JP6008892B2 - 光学的に純粋なベンジル‐4−クロロフェニル‐c‐グルコシド誘導体 - Google Patents
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Description
また本願出願人は、PCT出願であるWO2013/000275A1(特許文献3)において、SGLT-2阻害剤として、一連のC-グルコシド誘導体を開示し、その中で、下記構造を有する化合物4が、SGLT-2に対して優れた阻害効果を奏するとともに優れた選択性を有することを開示した。
本発明は、以下の技術的課題の解決を提供する。
1.式(I)
(2S,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールである式(II)
(2S,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2Hピラン-3,4,5-トリオールである式(III)
(2R,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールである式(IV)
及び
(2R,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールである式(V)
Gは、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ベンジル、パラ‐メトキシベンジル、パラ‐ニトロベンジル、ピバロイル、アリル、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、トリメチルシリルエチル等から選択される水酸基保護基を示し、好ましくはトリメチルシリルである。)。
すなわち、式bで表わされる化合物(すなわち、(1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル メタンスルホネート)を、(N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びアセトニトリルから選択される、好ましくはN-メチルピロリドンである)有機溶媒に溶解し、得られる混合物溶液に、式aで表わされる化合物を添加し、得られる混合物を0℃から70℃の間の温度で反応させ、式cで表わされる化合物を得;
式cで表わされる化合物を、
式d-2で表わされる化合物を、−78℃から30℃の間の温度で反応させ、式eで表わされる化合物を得、式eで表わされる化合物を精製することにより、式(II)で表わされる化合物を製造する。
すなわち、式eの化合物を水酸基の保護反応に付し、下記式f
の化合物を得、式fの化合物を、脱保護反応に付し、式(II)で表わされる化合物を製造することができる。
尚、式(II)で表わされる化合物は、上記工程図で例示される方法及び/又は当業者に周知の他の技術により製造することができ、上記方法に限られるものではないことを付言する。
Gは、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ベンジル、パラ‐メトキシベンジル、パラ‐ニトロベンジル、ピバロイル、アリル、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、トリメチルシリルエチル等から選択される水酸基保護基を示し、好ましくはトリメチルシリルである。)。
すなわち、式aで表わされる化合物を、(トルエン、N,N-ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びアセトニトリルから選択される、好ましくはトルエンである)有機溶媒に溶解し、得られる混合物溶液に、式bで表わされる化合物を添加し、得られる混合物を0℃から70℃の間の温度で反応させ、式c′で表わされる化合物を得;
式c′で表わされる化合物を、
式d′-2で表わされる化合物を、−78℃から30℃の間の温度で反応させ、式e′で表わされる化合物を得、式e′で表わされる化合物を精製することにより、式(III)で表わされる化合物を製造する。
すなわち、式e′の化合物を、水酸基の保護反応に付し、式f′
で表わされる化合物を製造し;次いで本式f′の化合物を脱保護反応に付し、式(III)で表わされる化合物を製造する。
尚、式(III)で表わされる化合物は、上記工程図で例示される方法及び/又は当業者に周知の他の技術により製造することができ、上記方法に限られるものではないことを付言する。
4.式(II)で表わされる化合物の中間体であり、該中間体は、
