JP6037340B2 - 表面の化学的性質の非接触測定装置および方法 - Google Patents

表面の化学的性質の非接触測定装置および方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6037340B2
JP6037340B2 JP2013533855A JP2013533855A JP6037340B2 JP 6037340 B2 JP6037340 B2 JP 6037340B2 JP 2013533855 A JP2013533855 A JP 2013533855A JP 2013533855 A JP2013533855 A JP 2013533855A JP 6037340 B2 JP6037340 B2 JP 6037340B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
infrared
infrared spectrum
tunable
array
contamination
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013533855A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013539865A (ja
JP2013539865A5 (ja
Inventor
ポール ジー. ヴァイー,
ポール ジー. ヴァイー,
グレゴリー ジェー. ウェルナー,
グレゴリー ジェー. ウェルナー,
ポール エイチ. シェリー,
ポール エイチ. シェリー,
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Boeing Co
Original Assignee
Boeing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Boeing Co filed Critical Boeing Co
Publication of JP2013539865A publication Critical patent/JP2013539865A/ja
Publication of JP2013539865A5 publication Critical patent/JP2013539865A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6037340B2 publication Critical patent/JP6037340B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/3563Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing solids; Preparation of samples therefor
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0289Field-of-view determination; Aiming or pointing of a spectrometer; Adjusting alignment; Encoding angular position; Size of measurement area; Position tracking
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/10Arrangements of light sources specially adapted for spectrometry or colorimetry
    • G01J3/108Arrangements of light sources specially adapted for spectrometry or colorimetry for measurement in the infrared range
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/27Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
    • G01N21/274Calibration, base line adjustment, drift correction
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/93Detection standards; Calibrating baseline adjustment, drift correction
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8422Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
    • G01N2021/8427Coatings
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N2021/8472Investigation of composite materials
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/39Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using tunable lasers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/47Scattering, i.e. diffuse reflection
    • G01N21/4738Diffuse reflection, e.g. also for testing fluids, fibrous materials
    • G01N21/474Details of optical heads therefor, e.g. using optical fibres
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/02Mechanical
    • G01N2201/022Casings
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/12Circuits of general importance; Signal processing
    • G01N2201/129Using chemometrical methods

