JP6046795B2 - 液晶レンズの製造方法 - Google Patents
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Description
以下に説明する本技術は、液晶レンズに適用することができるため、ここでは液晶レンズを例にあげ、本技術について説明する。まず、液晶レンズについて説明を加える。液晶レンズは、例えば、専用メガネを必要としないで、観察者の左右の眼に視差を生じさせた視差画像を見せることにより立体視を実現する際に用いられる。
光源→偏光板16→アレイ基板15→サブ画素の透明電極→配向膜→液晶→配向膜→共通透明電極→対向基板14(カラーフィルタ基板)→偏光板16
という順に各要素を通過する。
図2は、液晶レンズパネル11の断面図を示している。液晶レンズパネル11は、画面上の各領域のレンズ効果をその表示モードに応じて制御することにより、LCD13からの光線の通過状態を選択的に変化させる。図2に示す液晶レンズパネル11の構成は一例であり、構成や材料などは、適宜変更可能である。図2以外の図面を参照し、適宜、異なる構成や材料について説明を加えるとし、まず図2を参照し、液晶レンズパネル11の一例の構成について説明する。
液晶レンズパネル11とLCD13は、共に、液晶材料23を1組の基板で挟む構成とされている点で共通している。LCD13の基板間の距離(セルギャップ)は、2〜4μm程度である。液晶レンズパネル11のセルギャップは、10μm以上の大きなセルギャップが必要である。このようなセルギャップを得るために、液晶レンズパネル11やLCD13には、スペーサが設けられる。LCD13内に設けられるスペーサについては、図示していないが、液晶レンズパネル11内に設けられるスペーサについては、図2にスペーサ22として図示してある。ここでは、このスペーサ22を例にあげて説明を続ける。
図4は、従来の液晶レンズパネル11の製造工程について説明するための図である。工程S1と工程S2において、下地層が生成される。下地層は、図2に示したような構成の液晶レンズパネル11を製造する場合、ガラス材料などから成る第1の基板24および第2の基板27のそれぞれに、例えばITO(IndiumTin Oxide)膜などの透明導電膜が所定のパターンで形成して第1の電極群26および第2の電極群29が形成される。
図6は、第1の実施の形態について説明するための図であり、高さを必要とするスペーサ22を形成し、そのようなスペーサ22を含む、例えば、液晶レンズパネル11を製造する際に用いて好適な製造工程について説明するための図である。
次に、第2の実施の形態について説明する。図7は、第2の実施の形態について説明するための図であり、高さを必要とするスペーサ22を形成し、そのようなスペーサ22を含む、例えば、液晶レンズパネル11を製造する際に用いて好適な製造工程について説明するための図である。
図6乃至9を参照した説明では、重ね合わせる第1の基板24と第2の基板27のうちの、どちらか一方に、スペーサ22を形成するとして説明した。次に、重ね合わせる第1の基板24と第2の基板27の両方に、スペーサ22を形成し、所望とする高さを有するスペーサ22を形成する場合について説明する。
高さH=高さH1+高さH2
図12は、異なる工程で第1の基板24と第2の基板27のそれぞれにスペーサ22を形成する際の製造工程について説明するための図である。第1の基板24に対する工程S251乃至S255は、図8における工程S101乃至S105、または図6における工程S51乃至S55と同一であるため、その説明は省略する。ただし、詳細は後述するが、工程S255において形成されるスペーサ22−3は、高さHよりも低い高さとされる。
高さH=高さH3+高さH4
上記したようにして製造された液晶レンズパネル11は、フラットパネル形状を有し、様々な電子機器、例えば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話、ビデオカメラなどに適用可能である。電子機器に入力された、若しくは、電子機器内で生成した駆動信号を画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器のディスプレイに適用することが可能である。以下この様な表示装置が適用された電子機器の例を示す。電子機器は基本的に情報を処理する本体と、本体に入力する情報若しくは本体から出力された情報を表示する表示器とを含む。
第1の基板と第2の基板との間に、所定の間隔を確保するための構造物を、前記第1の基板または前記第2の基板の、少なくとも一方の基板上に形成し、
前記第1の基板と前記第2の基板のそれぞれに配向膜を形成し、
前記第1の基板と前記第2の基板のそれぞれに形成された前記配向膜にラビングを施す
ステップを含み、
前記構造物は、前記配向膜が形成された後であり、前記ラビングが行われる前に形成されるか、または前記ラビングが行われた後に形成される
製造方法。
(2)
前記第1の基板に前記配向膜が形成され、
前記第1の基板に形成された前記配向膜に対してラビングが施され、
前記ラビングが施された前記第1の基板の前記配向膜上に、前記構造物が形成される
前記(1)に記載の製造方法。