5.式(II)で表わされる化合物の中間体であり、該中間体は、
である。
6.式(III)で表わされる化合物の中間体であり、該中間体は、
7.式(III)で表わされる化合物の中間体であり、該中間体は、
である。
(1)本発明の化合物は、SGLT-2に対する高い選択性を有し、人を含む哺乳類の糖尿病又は糖尿病関連疾患の治療及び/又は予防に安全に用いることができる。
(2)本発明化合物は、SGLT-2に対する高い阻害活性を示し、顕著な血糖低下活性、早い薬効発現、低い副作用及び高い安全性を有する。
(3)本発明化合物は、良好な物理化学的特性を有し、純度が高く、安定性に優れ、品質
管理が容易であり、大規模の工業的製造が容易である。
本明細書において、便宜上以下の慣用される略号を用いる。
Me: メチル;
Et: エチル;
Ms: メチルスルホニル;
Ac: アセチル;
TBS: tert-ブチルジメチルシリル;
THF: テトラヒドロフラン;
DMAP: 4-ジメチルアミノピリジン;
DIPEA: N,N-ジイソプロピルエチルアミン;
n-BuLi: n-ブチルリチウム;
TMS: トリメチルシリル
本発明において、室温とは10℃と30℃の間の温度を意味する。
試験試料:
本明細書中で前記した研究所作製の式(II)、(III)、(IV)及び(V)で表わされる化合物。その化学名、製造法は以下の製造例に記載する。
参照化合物1:
研究所で作製したPCT出願WO2013/000275A1に記載の化合物4(PCT出願WO2013/000275A1参照)。本化合物は以下の構造を有する。
NMG N-メチル-グルコサミン
KRH クレブス・リンゲル・ヘンゼライト液(Krebs-Ringer-Henseleit)
本発明化合物の薬理活性を検証するin-vitro試験において、ヒトのSGLT-1とSGLT-2のシーケンスをチャイニーズハムスターの卵巣細胞にトランスフェクトし、安定に発現させた。[14C]-ラベル R-メチル-D-グルコピラノシド(AMG)の細胞へのナトリウム依存性吸収の阻害を測定することにより、50%阻害濃度IC50を決定した。
緩衝液A(KRH-Na+): 120 mM NaCl, 4.7 mM KCl, 1.2 mM MgCl2, 2.2 mM CaCl2, 10 mM HEPES (PH 7.4, 1 mM Tris含有).
緩衝液A-(KRH-NMG): 120 mM NMG, 4.7 mM KCl, 1.2 mM MgCl2, 2.2 mM CaCl2, 10 mM HEPES (PH 7.4, 1 mM Tris含有)。
緩衝液D: 120 mM NaCl, 4.7 mM KCl, 1.2 mM MgCl2, 2.2 mM CaCl2, 10 mM HEPES, 0.5 mM フロリジン(PH 7.4, 1 mM Tris含有)。
ヒトのSGLT-1と SGLT-2のシーケンスをチャイニーズハムスターの卵巣細胞に安定に発現させた。96ウエルプレートで、12時間、細胞培養を行い、その後プレートを、KRH-Na+(緩衝液A)又はKRH-NMG(緩衝液A-)緩衝用溶液200μL/wellを用いて三度洗浄した。その後、プレートに、緩衝液A又は緩衝液A-と[14C]-AMG (10 μCi/mL)を含む緩衝液を100μL/well量を加え、細胞培養を37℃で1時間行った。次いで、予め氷冷した緩衝液(緩衝液D)を100μL量添加し、試験を終結した。プレートを5回洗浄した後、予め氷冷した溶解用緩衝液(100mM 水酸化ナトリウム溶液)を20μL/well量添加し、600rpmで遠心分離に5分間かけた。マイクロシント(Microscint)40溶液(80μ/well)を加え、600rpmで遠心分離に5分間かけた。最後に、[14C]-AMGの放射能を、マイクロベーター トリラックス(MicroBeta Trilux:パーキンエルマー社より購入))を用いて、シンチレーション計数法により検出し、50%阻害活性濃度IC50を計算した。
試験結果及び結論:
被験動物:体重200-240gの6−8週齢雄SDラット(バイタルリバー研究所(Vital River Laboratories)より購入)。化合物当たり3匹使用。
試験試料:
研究所作製の前記した式(II)で表わされる化合物。本化合物の化学名及び調製法は以下の実施例1に記載される。
参照化合物1:研究所作製のPCT出願 WO2013/000275A1に記載の化合物4(PCT出願WO2013/000275A1参照)。本化合物は以下の構造を有する。
参照化合物2:当研究所で作製したPCT出願 WO2013/000275A1に記載の化合物22(PCT 出願WO2013/000275A1参照)。本化合物は以下の構造を有する。
