JP6057999B2 - 統合型異性化および水素化処理プロセス - Google Patents

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Description

本出願は、2011年7月29日に出願された仮特許出願USSN61/513,127の優先権を主張するものであり、参照によりその内容を本明細書に組み込む。
本発明は、炭化水素の硫黄含量を効率的に減らす水素化処理プロセスに関する。
硫黄含有サワー原油から誘導した石油製品の処理中および最終使用中における、硫黄化合物の大気中への排出は健康的および環境的問題を引き起こす。運輸および他の石油製品に適用可能な厳格に低減された硫黄規格は、製油産業に影響を与え、精製業者にとって、ガスオイル中の硫黄含量を100万率で10重量部(ppmw)以下まで大幅に減らすために資本投資を行う必要がある。先進国(例えばアメリカ合衆国、日本および欧州連合の国々)において、精製業者は環境にクリーンな輸送燃料を製造することが既に求められている。例えば、2007年にアメリカ合衆国環境保護庁は、ハイウェイディーゼル燃料の硫黄含量を97%、500ppmw(低硫黄ディーゼル)〜105ppmw(超低硫黄ディーゼル)まで低減することを要求した。欧州連合は、2009年に販売されたディーゼル燃料およびガソリン燃料に硫黄含量が10ppmw未満であることを要求するさらにより厳しい規格を成立させた。他の国は、アメリカ合衆国および欧州連合に追随し、精製業者に超低硫黄レベルを有する輸送燃料を製造することを要求する規制を進めつつある。
超低硫黄燃料製造に対する最近の動向に対応するために、精製業者は、多くの場合に既存の設備を使用することにより最小限の追加の資本投資で将来的な規格が受入可能となるような、適応性を与えるプロセスまたは原油を選択せねばならない。従来技術(例えば水素化分解および2段階水素化処理)は、クリーン輸送燃料を製造するための解決策を精製業者にもたらす。新しい根本的な製造設備が建設されるため、これらの技術は使用可能であり適用可能である。しかしながら、多くの既存の水素化処理設備、例えば比較的低圧の水素化処理装置を用いる設備は、実質的な先行投資を意味し、より厳しい硫黄低減要求が成立した以前に建設された。クリーン燃料製造を得るための操作要件(すなわち、より高い温度および圧力)は比較的より厳しいため、これらの設備において既存の水素化処理反応器をアップグレードすることは非常に難しい。精製業者が使用可能な改造の選択肢としては、再循環ガスの品質を高めることにより水素分圧を高めること、より活性な触媒組成物を使用すること、液体-固体接触を高めるための改善された反応器部品を設置すること、反応器容積を高めること、および、供給原料品質を高めることが挙げられる。
硫黄500-3000ppmwを含有する輸送燃料を製造する、世界的に設置されたあらゆる水素化処理ユニットが存在する。かかるユニットは、比較的穏やかな条件(すなわち、30kg/1平方センチメートルの低水素分圧、180℃〜370℃の範囲で沸騰する直留ガスオイル用)に設計され、この条件で使用されている。
上記に述べた輸送燃料におけるより厳しい環境的硫黄規格の普及が高まるにつれて、共可能な最大限の硫黄レベルは15ppmw未満まで低減され、10ppmw未満の場合もある。最終製品におけるこの超低レベルの硫黄は、通常、新しい高圧水素化処理ユニットの建設、または、例えばガス精製システムを導入すること、内部構造のリエンジニアリング、反応器の部材ののリエンジニアリング、および/または、より活性な触媒組成物の配置による、既存設備の実質的な改良のいずれかを必要とする。
炭化水素燃料中に通常存在する硫黄含有化合物としては以下が挙げられる:脂肪族分子、例えばスルフィド、ジスルフィドおよびメルカプタンならびに芳香族分子、例えばチオフェン、ベンゾチオフェンおよびその長鎖アルキル化誘導体、およびジベンゾチオフェンおよびそのアルキル化誘導体、例えば4,6-ジメチル-ジベンゾチオフェンである。芳香族硫黄含有分子は脂肪族硫黄含有分子よりも高い沸点を有し、そのためより高沸点留分中に豊富である。
さらに、ガスオイルの特定の留分は異なる特性を有する。表1にアラビアンライト原油から誘導させた軽質および重質ガスオイルの特性を示す。
Figure 0006057999
上記表1に挙げるように、軽質および重質ガスオイル留分はそれぞれ、319℃および392℃のASTM D85 /90 V%ポイントを有する。さらに、軽質ガスオイル留分は、重質ガスオイル留分よりも少ない硫黄および窒素を含有する(1.65W%硫黄であるのに対して0.95重量%またはW%硫黄、225ppmw窒素であるのに対して42ppmw窒素)。
硫黄化学発光検出器を備えた先端分析技術、例えば多次元ガスクロマトグラフィー(Hua R.、Li Y.、Liu W.、Zheng J.、Wei H.、Wang J.、LU X.、Lu X.、Kong H.、Xu G.、Journal of Chromatography A、1019(2003)101-109)は、170℃〜400℃の範囲で沸騰する中間留分は、アルキル置換基を有するかまたは有さないチオール、スルフィド、ジスルフィド、チオフェン、ベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、およびベンゾナフトチオフェンを含む硫黄種を含有することを示した。