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

本開示は、概して、複合構造物などの構造物の表面上の汚染またはその他の表面の化学的性質の測定に関する。より詳細には、本開示は、検査されている表面との物理的接触を必要としない表面の化学的性質の非接触測定装置および方法に関する。
複合構造物またはその他の構造物の表面上の汚染物質やその他の表面の化学的性質を検出する現在の方法は、赤外分光法の使用を含むことがある。しかしながら、従来の赤外分光法技術は、構造的接着の品質に影響を及ぼす可能性のある表面の化学的性質の変化または低度の汚染を測定するための感度を有していないことがある。現在の赤外分光法は測定中に表面との接触を要するので、表面上にさらなる汚染物質をもたらす可能性がある。
本開示は、概して、表面の化学的性質の測定装置を対象とする。表面の化学的性質の測定装置に関する一実施形態には、プロセッサと、プロセッサと接続しており、かつ、ある範囲の赤外波長を用いて測定対象面にわたる表面の化学的性質を同時測定するために構成されている波長可変赤外線レーザー分光計のアレイと、プロセッサと接続しており、かつ、測定対象面から反射する赤外波長の赤外線スペクトルを表示するよう適合されている表示部とが含まれる。
いくつかの実施形態において、表面の化学的性質の測定装置は、入射赤外線ビーム開口、可視レーザービーム開口および反射赤外線ビーム開口を有する装置筐体と、装置筐体内のプロセッサと、装置筐体内に存在し、かつ、プロセッサならびに入射赤外線ビーム開口および可視レーザービーム開口と接続している波長可変レーザー赤外線分光計のアレイとを含んでいてもよい。波長可変赤外線レーザー分光計のアレイは、ある範囲の赤外波長を用いて測定対象面にわたる表面の化学的性質を同時測定するために構成されていてもよい。装置筐体内の可視レーザーは、可視レーザービーム開口と接続していてもよい。表示部は、プロセッサと接続していてもよく、かつ、測定対象面から反射する赤外波長の赤外線スペクトルを表示するよう適合されていてもよい。
さらに本開示は、概して、表面の化学的性質の非接触測定方法を対象としている。該方法の一実施形態は、表面の化学的性質の汚染の広がり(range)を有する複数の標準物を設けること、波長可変赤外線レーザー分光計のアレイを設けること、標準物上の表面の化学的性質の汚染の広がりの赤外線スペクトルを得ること、表面の化学的性質の汚染の広がりに合わせて赤外線スペクトルを較正すること、波長可変赤外線レーザー分光計のアレイを用いて汚染の可能性のある表面の赤外線スペクトルを得ること、および、汚染の可能性のある表面の赤外線スペクトルを表面の化学的性質の汚染の広がりの赤外線スペクトルと比較することを含む。
図1は、表面の化学的性質の非接触測定装置の一実施形態の斜視図である。 図2は、表面の化学的性質の非接触測定装置の一実施形態の模式ブロック図である。 図3は、表面の化学的性質の非接触測定方法の一実施形態のフロー図である。 図4は、航空機の製造および保守方法論のフロー図である。 図5は、航空機のブロック図である。
以下の詳細な説明は本質的に単なる例示であり、説明する実施形態または説明する実施形態の用途および使用を限定するよう意図していない。本明細書で用いられる「例示的な」や「一実施形態」という語は、「一例、場合または実施例としての役割を果たす」という意味である。本明細書における「例示的な」や「一実施形態」として説明するいかなる実施構成も、その他の実施構成より、好適または有利であると必ずしも解釈されるべきではない。以下で説明する実施構成のすべては、当業者が本発明を生産または使用できるように提供される例示的な実施構成であり、かつ、請求項により規定される本発明の範囲を限定するよう意図されてはいない。さらに、前出の技術分野、背景技術、発明の概要または以下の詳細な説明において提示される明示的または暗示的な理論に縛られるよう意図されてはいない。
図1および図2を参照するに、表面の化学的性質の非接触測定装置(以後、装置と呼ぶ)の一実施形態は全体として参照番号1により示す。装置1は、装置1の機能的構成要素の少なくともいくつかを収容する可能性のある装置筐体2を含んでいてもよい。図1に示すように、前面筐体板2aが装置筐体2上に設けられていてもよい。前面筐体板2aには、入射赤外線ビーム開口12、可視レーザービーム開口13および反射赤外線ビーム開口14が設けられていてもよい。いくつかの実施形態において、図1にさらに示すように、可視レーザービーム開口13は通常、入射赤外線ビーム開口12と反射赤外線ビーム開口14との間に存在してよい。