溶媒:0.5%MC(メチルセルロース)溶液+0.1%SDS(ドデシル硫酸ナトリウム)
試験方法:
胃内投与(経口):表2参照
20μLの血漿を慎重に取り出し、それに600μLの内部標準MTBE(メチル‐tert-ブチルエーテル)溶液(内部標準ダパグリフロジン25ng/mlを含有)を添加した。本血漿を、1500rpmで10分間ボルテックスにかけ、次いで5分間12000rpmで遠心分離にかけた。400μLの上清を取り、窒素ガスを用いてブロー乾燥した。乾燥させた物質を200μLの再溶解液(アセトニトリル:水=7:3)に再溶解し、該溶液を10分間ボルテックスにかけ、LC-MS/MS(API4000、アプライド バイオシステムズ(Applied Biosystems))を用いて分析した。
Tmaxは、血漿中の最高濃度に達するまでの時間を
Cmaxは、血漿中の最高濃度を
AUClastは、投与0時から投与後当該t時間経過後までの投与曲線下の面積を、
AUCinfは、投与0時から投与後永久時間経過後までの投与曲線下の面積を、
それぞれ表す。
(2S,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオール(式II)
(1) 5-ブロモ-2-クロロベンゾイルクロライドの製造
(2) (5-ブロモ-2-クロロフェニル)(4-メトキシフェニル)メタノンの製造
(3) 4-ブロモ-1-クロロ−2−(4-メトキシベンジル)ベンゼンの製造
(4) 4-(5-ブロモ-2-クロロベンジル) フェノールの製造
(5) (1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-オールの製造
(6) (1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル メタンスルホネートの製造
(7) (1R,3s,5S)-3-(4-(5-ブロモ-2-クロロベンジル)フェニルオキシ)ビシクロ [3.1.0]ヘキサンの製造
分子式: C19H18BrClO; 分子量: 377.71
1H-NMR (400MHz, CDCl3) δ: 7.28-7.21 (m, 3H), 7.07-7.05 (d, 2H), 6.82-6.78 (m, 2H), 4.42-4.35 (m, 1H), 3.98 (s, 2H), 2.36-2.31 (m, 2H), 1.96-1.90 (m, 2H), 1.40-1.33 (m, 2H), 0.47-0.44 (m, 1H), 0.07-0.02 (m, 1H).
(8) (3R,4S,5R,6R)-3,4,5-トリ((トリメチルシリル)オキシ)-6-(((トリメチルシリル)オキシ)メチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-2-オンの製造
(9) (3R,4S,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ [3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)-2-メトキシテトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(10) (3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(11) (2R,3R,4R,5S,6S)-2-(アセトキシメチル)-6-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリイルトリアセテートの製造
(12) (2S,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
分子式: C25H29ClO6 分子量: 460.95 LC-MS(m/z): 478.3 [M+NH4]+
1H-NMR (400MHz, MeOD) δ: 7.35-7.26 (m, 3H), 7.08-7.06 (d, 2H), 6.76-6.74 (d, 2H), 4.45-4.41 (m, 1H), 4.10-4.00 (m, 3H), 3.89-3.88 (d, 1H), 3.71-3.69 (m, 1H), 3.45-3.38 (m, 3H), 3.31-3.26 (m, 1H), 2.34-2.29 (m, 2H), 1.87-1.81 (m, 2H), 1.37-1.33 (m, 2H), 0.43-0.42 (m, 1H), 0.11-0.10 (m, 1H).