軽質および重質ガスオイルの硫黄種分類および硫黄含量は、通常、2つの方法で解析される。第1の方法において、硫黄種を構造群によって分類する。該構造群は、ジベンゾチオフェンおよびそのアルキル化異性体を含む、310℃未満で沸騰する硫黄含有化合物を有する群、および、それぞれC、CおよびCと示される1、2および3メチル置換ジベンゾチオフェンを含む別の群を含む。この方法に基づいて、重質ガスオイル留分は、軽質ガスオイルよりもアルキル化されたジベンゾチオフェン分子を含有する。
軽質および重質ガスオイルの硫黄含量を解析するための第2の方法において、および図1に関して、累積硫黄濃度を硫黄含有化合物の沸点に対してプロットし、濃度変動および傾向を観察する。示された沸点は、全炭化水素混合物の沸点よりむしろ検出された硫黄含有化合物の沸点であることに留意する。ジベンゾチオフェン、4-メチルジベンゾチオフェンおよび4,6-ジメチル-ジベンゾチオフェンからなるそれぞれの耐熱性硫黄含有化合物の沸点も、図1中に便宜のために示す。累積硫黄規格カーブは、軽質ガスオイル留分と比較して、重質ガスオイル留分が、より重質の硫黄含有化合物をより高い割合で含有し、より軽質の硫黄含有化合物をより低い割合で含有することを示す。例えば、軽質ガスオイル留分中には1104ppmwであるのに対して、重質ガスオイル留分中には、5370ppmwのC-ジベンゾチオフェン、および、より嵩高い分子(例えばベンゾナフトチオフェン)が存在する。反対に、軽質ガスオイル留分は、重質ガスオイルと比較してより高含量の軽質硫黄含有化合物を含有する。軽質硫黄含有化合物はジベンゾチオフェンよりも構造的により嵩高くなく、310℃未満で沸騰する。また、軽質ガスオイル留分と比較して2倍量のCおよびCアルキル置換ジベンゾチオフェンが、重質ガスオイル留分中に存在する。
脂肪族硫黄含有化合物は、穏やかな水素化脱硫法を用いてより簡単に脱硫される(易変性)。しかしながら、特定の高分枝状芳香族分子は立体的に硫黄原子除去を妨げ得、穏やかな水素化脱硫法を用いる脱硫がややより困難である(無反応性)。
硫黄含有芳香族化合物の中で、チオフェンおよびベンゾチオフェンは比較的水素化脱硫しやすい。環化合物へのアルキル基の追加は、水素化脱硫の困難性を高める。ベンゾチオフェン群に別の環を追加して得られるジベンゾチオフェンは、脱硫がさらにより困難であり、困難性はそのアルキル置換によって大きく異なり、ジ-β置換を有するものは最も脱硫化しにくいため、その「無反応性」の名称を正しいものとする。これらのβ置換基は、触媒上の活性サイトにヘテロ原子がさらされるのを防ぐ。
したがって、無反応性硫黄含有化合物の経済的な除去を達成することは非常に困難であり、そのため、従来の水素化処理技術による、炭化水素燃料中の硫黄含有化合物の超低硫黄レベルまでの除去は、非常に費用がかかる。以前の規制が500ppmwまでの硫黄レベルを許していた際、従来の水素化脱硫の性能を超えて脱硫化を行う動機または必要性はほとんどなく、そのため、無反応性硫黄含有化合物は対象とされていなかった。しかしながら、より厳しい硫黄規格に合致するためには、これらの無反応性硫黄含有化合物を炭化水素燃料流から実質的に除去せねばならない。
Ni-Mo/アルミナ触媒上、250℃および300℃および40.7kg/cm水素分圧での一次反応速度に基づく硫黄含有化合物の相対反応性および活性化エネルギーを表2に示す(Steiner P.およびBlekkan E.A.、Fuel Processing Technology(燃料処理技術)79(2002)1-12)。
Figure 0006057999
表2から明らかなように、ジベンゾチオフェンは、無反応性4、6-ジメチルジベンゾチオフェンよりも、250℃で57倍、より反応性である。操作の厳しさが高まるにつれて、相対反応性は減少する。4,6-ジメチル-ジベンゾチオフェンと比較したジ-ベンゾチオフェンの相対反応性は、50℃の温度上昇に伴い57.7から7.3まで低下する。
立体障害硫黄含有炭化水素の増大する相対反応性に関して研究を行った。特に、4,6-ジメチル-ジベンゾチオフェンのメチル移行異性体およびトリ-またはテトラメチル-ジベンゾチオフェンへの異性化を研究した。Isodaら著、『Hydrodesulfurization Pathway of 4,6-Dimethyldibenzothiophene through Isomerization over Y-Zeolite Containing CoMo/AlO Catalyst(CoMo/AlO触媒含有Y-ゼオライト上での異性化による、4,6-ジメチルジベンゾチオフェンの水素化脱硫経路)』、Energy & Fuels、1996、10、第1078〜1082頁、およびIsodaら著、『Changes in Desulfurization Reactivity of 4,6-Dimethyldibenzothiophene by Skeletal Isomerization Using a Ni-Supported Y-Type Zeolite(Ni支持型Y型ゼオライトを用いる骨格異性化による、4,6-ジメチルジベンゾチオフェンの脱硫化反応性における変化)』、Energy & Fuels、2000、14、第585〜590頁を参照。