図2に示すように、装置1は、CPU(中央処理装置)3を含んでいてもよい。波長可変赤外線レーザー分光計アレイ4は、CPU3と接続していてもよい。波長可変赤外線レーザー分光計アレイ4は、ある範囲の赤外波長において複合材料またはその他の材料24の測定対象面25にわたる同時測定のために構成されていてもよい。波長可変赤外線レーザー分光計アレイ4は、赤外線エミッター5を含んでいてもよい。赤外線エミッター5は、前面筐体板2aに設けられている入射赤外線ビーム開口12(図1)と接続していてもよい。可視レーザーポインター6は、CPU3と接続していてもよい。可視レーザーポインター6は、前面筐体板2aに設けられている可視レーザービーム開口13と接続していてもよい。波長可変赤外線レーザー分光計アレイ4は、赤外線受信機7を含んでいてもよい。赤外線受信機7は、装置筐体2の前面筐体板2aに設けられている反射赤外線ビーム開口14と接続していてもよい。表示部8は、CPU3と接続していてもよい。いくつかの実施形態において、表示部8は、図1に示したように、装置筐体2の外面に設けられていてもよい。例えば限定はされないが、USBポートなどの少なくとも1つのポート9は、CPU3と接続していてもよい。1つまたは複数のポート9は、装置筐体2の外面に設けられていてもよい。制御盤10は、CPU3と接続していてもよい。いくつかの実施形態において、制御盤10は、装置筐体2の外表面に設けられていてもよい。いくつかの実施形態において、制御盤10は、タッチスクリーンの形式で設けられていてもよく、かつ、表示部8内に組み込まれていてもよい。
可視レーザーポインター6は、可視レーザービーム開口13(図1)を介して、かつ、その表面の化学的性質または汚染が測定されることとなる材料24の測定対象面25上の選択された領域または地点に対して、可視レーザービーム19を発するよう適合されていてもよい。波長可変赤外線レーザー分光計アレイ4は、赤外線エミッター5から入射赤外線ビーム開口12(図1)を介して、かつ、測定対象面25上の選択された領域または地点に対して、ある範囲の赤外波長を有する入射赤外線ビーム18を発するよう適合されていてもよい。赤外線受信機7は、測定対象面25からの反射赤外線ビーム20を受けるよう適合されていてもよい。いくつかの実施形態において、赤外線エミッター5は、入射赤外線ビーム18を発する能力を有していてもよく、赤外線受信機7は動作波長範囲(例えば、波数400(cm−1)から波数約4000(cm−1)まで)のすべてまたは一部にわたって、反射赤外線ビーム20を集光するよう適合されていてもよい。
CPU3は、反射赤外線ビーム20に対応する赤外線スペクトルを処理および保存するとともに、表示部8上に該スペクトルを表示する能力を有していてもよい。CPU3は、スペクトルの多変量解析の実行を始めとする、スペクトルを含むデータの数値操作を行う能力を有していてもよい。CPU3は、表面汚染の広がりを有する標準物から得られる赤外線スペクトルを、標準物上に表面汚染が存在する状態で較正するよう適合されていてもよい。CPU3は、複合標準物から得られる赤外線スペクトルを汚染の可能性のある表面から得られる赤外線スペクトルと比較して、表示部8にその比較を表示する能力をさらに有していてもよい。いくつかの実施形態において、CPU3は、測定された表面上の汚染度を定量化して、表示部8上に定量化された汚染度を数値またはその他の形態で表示する能力を有していてもよい。CPU3から外部装置(図示せず)上へのデータアップロードを促進するために、外部装置が装置筐体2のポート9に接続されていてもよい。
装置1の例示的用途において、表面上にシリコーンやその他の汚染の広がりを有する複合標準物またはその他の標準物(図示せず)を準備してもよい。いくつかの用途において、標準物は、グラファイト繊維エポキシ複合標準物とすることができる。その他の実施形態では、標準物は、代替の材料を含んでいてもよい。装置1の波長可変赤外線レーザー分光計アレイ4は、各標準物の表面に対して入射赤外線ビーム18を発することができる。可視レーザーポインター6はまず、表面の汚染度が測定されることとなる各標準物の表面上の選択された領域または地点に対して可視レーザービーム19を発することにより、表面上の選択された領域または地点に対する入射赤外線ビーム18の衝突を誘導してもよい。赤外線受信機7は、各標準物の表面から反射される反射赤外線ビーム20を受けてもよい。CPU3は、各標準物に対応する反射赤外線ビーム20から得られる赤外線スペクトルを処理および保存してもよい。いくつかの用途において、部分最小二乗(PLS)ルーチンを用いて、標準物から得られる赤外線スペクトルを標準物上のシリコーン汚染量に合わせて較正し、測定感度を検証してもよい。
