JP6013121B2 - 気相成長装置 - Google Patents
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Description
前記チャンバー本体側に設置されて前記基板を保持するサセプタと、
該サセプタとの間に所定の間隔を離して対向配置されて前記原料ガスの流路を形成する天井板と、
前記チャンバー本体の中央部に設置されて、前記原料ガスを前記原料ガスの流路に供給するノズル装置とを備えてなり、
前記ノズル装置は、その上端部に、前記天井板の中央部が載置される載置部を有し、前記天井板は、その中央部が前記載置部に載置されることで前記ノズル装置に保持されることを特徴とするものである。
前記ノズル装置の上端部には前記開口部に挿入可能な凸部が形成され、該凸部の周辺部が前記載置部となっていることを特徴とするものである。
以下、各構成を図1〜図5に基づいて詳細に説明する。
チャンバー2は、図1に示すように、概形が偏平して両端が閉じた円筒状からなる。チャンバー2は、有底円筒状からなるチャンバー本体3と、チャンバー本体3の開口側を覆う有底円筒状からなるチャンバー蓋4とに上下に分割可能になっている。
チャンバー本体3は、開口側を上にして固定して設けられている。チャンバー蓋4は、開口側を下にしてチャンバー本体3の上方に昇降可能に設けられている。
チャンバー本体3とチャンバー蓋4は、図1に示すように、チャンバー蓋4を下降させて開口部同士を合わせることで密閉された円筒状になり、基板5(図2参照)上に半導体薄膜を成膜するための反応炉となる。
チャンバー本体3およびチャンバー蓋4の材質には、耐食性に優れたステンレスを用いることができる。
なお、上記では、チャンバー蓋4は上下方向のみに移動するものを例として説明したが、所定の位置まで上下方向に移動するとともに水平方向に移動してもよい。
サセプタ7は、図2の平面図に示すように、中央にノズル装置13の上部が挿通可能な開口部7aを有する円環板状からなり、チャンバー本体3内に設けられたサセプタ回転機構8に着脱可能にかつ回転可能に設置されている(図1参照)。
開口部7aの周りには、薄膜が形成される基板5が載置される基板載置部7bが周方向に等間隔に複数設けられている。なお、図2は基板載置部7bに基板5を載置した状態を示している。
なお、サセプタ7の材質には、例えばカーボンを用いることができる。また、基板5の材質は、成膜する半導体薄膜の材料に合わせて選択される。
サセプタカバー9は、図3の平面図に示すように、平面視でサセプタ7とほぼ同形の円環板状からなり、中央にノズル装置13の上部が挿入可能な開口部9aと、開口部9aの周りに複数の開口部9bとを有している。
サセプタカバー9は、サセプタ7上に載置されて原料ガスによる汚染や酸化等からサセプタ7を保護するものである。サセプタカバー9がサセプタ7上に載置されると、サセプタカバー9の上面とサセプタ7の基板載置部7bに載置された基板5との上面とが面一になるようになっており、これらの面と天井板11の下面とで原料ガスの流路Lが形成されている。なお、サセプタカバー9の材質には、例えば石英が用いられる。
天井板11は、図4に示すように、中央には後述するノズル装置13の凸部14が挿入可能な開口部11aを有する円板からなる。
図1は、天井板11の開口部11aにノズル装置13の凸部14が挿入されて、天井板11はノズル装置13の中央に載置されて支持される状態を図示したものである。
上記のように天井板11がノズル装置13に載置されると、天井板11の下面とサセプタカバー9の上面とで、半導体薄膜を成膜するための原料ガスの流路Lを形成する(図1参照)。このとき、天井板11は自重でノズル装置13と隙間なく当接しており、原料ガスが流路Lから漏れ出ることを防止している。
なお、天井板11の材質には、例えば石英を用いることができる。
ノズル装置13は、チャンバー本体3の中央に設置されて、原料ガスの流路Lに原料ガスを供給する。