McConnachieら著、米国特許第7,731,838号には、窒素含有化合物および立体障害ジベンゾチオフェンを含むディーゼル沸点範囲供給流を、硫酸溶液を備えた供給流と接触させ、該窒素流を固体酸触媒と接触させて、特定の硫黄含有分子を異性化し、該異性化流出物を水素化処理する、窒素含有化合物の除去を施すプロセスが記載されている。しかしながら、McConnachieらにより記載されたプロセスは、硫酸溶液を備えた供給流と接触させることによる窒素含有化合物の除去に全供給物が施され、コストに敏感な(すなわち、害を受けやすい)固体酸異性化触媒と接触させることをむしろ好む。このため、窒素除去装置が全供給流に適する容量を有すること、および、この異性化触媒およびその反応器容量への過剰な要求を与えることが要求される。
McVickerら著、米国特許第5,897,768号には、全ての供給流を従来の触媒を用いて水素化処理する脱硫化プロセスが教示される。部分的に水素化処理した流出流は分留され、これによって立体障害硫黄含有炭化水素が塔底流で除去される。塔底流を、異性化触媒を含有する反応器に通過させる。異性化触媒含有反応器からの流出物は、水素化処理反応器へと戻される。しかしながら、McVickerらにおいて、水素化処理反応器を全初期供給が通過し、この初期通過中に簡単には脱硫化されない無反応性硫黄含有炭化水素を含むため、全体の処理効率が低下する。
したがって、炭化水素燃料を超低硫黄レベルまで脱硫化するための改善されたプロセスおよび装置に対する要求が存在する。
米国特許第7,731,838号明細書 米国特許第5,897,768号明細書
『Hydrodesulfurization Pathway of 4,6-Dimethyldibenzothiophene through Isomerization over Y-Zeolite Containing CoMo/Al2O3 Catalyst』、Energy & Fuels、1996、10、第1078〜1082頁 『Changes in Desulfurization Reactivity of 4,6-Dimethyldibenzothiophene by Skeletal Isomerization Using a Ni-Supported Y-Type Zeolite』、Energy & Fuels、2000、14、第585〜590頁
したがって、異なる反応性を有する様々な種類の硫黄含有化合物を含有する炭化水素燃料流を脱硫化することが、本発明の主題である。
本発明は、1つ以上の態様による、望ましくない有機硫黄化合物を効率的に低減するための炭化水素供給原料の水素化処理システムおよび方法に関する。
1つ以上の態様による、供給原料を水素化処理するための統合型プロセスを提供する。該統合型プロセスは次のステップを含む:
a.約300℃〜約360℃の範囲の温度の留分境界点(cut point)で炭化水素供給物を分留し、
易変性有機硫黄化合物を含有する低沸点留分、および
立体障害無反応性有機硫黄化合物を含有する高沸点留分
を得るステップ;
b.水素の存在下で前記高沸点留分と異性化触媒とを接触させ、特定の化合物の立体障害性を取り除き、異性化物および任意の残留未反応水素を含む異性化流出物を生じさせるステップ;
c.前記低沸点留分および前記異性化流出物に穏やかな水素化処理プロセスを施し、それによって硫黄含量を低減するステップ;および
d.水素化処理炭化水素生成物を回収するステップ。
本明細書において使用するような、用語「水素化処理」および「水素化脱硫」ならびにこれらの用語の変種は、区別せずに使用され得る。
本明細書において使用するような、用語「易変性有機硫黄化合物」は、比較的穏やかな水素化脱硫圧力および温度条件下で容易に脱硫化することができる有機硫黄化合物を意味し、用語「無反応性有機硫黄化合物」は、穏やかな水素化脱硫条件下で比較的より脱硫化されにくい有機硫黄化合物を意味する。
さらに、本明細書において使用するような、用語「穏やかな水素化処理」、「穏やかな操作条件」および「穏やかな条件」は(水素化処理に関して使用する場合)、400℃以下の温度、40バール以下の水素分圧、および、オイル1リットルあたり500標準リットル以下の水素供給量(SLt/Lt)で操作する水素化処理プロセスを意味する。
前述の概要ならびに以下の詳細な説明は、添付の図面と合わせて読む場合に最もよく理解されるであろう。しかしながら、本発明は示された具体的な配置および装置に限定されるものではないことを理解すべきである。
図1は、3つのチオフェン系化合物の沸点に対してプロットした累積硫黄濃度を示すグラフである。 図2は、統合型脱硫化システムおよびプロセスの概略図である。
上記の主題およびさらなる利点が、無反応性有機硫黄化合物および易変性有機硫黄化合物の両方を含有する炭化水素供給物を脱硫化するための装置およびプロセスにより提供される。特定の態様において、窒素含有化合物を除去するための吸着後に、異性化触媒を含有する反応器中に高沸点留分を通過させる。異性化高沸点留分および低沸点留分(未処理)を合わせて、穏やかな操作条件下で脱硫化するための水素化処理ゾーンに運ぶ。
本発明の統合型システムおよびプロセスは、効率的かつ費用効率的に炭化水素燃料の有機硫黄含量を減らすことができる。炭化水素燃料の十分な脱硫化は、穏やかな水素化処理、吸着および触媒的異性化を組み合わせる、統合型装置およびプロセスの使用を効果的に最適化する。精製業者は、既存の水素化処理精製ユニット操作を比較的穏やかな条件下で使用することができる。
