッ素原子量が62質量%であった。
(e1/d1≒0.9、e1+d1≒38)
[比較合成例2;連結部位にシロキサン結合を有する化合物]
ジムロート、滴下ロート、温度計、磁気撹拌子を備えた100mLの3つ口フラスコに、下記平均組成式(10a)で示される末端にビニル基を有する含フッ素化合物(数平均分子量4,100、ビニル基濃度=0.024mol/100g)30g、塩化白金酸を1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンで変性した触媒のトルエン溶液(白金濃度0.5質量%)0.05gを仕込み、撹拌しながら内温120℃に加温した。滴下ロートに下記式(11a)で示されるシラン化合物(SiH基濃度=0.0036mol/g)3.0gを約5分で滴下し、内温110〜120℃で2時間熟成した。その後、110℃/3mmHgの条件でストリップ処理により、残余のシランを除去し、下記式(12a)で示される生成物32gを得た。FT−IR、1H−NMR、19F−NMRから、ビニル基の消失及びSiH基の消失を確認した。なお、式(12a)で示される生成物は、数平均分子量が4,400であり、フッ素原子量が66質量%であった。
(c1≒22)
ジムロート、滴下ロート、温度計、磁気撹拌子を備えた100mLの3つ口フラスコに、下記平均組成式(10a)で示される末端にビニル基を有する含フッ素化合物(数平均分子量4,100、ビニル基濃度=0.024mol/100g)30g、塩化白金酸を1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンで変性した触媒のトルエン溶液(白金濃度0.5質量%)0.05gを仕込み、撹拌しながら内温120℃に加温した。滴下ロートに下記式(11a)で示されるシラン化合物(SiH基濃度=0.0036mol/g)3.0gを約5分で滴下し、内温110〜120℃で2時間熟成した。その後、110℃/3mmHgの条件でストリップ処理により、残余のシランを除去し、下記式(12a)で示される生成物32gを得た。FT−IR、1H−NMR、19F−NMRから、ビニル基の消失及びSiH基の消失を確認した。なお、式(12a)で示される生成物は、数平均分子量が4,400であり、フッ素原子量が66質量%であった。
(c1≒22)
[実施例1〜3、比較例1,2]
表面改質剤の調製及び硬化被膜の形成
上記合成例1〜3及び比較合成例1,2で得られた生成物(フッ素系ポリマー化合物)を、濃度0.1質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて処理浴を調製した。化学強化ガラス(50mm×100mm、コーニング社製、商品名:Gorilla)を、処理浴に30秒浸漬後、150mm/分の速度で引上げ、80℃/80%RHの恒温恒湿器内で1時間放置して膜厚5〜7nmの硬化被膜を形成した。
表面改質剤の調製及び硬化被膜の形成
上記合成例1〜3及び比較合成例1,2で得られた生成物(フッ素系ポリマー化合物)を、濃度0.1質量%になるようにNovec 7200(3M社製、エチルパーフルオロブチルエーテル)に溶解させて処理浴を調製した。化学強化ガラス(50mm×100mm、コーニング社製、商品名:Gorilla)を、処理浴に30秒浸漬後、150mm/分の速度で引上げ、80℃/80%RHの恒温恒湿器内で1時間放置して膜厚5〜7nmの硬化被膜を形成した。
撥水撥油性の評価
[初期撥水撥油性の評価]
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスについて、接触角計Drop Master(協和界面科学社製)を用いて、硬化被膜の水に対する接触角(撥水性)及びオレイン酸に対する接触角(撥油性)をそれぞれ測定した。結果を表1に示す。
いずれも、初期においては良好な撥水撥油性を示した。
[初期撥水撥油性の評価]
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスについて、接触角計Drop Master(協和界面科学社製)を用いて、硬化被膜の水に対する接触角(撥水性)及びオレイン酸に対する接触角(撥油性)をそれぞれ測定した。結果を表1に示す。
いずれも、初期においては良好な撥水撥油性を示した。
[耐熱性の評価]
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスを250℃のオーブンに3時間放置後、下記条件でスチールウール摩耗2,000回を行った後、表面の水に対する接触角(撥水性)を測定した。結果を表2に示す。
〔スチールウール摩耗条件〕
スチールウール:BONSTAR#0000(日本スチールウール社製)
移動距離(片道):30mm
移動速度:1,600mm/分
荷重:1kg/cm2
連結基にエーテル結合を有する比較例1は、接触角の低下が認められ、耐熱性に劣ることがわかる。
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスを250℃のオーブンに3時間放置後、下記条件でスチールウール摩耗2,000回を行った後、表面の水に対する接触角(撥水性)を測定した。結果を表2に示す。
〔スチールウール摩耗条件〕
スチールウール:BONSTAR#0000(日本スチールウール社製)
移動距離(片道):30mm
移動速度:1,600mm/分
荷重:1kg/cm2
連結基にエーテル結合を有する比較例1は、接触角の低下が認められ、耐熱性に劣ることがわかる。
[耐UV性の評価]
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスに、メタルハライドランプを使用して放射照度540W/m2(波長範囲300〜400nm)でUV光を照射し、240時間照射した後、表面の水に対する接触角(撥水性)を測定した。結果を表3に示す。
連結基にエーテル結合を有する比較例1は、接触角の低下が認められ、耐UV性に劣ることがわかる。
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスに、メタルハライドランプを使用して放射照度540W/m2(波長範囲300〜400nm)でUV光を照射し、240時間照射した後、表面の水に対する接触角(撥水性)を測定した。結果を表3に示す。
連結基にエーテル結合を有する比較例1は、接触角の低下が認められ、耐UV性に劣ることがわかる。
[耐薬品性の評価]
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスを、4.5質量%の水酸化カリウム水溶液(45℃)に1時間浸漬した〔処理(1)〕後、表面の水に対する接触角(撥水性)を測定した。
また同様に、上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスを、1.0質量%の塩酸水(23℃)に72時間浸漬した〔処理(2)〕後、表面の水に対する接触角(撥水性)を測定した。
これらの結果を表4に示す。
連結基にシロキサン結合を有する比較例2は、接触角の低下が認められ、耐薬品性に劣ることがわかる。
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスを、4.5質量%の水酸化カリウム水溶液(45℃)に1時間浸漬した〔処理(1)〕後、表面の水に対する接触角(撥水性)を測定した。
また同様に、上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスを、1.0質量%の塩酸水(23℃)に72時間浸漬した〔処理(2)〕後、表面の水に対する接触角(撥水性)を測定した。
これらの結果を表4に示す。
連結基にシロキサン結合を有する比較例2は、接触角の低下が認められ、耐薬品性に劣ることがわかる。
以上の実施例の結果から、本発明の有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物を含有する表面改質剤は、従来品に比べて耐熱性、耐UV性、耐薬品性に優れる。
Claims (12)
- 下記一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物、その部分加水分解物及びそれらの部分加水分解縮合物から選ばれる1種又は2種以上を含有する表面改質剤。
- 一般式(1)において、hは2、kは2である請求項1に記載の表面改質剤。
- 一般式(1)において、hは3、kは3である請求項1に記載の表面改質剤。
- 一般式(1)で表される有機ケイ素含有フッ素ポリマー化合物の数平均分子量が、500〜50,000である請求項1〜3のいずれか1項に記載の表面改質剤。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面改質剤で処理された物品。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面改質剤で処理された光学物品。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面改質剤で処理されたタッチパネル。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面改質剤で処理された反射防止フイルム。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面改質剤で処理されたSiO2処理ガラス。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面改質剤で処理された強化ガラス。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面改質剤で処理された石英基板。
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