JP6015163B2 - 蒸着方法及び装置 - Google Patents
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Description
また、有機材料は長時間熱にさらされると、重合、分解等の化学変化が起こるため短時間で目標とする温度に上げ、しかもすばやく基板に付着させる必要がある
。
さらに、特許文献2では温度を上昇させるまで時間がかかり材料の熱劣化が防げない。
また、特許文献3では同じく材料が飛ばされることが防げないばかりか、蒸発中に壁面に材料が付着し蒸発の妨げになる。また、取り除くために再蒸発させる時間が必要となったり、蒸発速度が変化し形成する有機薄膜の膜厚を制御することが難しい。
本発明の真空容器とは少なくとも1.0×10−2Pa以下まで真空が保持できる装置を指す。
また、特許文献3には、るつぼを蒸発温度以上にしていることや、るつぼを囲う壁面についての記載はない。
本発明の具体的な実施例について図1〜4を用いて説明するが、これらに限定されるものではない。
上記記載の形態と同様であるセラミック製のるつぼ(縦90mm×横350mm×高さ60mm)を用意し、坩堝の内部に温度測定のための熱電対を挿入し、蒸着材料を充填した。蒸着する有機材料はメラミンを用いた。また赤外線ヒーターがるつぼにきちんと照射されるように位置を設定した。
抵抗加熱式の蒸着装置にカーボンるつぼをセットし、メラミンを充填した。
2:内部壁面
3:加熱波透過可能な板
4:蒸発材料
5:るつぼ
6:チムニー
7:加熱波照射源装置
8:防壁板
9:加熱波源
10:リフレクター
Claims (8)
- 真空装置内で被蒸着材の表面に薄膜を堆積させる方法であって、加熱波源と昇華しやすい蒸着材料を収容する容器とチムニーから成り、該容器内に充填された材料を、該加熱波源からの赤外線を主な波長とする加熱波を透過可能な材質からなる窓を介して容器の外部から蒸着材料の表面より直接加熱してガス化する蒸着・昇華方法であり、且つ少なくともチムニー内面を昇華温度以上に加熱することで、該チムニー内部壁面への固化を防ぐ機構を持つことを特徴とする蒸着・昇華方法。
- 材料を連続供給して、一定箇所のみを照射することを防ぎ、連続的に蒸着材料の熱劣化が起こらないようにした請求項1に記載の蒸着・昇華方法。
- 加熱波を集光させて、全方位ではなく一定方向にのみ照射し、加熱波源のロスを低減した請求項2に記載の蒸着・昇華方法。
- 蒸発温度を昇華温度より高く、表面に高分子生成物が生成しない温度以下であることを特徴とする請求項3に記載の蒸着・昇華方法。
- 真空装置内で被蒸着材の表面に薄膜を堆積させる装置であって、加熱波源と昇華しやすい蒸着材料を収容する容器とチムニーから成り、該容器内に充填された材料を、該加熱波源からの赤外線を主な波長とする加熱波を透過可能な材質からなる窓を介して容器の外部から蒸着材料の表面より直接加熱してガス化する蒸着・昇華装置であり、且つ少なくともチムニー内面を昇華温度以上に加熱することで、該チムニー内部壁面への固化を防ぐ機構を持つことを特徴とする蒸着・昇華装置。
- 材料を連続供給して、一定箇所のみを照射することを防ぎ、連続的に蒸着材料の熱劣化が起こらないようにした請求項5に記載の蒸着・昇華装置。
- 加熱波を集光させて、全方位ではなく一定方向にのみ照射し、加熱波源のロスを低減した請求項6に記載の蒸着・昇華装置。
- 蒸発温度を昇華温度より高く、表面に高分子生成物が生成しない温度以下であることを特徴とする請求項7に記載の蒸着・昇華装置。
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