水素化脱硫および触媒的異性化を組み合わせる統合型システムおよびプロセス中に、分留ステップを包含するため、様々な種類の硫黄含有化合物をそれらの個々の反応性要因に従い分けることができ、それによって穏やかな水素化処理、吸着および触媒的異性化が最適化および節減化されるため、より費用効率的なプロセスがもたらされる。原供給流の無反応性硫黄含有化合物を含有する留分だけがこれらの処理に施されるため、吸着ゾーンおよび触媒的異性化ゾーンを通過する体積/質量流が減少する。その結果、必要とされる機器能力が最小化され、それに応じて主要な機器費用および操作費用が最小化される。
さらに、易変性炭化水素を含む全体流の固体酸触媒を用いる触媒的異性化に付随する望ましくない副反応が避けられるため、統合型プロセスにより生成物品質が改善される。
超低レベルの硫黄を有する炭化水素燃料を製造するための統合型脱硫化プロセスが記載され、これは次のステップを含む:
a.約300℃〜約360℃の範囲、好ましくは約340℃の目標留分境界点温度で初期炭化水素供給原料を分留するステップであって、穏やかな水素化処理プロセスに施す際に異なる反応性を有する異なる種類の有機硫黄化合物を含有する2つの留分を得るステップ;
b.目標留分境界点温度未満で沸騰する留分中の有機硫黄化合物は、脂肪族分子(例えばスルフィド、ジスルフィド、メルカプタン)および特定の芳香族(例えばチオフェンおよびチオフェンのアルキル誘導体)を含む主に易変性有機硫黄化合物であり、この留分を、穏やかな条件下で稼働する水素化処理ゾーンへ直接通過させ、有機硫黄化合物を除去するステップ;および
c.芳香族分子(例えば特定のベンゾチオフェン(例えば、長鎖アルキル化ベンゾチオフェン)、ジベンゾチオフェンおよびアルキル誘導体、例えば立体障害4,6-ジメチルジベンゾチオフェン)を含み、主に無反応性有機硫黄化合物である有機硫黄化合物を含有する、目標留分境界点温度以上で沸騰する留分を、異性化反応ゾーンへ通過させ、立体障害無反応性有機硫黄化合物を穏やかな操作条件下での水素化処理に対してより反応性である異性体へと変換し、該異性化流出物を穏やかな水素化処理プロセスに再利用するステップ。
好ましくなく高レベルの窒素含有化合物を含有する炭化水素供給物において、および、好ましくなく高レベルの多核芳香族化合物である特定の供給物において、異性化反応ゾーンに入る前に高沸点留分を吸着材と接触させる。
図2に関して、統合型脱硫化装置20が概略的に図で示されている。装置20は、分留またはフラッシングユニット22、水素化処理または水素化脱硫反応ゾーン24、吸着ゾーン26および異性化反応ゾーン30を含む。分留またはフラッシングユニット22は、供給口32、低沸点出口34および高沸点出口36を含む。ユニット22は、単一のフラッシュ容器または常圧蒸留カラムであってよいことに留意する。
ここに記載された装置20の態様は吸着ゾーンを含むが、吸着ゾーンを有さない別の態様も実施してよいことに留意する。例えば、特定の供給流を処理してよく、異性化反応ゾーン30において異性化触媒を著しく害さない、窒素および/または多核芳香族化合物のレベルを含有し得る。
水素化脱硫反応ゾーン24は、低沸点出口34と流体連通する入口42、水素ガス導入口44および脱硫化生成物出口46を含む。吸着ゾーン26の吸着ユニット28a、28bへの入口は、例えばスイング型システムにおける1つ以上のバルブを介して、高沸点出口36と選択的に流体連通する。吸着ゾーン26の出口38は、異性化反応ゾーン30への入口と流体連通する。異性化反応ゾーン30の異性化炭化水素出口40は、水素化脱硫反応ゾーン24の入口42と流体連通する。
炭化水素供給流は、フラッシングユニット22の入口32を介して導入され、約300℃〜約360℃の範囲の目標留分境界点温度で、特定の態様において約340℃で、低沸点出口34および高沸点出口36から排出される2つの流れへと分留される。低沸点範囲留分は、異性化反応ゾーン30の出口40からの異性化流出物と混ぜ合わされ、水素化処理反応ゾーン24の入口42へと運ばれ、水素化脱硫触媒および導入口44を介する水素と接触する。高沸点範囲留分は吸着ゾーン26の入口へと運ばれ、窒素含有化合物および特定の態様において多核芳香族化合物を含む特定の汚染物質の濃度が低減される。
出口38からの処理された高沸点流出物は、異性化反応のために導入口39を介する水素と共に異性化触媒(例えば酸触媒)上を通って異性化反応ゾーン30を通過する。異性化、未反応水素および異性化反応ゾーン30で形成された任意の軽質ガスを含む異性化された流れは、出口40を通り、低沸点範囲留分と混ぜ合わされ、混合流は入口42を介して水素化処理反応ゾーン24を通過し、水素化処理触媒および導入口44を介する水素供給と接触する。脱硫化させる混合流中に、立体障害硫黄含有化合物がたとえ存在したとしても、通常、比較的低濃度で存在するため、水素化処理反応ゾーン24は穏やかな条件下で操作することができる。
実質的に全ての脂肪族有機硫黄化合物およびチオフェンは穏やかな水素化処理条件下で易変性であり、初期供給物中に存在していた立体障害多環芳香族有機硫黄化合物、例えばベンゾチオフェンおよびその誘導体は、穏やかな水素化処理条件下で除去可能なより反応性の異性体に変換されたため、出口46を介して得られた炭化水素流は超低レベルの、すなわち15ppmw未満、特定の態様において10ppmw未満の有機硫黄化合物を含有する。この水素化処理炭化水素生成物はブレンド可能であり、供給物として使用可能であり、または、さらなる下流の精製操作を施すことができる。
上記に述べた装置およびプロセスにおいて使用するための初期供給原料は、様々な供給源から得られた原油または部分的に精製された油であってよい。供給原料の供給源は、原油、合成原油、ビチューメン、オイルサンド、シェール油、石炭液化油、または前記供給源の1種を含む組合せであり得る。例えば、供給原料は、直留ガスオイルまたは他の精製中間体流、例えばバキュームガスオイル、溶剤脱れき法から得られた脱れき油および/または脱金属油、コーカー法から得られた軽質コーカーまたは重質コーカーガスオイル、FCC法から得られた循環油、ビスブレーキング法から得られたガスオイル、または、前記生成物の任意の組合せであり得る。特定の態様において、適当な炭化水素供給原料は、約180℃〜約450℃、特定の態様において約180℃〜約400℃、さらなる態様において約180℃〜約370℃の範囲で沸騰し、通常約2W%以下の硫黄および約3,000ppmw以下の窒素を含有する、直留ガスオイル、中間蒸留留分またはディーゼル留分である。それでもなお、当業者は本明細書に記載のシステムおよび方法の実施に他の炭化水素流が有効であることを理解するだろう。
吸着ゾーン26は、当業者に知られるようなスイングモード吸着が生じるような、複数の吸着ユニット28a、28bを含み得る。吸着サイクル中、1つの吸着ユニット28aが、供給物からの汚染物質を吸着し、出口38から排出される処理された高沸点流出物流を生じる一方で、他の吸着ユニット28bは、既に吸着された汚染物質を脱着し、出口37を介する排出流に除去するための脱着サイクルにある。この排出流は、既存の燃料油プールまたは既存のクラッキングユニット、例えば水素化分解ユニット、FCCユニットまたはコーキングユニットへと移され得る。
カラム28aまたは28b中の吸着材が吸着された汚染物質で飽和状態になった際、混ぜ合わせた供給流の流れは他のカラムへと向けられる。吸着された化合物は、熱または溶剤処理によって脱着される。
熱脱着の場合、例えば不活性窒素ガス流を用いて、脱着される吸着カラムへ熱を加える。脱着された化合物は、例えば出口37または他の適当な出口を介して、吸着カラム28a、28bから除去される。
溶剤脱着の場合、新しい溶剤または再利用溶剤を吸着ゾーンに導入させる。除去された窒素含有化合物および/または多核芳香族化合物を含有する溶剤流は、出口37を介して吸着ゾーン26から排出され、フラッシュ分離または蒸留分離を用いて溶剤を回収することができる。
窒素含有化合物および特定の態様において多核芳香族化合物は、異性化触媒の使用寿命を高めるために、吸着ゾーン26において除去される。例えば、塩基性窒素含有化合物は、酸性異性化触媒を害する傾向があるため除去される。吸着ゾーン26で対象とされるかかる塩基性窒素含有化合物の例は、アクリジン類、キノリン類、アニリン類、キノリン、インドール、カルバゾール、キノリン-2(1H)-オン、および、前記のいずれかの誘導体を含む。さらに、他の嵩高い窒素含有化合物および任意の多核芳香族化合物は、異性化反応中に特に比較的低温反応条件で、該吸着サイトを埋める傾向がある。
塩基性窒素化合物は、異性化触媒の表面上および細孔内に強く吸着する傾向を有する。異性化反応ゾーンにおいてこれらの化合物を脱着することは可能であるが、異性化反応中の反応条件(すなわち比較的低温)は、反応中に窒素化合物の脱着を促進するために必要な反応条件よりも低く、そのため、これらは異性化反応条件下で触媒を「害する」だろう。ディーゼル留分でのおおよその炭化水素流において、芳香族、例えば単環芳香族および2〜4つの環を有する芳香族を含む多核芳香族は、異性化触媒表面上で吸着するが、同等の芳香族含有窒素化合物よりもより低吸着性である。すなわち、芳香族窒素含有化合物についての相対吸着係数は、当量の芳香族炭化水素の相対吸着係数よりもずっと高い。例えば、アントラセン(窒素ヘテロ原子を有さない三環芳香族分子)が0の吸着定数の割合を有するのに対し、アクリジン(三環窒素含有芳香族環化合物)は、34の吸着定数の割合を有する。
吸着条件は、約20℃〜約400℃、特定の態様において約20℃〜約300℃、さらなる態様において約20℃〜約200℃の範囲の温度;約1バール〜約50バール、特定の態様において約1バール〜約30バール、さらなる態様において約1バール〜約10バールの範囲の圧力;および、約0.1h-1〜約20h-1、特定の態様において約0.5h-1〜約10h-1、およびさらなる態様において約1.0h-1〜約4h-1の範囲の液空間速度(LHSV)を含む。
適当な吸着材は、粘土、合成ゼオライト、使用済み精製触媒または再生精製触媒、活性炭、シリカ-アルミナ、チタニア、多孔質イオン交換樹脂または酸性サイトを含有する任意の材料を含む。特定の態様において、固体吸着材は、シリカ、アルミナ、シリカアルミナ、粘土または活性炭を含む。
脱硫化させる混合流中、立体障害硫黄含有化合物は、存在するとしても、通常比較的低濃度で存在するため、水素化処理反応ゾーン24を穏やかな条件下で操作することができる。