(3)
前記第1の基板に前記配向膜が形成され、
前記第1の基板の前記配向膜上に、前記構造物が形成され、
前記構造物が形成された前記第1の基板に形成された前記配向膜に対してラビングが施される
前記(1)に記載の製造方法。
(4)
前記ラビングは、イオンビーム配向が用いられて行われる
前記(1)乃至(3)のいずれかに記載の製造方法。
(5)
記第1の基板と前記第2の基板に、それぞれ前記構造物を形成するステップを含む 前記(1)に記載の製造方法。
(6)
前記第1の基板に形成される前記構造物の直径は、前記第2の基板に形成される前記構造物の直径よりも大きく形成されるように制御される
前記(5)に記載の製造方法。
(7)
前記第1の基板に前記配向膜が形成され、
前記第1の基板に形成された前記配向膜に対してラビングが施され、
前記ラビングが施された前記第1の基板の前記配向膜上に、前記構造物が形成される一方で、
前記第2の基板に前記配向膜が形成され、
前記第2の基板の前記配向膜上に、前記構造物が形成され、
前記構造物が形成された前記第2の基板に形成された前記配向膜に対してラビングが施される
前記(5)または前記(6)に記載の製造方法。
(8)
第1の基板と第2の基板との間に、所定の間隔を確保するための構造物を、前記第1の基板または前記第2の基板の、少なくとも一方の基板上に形成する構造物形成工程と、
前記第1の基板と前記第2の基板のそれぞれに配向膜を形成する配向膜形成工程と、
前記第1の基板と前記第2の基板のそれぞれに形成された前記配向膜にラビングを施すラビング工程と
を含み、
前記構造物形成工程は、前記配向膜形成工程の後であり、前記ラビング工程の前に行うか、または前記ラビング工程の後に行う
製造装置。
(9)
第1の基板と第2の基板との間に、所定の間隔を確保するための構造物が形成され、
前記第1の基板と前記第2の基板のそれぞれに配向膜が形成され、
形成された前記配向膜にラビングが施されている光学素子であり、
前記構造物は、
前記第1の基板または前記第2の基板の、少なくとも一方の基板上に形成され、
前記配向膜が形成された後であり、前記ラビングが行われる前に形成されたか、または前記ラビングが行われた後に形成された構造物である
光学素子。
(10)
画像表示を行う表示部と、
前記表示部の表示面側に対向配置され、前記表示部からの光線の通過状態を選択的に変化させるレンズ部と
を備え、
前記レンズ部は、
第1の基板と第2の基板との間に、所定の間隔を確保するための構造物が形成され、
前記第1の基板と前記第2の基板のそれぞれに配向膜が形成され、
形成された前記配向膜にラビングが施されている光学素子であり、
前記構造物は、
前記第1の基板または前記第2の基板の、少なくとも一方の基板上に形成され、
前記配向膜が形成された後であり、前記ラビングが行われる前に形成されたか、または前記ラビングが行われた後に形成された構造物である
表示装置。
(11)
画像表示を行う表示部と、
前記表示部の表示面側に対向配置され、前記表示部からの光線の通過状態を選択的に変化させるレンズ部と
を備え、
前記レンズ部は、
第1の基板と第2の基板との間に、所定の間隔を確保するための構造物が形成され、
前記第1の基板と前記第2の基板のそれぞれに配向膜が形成され、
形成された前記配向膜にラビングが施されている光学素子であり、
前記構造物は、
前記第1の基板または前記第2の基板の、少なくとも一方の基板上に形成され、
前記配向膜が形成された後であり、前記ラビングが行われる前に形成されたか、または前記ラビングが行われた後に形成された構造物である
電子機器。
Claims (4)
- 画像表示を行う表示部の表示面側に配置され、10μm以上の間隔を有して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に設けられ、前記表示部からの光線の通過状態を選択的に変化させるレンズ部と、
を備える液晶レンズの製造方法であって、
前記第1の基板に第1の配向膜が形成された後であり、前記第1の配向膜に対して配向処理が行われる前、または前記配向処理が行われた後に前記第1の基板に第1のスペーサを形成するステップと、
前記第2の基板に第2のスペーサが形成され、前記第2のスペーサが形成された前記第2の基板に第2の配向膜が形成され、前記第2の配向膜に対して配向処理が施されるステップと、
前記第1のスペーサと前記第2のスペーサとが接して、前記第1の基板と前記第2の基板とが重ね合されるステップとを含み、
前記第1のスペーサの高さと前記第2のスペーサの高さとの合計が10μm以上である
液晶レンズの製造方法。 - 前記第1のスペーサの高さは、前記第2のスペーサの高さよりも高く形成される
請求項1に記載の液晶レンズの製造方法。 - 前記第2のスペーサの直径は、前記第1のスペーサの直径よりも大きく形成される
請求項1又は請求項2に記載の液晶レンズの製造方法。 - 前記配向処理は、イオンビーム配向が用いられて行われる
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の液晶レンズの製造方法。
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