JP6026530B2 - 圧電/電歪セラミックス組成物及び変位発生装置 - Google Patents
圧電/電歪セラミックス組成物及び変位発生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6026530B2 JP6026530B2 JP2014521506A JP2014521506A JP6026530B2 JP 6026530 B2 JP6026530 B2 JP 6026530B2 JP 2014521506 A JP2014521506 A JP 2014521506A JP 2014521506 A JP2014521506 A JP 2014521506A JP 6026530 B2 JP6026530 B2 JP 6026530B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- piezoelectric
- electrostrictive
- electric field
- electrostrictive body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 58
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 36
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 title claims description 29
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 49
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 97
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 29
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 28
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 19
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 17
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 17
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 15
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 13
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 12
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 9
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 7
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical group [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JQJCSZOEVBFDKO-UHFFFAOYSA-N lead zinc Chemical compound [Zn].[Pb] JQJCSZOEVBFDKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000028161 membrane depolarization Effects 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACNRWWUEFJNUDD-UHFFFAOYSA-N lead(2+);distiborate Chemical compound [Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-][Sb]([O-])([O-])=O.[O-][Sb]([O-])([O-])=O ACNRWWUEFJNUDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical group [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000010344 co-firing Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N dioxido(oxo)titanium;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].[O-][Ti]([O-])=O NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/006—Compounds containing, besides zirconium, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G30/00—Compounds of antimony
- C01G30/02—Antimonates; Antimonites
- C01G30/026—Antimonates; Antimonites containing at least two metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/48—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates
- C04B35/49—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates containing also titanium oxides or titanates
- C04B35/491—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates containing also titanium oxides or titanates based on lead zirconates and lead titanates, e.g. PZT
- C04B35/493—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates containing also titanium oxides or titanates based on lead zirconates and lead titanates, e.g. PZT containing also other lead compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62685—Treating the starting powders individually or as mixtures characterised by the order of addition of constituents or additives