標準物から得られた赤外線スペクトルの較正後、装置1は、複合材料またはその他の材料24の測定対象面25の赤外線スペクトルを得るよう動作させてもよい。ある実施形態において、材料24は、測定対象金属面25を有していてもよい。他の実施形態では、材料24は、測定対象複合またはその他の非金属面25を有していてもよい。こうして、装置1の波長可変赤外線レーザー分光計アレイ4は、測定対象面25に対して入射赤外線ビーム18を発することができる。可視レーザーポインター6はまず、測定対象面25上の選択された領域または地点に対して可視レーザービーム19を発することにより、測定対象面25上の選択された領域または地点に対する入射赤外線ビーム18の衝突を誘導してもよい。赤外線受信機7は、測定対象面25から反射される反射赤外線ビーム20を受けてもよい。CPU3は、測定対象面25に対応する反射赤外線ビーム20から得られる赤外線スペクトルを処理および保存してもよい。CPU3は、標準物に対応する赤外線スペクトルとともに測定対象面25に対応する赤外線スペクトルを表示してもよい。CPU3は更に、測定対象面25の赤外線スペクトルをシリコーン汚染標準物から得られる赤外線スペクトルと比較してもよい。いくつかの用途において、CPU3は、測定対象面25上の汚染度を定量化してもよい。
装置1が、例えば限定はされないが、高速実時間測定により、金属および複合接着表面を含む多種多様な接着表面についての化学的情報に対するアクセスを提供してもよいことは、当業者により理解されるであろう。該測定は、対象となっている表面上のさまざまな所望の化学種または不要な汚染物質種の不在を確認または検証するために用いてもよい赤外波長区分のアレイとして実施されてもよい。装置1は、接着表面の化学的性質を測定するのに十分な電力を用いて対象となっている表面の非接触測定を促進することにより、そうでなければ表面との赤外線計器の接触により生じる可能性がある表面の汚染を防ぐ。装置1は、大きな接着表面領域に対する表面測定を完全にカバーする高速測定方法を促進してもよい。赤外分光法領域の同時アレイは、多種多様な汚染物質および表面の化学的性質の測定に対するアクセスを提供してもよい。さらに、該方法を用いて、表面上の薄い被膜を該被膜または表面に触れることなく測定可能であることは、当業者により理解されるだろう。このことは、測定のために表面に触れることが望ましくないが、接着下塗りの厚みの測定は望まれる(約0.2ミルから約0.5ミルまで)、金属および複合材上の接着下塗りに有用である可能性がある。
次に図3を参照して、表面の化学的性質の非接触測定方法の一実施形態のフロー図100を示す。ブロック102において、標準物の表面上にシリコーンまたはその他の汚染の広がりを有する複合標準物またはその他の非金属もしくは金属標準物を設ける。ブロック104において、波長可変赤外線レーザー分光計のアレイを設ける。ブロック106において、複合標準物上のシリコーン汚染の赤外線スペクトルを得る。いくつかの実施形態において、波数約400(cm−1)から波数約4000(cm −1 までの赤外波長を用いた赤外線スペクトルを得る。ブロック108において、ブロック106において得られた赤外線スペクトルを複合標準物の表面上の汚染の広がりに合わせて較正する。いくつかの実施形態において、赤外線スペクトルは、部分最小二乗(PLS)ルーチンを用いて複合標準物の表面上の汚染の広がりに合わせて較正してもよい。ブロック110において、波長可変赤外線レーザー分光計のアレイを用いて、シリコーンまたはその他の汚染の可能性がある表面の赤外線スペクトルを得る。いくつかの実施形態において、波数約400(cm−1)から波数約4000(cm −1 までの赤外波長を用いた赤外線スペクトルを得る。いくつかの実施形態において、汚染の可能性がある表面は、金属製であってもよい。いくつかの実施形態において、汚染の可能性がある表面は、複合材またはその他の非金属材料であってもよい。ブロック112において、汚染の可能性がある表面の赤外線スペクトルを標準物の赤外線スペクトルと比較する。ブロック114において、汚染の可能性のある表面上の汚染度を定量化する。
次に図4および図5を参照して、図4に示すような航空機の製造および保守方法78ならびに図5に示すような航空機94との関連において、本開示の実施形態を使用できる。本生産の前で、例示的方法78は、航空機94の仕様および設計80ならびに材料調達82を含んでいてもよい。生産の際は、航空機94の構成部品および部分組立品の製造84ならびにシステム統合86が行われる。その後、航空機94は、認証および納品88を経て、運航90されてもよい。顧客による運航中、航空機94は、(変更、再構成、改修などをも含むかもしれない)定期的整備および保守92を受けることとなってもよい。
方法78の各プロセスは、システムインテグレータ、第三者および/または操作者(例えば、顧客)により行われるかまたは実施されてもよい。この記述の意図するところは、システムインテグレータは、任意の数の航空機製造者および主要なシステム下請け業者を含んでもよいが、これらに限定されるわけではない。第三者は、任意の数の取り扱い業者、下請け業者および供給業者を含んでもよいが、これらに限定されるわけではない。操作者は、航空会社、リース会社、軍隊、保守組織などであってもよい。
図5に示すように、例示的方法78により製造された航空機94は、複数のシステム96および内装100とともに機体98を含んでいてもよい。高度システム96の例としては、推進システム102、電気システム104、油圧システム106および環境システム108のうちの1つ以上が挙げられる。任意の数の他のシステムを含んでもよい。航空宇宙の例が示されているが、本発明の原理は、自動車産業といった他の産業に適用することもできる。