ノズル装置13は、図1に示すように、径方向に所定間隔を離して複数配置されて原料ガスのガス導入路Fを形成するノズル壁部材(可動ノズル壁部材13a、固定ノズル壁部材13b、固定ノズル壁部材13c、固定ノズル壁部材13d)を有している。
固定ノズル壁部材13bは、可動ノズル壁部材13aの円柱の直径よりも大径の管状からなり、一端が外方に張り出した形状になっている。
固定ノズル壁部材13cは、固定ノズル壁部材13bよりも大径の管状からなり、一端が外方に張り出した形状になっている。
固定ノズル壁部材13dは、固定ノズル壁部材13cよりもさらに大径の管状からなり、一端が外方に張り出した形状になっている。
なお、原料ガスの材料は、成膜する半導体薄膜の種類等に合わせて選択される。
凸部14は上方に向かって次第に縮径しており、凸部14の側面がテーパ面14aとなっている。テーパ面14aは天井板11の開口部11aに凸部14が挿入される際に、天井板11をガイドして天井板11の水平方向の位置決めを容易にする役割を担っている。
可動ノズル壁部材13aの上下動はパルスモータ等を有する上下動装置15によって行われる。上下動装置15はパルスモータ等によって可動ノズル壁部材13aの上下位置を高精度(サブミリオーダ)に調整可能になっている。
可動ノズル壁部材13aは、載置部12で天井板11を支持した状態で上下動可能となっており、天井板11の上下位置を調整することで流路Lの高さを高精度に調整可能になっている。
天井板外周支持部17は、図1に示すように、天井板11の外周側にあって、チャンバー本体3またはチャンバー蓋4のいずれか一方に着脱可能になっている。
天井板外周支持部17がチャンバー蓋4に装着されると、チャンバー2の開閉時に、チャンバー蓋4の昇降に伴って天井板外周支持部17が昇降するようになっている。このとき天井板11の外周部が天井板外周支持部17によって支持されて、天井板11も昇降する。天井板外周支持部17をチャンバー蓋41に装着した状態でチャンバー蓋を上昇させた状態を図6に示す。
このように、天井板外周支持部17は、チャンバー2の昇降にともなって天井板11を昇降させるか否かによって、チャンバー本体3またはチャンバー蓋4に選択的に装着される。
搬送アーム19は、チャンバー2外に設置され、サセプタ7、サセプタカバー9、天井板11のいずれか1つ以上または全部をチャンバー2の内外に搬送する。
搬送アーム19は、図5に示すように平面視が略U字状の板を、図1に示すように上下2段(上段部19aおよび下段部19b)有している。上段部19aおよび下段部19bは、U字の曲線部で連結部19cによって連結されている。上段部19aは天井板11が載置可能になっている。
また、上段部19aおよび下段部19bは、図5に示すように平面視でほぼ同じ大きさになっており、サセプタ7やサセプタカバー9を載置すると、これらの外周部がはみ出すような大きさに設定されている。
可動ノズル壁部材13aを上動させて可動ノズル壁部材13aに載置された天井板11を上昇させた状態で、搬送アーム19をチャンバー本体3の上方に位置させて、可動ノズル壁部材13aを下動させれば、天井板11が搬送アーム19の上段部19aに載置される。このようにして、搬送アーム19は可動ノズル壁部材19aから天井板11を受け取ることができる。また、天井板11を受け取った後に、搬送アーム19をチャンバー2の外に移動させることで、天井板11を搬出可能となっている。
制御部は、チャンバー蓋4、ノズル装置13、天井板外周支持部17、搬送アーム19の動作を制御する。具体的には例えば、チャンバー蓋4の昇降、ノズル装置13の可動ノズル壁部材13aの上下動、天井板外周支持部17のチャンバー本体3またはチャンバー蓋4への装着、搬送アーム19のチャンバー2内外への搬送の動作を制御する。なお、制御部の設置場所は、ノズル装置13、天井板外周支持部17、搬送アーム19の動作の制御が可能であれば、特に限定されない。
気相成長後の状態は、図1と同様の状態である。つまり、チャンバー2は閉じており、天井板11は可動ノズル壁部材13aによって支持されている。