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/20—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators
- H10N30/204—Piezoelectric or electrostrictive devices with electrical input and mechanical output, e.g. functioning as actuators or vibrators using bending displacement, e.g. unimorph, bimorph or multimorph cantilever or membrane benders
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/50—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8548—Lead-based oxides
- H10N30/8554—Lead-zirconium titanate [PZT] based
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3224—Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3241—Chromium oxides, chromates, or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3251—Niobium oxides, niobates, tantalum oxides, tantalates, or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3262—Manganese oxides, manganates, rhenium oxides or oxide-forming salts thereof, e.g. MnO
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/327—Iron group oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3272—Iron oxides or oxide forming salts thereof, e.g. hematite, magnetite
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3284—Zinc oxides, zincates, cadmium oxides, cadmiates, mercury oxides, mercurates or oxide forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3294—Antimony oxides, antimonates, antimonites or oxide forming salts thereof, indium antimonate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/768—Perovskite structure ABO3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/80—Phases present in the sintered or melt-cast ceramic products other than the main phase
- C04B2235/85—Intergranular or grain boundary phases
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/09—Forming piezoelectric or electrostrictive materials
- H10N30/093—Forming inorganic materials
- H10N30/097—Forming inorganic materials by sintering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Micromachines (AREA)
Description
本発明は、圧電/電歪セラミックス組成物及び変位発生装置に関する。
アクチュエーター用の圧電/電歪セラミックスには、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)が用いられる場合が多い。PZTのチタン(Ti)/ジルコニウム(Zr)比は、モルフォトロピック相境界(MPB)の近傍に調整される場合が多い。亜鉛酸ニオブ酸鉛(Pb(Zn1/3Nb2/3)O3)等の第3成分がPZTに導入される場合もある。Ti及びZrがニオブ(Nb)等のより価数が大きいドナー元素で置換される場合もある。これらにより、ドメインの電界応答性が向上し、電界誘起歪が大きくなる。
特許文献1の圧電/電歪セラミックスにおいては、亜鉛酸アンチモン酸鉛(Pb(Zn1/3Sb2/3)O3)がPZTに導入される。特許文献2の圧電/電歪セラミックスにおいては、Pb(Zn1/3Sb2/3)O3がPZTに導入され、さらに変性が行われる。
分極方向と逆方向であって絶対値が抗電界より大きい電界が圧電/電歪セラミックスに印加された場合には、脱分極が起こる。このため、分極方向と逆方向の電界が圧電/電歪セラミックスに印加される場合は、電界の絶対値が抗電界以下に制限される。しかし、電界の絶対値が抗電界以下の場合でも、圧電/電歪セラミックスによっては時間が経過するにつれて電界誘起歪が小さくなる。抗電界が大きい圧電/電歪セラミックスが選択された場合は、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性は向上するが、電界誘起歪が小さくなる。
本発明は、この問題を解決するためになされる。本発明の目的は、大きな電界誘起歪を生じ分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が高い圧電/電歪セラミックスを得ることである。
また、本発明の別の目的は、大きな変位を生じ分極方向と逆方向の電界が印加された場合の電界誘起歪を利用でき耐久性が高い変位発生装置を得ることである。
本発明の第1及び第2の局面は、圧電/電歪セラミックス組成物に向けられる。
本発明の第1の局面の圧電/電歪セラミックス組成物は、一般式Pba{ZnbSbc(ZrdTi1−d)1−b−c}O3で表される。a,b,c及びdは、0.985≦a≦0.998,0.010≦b≦0.040,0.025≦c≦0.090,0.460≦d≦0.510及び2.125≦c/b≦3.000を満たす。
本発明の第2の局面の圧電/電歪セラミックス組成物においては、一般式Pba{ZnbSbc(ZrdTi1−d)1−b−c}O3で表されa,b,c及びdが0.985≦a≦0.998,0.010≦b≦0.040,0.025≦c≦0.090,0.460≦d≦0.510及び2.125≦c/b≦3.000を満たす主成分に、Mn,Cr,Fe及び希土類元素Rからなる群より選択される少なくとも1種類の元素を含む副成分が添加される。
Mnの添加量をMnO換算で表し、Crの添加量をCr2O3換算で表し、Feの添加量をFe2O3換算で表し、希土類元素Rの添加量をR2O3換算で表した場合に、100重量部の主成分に対する少なくとも1種類の元素の添加量は0.3重量部以下である。
本発明の第3及び第4の局面は、変位発生装置に向けられる。
本発明の第3の局面においては、アクチュエーター及び駆動回路が設けられる。アクチュエーターは、第1の電極、圧電/電歪体及び第2の電極を備える。圧電/電歪体は、第1又は第2の局面の圧電/電歪セラミックス組成物からなる。第1の電極及び第2の電極は、圧電/電歪体を挟んで対向する。圧電/電歪体の分極方向は、第1の電極から第2の電極へ向かう方向である。駆動回路は、第1の電極及び第2の電極の間に駆動信号を印加する。駆動信号は、交流電圧又は第1の電極が陰極になり第2の電極が陽極になる直流電圧である。
本発明の第4の局面においては、アクチュエーター及び駆動回路が設けられる。アクチュエーターは、第1の電極、第1の圧電/電歪体、第2の電極、第2の圧電/電歪体及び第3の電極を備える。第1の圧電/電歪体及び第2の圧電/電歪体は、第1又は第2の局面の圧電/電歪セラミックス組成物からなる。第1の電極及び第2の電極は、第1の圧電/電歪体を挟んで対向する。第2の電極及び第3の電極は、第2の圧電/電歪体を挟んで対向する。第1の圧電/電歪体の分極方向は、第1の電極から第2の電極へ向かう方向である。第2の圧電/電歪体の分極方向は、第2の電極から第3の電極へ向かう方向である。アクチュエーターは、バイモルフ型である。第1の電極及び第3の電極は、一方の駆動電極となる。第2の電極は、他方の駆動電極となる。駆動回路は、一方の駆動電極及び他方の駆動電極の間に駆動信号を印加する。
本発明の第1及び第2の局面によれば、大きな電界誘起歪を生じ分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が高い圧電/電歪セラミックスが得られる。
本発明の第3及び第4の局面によれば、変位が大きく分極方向と逆方向の電界が印加された場合の電界誘起歪を利用でき耐久性が高い変位発生装置が得られる。
これらの及びこれら以外の本発明の目的、特徴、局面及び利点は、添付図面とともに考慮されたときに下記の本発明の詳細な説明によってより明白となる。
{第1実施形態}
第1実施形態は、圧電/電歪セラミックスに関する。
第1実施形態は、圧電/電歪セラミックスに関する。
(用途)
図1のグラフは、電界及び電界誘起歪の関係を示す。図1の横軸は、圧電/電歪セラミックスに印加される電界を示す。電界の符号が正である場合は、分極方向と同方向の電界が圧電/電歪セラミックスに印加される。電界の符号が負である場合は、分極方向と逆方向の電界が圧電/電歪セラミックスに印加される。図1の縦軸は、圧電/電歪セラミックスの電界誘起歪を示す。電界誘起歪の符号が正である場合は、分極方向と平行な方向に圧電/電歪セラミックスが伸長する。電界誘起歪の符号が負である場合は、分極方向と平行な方向に圧電/電歪セラミックスが収縮する。
図1のグラフは、電界及び電界誘起歪の関係を示す。図1の横軸は、圧電/電歪セラミックスに印加される電界を示す。電界の符号が正である場合は、分極方向と同方向の電界が圧電/電歪セラミックスに印加される。電界の符号が負である場合は、分極方向と逆方向の電界が圧電/電歪セラミックスに印加される。図1の縦軸は、圧電/電歪セラミックスの電界誘起歪を示す。電界誘起歪の符号が正である場合は、分極方向と平行な方向に圧電/電歪セラミックスが伸長する。電界誘起歪の符号が負である場合は、分極方向と平行な方向に圧電/電歪セラミックスが収縮する。
図1の区間S1に示すように、分極方向と同方向の電界が圧電/電歪セラミックスに印加される場合は、絶対値が抗電界ECより大きい電界が圧電/電歪セラミックスに印加されたときに脱分極が起こらない。このため、分極方向と同方向の電界が圧電/電歪セラミックスに印加される場合は、絶対値が抗電界ECより大きい電界が圧電/電歪セラミックスに印加されてもよい。
分極方向と逆方向の電界が圧電/電歪セラミックスに印加される場合は、図1の区間S2を超えて絶対値が抗電界ECより大きい電界が圧電/電歪セラミックスに印加されたときに脱分極が起こる。このため、図1の区間S2に示すように、分極方向と逆方向の電界が圧電/電歪セラミックスに印加される場合は、電界の絶対値が抗電界EC以下に制限される。ただし、電界の絶対値が抗電界EC以下の場合でも、圧電/電歪セラミックスによっては時間が経過するにつれて電界誘起歪が小さくなる。
第1実施形態の圧電/電歪セラミックスは、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が高く、分極方向と逆方向の電界が印加された場合でも電界誘起歪が維持される。このため、第1実施形態の圧電/電歪セラミックスは、分極方向と逆方向の電界が印加される製品に望ましくは用いられる。ただし、専ら分極方向と同方向の電界が印加される製品に第1実施形態の圧電/電歪セラミックスが用いられてもよい。第1実施形態の圧電/電歪セラミックスは、望ましくはアクチュエーターに用いられる。ただし、第1実施形態の圧電/電歪セラミックスがアクチュエーター以外の製品に用いられてもよい。例えば、第1実施形態の圧電/電歪セラミックスがトランス、センサー、ブザー、スピーカー等に用いられてもよい。
(組成)
圧電/電歪セラミックスの組成は、一般式Pba{ZnbSbc(ZrdTi1−d)1−b−c}O3で表される。a,b,c及びdは、0.985≦a≦0.998,0.010≦b≦0.040,0.025≦c≦0.090,0.460≦d≦0.510及び2.125≦c/b≦3.000を満たす。一般式Pba{ZnbSbc(ZrdTi1−d)1−b−c}O3で表されa,b,c及びdが0.985≦a≦0.998,0.010≦b≦0.040,0.025≦c≦0.090,0.460≦d≦0.510及び2.125≦c/b≦3.000を満たす主成分に、マンガン(Mn),クロム(Cr),鉄(Fe)及び希土類元素Rからなる群より選択される少なくとも1種類の元素(以下では「添加元素」という。)を含む副成分が添加されてもよい。希土類元素Rは、望ましくはジスプロシウム(Dy)である。Mnの添加量をMnO換算で表し、Crの添加量をCr2O3換算で表し、Feの添加量をFe2O3換算で表し、希土類元素Rの添加量をR2O3換算で表した場合に、100重量部の主成分に対する添加元素の添加量が望ましくは0.3重量部以下となりさらに望ましくは0.02重量部以上0.3重量部以下となるように副成分の添加量が選択される。