水素化処理または水素化脱硫反応ゾーン24に関して本明細書で使用するように、「穏やかな」操作条件は相対的であり、操作条件の範囲は処理される供給原料によって決定される。上記に述べたように、これらの条件は、通常、400℃以下の操作温度、40バール以下の水素分圧、および500SLt/Lt以下の水素供給量である。本明細書に記載する処理の特定の態様において、中間蒸留物流、すなわち約180℃〜約370℃の範囲で沸騰する中間蒸留物流を水素化処理すると共に用いられるような、これらの穏やかな操作条件は、以下を含む:約300℃〜約400℃、特定の態様において約320℃〜約380℃の範囲の温度;約20バール〜約100バール、特定の態様において約30バール〜約60バールの範囲の反応圧;約55バール未満、特定の態様において約20バール〜約40バールの範囲の水素分圧;約0.5h-1〜約10h-1、特定の態様において約1.0h-1〜約4h-1の範囲のLHSV;および、約100SLt/Lt〜約500SLt/Lt、特定の態様において約100SLt/Lt〜約300SLt/Lt、さらなる態様において約100SLt/Lt〜約200SLt/Ltの範囲の水素供給量。
水素化処理ゾーンで、元素群VI、VIIまたはVIIIBの周期表から選択される1種以上の活性金属成分を有する水素化処理触媒を使用する。特定の態様において、活性金属成分は、通常は支持体上、例えばアルミナ、シリカアルミナ、シリカまたはゼオライト上に沈着あるいは組み込まれた、コバルト、ニッケル、タングステンおよびモリブデンの1種以上である。特定の態様において、第一水素化処理ゾーンで使用される水素化処理触媒、すなわち穏やかな条件下で操作する水素化処理触媒は、アルミナ基材上に沈着したコバルトおよびモリブデンの組合せを含む。
異性化反応ゾーン30で使用する酸触媒は、量および強度に関して高酸性度を有する固体酸性成分を含有する。広範な酸性度レベルを使用して所望の異性化反応を達成することができるが、より高い酸性度を有する固体酸触媒を使用すると、特に異性化反応ゾーン30における高温下条件下で、炭化水素の望ましくないクラッキングが促進される。触媒の酸性度レベルについての定量的測定は様々であるが、使用可能な適当な特徴はHansfordら著『The Nature of Active Sites on Zeolites、VII、Relative Activities of Crystalline and Amorphous Alumino-Silicates(ゼオライト上の活性サイトの性質、VII、結晶質および非晶質アルミノシリケートの相対活性)』、Journal of Catalysis、1969、13、316-320に記載されていることに留意する(これを本明細書に参照により引用する)。簡単には、Hansfordらの文献には、p-キシレン-およびキシレンへの260℃でのo-キシレン異性化の速度定数を測定する方法が記載されている。相対一次速度定数に基づく酸性度スケールが測定された。詳しい議論は本発明の記載の範囲を超えるが、ここで用いる異性化触媒は、Hansfordらにより詳しく述べられる異性化試験から測定される260℃の温度での非晶質シリカ-アルミナ触媒の酸性度よりも少なくとも15倍の酸性度を有する。例えば、260℃でのシリカ-アルミナ触媒上でのo-キシレンの異性化に対する速度定数は3.1であり、HYゼオライト上での速度定数は48.8であり、したがって、HYゼオライトの相対酸性度は、シリカアルミナと比較して、48.8/3.1、または15.7である。
特別の固体酸触媒としては、1種以上のゼオライト、モレキュラーシーブ、結晶または非晶質アルミノシリケート、アルミノホスフェート、シリコアルミノホスフェート、タングステン酸ジルコニア、ニオブ酸、担持ヘテロポリ酸もしくはそれらの誘導体、またはバルクヘテロポリサッカリドもしくはそれらの誘導体が挙げられる。特定の態様において、効果的な固体酸性成分は、1種以上のゼオライトまたはモレキュラーシーブを含む。
また、例えば上記に述べたような1種以上の固体酸成分と、適当な多孔性バインダーまたはマトリックス材料とを、固体酸:バインダーが約15未満:1、特定の態様において約10未満:1、追加の態様において約5未満:1、さらなる態様において約2:1の割合で、組み合わせてよい。バインダーまたはマトリックス材料は、1種以上の活性材料および不活性材料、例えば粘土(例えば、モンモリロナイトおよびカオリン)、シリカおよび/または金属酸化物、例えばアルミナから選択してよい。特定の態様において、多孔性材料またはバインダー材料は、シリカ、アルミナまたはカオリンクレーを含む。追加の態様において、アルミナバインダー材料を使用する。
異性化反応ゾーン30は、1つまたはそれ以上の同一または異なる異性化触媒の触媒床を備える1つまたはそれ以上の反応器または反応ゾーンを含み得る。特定の態様において、固定床反応器を用いる。別の態様において、流動床、沸騰床、スラリー床および移動床を使用することができる。