この状態から、天井板外周支持部17をチャンバー蓋4に装着して、チャンバー蓋4を上昇させる(図6参照)。このとき、天井板11は、図6に示すように、天井板外周支持部17によって外周部を支持され、チャンバー蓋4とともに上昇している。この状態で搬送アーム19等を用いてサセプタ7等の交換を行う。
各工程における気相成長装置1の構成要素の動作は、制御部により制御する。
図7に示すように、サセプタ7はサセプタ回転機構8に支持されている。このサセプタ7にはサセプタカバー9が載置されている。また、サセプタ7の基板載置部7bには基板5が載置されている。可動ノズル壁部材13aの位置は、気相成長処理時と同位置である。天井板外周支持部17は、チャンバー本体3に装着されている。搬送アーム19はチャンバー2の外に待機しており、チャンバー2の上段部19aには使用前の天井板11が載置されている。
次に、可動ノズル壁部材13aを上動させて、搬送アーム19の上段部19aに載置されている天井板11を可動ノズル壁部材13aで突き上げて支持する(図8参照)。こうすることによって天井板11が搬送アーム19から可動ノズル壁部材13aに受け渡される。その後、搬送アーム19を水平方向に移動させてチャンバー2の外に出す。
天井板11の搬出は、上記の搬入および設置を逆の順番で行うことで実施できる。つまり、可動ノズル壁部材13aに支持されている天井板11を、可動ノズル壁部材13aによって上昇させる。次に搬送アーム19をチャンバー本体2の上方かつ、上昇した天井板11の下方に位置させる。次いで、可動ノズル壁部材13aを下動させることで、搬送アーム19の上段部19aに天井板11を載置する。こうすることで天井板11を可動ノズル壁部材13aから搬送アーム19に受け渡す。次いで、搬送アーム19をチャンバー2の外に移動させる。以上のようにして、使用後の天井板11がチャンバー2外へ搬出される。搬出された天井板11は洗浄することができる。
F ガス導入路
1 気相成長装置
2 チャンバー
3 チャンバー本体
3a 排出口
4 チャンバー蓋
5 基板
7 サセプタ
7a 開口部
7b 基板載置部
8 サセプタ回転機構
9 サセプタカバー
9a 開口部
9b 開口部
11 天井板
12 載置部
13 ノズル装置
13a 可動ノズル壁部材
13b、13c、13d 固定ノズル壁部材
14 凸部
14a テーパ面
15 上下動装置
16 本体部
17 天井板外周支持部
18 張出部
19 搬送アーム
19a 上段部
19b 下段部
19c 連結部
Claims (4)
- チャンバー本体とチャンバー蓋で構成されたチャンバー内に設置された基板上に原料ガスを供給して前記基板上に薄膜を成長させる気相成長装置であって、
前記チャンバー本体側に設置されて前記基板を保持するサセプタと、
該サセプタとの間に所定の間隔を離して対向配置されて前記原料ガスの流路を形成する天井板と、
前記チャンバー本体の中央部に設置されて、前記原料ガスを前記原料ガスの流路に供給するノズル装置とを備えてなり、
前記ノズル装置は、その上端部に、前記天井板の中央部が載置される載置部を有し、前記天井板は、その中央部が前記載置部に載置されることで前記ノズル装置に保持され、かつ前記ノズル装置は、径方向に所定間隔を離して複数配置されて原料ガスのガス導入路を形成するノズル壁部材を有し、最も内側のノズル壁部材が上下動可能な可動ノズル壁部材になっており、前記載置部は該可動ノズル壁部材の上端部に形成されていることを特徴とする気相成長装置。 - 前記天井板は、その中央部に開口部を有し、
前記ノズル装置の上端部には前記開口部に挿入可能な凸部が形成され、該凸部の周辺部が前記載置部となっていることを特徴とする請求項1記載の気相成長装置。 - 前記凸部は上方に向かって縮径するテーパ状になっていることを特徴とする請求項2記載の気相成長装置。
- 前記可動ノズル壁部材を上動させることで前記天井板を上昇させた状態で、該天井板を受け取って前記チャンバーの外に搬送可能な搬送アームを備えたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の気相成長装置。
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