圧電/電歪セラミックスの組成は、一般式Pba{ZnbSbc(ZrdTi1−d)1−b−c}O3で表される。a,b,c及びdは、0.985≦a≦0.998,0.010≦b≦0.040,0.025≦c≦0.090,0.460≦d≦0.510及び2.125≦c/b≦3.000を満たす。一般式Pba{ZnbSbc(ZrdTi1−d)1−b−c}O3で表されa,b,c及びdが0.985≦a≦0.998,0.010≦b≦0.040,0.025≦c≦0.090,0.460≦d≦0.510及び2.125≦c/b≦3.000を満たす主成分に、マンガン(Mn),クロム(Cr),鉄(Fe)及び希土類元素Rからなる群より選択される少なくとも1種類の元素(以下では「添加元素」という。)を含む副成分が添加されてもよい。希土類元素Rは、望ましくはジスプロシウム(Dy)である。Mnの添加量をMnO換算で表し、Crの添加量をCr2O3換算で表し、Feの添加量をFe2O3換算で表し、希土類元素Rの添加量をR2O3換算で表した場合に、100重量部の主成分に対する添加元素の添加量が望ましくは0.3重量部以下となりさらに望ましくは0.02重量部以上0.3重量部以下となるように副成分の添加量が選択される。
チタン酸ジルコン酸鉛(Pb(Zr,Ti)O3)(PZT)には、亜鉛酸アンチモン酸鉛(Pb(Zn,Sb)O3)が導入される。亜鉛(Zn)量に対するアンチモン(Sb)量の比は、化学量論よりもSbが過剰であるように選択される。鉛(Pb)量は、化学量論よりもPbが不足するように選択される。
第1実施形態の圧電/電歪セラミックスは、ペロブスカイト型酸化物からなる。ただし、ペロブスカイト型酸化物以外の微量の偏析物が粒界等に偏析する場合もある。主成分に副成分が添加される場合は、副成分の全部が主成分に固溶する場合もあるし、副成分の全部又は一部が主成分に固溶せずに偏析する場合もあるし、副成分の全部が主成分に固溶せずに偏析する場合もある。
この組成によれば、大きな電界誘起歪を生じ分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が高い圧電/電歪セラミックスが得られる。
(第3成分)
第3成分(リラクサー成分)がPb(Zn,Sb)O3である場合は、第3成分が亜鉛酸ニオブ酸鉛(Pb(Zn,Nb)O3)又は亜鉛酸タンタル酸鉛(Pb(Zn,Ta)O3)である場合と比較して、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が高い。
第3成分(リラクサー成分)がPb(Zn,Sb)O3である場合は、第3成分が亜鉛酸ニオブ酸鉛(Pb(Zn,Nb)O3)又は亜鉛酸タンタル酸鉛(Pb(Zn,Ta)O3)である場合と比較して、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が高い。
表1に示すように、Sb5+のイオン半径はTi4+のイオン半径に近く、Zn2+のイオン半径はZr4+のイオン半径に近い。これに対して、Nb5+のイオン半径及びTa5+のイオン半径は、Ti4+のイオン半径及びZr4+のイオン半径の中間である。
PZTの結晶相は、モルフォトロピック相境界(MPB)よりチタン酸鉛(PbTiO3)側の組成においては正方晶であり、MPBよりジルコン酸鉛(PbZrO3)側の組成においては菱面体晶である。PZTの結晶相は、MPBの近傍の組成においては、正方晶から菱面体晶へ又は菱面体晶から正方晶へ変態しつつある過渡的な状態になる。このため、MPBの近傍の組成を有するPZTのドメイン構造は、不安定になりやすい。
第3成分がPb(Zn,Nb)O3又はPb(Zn,Ta)O3である場合は、Ti4+のイオン半径及びZr4+のイオン半径に近いイオン半径を有するZn2+だけでなくTi4+のイオン半径及びZr4+のイオン半径の中間のイオン半径を有するNb5+又はTa5+がペロブスカイト型酸化物のBサイトを占め、ドメイン構造がさらに不安定になりやすい。ドメイン構造が不安定になった場合は、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が低くなる。
これに対して、第3成分がPb(Zn,Sb)O3である場合は、Ti4+のイオン半径及びZr4+のイオン半径に近いイオン半径を有するZn2+及びSb5+がペロブスカイト型酸化物のBサイトを占め、ドメイン構造が安定する。ドメイン構造が安定した場合は、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が高くなる。
Zn量bは、0.010以上0.040以下である。Sb量cは、0.025以上0.090以下である。Zn量b及びSb量cがこれらの範囲内である場合は、電界誘起歪が大きくなり、抗電界が高くなる。Zn量b及びSb量cがこれらの範囲を下回る場合は、電界誘起歪が小さくなる。Zn量b及びSb量cがこれらの範囲を上回る場合は、抗電界が低くなる。抗電界が低い場合は、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が低下する。加えて、抗電界が低い場合は、分極方向と逆方向に印加する電界の絶対値を小さくしなければならない。
(Sbの過剰及びPbの不足)
Sbは、ペロブスカイト型酸化物のBサイトを占め、ドナーとして機能する。
Sbは、ペロブスカイト型酸化物のBサイトを占め、ドナーとして機能する。
Sbが不足する場合は、組成式(1)に示すように、酸素欠陥VOが生成しやすい。酸素欠陥VOが生成する場合は、電界誘起歪が小さくなり、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が低下する。
Pb(Zn1/3Sb(2−x)/3){O3−x(VO)x}・・・(1)
Sbが過剰である場合は、組成式(2)に示すように、酸素欠陥VOが生成しにくく、Aサイト欠陥VAが生成しやすい。酸素欠陥が生成しない場合は、電界誘起歪が大きくなる。Sbの過剰により生じる電荷バランスの乱れを解消する電荷補償のためにPbは不足させられる。
{Pb1−x/2(VA)x/2}(Zn1/3Sb(2+x)/3)O3・・・(2)
Zn量bに対するSb量cの比c/bは、2.125以上3.000以下である。比c/bがこの範囲内である場合は、電界誘起歪が大きく、焼結性が良好である。比c/bがこの範囲を下回る場合は、電界誘起歪が小さくなり、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が低下する。c/bがこの範囲を上回る場合は、焼結性が悪化する。