ここで実施されている装置は、製造および保守方法78のいずれか1つまたはそれ以上の段階中に使用してもよい。例えば、製造プロセス84に対応する構成部品や部分組立品は、航空機94が運航されている間に製造される構成部品や部分組立品と同様に組立てまたは製造されてもよい。また、航空機94の組立てを大幅に早めるか、または、航空機94のコストを削減することにより、例えば、製造段階84および86中に、一以上の装置の実施形態を利用してもよい。同様に、航空機94の運航から、例えば限定はされないが、整備および保守92の間に、一以上の装置の実施形態を利用してもよい。
ある例示的な実施形態に関して本開示の実施形態を説明してきたが、当業者は他の変形例に想到するため、該特定の実施形態は、限定ではなく説明を目的とするものであると理解されるべきである。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
(態様1)
プロセッサと、
前記プロセッサと接続しており、かつ、ある範囲の赤外波長を用いた測定対象面にわたる表面の化学的性質の同時測定のために構成されている波長可変赤外線レーザー分光計のアレイと、
前記プロセッサと接続しており、かつ、前記測定対象面から反射する赤外波長の赤外線スペクトルを表示するよう適合されている表示部と、
を含む表面の化学的性質の測定装置。
(態様2)
前記プロセッサと接続している可視レーザーポインターをさらに含む態様1に記載の装置。
(態様3)
装置筐体をさらに含み、かつ、前記波長可変赤外線レーザー分光計のアレイが前記装置筐体に収容されている態様1に記載の装置。
(態様4)
前記筐体に入射赤外線ビーム開口をさらに含み、かつ、前記波長可変赤外線レーザー分光計のアレイが前記入射赤外線ビーム開口と接続している態様3に記載の装置。
(態様5)
前記装置筐体に可視レーザービーム開口と、前記プロセッサと接続しており、かつ、前記可視レーザービーム開口と接続している可視レーザーポインターとをさらに含む態様4に記載の装置。
(態様6)
前記筐体に反射赤外線ビーム開口をさらに含み、かつ、前記波長可変赤外線レーザー分光計のアレイが前記反射赤外線ビーム開口と接続している態様4に記載の装置。
(態様7)
前記波長可変赤外線レーザー分光計のアレイが、波数約400(cm −1 )から波数約4000までの赤外波長を用いた測定対象面にわたる表面の化学的性質の同時測定のために構成されている態様1に記載の装置。
(態様8)
前記プロセッサと接続している少なくとも1つのポートをさらに含む態様1に記載の装置。
(態様9)
入射赤外線ビーム開口、可視レーザービーム開口および反射赤外線ビーム開口を有する装置筐体と、
前記装置筐体内のプロセッサと、
前記装置筐体内に存在し、かつ、前記プロセッサならびに前記入射赤外線ビーム開口および前記可視レーザービーム開口と接続している波長可変赤外線レーザー分光計のアレイであって、
ある範囲の赤外波長を用いた測定対象面にわたる表面の化学的性質の同時測定のために構成されている前記波長可変赤外線レーザー分光計のアレイと、
前記装置筐体内に存在し、かつ、前記可視レーザービーム開口と接続している可視レーザーと、
前記プロセッサと接続しており、かつ、前記測定対象面から反射する赤外波長の赤外線スペクトルを表示するよう適合されている表示部と、
を含む表面の化学的性質の測定装置。
(態様10)
前記波長可変赤外線レーザー分光計のアレイが、波数約400(cm −1 )から波数約4000までの赤外波長を用いた測定対象面にわたる表面の化学的性質の同時測定のために構成されている態様9に記載の装置。
(態様11)
前記プロセッサと接続している少なくとも1つのポートをさらに含む態様9に記載の装置。
(態様12)
前記可視レーザービーム開口が、概して、前記入射赤外線ビーム開口と前記反射赤外線ビーム開口との間に存在する態様9に記載の装置。
(態様13)
表面の化学的性質の汚染の広がり(range)を有する複数の標準物を設けること、
波長可変赤外線レーザー分光計のアレイを設けること、
前記標準物上の前記表面の化学的性質の汚染の広がりの赤外線スペクトルを得ること、
前記表面の化学的性質の汚染の広がりに合わせて前記赤外線スペクトルを較正すること、
前記波長可変赤外線レーザー分光計のアレイを用いて汚染の可能性のある表面の赤外線スペクトルを得ること、および、
前記汚染の可能性のある表面の前記赤外線スペクトルを前記表面の化学的性質の汚染の広がりの前記赤外線スペクトルと比較すること
を含む表面の化学的性質の非接触測定方法。
(態様14)
前記波長可変赤外線レーザー分光計のアレイを用いて汚染の可能性のある表面の赤外線スペクトルを得ることが、前記波長可変赤外線レーザー分光計のアレイを用いてシリコーン汚染の可能性のある表面の赤外線スペクトルを得ることを含む態様13に記載の方法。

Claims (2)

  1. 表面に化学的に汚染された領域を有する複数の標準物を設けること、
    波長可変赤外線レーザー分光計(4)を設けること、
    前記標準物上の前記表面の化学的に汚染された領域の赤外線スペクトルを得ること、
    前記表面の化学的に汚染された領域に合わせて前記赤外線スペクトルを較正すること、
    前記波長可変赤外線レーザー分光計(4)を用いて汚染の可能性のある表面の赤外線スペクトルを得ること、および、
    前記汚染の可能性のある表面の前記赤外線スペクトルを前記表面の化学的に汚染された領域の前記較正された赤外線スペクトルと比較することを含む表面の化学的性質の非接触測定方法。
  2. 前記波長可変赤外線レーザー分光計(4)を用いて汚染の可能性のある表面の赤外線スペクトルを得ることが、前記波長可変赤外線レーザー分光計(4)を用いてシリコーン汚染の可能性のある表面の赤外線スペクトルを得ることを含む請求項に記載の方法。
JP2013533855A 2010-10-13 2011-08-26 表面の化学的性質の非接触測定装置および方法 Active JP6037340B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/903,548 US8536529B2 (en) 2010-10-13 2010-10-13 Non-contact surface chemistry measurement apparatus and method
US12/903,548 2010-10-13
PCT/US2011/049331 WO2012050669A1 (en) 2010-10-13 2011-08-26 Non-contact surface chemistry measurement apparatus and method