異性化反応ゾーン30を適当な条件下で操作し、立体障害硫黄含有化合物に存在するアルキル基の少なくとも一部を異性化し、より反応性の硫黄含有化合物を形成させる。目標硫黄含有化合物は、4,6-ジメチル-ジベンゾチオフェンを含む。これら立体障害化合物は、穏やかな条件下での水素化処理反応器中では、一般に脱硫化されない。異性化反応ゾーン条件は以下を含む:約100℃〜約400℃、特定の態様において約150℃〜約350℃、さらなる態様において約200℃〜約300℃の範囲の温度;約1バール〜約80バール、特定の態様において約1バール〜約50バール、さらなる態様において約1バール〜約30バールの範囲の圧力;約0.5h-1〜約8h-1、特定の態様において約0.5h-1〜約5h-1、さらなる態様において約0.5h-1〜約2h-1の範囲のLHSV;および、約100SLt/Lt〜約1000SLt/Lt、特定の態様において約100SLt/Lt〜約500SLt/Lt、さらなる態様において約100SLt/Lt〜約200SLt/Ltの範囲の水素供給量。
水素化処理および異性化反応ゾーンを統合する装置およびプロセスへのフラッシュ容器または分留カラムの追加は、比較的低コストユニットを使用し、水素化脱硫ゾーン中でより有利な操作条件、すなわち、より穏やかな圧力および温度ならびに低減された水素消費を使用する。目標留分境界点温度以上で沸騰する留分のみが立体障害硫黄含有化合物を変換する異性化反応にさらされる。さらに、吸着ゾーンを使用する態様において、目標留分境界点温度以上で沸騰する留分が吸着ゾーンへさらされる。この結果、炭化水素燃料のより費用効率的な脱硫化、特に無反応性、立体障害硫黄含有化合物の除去がもたらされるため、超低硫黄含量燃料製品の効率的かつ経済的な達成がもたらされる。
本明細書に記載の統合水素化処理装置およびプロセスにより、炭化水素燃料を深度脱硫するための従来方法と比較して明確な利点がもたらされる。例えば、深度脱硫化についての従来のある種の試みにおいては、全炭化水素流が吸着、異性化および水素化脱硫を受け、全てのプロセスに全供給流に適した容量のユニット操作が必要とされる。さらに、初期供給物の一部について、ある種の所望される燃料特性に悪影響を及ぼし得る異性化反応中の望ましくない副反応が避けられる。さらに、吸着ゾーンが必要とされる態様において、初期供給物の一部のみが吸着にさらされるため、全供給流に由来の窒素含有化合物および多核芳香族化合物の吸着に関する操作コストが低減される。
本明細書に記載する例が実証するように、非常に低過酷水素化処理操作条件は、10ppmwより少ない硫黄化合物をなお含有する生成物をさらに適用可能である。ガスオイルを2つの留分に分け、無反応性硫黄化合物を含有する重質留分を吸着性ステップおよび異性化ステップで処理することにより、水素化処理ユニットを非常に穏やかな条件下、すなわち30バール未満の水素分圧、1h-1の液空間速度および300SLt/Ltの水素供給量下で操作することができる。同じ気流を単一の水素化処理ユニットで処理する場合、本明細書に示すような脱硫化レベルを達成するのに圧力および/または触媒体積を増加させねばならない。例えば、アラブ軽質原油に由来するガスオイルを用いて30バールの水素分圧および350℃で行った水素化処理パイロットプラント研究は、500ppmwおよび10ppmwの硫黄ガスオイル生成物に対して必要とされる相対触媒がそれぞれ、1および4.9であることを示した。
ガスオイルを常圧蒸留カラム中で分流し、該ガスオイルを2つの留分に分けた:主に340℃未満の沸点を有する化合物を含有する軽質ガスオイル留分(LGO)、92.6W%収率、および主に340℃超の沸点を有する化合物を含有する重質ガスオイル留分(HGO)、7.4W%収率。ガスオイルおよびその留分の特性を表3に示す。
Figure 0006057999
HGO留分はベンゾチオフェンおよびジベンゾチオフェンを含有し、二次元ガスクロマトグラフィー分析によれば、ジベンゾチオフェンが最も多い種(〜80%)であった。質量分析が統合されたガスクロマトグラフィーによるさらなる解析は、4個およびそれ以上のメチル基に相当するアルキル鎖で置換されたベンゾチオフェン化合物を示した。
窒素化合物を除去するに効果的な条件下、この場合、25℃の温度、1バールの圧力、および2h-1のLHSVで作動する吸着ユニットで、重質ガスオイル留分を処理した。吸着材として、表面積108m/gのおよび細孔容積0.392cm/gを有するアタパルガスクレーを使用した。吸着プロセスは、17ppmwの窒素および1.84W%の硫黄を有する脱窒素化ガスオイル(例えば、図2中のストリーム38)98.6W%および1.29W%の窒素を有する廃棄留分(例えば、図2中のストリーム40)1.4W%を与えた。
吸着ユニットからの実質的に窒素不含の重質ガスオイル留分に異性化および水素化脱硫を施した。異性化ユニットを、300℃の温度、30バールの圧力および0.5h-1のLHSVで、亜鉛含浸Y-ゼオライト触媒上で作動させた。硫黄化学発光検出器を備えたガスクロマトグラフィーにより確認されるように、脱窒素化重質ガスオイル中に存在する無反応性硫黄が異性化された。
軽質ガスオイルと、清浄化および異性化された重質ガスオイルとを含む混合留分を、水素化処理容器中、コバルトおよびモリブデン金属で促進型のアルミナ触媒を用いて、反応器出口で約20.6バールの水素分圧、335℃の加重平均床温度、1.0h-1のLHSVおよび300リットル/リットルの水素供給量で、水素化処理した。ガスオイルの硫黄含量は10ppmwまで低減された。このプロセスについてのマスバランスを表4に示す。
Figure 0006057999
本明細書の方法およびシステムを上記および図面に述べたが、変法は当業者に明らかであり、本発明についての保護範囲は以下の請求項によって定められる。