Pb量aは、0.985以上0.998以下である。電荷補償のために必要なPbの不足量は、Sbの過剰量によって決まる。しかし、Pb量は、焼結性にも影響する。Pb量aがこの範囲内である場合は、電荷補償が概ね適切に行われ、焼結性も良好である。
(MPB近傍組成)
圧電/電歪セラミックスの組成は、MPBに近づけられる。圧電/電歪セラミックスの組成がMPBに近い場合は、電界誘起歪が大きくなる。
圧電/電歪セラミックスの組成は、MPBに近づけられる。圧電/電歪セラミックスの組成がMPBに近い場合は、電界誘起歪が大きくなる。
Zr量dは、0.460以上0.510以下である。Zr量dがこの範囲内である場合は、圧電/電歪セラミックスの組成がMPBに近づき、電界誘起歪が大きくなる。Zr量がこの範囲を下回る場合又は上回る場合は、圧電/電歪セラミックスの組成がMPBから離れ、電界誘起歪が小さくなる。
(圧電/電歪セラミックスを製造する方法)
図2は、第1実施形態の圧電/電歪セラミックスを製造する方法を示すフローチャートである。
図2は、第1実施形態の圧電/電歪セラミックスを製造する方法を示すフローチャートである。
上述の組成が得られるように構成元素(Pb,Zr,Ti,Zn,Sb等)の出発原料の粉末が混合され、出発原料の粉末の混合物が得られる(ステップS101)。
出発原料の粉末は、湿式法により混合される。例えば、出発原料の粉末は、ボールミルにより混合される。出発原料の粉末が乾式法により混合されてもよい。
出発原料は、酸化物又は酸化物の前駆体である。酸化物の前駆体は、炭酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩等である。酸化物の前駆体は、最終的に酸化物に変化する。例えば、酸化物の前駆体は、仮焼の工程で酸化物に変化する。酸化物は、典型的には単純酸化物であるが、コロンバイト等の複合酸化物でもよい。
出発原料の粉末の混合物が得られた後に、出発原料の粉末の混合物が仮焼される(ステップS102)。出発原料の粉末が反応させられ、仮焼原料の粉末が合成される。
仮焼温度は、望ましくは800℃以上950℃以下である。ただし、仮焼温度がこの範囲外となる場合もある。
仮焼の後に仮焼原料の粉末が粉砕又は分級され、粒子径及び比表面積が調整されてもよい。仮焼の後に仮焼原料の粉末に造粒処理が行われ、2次粒子の形状や粒子径が調整されてもよい。例えば、仮焼原料の粉末が噴霧乾燥されてもよい。仮焼原料の粉末がさらに熱処理されてもよい。
主成分に副成分が添加される場合は、主成分及び副成分の構成元素の出発原料の粉末が仮焼前に混合されてもよいし、主成分の構成元素の出発原料の粉末が仮焼前に混合され副成分の構成元素の出発原料の粉末及び仮焼原料の粉末が仮焼後に混合されてもよい。
仮焼原料の粉末が合成された後に、成形用の原料が調製される(ステップS103)。成形用の原料は、成形方法に応じて、粉末、スラリー、ペースト等の形態をとる。成形用の原料には、望ましくはバインダーが混合される。
成形用の原料が得られた後に、成形用の原料が成形され、成形体が得られる(ステップS104)。成形用の原料は、加圧成形、テープ成形、鋳込み成形、押出成形、射出成形、ゲルキャスト成形等により成形される。成形用の原料がテープ成形により成形される場合は、グリーンシートが得られる。2枚以上のグリーンシートが積層された後に圧着されてもよい。この場合は、基板状の成形体が得られる。
成形体が得られた後に、成形体が脱脂され焼成され、焼結体が得られる(ステップS105)。脱脂及び焼成は、連続して行われる。脱脂及び焼成が別々に行われてもよい。
焼成温度は、望ましくは1000℃以上1250℃以下である。ただし、焼成温度がこの範囲外となる場合もある。
焼成の後に焼結体が加工されてもよい。例えば、焼結体が切削、研削、研磨等されてもよい。
焼結体が得られた後に、焼結体に電極が形成され、焼結体及び電極の複合体が得られる(ステップS106)。電極は、蒸着、スパッタリング、焼き付け、めっき等により焼結体に形成される。
電極は、導電成分を含む。導電成分は、望ましくは銀(Ag)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、金(Au)、アルミニウム(Al)等である。導電成分がこれらの金属を主成分とする合金であってもよい。
焼成に先立って成形体に電極材料膜が形成され、成形体及び電極材料膜が共焼成されてもよい。電極材料膜は、共焼成により電極に変化する。電極材料膜が成形体の内部に埋設され、その結果として電極が焼結体の内部に埋設されてもよい。
電極が形成された後に、焼結体が分極される(ステップS107)。
焼成の後又は分極の後に複合体が加工されてもよい。例えば、複合体を切断して個々の素子に分離する個片加工が行われてもよい。
{第2実施形態}
第2実施形態は、変位発生装置に関する。
第2実施形態は、変位発生装置に関する。
図3の模式図は、第2実施形態の変位発生装置を示す。
図3に示すように、第2実施形態の変位発生装置1000は、アクチュエーター1010及び駆動回路1011を備える。アクチュエーター1010は、第1の電極1020、圧電/電歪体1021及び第2の電極1022を備える。
圧電/電歪体1021は、第1実施形態の圧電/電歪セラミックスからなる。第1の電極1020及び第2の電極1022は、圧電/電歪体1021を挟んで対向する。圧電/電歪体1021の分極方向は、第1の電極1020から第2の電極1022へ向かう方向である。
駆動回路1011が第1の電極1020及び第2の電極1022の間に駆動信号を印加した場合は、圧電/電歪体1021に電界が印加される。圧電/電歪体1021に電界が印加された場合は、圧電/電歪体1021が伸長又は収縮し、変位が発生する。電界と平行な方向の伸長又は収縮が利用されてもよいし、電界と垂直な方向の伸長又は収縮が利用されてもよい。
駆動信号は、交流電圧及び直流電圧のいずれでもよい。駆動信号が直流電圧である場合は、第1の電極1020が陽極であり第2の電極1022が陰極であることも許されるし、第1の電極1020が陰極であり第2の電極1022が陽極であることも許される。
駆動信号が直流電圧であって第1の電極1020が陽極であり第2の電極1022が陰極である場合は、分極方向と同方向の電界が圧電/電歪体1021に印加される。駆動信号が直流電圧であって第1の電極1020が陰極であり第2の電極1022が陽極である場合は、分極方向と逆方向の電界が圧電/電歪体1021に印加される。駆動信号が交流電圧である場合は、分極方向と同方向の電界及び分極方向と逆方向の電界が圧電/電歪体1021に交互に印加される。
第1実施形態の圧電/電歪セラミックスは、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が高い。このため、圧電/電歪体1021が第1実施形態の圧電/電歪セラミックスからなる場合は、駆動振動が交流電圧である場合及び駆動信号が直流電圧であって第1の電極1020が陰極であり第2の電極1022が陽極である場合のいずれも、時間が経過するにつれて電界誘起歪が小さくなることは起こりにくい。このため、大きな変位を生じ分極方向と逆方向の電界が印加された場合の電界誘起歪を利用でき耐久性が高い変位発生装置1000が得られる。
