JP6033453B2 - 多変量解析を用いたプラズマエンドポイント検出 - Google Patents
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Description
[T]=([X][i]-[Savg])[P] (式1)
ここでベクトル[T]は、被変換発光分光分析(OES)データベクトルを表す。ベクトルTは、主成分と呼ばれる要素Tiを有する。要素Tiは、入力データ−この場合では発光分光分析(OES)データ−が記述され得る複数の変数からなる還元した組を表す。ベクトル[P]は、主成分(PC)の重みのベクトルである。前記主成分(PC)の重みのベクトルは、(式1)に従って、平均が除去された発光分光分析(OES)データを被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]へ変換するのに用いられ得る。主成分解析(PCA)モデルを設定及び生成する方法は、当業者には周知である。
Claims (19)
- エッチングプロセスエンドポイントデータの決定方法であって:
プラズマエッチング処理装置内でk回のプラズマエッチングプロセスの一連の作業(run)を実行する工程であって、kは0よりも大きな整数で、前記k回のプラズマエッチングプロセスの一連の作業を実行する各工程は:
前記プラズマエッチング処理装置へ被処理基板を搬入する工程であって、前記プラズマエッチング処理装置は、各々が各異なる光の波長に対応するm個の画素を含む検出器を有する分光計を備える、工程;
前記プラズマエッチング処理装置内でプラズマを点火する工程;
k回のプラズマエッチングプロセスの一連の作業のうちの各一連の作業中に等しい時間間隔でサンプリングされたn個の発光分光分析(OES)データの組を収集する工程であって、前記n個の発光分光分析(OES)データの各組は、前記分光計のm個の画素に対応するmの画素強度を含む、工程;
k回のプラズマエッチングプロセスの一連の作業の各々についてn×m発光分光分析(OES)データ行列[X]を生成する工程であって、各時間のサンプルは前記発光分光分析(OES)データ行列[X]の行を占め、前記発光分光分析(OES)データ行列[X]の列は前記分光計の画素に対応する、工程;
を有する工程;
n×m平均発光分光分析(OES)データ行列[X]avgを計算する工程であって、前記平均発光分光分析(OES)データ行列[X]avgの各要素は、前記k回のプラズマエッチングプロセスの一連の作業についての発光分光分析(OES)データ行列[X]の要素の平均として計算される、工程;
前記平均発光分光分析(OES)データ行列[X]avgからノイズをフィルタリングする工程;
プラズマ立ち上がり中とエッチングプロセスのエンドポイント以降の期間に取得される発光分光分析(OES)データを除去するように前記発光分光分析(OES)データ行列[X]の各々を切り縮める(truncating)工程;
プラズマ立ち上がり中とエッチングプロセスのエンドポイント以降の期間に取得される平均化された発光分光分析(OES)データを除去するように前記平均発光分光分析(OES)データ行列[X]avgを切り縮める工程;
n×m平均発光分光分析(OES)データ行列[Savg]を計算する工程であって、前記平均発光分光分析(OES)データ行列[Savg]の各列の各要素は、前記平均発光分光分析(OES)データ行列[X]avgの列にわたる前記平均発光分光分析(OES)データ行列[X]avgのnの画素強度の各々の平均として計算される、工程;
前記発光分光分析(OES)データ行列[X]から前記平均発光分光分析(OES)データ行列[Savg]を減じることで前記発光分光分析(OES)データの平均を除く工程、及び、前記の平均が除かれて規格化されていない減じられた結果に主成分解析[T]=([X][i]-[Savg])[P]を実行することで、被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]と主成分重みベクトル[P]を得る工程;
以降でエッチングプロセスのエンドポイントのその場で決定するのに用いられるために前記平均発光分光分析(OES)データ行列[Savg]を記憶する工程;
以降でエッチングプロセスのエンドポイントのその場で決定するのに用いられるために前記主成分重みベクトル[P]を記憶する工程;
を有する方法。 - 前記ノイズをフィルタリングする工程が移動型平均フィルタを適用する工程を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記ノイズをフィルタリングする工程が、前記プラズマエッチング処理装置に固有な特徴を有するフィルタを適用する工程を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記エッチングプロセスのエンドポイントをその場決定するため、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の要素を含む関数式f(Ti)をトレンド変数として選択する工程をさらに有する、請求項1に記載の方法。
- 前記トレンド変数の選択された関数式f(Ti)が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の単一要素である、請求項4に記載の方法。
- 前記トレンド変数の選択された関数式f(Ti)が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の2つの要素の比を含む、請求項4に記載の方法。
- 前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の少なくとも1つの要素の時間発展を計算する工程;
前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の少なくとも1つの要素の計算された時間発展から、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の少なくとも1つの最小値min(Ti)を決定する工程;
以降で前記エッチングプロセスのエンドポイントをその場決定するのに用いるため、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の要素の少なくとも1つの決定された最小値min(Ti)を記憶する工程;
をさらに有する、請求項4に記載の方法。 - 前記トレンド変数の選択された関数式f(Ti)が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の要素で、
前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の同一の要素の最小値min(Ti)の2倍が前記要素から減じられた、
請求項7に記載の方法。 - 前記トレンド変数の選択された関数式f(Ti)が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の2つの要素の比を含み、
前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の要素の各々の最小値min(Ti)の2倍が、前記比を計算する前に、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]のそれぞれの要素から減じられた、
請求項5に記載の方法。 - 前記トレンド変数の選択された関数式f(Ti)が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の第2要素と第3要素を含み、かつ、f(Ti)=(T2-2min(T2))2/(T3-2min(T3))2である、請求項9に記載の方法。
- エッチングプロセスエンドポイントデータのその場決定方法であって:
これまでに計算及び記憶された平均発光分光分析(OES)データ行列[Savg]を供する工程;
これまでに計算及び記憶された主成分重みベクトル[P]を供する工程;
プラズマエッチング処理装置へ基板を搬入する工程;
前記プラズマエッチング処理装置内でプラズマを点火することでエッチングプロセスを開始する工程;
前記エッチングプロセス中に所定の時間間隔で前記プラズマエッチング処理装置の分光計から発光分光分析(OES)データの組を取得する工程;
各取得された発光分光分析(OES)データの組から前記これまでに計算及び記憶された平均発光分光分析(OES)データ行列[Savg]を減じることで、各取得された発光分光分析(OES)データの組の平均を除去する工程;
前記のこれまでに供された主成分重みベクトル[P]を用いて被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の少なくとも1つの要素を計算することによって、各取得され、平均が除去され、かつ、規格化されていない発光分光分析(OES)データの組を、被変換発光分光分析(OES)データへ変換する工程;
前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の前記の計算された少なくとも1つの要素からさらにトレンド変数f(Ti)を計算する工程;
前記エッチングプロセス中に前記のトレンド変数f(Ti)の計算された値から前記エッチングプロセスのエンドポイントをその場で検出する工程;
を有する方法。 - エンドポイント検出の際に前記エッチングプロセスを中止する工程をさらに有する、請求項11に記載の方法。
- 前記トレンド変数f(Ti)の関数式が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の計算された単一要素である、請求項11に記載の方法。
- 前記トレンド変数f(Ti)の関数式が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の2つの計算された要素の比を含む、請求項11に記載の方法。
- 前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の少なくとも1つの要素のこれまでに計算及び記憶された最小値min(Ti)を供する工程をさらに有する、請求項11に記載の方法。
- 前記トレンド変数の関数式f(Ti)が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の要素で、
前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の同一の要素の最小値min(Ti)の2倍が前記要素から減じられた、
請求項15に記載の方法。 - 前記トレンド変数の選択された関数式f(Ti)が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の2つの要素の比であり、
前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の要素の各々の最小値min(Ti)の2倍が、前記比を計算する前に、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]のそれぞれの要素から減じられた、
請求項15に記載の方法。 - 前記トレンド変数の選択された関数式f(Ti)が、前記被変換発光分光分析(OES)データベクトル[T]の第2要素と第3要素を含み、かつ、f(Ti)=(T2-2min(T2))2/(T3-2min(T3))2である、請求項17に記載の方法。
- 前記エッチングプロセスのエンドポイントを検出する工程が、前記エッチングプロセス中に前記トレンド変数f(Ti)の微分を評価する工程、及び、前記の微分されたトレンド変数f(Ti)から前記エッチングプロセスのエンドポイントを検出する工程を有する、請求項11に記載の方法。
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