Claims (11)

  1. 望ましくない有機硫黄化合物の濃度を低減するための炭化水素供給物の処理方法であって、以下:
    320℃〜360℃の範囲の温度留分境界点で炭化水素供給物を分留し、
    易変性有機硫黄化合物を含有する低沸点留分、および
    立体障害無反応性有機硫黄化合物を含有する高沸点留分
    を得ること;
    150℃〜350℃の範囲の温度で水素の存在下で前記高沸点留分と異性化触媒とを接触させ、特定の化合物の立体障害性を取り除き、異性化物および残留未反応水素を含む異性化流出物を生じさせること、ここで、異性化触媒は、260℃の温度での非晶質シリカ-アルミナ触媒の酸性度よりも少なくとも15倍の酸性度を有する
    前記低沸点留分および前記異性化流出物に穏やかな水素化処理プロセスを施し、それによって硫黄含量を減らすこと、ここで、穏やかな水素化処理プロセスの操作条件は、300℃〜400℃の範囲の操作温度、55バール未満の水素分圧、0.5h -1 〜10h -1 のLHSV、および100SLt/Lt〜500SLt/Ltの範囲の水素供給量を含む;および
    水素化処理炭化水素生成物を回収すること
    を含む、方法。
  2. 高沸点留分と異性化触媒とを接触させる前に、該高沸点留分と吸着材とを接触させて窒素含有化合物の濃度を低減させ、吸着処理された流出物を生じさせることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
  3. 温度留分境界点は340℃である、請求項1に記載の方法。
  4. 低沸点留分は脂肪族有機硫黄化合物を含む、請求項1に記載の方法。
  5. 脂肪族有機硫黄化合物は、スルフィド、ジスルフィドおよびメルカプタンを含む、請求項4に記載の方法。
  6. 低沸点留分は、チオフェンおよびチオフェンのアルキル誘導体をさらに含む、請求項4に記載の方法。
  7. 高沸点留分は、高沸点留分の範囲の沸点を有するジベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェンのアルキル誘導体およびベンゾチオフェンの長鎖アルキル化誘導体を含む、請求項1に記載の方法。
  8. 高沸点留分と吸着材とを接触させるステップは、以下:
    a.2つの充填カラムの第1に高沸点留分を通過させ;
    b.第1カラムを通る流れを中断しながら、高沸点留分を第1カラムから第2カラムへと移動させ;
    c.第1カラム中の吸着材から、窒素含有化合物および/または多核芳香族化合物を脱着および除去し、それによって該吸着材を再生し;
    d.第2カラムを通る流れを中断しながら、高沸点留分を第2カラムから第1カラムへと移動させ;
    e.第2カラム中の吸着材から、窒素含有化合物および/または多核芳香族化合物を脱着および除去し、それによって該吸着材を再生し;
    f.ステップ(a)〜(e)を繰り返すこと、それにより、高沸点留分の処理が連続的であること
    を含む、請求項2に記載の方法。
  9. 炭化水素供給物は、0.05重量%〜2重量%の範囲の硫黄および10ppmw〜3,000ppmwの範囲の窒素を含有する、180℃〜450℃の範囲で沸騰する直留ガスオイルであり;
    穏やかな水素化処理プロセスの操作条件は、20バール〜40バールの範囲の水素分圧、320℃〜380℃の範囲の温度、および、オイル1リットルあたり200リットルの水素(標準化)〜オイル1リットルあたり300リットルの水素(標準化)の範囲の穏やかな水素化処理プロセスにおける水素供給量を含む
    、請求項2に記載の方法。
  10. 望ましくない有機硫黄化合物を含有する炭化水素供給物の処理装置であって、以下:
    320℃〜360℃の範囲の温度留分境界点で炭化水素供給物をフラッシュ操作可能な分留カラムであって、
    炭化水素供給物を受入用の入口、
    易変性有機硫黄化合物を含有する低沸点留分を排出用の低沸点出口、および
    無反応性有機硫黄化合物を含有する高沸点留分を排出用の高沸点出口
    を含む、分留カラム;
    260℃の温度での非晶質シリカ-アルミナ触媒の酸性度よりも少なくとも15倍の酸性度を有する異性化触媒を含み、150℃〜350℃の範囲の温度で操作され、高沸点出口と流体連通する入口、水素導入口、および立体障害物が除去された異性化化合物を有する高沸点留分を排出用の異性化反応ゾーン出口を有する、異性化反応ゾーン;および
    300℃〜400℃の範囲の温度、55バール未満の水素分圧、0.5h -1 〜10h -1 のLHSV、および100SLt/Lt〜500SLt/Ltの範囲の水素供給量で操作され、水素導入口、および、異性化反応ゾーン出口および低沸点出口と流体連通する入口を有する穏やかな水素化処理のゾーンであって、水素化処理炭化水素生成物を排出用の水素化処理ゾーン出口を含む水素化処理ゾーン
    を含む装置。
  11. 高沸点出口と流体連通する入口、および、低減濃度の窒素含有化合物を有するエキストラクトを排出用の吸着ゾーン出口を有する、吸着ゾーンをさらに含み、ここで、異性化反応ゾーン入口が該吸着ゾーン出口と流体連通する、請求項10に記載の装置。
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