アクチュエーター1010の構造は、用途に応じて変更される。圧電/電歪体1021の形状は、板、膜、棒、環、塊等のいずれもよい。多数の圧電/電歪体及び電極が交互に積層される多層構造をアクチュエーター1010が有してもよい。アクチュエーター1010が板に接合され、ユニモルフが構成されてもよい。ユニモルフが構成される場合は、圧電/電歪体1021が伸長又は収縮したときユニモルフが屈曲する。
{第3実施形態}
第3実施形態は、変位発生装置に関する。
第3実施形態は、変位発生装置に関する。
図4の模式図は、第3実施形態の変位発生装置を示す。
図4に示すように、第3実施形態の変位発生装置2000は、アクチュエーター2010及び駆動回路2011を備える。アクチュエーター2010は、第1の電極2020、第1の圧電/電歪体2021、第2の電極2022、第2の圧電/電歪体2023及び第3の電極2024を備える。
アクチュエーター2010は、バイモルフ型である。
第1の圧電/電歪体2021及び第2の圧電/電歪体2023は、第1実施形態の圧電/電歪セラミックスからなる。第1の電極2020及び第2の電極2022は、第1の圧電/電歪体2021を挟んで対向する。第2の電極2022及び第3の電極2024は、第2の圧電/電歪体2023を挟んで対向する。第1の圧電/電歪体2021の分極方向は、第1の電極2020から第2の電極2022へ向かう方向である。第2の圧電/電歪体2023の分極方向は、第2の電極2022から第3の電極2024へ向かう方向である。
第1の電極2020及び第3の電極2024は、同電位であり、一方の駆動電極になる。第2の電極2022は、他方の駆動電極になる。
駆動回路2011が一方の駆動電極及び他方の駆動電極の間に駆動信号を印加した場合は、第1の圧電/電歪体2021及び第2の圧電/電歪体2023に電界が印加される。第1の圧電/電歪体2021及び第2の圧電/電歪体2023に電界が印加された場合は、第1の圧電/電歪体2021及び第2の圧電/電歪体2023の一方が伸長し、第1の圧電/電歪体2021及び第2の圧電/電歪体2023の他方が収縮し、アクチュエーター2010が屈曲し、変位が発生する。
駆動信号は、直流電圧及び交流電圧のいずれでもよい。駆動信号が直流電圧である場合は、一方の駆動電極が陽極であり他方の駆動電極が陰極であることも許されるし、一方の駆動電極が陰極であり他方の駆動電極が陽極であることも許される。
駆動信号が直流電圧及び交流電圧のいずれであっても、第1の圧電/電歪体2021及び第2の圧電/電歪体2023の一方に分極方向と同方向の電界が印加され、第1の圧電/電歪体2021及び第2の圧電/電歪体2023の他方に分極方向と逆方向の電界が印加される。
第1実施形態の圧電/電歪セラミックスは、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性が高い。このため、第1の圧電/電歪体2021及び第2の圧電/電歪体2023が第1実施形態の圧電/電歪セラミックスからなる場合は、時間が経過するにつれて電界誘起歪が小さくなることは起こりにくい。すなわち、第1の圧電/電歪体2021及び第2の圧電/電歪体2023が第1実施形態の圧電/電歪セラミックスからなる場合は、大きな変位を生じ分極方向と逆方向の電界が印加された場合の電界誘起歪を利用でき耐久性が高い変位発生装置2000が得られる。
アクチュエーター2010の構造は、用途に応じて変更される。多数の圧電/電歪体膜及び電極膜が交互に積層される多層構造をアクチュエーター2010が有してもよい。
(試料1から18まで)
構成元素の単純酸化物を出発原料として用いた。表2の組成が得られるように出発原料の粉末を混合し、出発原料の粉末の混合物を得た。出発原料の粉末の混合物を850℃で仮焼し、仮焼原料の粉末を合成した。仮焼原料の粉末、バインダー及び分散剤を水に分散させ、スラリーを得た。スラリーをドクターブレード法によりテープ成形し、グリーンシートを得た。グリーンシートを積層し、基板状の成形体を得た。基板状の成形体を1200℃で焼成し、板厚0.4mmの基板状の焼結体を得た。基板状の焼結体を3.0mm×1.0mm×0.3mmの矩形板状の圧電/電歪体に加工した。圧電/電歪体の上面及び下面にAgからなる電極を形成し、圧電/電歪体及び電極の複合体を得た。圧電/電歪体及び電極の複合体をシリコンオイルに浸漬し、80℃、3000V/mmの条件で分極処理を行い、圧電/電歪素子(圧電/電歪アクチュエーター)を得た。
構成元素の単純酸化物を出発原料として用いた。表2の組成が得られるように出発原料の粉末を混合し、出発原料の粉末の混合物を得た。出発原料の粉末の混合物を850℃で仮焼し、仮焼原料の粉末を合成した。仮焼原料の粉末、バインダー及び分散剤を水に分散させ、スラリーを得た。スラリーをドクターブレード法によりテープ成形し、グリーンシートを得た。グリーンシートを積層し、基板状の成形体を得た。基板状の成形体を1200℃で焼成し、板厚0.4mmの基板状の焼結体を得た。基板状の焼結体を3.0mm×1.0mm×0.3mmの矩形板状の圧電/電歪体に加工した。圧電/電歪体の上面及び下面にAgからなる電極を形成し、圧電/電歪体及び電極の複合体を得た。圧電/電歪体及び電極の複合体をシリコンオイルに浸漬し、80℃、3000V/mmの条件で分極処理を行い、圧電/電歪素子(圧電/電歪アクチュエーター)を得た。
圧電/電歪素子を100V/mmで駆動した場合の変位をレーザードップラー変位計で測定した。測定結果から圧電定数d31を算出した。その結果を表2に示す。
150℃の環境下で電圧が−150±150V/mmの範囲で変動する周波数10kHzの正弦波を圧電/電歪素子に100時間印加した。再び圧電/電歪素子を100V/mmで駆動した場合の変位をレーザードップラー変位計で測定した。測定結果から圧電定数d31を算出した。正弦波の印加前後の圧電定数d31の低下率を算出した。その結果を表2に示す。圧電定数d31は、電界誘起歪の大きさの指標である。圧電定数d31の低下率は、分極方向と逆方向の電界に対する耐久性の悪さの指標である。
組成が一般式Pba{ZnbSbc(ZrdTi1−d)1−b−c}O3で表されa,b,c及びdが0.985≦a≦0.998,0.010≦b≦0.040,0.025≦c≦0.090,0.460≦d≦0.510及び2.125≦c/b≦3.000を満たす範囲内である試料1,2,5−9,11−14,16及び17においては、圧電定数d31が大きく、圧電定数d31の低下率が小さかった。
これに対して、比c/bが3.000を上回る試料3においては、焼結性が悪化し、圧電定数d31の測定に至らなかった。Pb量aが0.998を上回り比c/bが2.125を下回る試料4においては、圧電定数d31の低下率が大きかった。試料4は、化学量論組成を有する。第3成分がPb(Zn,Nb)O3である試料10及び15においては、圧電定数d31の低下率が大きかった。Zn量bが0.040を上回りSb量cが0.090を上回る試料18においては、圧電定数d31の低下率が大きかった。
