JP6040516B2 - 酸化亜鉛皮膜の形成方法および、酸化亜鉛皮膜形成体 - Google Patents
酸化亜鉛皮膜の形成方法および、酸化亜鉛皮膜形成体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6040516B2 JP6040516B2 JP2011155551A JP2011155551A JP6040516B2 JP 6040516 B2 JP6040516 B2 JP 6040516B2 JP 2011155551 A JP2011155551 A JP 2011155551A JP 2011155551 A JP2011155551 A JP 2011155551A JP 6040516 B2 JP6040516 B2 JP 6040516B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zinc oxide
- polysilazane
- oxide film
- zinc
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Description
また、酸化亜鉛をめっき被膜としてその上に析出させる中間層としてポリシラザンを用いることで、基材との密着性に優れた酸化亜鉛皮膜を得ることが可能となる。
さらには、触媒付与工程として、ンシタイジング−アクチベーション法、キャタリスト−アクセレレーター法、アルカリキャタリスト法等の触媒を付与する工程がなくなり、ポリ
シラザンを含む溶液を塗工するのみでよい。
従って、低コストで非導電性基材上にも導電性基材上にも酸化亜鉛被膜を容易に形成することが可能となった。
以下、それを実現するための工程と無電解めっき浴組成、めっき条件を図2を用いて説明する。
また上記基材1上には、ポリシラザンとの密着性を向上させるために、易接着層が設けられていても良い。
まず、DMABを用いる無電解めっきで生成する酸化亜鉛の反応式としては化2〜化5に示す反応機構が知られている。
この結果、被めっき物近傍のpHが上昇し、水酸化亜鉛が形成され、その後同様に中性付近で安定な酸化亜鉛が得られると考えている。
これらの点から、めっき浴のpHは1.0〜6.0が好ましく、特に4.0〜6.0が好ましい。
(実施例1〜12)
まず、被めっき物となる基材1として、易接着層を有するPETフィルム(A4300、東洋紡(株)製)を用いた。次いで、被めっき物処理を行った。被めっき物処理としては、先に準備したPETフィルム上にポリシラザン溶液2(アクアミカNL120A−20、AZエレクトロニクス(株)製)をシンナー(アクアミカシンナー01、AZエレクトロニクス(株)製)で2倍希釈した液を用いてディップコーティング(引き上げ速度 0.5m/min)により膜厚が0.2μmとなるように塗布した後、室温で10分間気中にて乾燥させる処理を行った(図2(b))。
比較例1〜3については実施例と同様にして被めっき物処理を行った後、浴組成、もしくは浴条件を変更してめっきを行なった。
また比較例4、5については、被めっき物処理を実施例とは異なる処理もしくは処理自体を行わなかったものについてめっきを行なった。なお、比較例4のHMTA塗布とは、0.1Mol/lのHMTA水溶液をPETフィルム上にディップコーティングにより塗工したものである。処理条件及び結果の一覧は表2に記載した。
一方、めっき浴組成にHMTAを含有させた浴(比較例3)では浴の分解が発生した。
また、HMTA水溶液に浸す前処理を行った比較例4、被めっき物処理を行わなかった比較5についてはめっき皮膜が生じなかった。
2、ポリシラザン含有溶液
3、ポリシラザン
4、亜鉛イオン含有めっき液
5、酸化亜鉛皮膜
6、めっき浴
Claims (3)
- 基材上に、ポリシラザンを含有する溶液を塗布し乾燥させてポリシラザン層を形成した後、前記基材を、硝酸イオンを還元する際に水酸基イオン(OH − )を生成する還元剤を含まない、亜鉛イオン濃度0.01mol/l〜0.1mol/lの範囲、pH4.0〜6.0の範囲、液温30℃〜90℃の範囲の硝酸亜鉛水溶液に浸漬させ、ポリシラザンが水と反応したSiO 2 、Si 3 N 4 、及び両方の中間固溶体SiO x N y を含む層上に酸化亜鉛を析出させることを特徴とする酸化亜鉛皮膜の形成方法。
- 基材上に、ポリシラザンを含有する溶液を塗布し乾燥させてポリシラザン層を形成した後、前記基材を、硝酸イオンを還元する際に水酸基イオン(OH − )を生成する還元剤を含まない、亜鉛イオン濃度0.01mol/l〜0.1mol/lの範囲、pH4.0〜6.0の範囲、液温30℃〜90℃の硝酸亜鉛水溶液のみからなる水溶液に浸漬させ、ポリシラザンが水と反応したSiO 2 、Si 3 N 4 、及び両方の中間固溶体SiO x N y を含む層上に酸化亜鉛を析出させることを特徴とする酸化亜鉛皮膜の形成方法。
- 基材上に、ポリシラザンが水と反応したSiO 2 、Si 3 N 4 、及び両方の中間固溶体SiO x N y を含む層を含み、その層上に、酸化亜鉛皮膜を有する酸化亜鉛皮膜形成体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011155551A JP6040516B2 (ja) | 2011-07-14 | 2011-07-14 | 酸化亜鉛皮膜の形成方法および、酸化亜鉛皮膜形成体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011155551A JP6040516B2 (ja) | 2011-07-14 | 2011-07-14 | 酸化亜鉛皮膜の形成方法および、酸化亜鉛皮膜形成体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013019041A JP2013019041A (ja) | 2013-01-31 |
JP6040516B2 true JP6040516B2 (ja) | 2016-12-07 |
Family
ID=47690753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011155551A Expired - Fee Related JP6040516B2 (ja) | 2011-07-14 | 2011-07-14 | 酸化亜鉛皮膜の形成方法および、酸化亜鉛皮膜形成体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6040516B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160127041A (ko) | 2014-02-28 | 2016-11-02 | 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘. | 광전자 응용제품을 위한 하이브리드 재료 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3868187B2 (ja) * | 2000-05-30 | 2007-01-17 | 積水樹脂株式会社 | 被覆物の形成方法及び被覆物 |
JP2003170060A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-17 | Nippon Light Metal Co Ltd | 光触媒機能を有する表面処理製品 |
JP4328850B2 (ja) * | 2003-07-29 | 2009-09-09 | 奥野製薬工業株式会社 | 酸化亜鉛膜の皮膜構造の制御方法 |
WO2008117665A1 (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-02 | Central Research Institute Of Electric Power Industry | 硫化腐食防止方法、耐硫化腐食性高温部材及び伝熱管の補修方法 |
-
2011
- 2011-07-14 JP JP2011155551A patent/JP6040516B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013019041A (ja) | 2013-01-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI651432B (zh) | 用於基材表面金屬化之新穎黏著促進劑 | |
KR102378658B1 (ko) | 기판 표면들의 금속화를 위한 신규한 접착 촉진 프로세스 | |
EP2823084B1 (en) | Method for promoting adhesion between dielectric substrates and metal layers | |
US20210262095A1 (en) | Electroless nickel plating of silicone rubber | |
TW201827645A (zh) | 無電極銅電鍍組成物 | |
TW201720956A (zh) | 用於印刷電路板和通孔的無電極金屬化的環保穩定催化劑 | |
US20120177821A1 (en) | Composition of nanoparticles | |
JP6040516B2 (ja) | 酸化亜鉛皮膜の形成方法および、酸化亜鉛皮膜形成体 | |
TWI617700B (zh) | 無電極電鍍的方法 | |
KR102427122B1 (ko) | 구리 및 구리 합금 회로의 광학 반사율을 감소시키는 방법 및 터치 스크린 디바이스 | |
TWI540222B (zh) | 金屬化基板表面的方法及具有金屬化表面的基板 | |
TW201720957A (zh) | 用於印刷電路板和通孔的無電極金屬化的環保穩定催化劑 | |
US20120192758A1 (en) | Electroless plating pretreatment agent, electroless plating method using same, and electroless plated object | |
CN104805421A (zh) | 一种形貌可控的纳米氧化锌薄膜的制备方法 | |
WO2007138795A1 (ja) | 無電解めっき用触媒剤 | |
CN111479953B (zh) | 氧化物膜形成用涂布剂、氧化物膜的制造方法及金属镀覆结构体的制造方法 | |
JP2013253283A (ja) | 無電解めっき浴 | |
CN109294434B (zh) | 一种抗污染涂层材料的制备方法 | |
KR20170040125A (ko) | 촉매 함유 금속 실리콘 올리고머, 그의 제조방법 및 촉매 함유 금속 실리콘 올리고머의 용도 | |
CN104204294A (zh) | 促进介电衬底与金属层之间粘着度的方法 | |
CN117143517A (zh) | 含有钯元素的有机催化溶液及其制备方法和由其制得涂层 | |
JP2011184728A (ja) | 無電解めっき前処理剤 | |
CN113463381A (zh) | 一种电磁屏蔽柔性织物及制备方法及用途 | |
JP2019167591A (ja) | 酸化物膜及び酸化物膜の製造方法 | |
JP2007131898A (ja) | 金属被覆方法および発泡体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150317 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150513 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151020 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151216 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160531 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160830 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160906 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161011 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161024 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6040516 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |