JP6028586B2 - 銅合金材料 - Google Patents
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Description
[1]Tiである添加元素Mと、8〜9質量ppmの酸素と、
残部が銅及び不可避不純物である3〜4質量ppmの硫黄からなり、
前記添加元素M及び前記酸素の原子数比が0.5≦M/O≦1の範囲であり、
前記酸素が前記添加元素Mとの酸化物であるMO 2 で存在し、
前記硫黄が前記添加元素Mとの硫化物で存在し、
半軟化温度が130℃未満であり、
導電率が98%IACS以上である、
銅合金材料。
本実施の形態の銅合金材料は、添加元素と、残部が銅と不可避不純物からなる銅合金材料において、Tiである添加元素Mが添加され、添加元素M及び酸素の原子数比が0.33≦M/O≦1.5の範囲のものである。
本実施の形態の銅合金材料は、本実施の形態の銅合金材料は、Ti、Zr、Ca、Mg、B、Cr、Nb及びVから1つ以上選択された添加元素Mを含み、残部がCu及び不可避的不純物からなる。なお、不可避不純物とは、製造工程において不可避的に混入するものをいう。
銅合金材料に添加されるTi、Zr、Ca、Mg、B、Cr、Nb及びVから選択された1つ以上の添加元素Mは、不可避不純物である硫黄と化合して硫化物を形成して銅合金材料から硫黄を析出させる。なお、Ti、Zr、Ca、Mg、B、Cr、Nb及びVを添加元素Mとして用いるのは、これらの元素が硫黄等の元素と化合する活性な元素だからである。
銅合金材料の原料である溶銅に酸素が多く含まれていると、溶銅中の酸素と溶銅加熱ガスに含まれる水素とが反応して水蒸気が発生し、溶銅が凝固するときにその水蒸気が溶銅表面又は溶銅中で水蒸気爆発を起こす。この水蒸気爆発により、銅合金材料にブローホール等が発生して銅合金材料の表面品質が劣化する。
添加元素Mを添加する前の溶銅の硫黄濃度は、少ない方が望ましい。銅合金材料の原料となる一般的な電気銅は、硫酸銅溶液中にて電気精製して製造するために銅合金材料への硫黄の混入を避けられない。
次に、銅合金材料の一例である銅線の製造方法の一例について説明する。
次に、銅合金材料を製造する条件ついて、加工度99.3%(直径8mm)、導電率が98%IACS以上の銅線を製造する場合を一例として説明する。
本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
(1)添加元素Mと酸素との原子数比を0.33≦M/O≦1.5の範囲にすることで、銅合金材料の軟化温度を140℃未満にするとともに、銅合金材料の導電率を98%IACS以上にすることができる。
(2)添加元素Mと酸素との原子数比を0.5≦M/O≦1の範囲にすることで、銅合金材料の軟化温度を130℃未満にすることができる。
(3)酸素濃度が2〜50質量ppmの溶銅を用いて銅合金材料を製造することにより、銅合金材料の表面品質を向上させることができる。
(4)銅合金材料の軟化温度を下げることにより、銅合金材料の加工が容易になる。また、銅合金材料を製造するエネルギーコストを低減することができる。
実施例1では、Ti/Oの原子数比を0.5にすることにより、半軟化温度が125℃、導電率が101.8%IACSになることが確認できた。ここで、半軟化温度が140度未満であり、かつ導電率が98%IACSを超える特性を有する試料を○と判定し、それ以外の試料を×と判定している。実施例1の銅合金材料は、半軟化温度が130℃未満であり、かつ導電率が98%IACSを超える特性を有するため、判定を○としている。なお、実施例1のTi濃度は、12質量ppm、O濃度は、8質量ppm、S濃度は、4質量ppmである。
実施例2では、Ti/Oの原子数比を0.93にすることにより、半軟化温度が126.2℃、導電率が101.5%になることが確認できた。実施例2の銅合金材料は、半軟化温度が130℃未満であり、かつ導電率が98%IACSを超える特性を有するため、判定を○としている。なお、実施例2のTi濃度は、25質量ppm、O濃度は、9質量ppm、S濃度は、3質量ppmである。
比較例1では、Ti/Oの原子数比を0.042にすることにより、銅合金材料の半軟化温度が173.8℃、導電率が102.0%になることが確認できた。比較例1の銅合金材料は、導電率が98%IACSを超えるが、半軟化温度が140℃を超える特性であるため、判定を×としている。なお、比較例1のTi濃度は、1質量ppm、O濃度は、8質量ppm、S濃度は、4質量ppmである。
比較例2では、Ti/Oの原子数比を2.08にすることにより、銅合金材料の半軟化温度が150.0℃、導電率が97.5%になることが確認できた。比較例1の銅合金材料は、導電率が98%IACS未満であり、半軟化温度が140℃を越える特性であるため、判定を×としている。なお、比較例2のTi濃度は、50質量ppm、O濃度は、8質量ppm、S濃度は、3質量ppmである。
なお、本発明の実施の形態は、上記各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲内で種々に変形、実施が可能である。例えば、銅合金材料は、低温で軟質化する銅線だけではなく、銅箔、銅板、銅棒等の他の形状にすることができる。
Claims (1)
- Tiである添加元素Mと、8〜9質量ppmの酸素と、
残部が銅及び不可避不純物である3〜4質量ppmの硫黄からなり、
前記添加元素M及び前記酸素の原子数比が0.5≦M/O≦1の範囲であり、
前記酸素が前記添加元素Mとの酸化物であるMO 2 で存在し、
前記硫黄が前記添加元素Mとの硫化物で存在し、
半軟化温度が130℃未満であり、
導電率が98%IACS以上である、
銅合金材料。
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