(2S,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2Hピラン-3,4,5-トリオール (式III)
(1) (1R,3r,5S)-3-(4-(5-ブロモ-2-クロロベンジル)フェニルオキシ)ビシクロ[3.1.0]ヘキサンの製造
分子式: C19H18BrClO 分子量: 377.71
1H-NMR (400MHz, CDCl3) δ: 7.28-7.21 (m, 3H), 7.07-7.05 (d, 2H), 6.76-6.72 (d, 2H), 4.79-4.76 (m, 1H), 3.98 (s, 2H), 2.22-2.16 (m, 2H), 2.05-2.01 (m, 2H), 1.35-1.31(m, 2H), 0.62-0.58 (m, 1H), 0.51-0.46 (m, 1H).
(2) (3R,4S,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)-2-メトキシテトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(3) (3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(4) (2R,3R,4R,5S,6S)-2-(アセトキシメチル)-6-(3-(4-((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリイルトリアセテートの製造
(5) (2S,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
分子式: C25H29ClO6 分子量: 460.95
1H-NMR (400MHz, MeOD) d: 7.23-7.38 (m, 3H), 7.07 (m, 2H), 6.69 (m, 2H), 4.79 (m, 1H), 4.06-4.11 (m, 1H), 3.94-4.05 (m, 2H), 3.87 (m, 1H), 3.64-3.73 (m, 1H), 3.36-3.24 (m, 4H), 2.19 (m, 2H), 1.88-2.02 (m, 2H), 1.26-1.41 (m, 2H), 0.52-0.60 (m, 1H), 0.39-0.50 (m, 1H).
(2R,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオール(式IV)
(1) (3R,4S,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)-2-メトキシテトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(2) (3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(3) (2R,3R,4R,5S,6R)-2-(アセトキシメチル)-6-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリイル トリアセテートの製造
(4) (2R,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
分子式: C25H29ClO6 分子量: 460.95
1H-NMR (400MHz, MeOD) d: 7.21-7.31 (m, 3H), 6.93-7.09 (m, 2H), 6.74-6.79 (m, 2H), 4.53-4.63 (m, 1H), 4.39-4.48 (m, 1H), 4.14-4.20 (m, 1H), 3.89-4.11 (m, 5H), 3.82 (m, 1H), 3.67 (m, 1H), 2.32 (m, 2H), 1.84 (m, 2H), 1.34 (m, 2H), 0.43 (m, 1H), 0.10 (m, 1H).
(2R,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオール(式V)
(1) 2-クロロ-5-ヨード安息香酸クロライドの製造
(2) (2-クロロ-5-ヨードフェニル)(4-メトキシフェニル)メタノンの製造
(3) 1-クロロ-4-ヨード-2-(4-メトキシベンジル)ベンゼンの製造
(4) 4-(2-クロロ-5-ヨードベンジル)フェノールの製造
(5) (4-(2-クロロ-5-ヨードベンジル)フェニルオキシ)tert-ブチルジメチルシランの製造
(6) (3R,4S,5S,6R)-2-(3-(4-((tert-ブチルジメチルシリル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)-2-メトキシテトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(7) (3R,4S,5S,6R)-2-(4-クロロ-3-(4-ヒドロキシベンジル)フェニル)-6-(ヒドロキシメチル)-2-メトキシテトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(8) (3R,4R,5S,6R)-2-(4-クロロ-3-(4-ヒドロキシベンジル)フェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(9) (3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
(10) (2R,3R,4R,5S,6R)-2-(アセトキシメチル)-6-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリイル トリアセテートの製造
(11) (2R,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3r,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールの製造
分子式: C25H29ClO6 分子量: 460.95
1H-NMR (400MHz, MeOD) δ: 7.29-7.31 (m, 3H), 7.04-7.07 (m, 2H), 6.68-6.71 (m, 2H), 4.77-4.81 (m, 1H), 4.57-4.61 (m, 1H), 4.15-4.19 (m, 1H), 3.98-4.05 (4H, m), 3.92-3.93 (m, 1H), 3.80-3.83 (m, 1H), 3.63-3.68 (m, 1H), 2.16-2.21 (m, 2H), 1.94-1.97 (m, 2H), 1.24-1.34 (m, 2H), 0.54-0.56 (m, 1H), 0.39-0.49(m, 1H).
Claims (12)
- (2S,3R,4R,5S,6R)-2-(3-(4-(((1R,3s,5S)-ビシクロ[3.1.0]ヘキサン-3-イル)オキシ)ベンジル)-4-クロロフェニル)-6-(ヒドロキシメチル)テトラヒドロ-2H-ピラン-3,4,5-トリオールである
式(II)
で表わされる化合物又はその医薬的に許容可能な塩。 - 請求項1に記載の式(II)で表わされる化合物の製造法であり、以下の工程を含む製造法:
すなわち、式b
で表わされる化合物を有機溶媒に溶解し、得られる混合物に、式a
で表わされる化合物を添加し、得られる混合物を0℃から70℃の間の温度で反応させ、式c
で表わされる化合物を得;
式cで表わされる化合物を
と反応させ、式d-1
(上記式中、Xは、フルオロ、クロロ、ブロモ又はヨードを示し、Gは、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ベンジル、パラ‐メトキシベンジル、パラ‐ニトロベンジル、ピバロイル、アリル、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル及びトリメチルシリルエチルから選択される水酸基保護基を示す。)
で表わされる化合物を得、その保護基を脱離して、式d-2
で表わされる化合物を得;
式d-2で表わされる化合物を、−78℃から30℃の間の温度で反応させ、式e
で表わされる化合物を得;
式eで表わされる化合物を精製し、式(II)で表わされる化合物を製造する。 - 請求項2に記載の、式(II)で表わされる化合物の製造法であり、上記Gが、トリメチルシリルである製造法。
- 請求項2に記載の、式(II)で表わされる化合物の製造法であり、上記有機溶媒が、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びアセトニトリルから選択される製造法。
- 請求項2に記載の、式(II)で表わされる化合物の製造法であり、上記有機溶媒が、N-メチルピロリドンである製造法。
- 請求項2に記載の、式(II)で表わされる化合物の製造法であり、上記式eで表わされる化合物を、以下の工程により精製して、式(II)で表わされる化合物を得る製造法:
すなわち、式eで表わされる化合物を水酸基保護反応に付し、式f
(式中、G′は、アセチル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ベンジル、パラ‐メトキシベンジル、パラ‐ニトロベンジル、ピバロイル、アリル、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、トリメチルシリルエチル、プロピオニル、イソブチリル及びベンゾイルから選択される水酸基保護基を示す。)
で表わされる化合物を得、式fの化合物を脱保護反応に付して、式(II)で表わされる化合物を製造する。 - 請求項6に記載の、式(II)で表わされる化合物の製造法であり、上記G′が、アセチル、ピバロイル、プロピオニル、イソブチリル及びベンゾイルから選択される製造法。
- 式(II)で表わされる化合物の中間体であり、該中間体が
である。 - 式(II)で表わされる化合物の中間体であり、該中間体が
(式中、Xは、ブロモ又はヨ−ドを表す。)
である。 - 請求項1に記載の式(II)で表わされる化合物又はその医薬的に許容可能な塩と1以上の医薬的に許容可能な担体及び/又は希釈剤を含有し、医薬的に許容可能な剤形である医薬組成物。
- シタグリプチンリン酸塩、ビルダグリプチン、サキサグリプチン、アログリプチン安息香酸塩、リナグリプチン、テネリグリプチン、ジェミグリプチン、メトホルミン、フェンホルミン、エクセナチド及びリラグルチドから選択される血糖低下剤を1種以上さらに追加的に含有する請求項10に記載の医薬組成物。
- 請求項1に記載の式(II)で表わされる化合物又はその医薬的に許容可能な塩の、(インシュリン依存性糖尿病及びインシュリン非依存性糖尿病を含む)糖尿病又は(インシュリン抵抗性疾患及び肥満を含む)糖尿病関連疾患の治療及び/又は予防用医薬の製造への使用。
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