(試料19,20及び22から25まで)
表3の組成が得られるように出発原料の粉末を混合した点を除いて、試料1から18までと同じように圧電/電歪素子を得た。また、試料1から18までと同じように圧電定数d31及び圧電定数d31の低下率を算出した。その結果を表3に示す。
表3の組成が得られるように出発原料の粉末を混合した点を除いて、試料1から18までと同じように圧電/電歪素子を得た。また、試料1から18までと同じように圧電定数d31及び圧電定数d31の低下率を算出した。その結果を表3に示す。
主成分100重量部に対するMnの添加量がMnO換算で0.020重量部以上0.100重量部以下である試料19,20,22及び23においては、圧電定数d31が大きく、圧電定数d31の低下率が極めて小さかった。主成分100重量部に対するCrの添加量がCr2O3換算で0.150重量部である試料24においても、圧電定数d31が大きく、圧電定数d31の低下率が極めて小さかった。主成分100重量部に対するDyの添加量がDy2O3換算で0.300重量部である試料25においても、圧電定数d31が大きく、圧電定数d31の低下率が極めて小さかった。
(試料21)
表3の組成が得られるように出発原料の粉末を混合した点、Mnの出発原料の粉末以外を仮焼前に混合した点、並びに、Mnの出発原料の粉末及び仮焼原料の粉末を仮焼後に混合した点を除いて、試料1から18までと同じように圧電/電歪素子を得た。また、試料1から18までと同じように圧電定数d31及び圧電定数d31の低下率を算出した。その結果を表3に示す。
表3の組成が得られるように出発原料の粉末を混合した点、Mnの出発原料の粉末以外を仮焼前に混合した点、並びに、Mnの出発原料の粉末及び仮焼原料の粉末を仮焼後に混合した点を除いて、試料1から18までと同じように圧電/電歪素子を得た。また、試料1から18までと同じように圧電定数d31及び圧電定数d31の低下率を算出した。その結果を表3に示す。
仮焼後に混合が行われた試料21においても、仮焼前に混合が行われた試料20と同じように、圧電定数d31が大きく、圧電定数d31の低下率が極めて小さかった。
本発明は詳細に示され記述されたが、上記の記述は全ての局面において例示であって限定的ではない。したがって、本発明の範囲からはずれることなく無数の修正及び変形が案出されうると解される。
1000 変位発生装置
1010 アクチュエーター
1011 駆動回路
1020 第1の電極
1021 圧電/電歪体
1022 第2の電極
2000 変位発生装置
2010 アクチュエーター
2011 駆動回路
2020 第1の電極
2021 第1の圧電/電歪体
2022 第2の電極
2023 第2の圧電/電歪体
2024 第3の電極
1010 アクチュエーター
1011 駆動回路
1020 第1の電極
1021 圧電/電歪体
1022 第2の電極
2000 変位発生装置
2010 アクチュエーター
2011 駆動回路
2020 第1の電極
2021 第1の圧電/電歪体
2022 第2の電極
2023 第2の圧電/電歪体
2024 第3の電極
Claims (4)
- 一般式Pba{ZnbSbc(ZrdTi1−d)1−b−c}O3で表され、a,b,c及びdが、0.985≦a≦0.998,0.010≦b≦0.040,0.025≦c≦0.090,0.460≦d≦0.510及び2.125≦c/b≦3.000を満たす圧電/電歪セラミックス組成物。
- 一般式Pba{ZnbSbc(ZrdTi1−d)1−b−c}O3で表されa,b,c及びdが0.985≦a≦0.998,0.010≦b≦0.040,0.025≦c≦0.090,0.460≦d≦0.510及び2.125≦c/b≦3.000を満たす主成分に、Mn,Cr,Fe及び希土類元素Rからなる群より選択される少なくとも1種類の元素を含む副成分が添加され、
Mnの添加量をMnO換算で表し、Crの添加量をCr2O3換算で表し、Feの添加量をFe2O3換算で表し、希土類元素Rの添加量をR2O3換算で表した場合に、100重量部の主成分に対する少なくとも1種類の元素の添加量が0.3重量部以下である圧電/電歪セラミックス組成物。 - 第1の電極、圧電/電歪体及び第2の電極を備え、前記圧電/電歪体が請求項1又は請求項2の圧電/電歪セラミックス組成物からなり、前記第1の電極及び前記第2の電極が前記圧電/電歪体を挟んで対向し、前記圧電/電歪体の分極方向が前記第1の電極から前記第2の電極へ向かう方向であるアクチュエーターと、
前記第1の電極及び前記第2の電極の間に駆動信号を印加し、前記駆動信号が交流電圧又は前記第1の電極が陰極になり前記第2の電極が陽極になる直流電圧である駆動回路と、
を備える変位発生装置。 - 第1の電極、第1の圧電/電歪体、第2の電極、第2の圧電/電歪体及び第3の電極を備え、前記第1の圧電/電歪体及び前記第2の圧電/電歪体が請求項1又は請求項2の圧電/電歪セラミックス組成物からなり、前記第1の電極及び前記第2の電極が前記第1の圧電/電歪体を挟んで対向し、前記第2の電極及び前記第3の電極が前記第2の圧電/電歪体を挟んで対向し、前記第1の圧電/電歪体の分極方向が前記第1の電極から前記第2の電極へ向かう方向であり、前記第2の圧電/電歪体の分極方向が前記第2の電極から前記第3の電極へ向かう方向であり、バイモルフ型であるアクチュエーターと、
前記第1の電極及び前記第3の電極を一方の駆動電極とし、前記第2の電極を他方の駆動電極とし、前記一方の駆動電極及び前記他方の駆動電極の間に駆動信号を印加する駆動回路と、
を備える変位発生装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012139428 | 2012-06-21 | ||
JP2012139428 | 2012-06-21 | ||
PCT/JP2013/066959 WO2013191249A1 (ja) | 2012-06-21 | 2013-06-20 | 圧電/電歪セラミックス組成物及び変位発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013191249A1 JPWO2013191249A1 (ja) | 2016-05-26 |
JP6026530B2 true JP6026530B2 (ja) | 2016-11-16 |
Family
ID=49768842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014521506A Active JP6026530B2 (ja) | 2012-06-21 | 2013-06-20 | 圧電/電歪セラミックス組成物及び変位発生装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9153768B2 (ja) |
EP (1) | EP2876095B1 (ja) |
JP (1) | JP6026530B2 (ja) |