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016160335A Division JP6309583B2 (ja) 2010-10-13 2016-08-18 表面の化学的性質の非接触測定装置および方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013539865A JP2013539865A (ja) 2013-10-28
JP2013539865A5 JP2013539865A5 (ja) 2014-07-17
JP6037340B2 true JP6037340B2 (ja) 2016-12-07

Family

ID=44681417

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013533855A Active JP6037340B2 (ja) 2010-10-13 2011-08-26 表面の化学的性質の非接触測定装置および方法
JP2016160335A Active JP6309583B2 (ja) 2010-10-13 2016-08-18 表面の化学的性質の非接触測定装置および方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016160335A Active JP6309583B2 (ja) 2010-10-13 2016-08-18 表面の化学的性質の非接触測定装置および方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8536529B2 (ja)
EP (1) EP2627989B1 (ja)
JP (2) JP6037340B2 (ja)
CN (1) CN103180715A (ja)
WO (1) WO2012050669A1 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5736325B2 (ja) 2012-02-21 2015-06-17 株式会社日立製作所 光学装置
US8686364B1 (en) * 2012-09-17 2014-04-01 Jp3 Measurement, Llc Method and system for determining energy content and detecting contaminants in a fluid stream
FR3013118B1 (fr) * 2013-11-12 2015-11-06 Centre Nat Detudes Spatiales Cnes Spectrophotometre hyperspectral large bande pour analyser un objet dans le domaine fluorescent
DE102015106635A1 (de) * 2015-04-29 2016-11-03 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronische Anordnung
USD796979S1 (en) * 2015-09-02 2017-09-12 Mettler-Toledo Gmbh Spectrophotometer
USD797587S1 (en) * 2015-09-02 2017-09-19 Mettler-Toledo Gmbh Spectrophotometer
JP6692651B2 (ja) * 2016-02-05 2020-05-13 株式会社ミツトヨ クロマティック共焦点センサ
USD796359S1 (en) * 2016-02-24 2017-09-05 Ocean Optics, Inc. Miniature spectrometer case
US9897484B1 (en) 2016-09-29 2018-02-20 Intel Corporation Measuring wideband spectrum information in mobile devices via an integrated optical system that uses multiple spectral sensors, multiple light sources and MEMS actuation
CN110678722A (zh) * 2017-06-01 2020-01-10 柯尼卡美能达株式会社 分光光度计

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07117499B2 (ja) * 1987-10-31 1995-12-18 石川島播磨重工業株式会社 レーザ光線による塗膜劣化診断方法
JP3124047B2 (ja) * 1991-02-04 2001-01-15 日本たばこ産業株式会社 携帯型赤外線水分測定装置
US6031233A (en) * 1995-08-31 2000-02-29 Infrared Fiber Systems, Inc. Handheld infrared spectrometer
EP0847524A4 (en) * 1995-08-31 1999-10-13 Infrared Fiber Syst Inc HAND HELD INFRARED SPECTROMETER
US6157033A (en) * 1998-05-18 2000-12-05 Power Distribution Services, Inc. Leak detection system
US6836325B2 (en) * 1999-07-16 2004-12-28 Textron Systems Corporation Optical probes and methods for spectral analysis
JP4498564B2 (ja) * 2000-08-10 2010-07-07 日本分光株式会社 試料識別方法およびその装置
JP3930334B2 (ja) * 2001-03-21 2007-06-13 株式会社資生堂 分光反射率測定装置
JP2003254856A (ja) 2002-02-28 2003-09-10 Tokyo Gas Co Ltd 光学式ガス漏洩検知器及びガス漏洩検知車両
US6697155B2 (en) * 2002-04-09 2004-02-24 Itt Manufacturing Enterprises, Inc. Multispectral active remote sensing without narrowband optical filters
US6784431B2 (en) 2002-06-13 2004-08-31 The Boeing Company Method of measuring anodize coating amount using infrared absorbance
US6794651B2 (en) 2002-06-13 2004-09-21 The Boeing Company Method of measuring chromated conversion coating amount using infrared absorbance
US6903339B2 (en) 2002-11-26 2005-06-07 The Boeing Company Method of measuring thickness of an opaque coating using infrared absorbance
US6906327B2 (en) 2002-11-26 2005-06-14 The Boeing Company Method of measuring amount of chemical cure and amount of surface contamination using infrared absorbance
US7174198B2 (en) 2002-12-27 2007-02-06 Igor Trofimov Non-invasive detection of analytes in a complex matrix
JP2006528782A (ja) 2003-02-25 2006-12-21 セイックス・テクノロジーズ・インコーポレーテッド 化学物質及び生物物質検知装置及び方法
US7115869B2 (en) 2003-09-30 2006-10-03 The Boeing Company Method for measurement of composite heat damage with infrared spectroscopy
JP2007509319A (ja) 2003-10-17 2007-04-12 アクサン・テクノロジーズ・インコーポレーテッド 多チャネルラマン分光システムおよび方法
US7236243B2 (en) * 2004-04-12 2007-06-26 Michael Thomas Beecroft Hand-held spectrometer
US20050264804A1 (en) * 2004-05-27 2005-12-01 Eastman Kodak Company Bi-modal control material for particle size analyzers
WO2007089770A2 (en) * 2006-01-31 2007-08-09 Polychromix Corporation Hand-held ir spectrometer with a fixed grating and a diffractive mems-array
US7796251B2 (en) * 2006-03-22 2010-09-14 Itt Manufacturing Enterprises, Inc. Method, apparatus and system for rapid and sensitive standoff detection of surface contaminants
US8180419B2 (en) 2006-09-27 2012-05-15 Nellcor Puritan Bennett Llc Tissue hydration estimation by spectral absorption bandwidth measurement
US7826509B2 (en) 2006-12-15 2010-11-02 President And Fellows Of Harvard College Broadly tunable single-mode quantum cascade laser sources and sensors
JP4766697B2 (ja) * 2007-03-22 2011-09-07 アンリツ株式会社 小型ガス検知装置
US8402819B2 (en) 2007-05-15 2013-03-26 Anasys Instruments, Inc. High frequency deflection measurement of IR absorption
EA201000526A1 (ru) * 2007-10-11 2010-12-30 Басф Се Спектрометр со светодиодной матрицей
JP2009282007A (ja) * 2008-05-26 2009-12-03 Ritsuo Hasumi 携帯型スペクトル分析機のデータ処理方法
JP2010117272A (ja) * 2008-11-13 2010-05-27 Mitsubishi Rayon Co Ltd シリコーン異物の判別方法
CN201331382Y (zh) * 2009-01-19 2009-10-21 杭州电子科技大学 一种阵列式微型光谱仪
CN101819063B (zh) * 2009-12-29 2011-10-05 南京邮电大学 相位调制凹槽阵列微型光谱仪

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013539865A (ja) 2013-10-28
EP2627989A1 (en) 2013-08-21
US8536529B2 (en) 2013-09-17
CN103180715A (zh) 2013-06-26
US20120092665A1 (en) 2012-04-19
JP2016224063A (ja) 2016-12-28
EP2627989B1 (en) 2021-02-17
JP6309583B2 (ja) 2018-04-11
WO2012050669A1 (en) 2012-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6309583B2 (ja) 表面の化学的性質の非接触測定装置および方法
US9244004B2 (en) Method and system for inspection of composite assemblies using terahertz radiation
Germer et al. Spectrophotometry: Accurate measurement of optical properties of materials
US11112304B2 (en) Spectrometer calibration
JP5753786B2 (ja) 近赤外線及び中赤外線分光法による複合材料中の水分量の測定
US8330109B2 (en) Method for determining contamination of material using Mid-IR spectroscopy
JP2013539865A5 (ja)
EP2343531A1 (en) Method of predicting thermal or chemical effect in a coated or painted composite material
JP2017525945A (ja) サンプル及び/又はサンプル表面に形成された少なくとも1つのフィルムの特性及び/又はパラメータを測定するためのアレンジメント
US10203202B2 (en) Non-contact determination of coating thickness
Penzel et al. Assessment of line of sight characteristics of ITER bolometer prototype collimators
EP2835629A1 (en) Method and system for inspection of composite assemblies using terahertz radiation
US10876922B2 (en) Methods and systems for determining optical properties for light transmitted mediums
US7645991B1 (en) Method of using IR spectroscopy to determine presence of metallic material in polymer composite material
Schlag et al. Extended non-destructive testing for surface quality assessment
Shah et al. Development and characterization of NDIR-based CO2 sensor for manned space missions
US20230175956A1 (en) System, apparatus and method for rapid evaluation of light transmission through opaque coatings and films
Adibekyan et al. Emissivity measurements on reflective insulation materials
Schultz et al. Ruggedized compact microwave probes for mapping material properties of structures
AU2013400152B2 (en) Method and apparatus for aligning components of integrated optical sensors
Busboom et al. Simultaneous estimation of thickness and refractive index by combining transmission and reflection measurements
Ortega-Zúñiga Dependence of active mode remote Ft-Ir sensing on angle of incidence, substrate type and analyte surface concentration

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140602

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140602

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141210

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141216

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150312

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150407

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150722

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20150730

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20150911

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160818

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161025

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6037340

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250