WO (1) | WO2013191249A1 (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2644341C2 (de) | 1976-10-01 | 1984-08-02 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Verfahren und Anordnungen zur automatischen Verwirklichung des Köhler'schen Beleuchtungsprinzipes |
JP2000253676A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-14 | Kyocera Corp | 圧電/電歪膜型アクチュエータ |
JP3397753B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2003-04-21 | ティーディーケイ株式会社 | 積層型圧電素子およびその製造方法 |
JP4683689B2 (ja) * | 2000-03-29 | 2011-05-18 | 京セラ株式会社 | 積層型圧電素子及び圧電アクチュエータ並びに噴射装置 |
JP2004115346A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-15 | Kyocera Corp | 圧電磁器組成物及びこれを用いたインクジェット記録ヘッド |
US7494602B2 (en) * | 2005-04-11 | 2009-02-24 | Piezotech, Llc | Compositions for high power piezoelectric ceramics |
US7521845B2 (en) * | 2005-08-23 | 2009-04-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Piezoelectric substance, piezoelectric element, liquid discharge head using piezoelectric element, and liquid discharge apparatus |
JP5178065B2 (ja) * | 2007-06-27 | 2013-04-10 | 京セラ株式会社 | 圧電セラミックス、圧電アクチュエータおよび液体吐出ヘッド |
JP5475272B2 (ja) * | 2008-03-21 | 2014-04-16 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪膜型素子 |
-
2013
- 2013-06-20 JP JP2014521506A patent/JP6026530B2/ja active Active
- 2013-06-20 WO PCT/JP2013/066959 patent/WO2013191249A1/ja active Application Filing
- 2013-06-20 EP EP13806342.5A patent/EP2876095B1/en not_active Not-in-force
-
2014
- 2014-02-25 US US14/189,023 patent/US9153768B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2876095B1 (en) | 2017-08-23 |
EP2876095A1 (en) | 2015-05-27 |
US9153768B2 (en) | 2015-10-06 |
US20140167562A1 (en) | 2014-06-19 |
WO2013191249A1 (ja) | 2013-12-27 |
EP2876095A4 (en) | 2016-06-01 |
JPWO2013191249A1 (ja) | 2016-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5348885B2 (ja) | 圧電/電歪磁器組成物及びその製造方法 | |
KR101051527B1 (ko) | 압전 자기 및 압전 소자 | |
KR20070088274A (ko) | 압전체 자기 조성물, 및 압전 세라믹 전자부품 | |
JP5021452B2 (ja) | 圧電/電歪磁器組成物および圧電/電歪素子 | |
JP2011144100A (ja) | 圧電/電歪セラミックス焼結体 | |
JP4780530B2 (ja) | 圧電磁器組成物および圧電アクチュエータ | |
JP5219388B2 (ja) | 圧電セラミックス及びその製造方法 | |
JP5597368B2 (ja) | 積層型電子部品およびその製法 | |
JP5129067B2 (ja) | 圧電/電歪磁器組成物及び圧電/電歪素子 | |
JP2011032157A (ja) | 圧電/電歪セラミックス焼結体 | |
JP2011251866A (ja) | 圧電/電歪セラミックス焼結体及び圧電/電歪素子 | |
JP5662197B2 (ja) | 圧電/電歪焼結体、及び圧電/電歪素子 | |
JP6026530B2 (ja) | 圧電/電歪セラミックス組成物及び変位発生装置 | |
JP2008078267A (ja) | 圧電セラミックス、その製造方法、及び圧電/電歪素子 | |
JP5894222B2 (ja) | 積層型電子部品およびその製法 | |
JP5021595B2 (ja) | 圧電/電歪磁器組成物及び圧電/電歪素子 | |
CN111454054A (zh) | 压电组合物及压电元件 | |
JP6156434B2 (ja) | 圧電磁器および圧電素子 | |
WO2024070626A1 (ja) | 無鉛圧電組成物、及び圧電素子 | |
JP5935187B2 (ja) | 圧電セラミックスおよびこれを用いた圧電アクチュエータ | |
JP5115342B2 (ja) | 圧電磁器、圧電素子及び積層型圧電素子 | |
JP2018032725A (ja) | 圧電セラミックの駆動方法、及び圧電セラミック | |
WO2013088927A1 (ja) | 圧電配向セラミックスおよび圧電アクチュエータ | |
JP6256406B2 (ja) | 圧電磁器および圧電素子 | |
TW202419425A (zh) | 無鉛壓電組成物、及壓電元件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160927 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161012 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6026530 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |