JP5975824B2 - Conductive composition - Google Patents

Conductive composition Download PDF

Info

Publication number
JP5975824B2
JP5975824B2 JP2012217714A JP2012217714A JP5975824B2 JP 5975824 B2 JP5975824 B2 JP 5975824B2 JP 2012217714 A JP2012217714 A JP 2012217714A JP 2012217714 A JP2012217714 A JP 2012217714A JP 5975824 B2 JP5975824 B2 JP 5975824B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particles
conductive
inorganic oxide
glass frit
volume
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2012217714A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014072066A (en
Inventor
坂上 貴彦
貴彦 坂上
誠 永野
誠 永野
寿博 児平
寿博 児平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Original Assignee
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Mining and Smelting Co Ltd filed Critical Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority to JP2012217714A priority Critical patent/JP5975824B2/en
Publication of JP2014072066A publication Critical patent/JP2014072066A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5975824B2 publication Critical patent/JP5975824B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

本発明は、導電性粒子、ガラスフリット及び樹脂バインダーを含む導電性組成物に関する。   The present invention relates to a conductive composition comprising conductive particles, glass frit and a resin binder.

銅や銀は電気伝導性の高い材料なので、電極間の電気的な導通をとるための導電材料として有用である。例えば導電性粉末や、これにガラスフリット及び樹脂バインダー等を添加してなる導電性ペースト等の形態で用いられ、スクリーン印刷、ディスペンシング、インクジェット印刷等の手段で微細配線の形成に用いられる。微細配線の形成のためには、これらの粒子の粒径を小さくすることが有利である。しかし銅は酸化されやすい金属であるため、粒子の粒径を小さくしていくと酸化が一層進行しやすくなり、そのことに起因して電気伝導性が低下しやすい。一方、銀はマイグレーションを起こしやすいという問題がある。   Since copper or silver is a material having high electrical conductivity, it is useful as a conductive material for electrical conduction between electrodes. For example, it is used in the form of conductive powder or conductive paste formed by adding glass frit, resin binder, etc. to this, and is used for forming fine wiring by means of screen printing, dispensing, ink jet printing or the like. In order to form fine wiring, it is advantageous to reduce the particle size of these particles. However, since copper is a metal that is easily oxidized, if the particle size of the particles is reduced, the oxidation is more likely to proceed, and as a result, the electrical conductivity tends to decrease. On the other hand, silver has a problem that it tends to cause migration.

そこで、銅粒子や銀粒子の表面に被覆層を設け、耐酸化性や耐マイグレーション性を高めた粒子が提案されている。例えば特許文献1には、金属銅微粒子表面に、金属元素の少なくとも1種を含む酸化物及び複合酸化物からなる群より選ばれる少なくとも1種が固着している複合銅微粉末が提案されている。該酸化物及び複合酸化物の例としては、アルミナ、シリカ、イットリア、チタン酸バリウム、チタニア、マグネシアなどが挙げられている。   In view of this, there has been proposed a particle in which a coating layer is provided on the surface of copper particles or silver particles to improve oxidation resistance and migration resistance. For example, Patent Document 1 proposes a composite copper fine powder in which at least one selected from the group consisting of an oxide containing at least one metal element and a composite oxide is fixed to the surface of the metal copper fine particles. . Examples of the oxide and composite oxide include alumina, silica, yttria, barium titanate, titania, magnesia and the like.

上述の技術とは別に、特許文献2には、導電性粒子、無鉛ガラスフリット、樹脂バインダー、及び酸化亜鉛粒子を含む太陽電池用電極ペーストにおいて、比表面積が6m2/g以下である酸化亜鉛粒子が、酸化亜鉛の総量に対して10重量%以上含まれていることが記載されている。このペーストは、比表面積の小さな、すなわち粒径の大きい酸化亜鉛粒子を用いることによって、高温での焼結特性が向上すると、同文献には記載されている。 Apart from the above-described technology, Patent Document 2 discloses a zinc oxide particle having a specific surface area of 6 m 2 / g or less in an electrode paste for a solar cell containing conductive particles, a lead-free glass frit, a resin binder, and zinc oxide particles. Is contained in an amount of 10% by weight or more based on the total amount of zinc oxide. This document describes that the paste has improved sintering characteristics at high temperatures by using zinc oxide particles having a small specific surface area, that is, a large particle size.

特開2000−345201号公報JP 2000-345201 A 特表2011−501444号公報Special table 2011-501444 gazette

特許文献1に記載されている複合銅粒子粉末を原料として導電性ペーストを製造した場合、該導電性ペーストを対象物に塗布した後に焼結を行うときに、溶融したガラスフリットが、導電性粒子の表面で濡れ広がりやすい傾向にあることから、導電性粒子間の距離が増加して電気抵抗が高くなる場合がある。また、焼結後の冷却状態でクラックが生じることもあり、それによっても導電性が低下する場合がある。焼結時に溶融したガラスフリットの濡れ広がりの問題は、特許文献2に記載のペースにおいても生じる可能性がある。   When a conductive paste is produced using the composite copper particle powder described in Patent Document 1 as a raw material, when the conductive paste is applied to an object and then sintered, the molten glass frit becomes conductive particles. In some cases, the distance between the conductive particles increases and the electrical resistance increases. In addition, cracks may occur in the cooled state after sintering, which may reduce the conductivity. The problem of wetting and spreading of the glass frit melted at the time of sintering may also occur at the pace described in Patent Document 2.

したがって本発明の課題は、前述した従来技術が有する種々の欠点を解消し得る導電性組成物を提供することにある。   Therefore, the subject of this invention is providing the electroconductive composition which can eliminate the various fault which the prior art mentioned above has.

本発明は、導電性粒子、ガラスフリット及び樹脂バインダーを含む導電性組成物において、
前記導電性粒子は、金属を母材とするコア粒子と、該コア粒子の表面に配置された複数の無機酸化物粒子からなる被覆層とを有し、
前記導電性粒子の累積体積50容量%における体積累積粒径D 50 が0.1〜20μmであり、かつ顕微鏡観察によって測定された前記無機酸化物粒子の粒径が、前記導電性粒子の体積累積粒径D 50 の20%以下であり、
前記無機酸化物粒子を構成する無機酸化物が、前記ガラスフリットと相溶性を有し、
前記無機酸化物粒子が前記ガラスフリットと相溶性を有するとは、前記導電性組成物を、1容量%水素及び99容量%窒素の雰囲気下で、1000℃、60分の条件で焼成して導体を形成し、該導体を倍率5千〜1万倍で顕微鏡観察したときに、該導体の表面に該ガラスフリットに由来する粒状感が認められないことである、導電性組成物を提供するものである。
The present invention relates to a conductive composition comprising conductive particles, glass frit and a resin binder.
The conductive particles have core particles whose base material is a metal, and a coating layer composed of a plurality of inorganic oxide particles disposed on the surface of the core particles,
The volume cumulative particle diameter D 50 at a cumulative volume of 50% by volume of the conductive particles is 0.1 to 20 μm , and the particle diameter of the inorganic oxide particles measured by microscopic observation is the volume cumulative of the conductive particles. 20% or less of the particle size D 50 ,
Inorganic oxide constituting the inorganic oxide particles possess the glass frit compatible,
That the inorganic oxide particles are compatible with the glass frit means that the conductive composition is fired in an atmosphere of 1% by volume hydrogen and 99% by volume nitrogen at 1000 ° C. for 60 minutes. And providing a conductive composition in which no granular feeling derived from the glass frit is observed on the surface of the conductor when the conductor is observed with a microscope at a magnification of 5,000 to 10,000 times. It is.

本発明によれば、導電性粒子の表面に、ガラスフリットとのなじみが良好な無機酸化物粒子の被覆層が形成されているので、導電性組成物の焼結時において、溶融したガラスフリットが導電性粒子の表面で濡れ広がりにくくなり、その結果、導電性粒子の熱収縮開始温度に悪影響を及ぼすことなく、焼結によって得られた導体の電気抵抗の上昇が効果的に抑制される。   According to the present invention, since the coating layer of the inorganic oxide particles having good compatibility with the glass frit is formed on the surface of the conductive particles, the molten glass frit is formed during the sintering of the conductive composition. As a result, it becomes difficult to spread and spread on the surface of the conductive particles, and as a result, an increase in the electrical resistance of the conductor obtained by sintering is effectively suppressed without adversely affecting the heat shrinkage starting temperature of the conductive particles.

図1は、実施例1で得られた導電性ペーストを用いて得られた導体の走査型電子顕微鏡像である。1 is a scanning electron microscope image of a conductor obtained using the conductive paste obtained in Example 1. FIG. 図2(a)ないし(d)はそれぞれ、比較例1ないし4で得られた導電性ペーストを用いて得られた導体の走査型電子顕微鏡像である。2A to 2D are scanning electron microscope images of conductors obtained using the conductive pastes obtained in Comparative Examples 1 to 4, respectively.

本発明の導電性組成物は、その構成成分として、導電性粒子、ガラスフリット及び樹脂バインダーを含有している。ガラスフリットとしては、導電性組成物の技術分野において従来用いられているものと同様のものを用いることができる。ガラスフリットは、一般に鉛を含まない有鉛ガラスフリットと、鉛を含まない無鉛ガラスフリットに大別される。本発明においては、有鉛・無鉛のガラスフリットのいずれを用いてもよい。有鉛ガラスフリットを用いると、導電性組成物の焼結特性が良好になるという利点がある。一方、無鉛ガラスフリットは、環境負荷が低減されるという利点を有する。   The conductive composition of the present invention contains conductive particles, glass frit and a resin binder as its constituent components. As a glass frit, the thing similar to what was conventionally used in the technical field of an electroconductive composition can be used. Glass frit is generally classified into leaded glass frit that does not contain lead and lead-free glass frit that does not contain lead. In the present invention, either leaded or lead-free glass frit may be used. Use of the leaded glass frit has an advantage that the sintering property of the conductive composition is improved. On the other hand, the lead-free glass frit has an advantage that the environmental load is reduced.

有鉛ガラスフリットとしては、例えばPbO・SiO2、PbO・B23、PbO・SiO2・B23、ZnO・PbO、ZnO・PbO・B23などを素材とするものが挙げられる。一方、無鉛ガラスフリットとしては、例えばSiO2・B23・Al23、Bi23・B23、Bi23・ZnO、Bi23・B23・ZnO、SiO2・ZnO・RO(Rはアルカリ土類金属を表す。)、ZnO・B23・SiO2(亜鉛ホウケイ酸ガラス)などが挙げられる。 Examples of the leaded glass frit include PbO · SiO 2 , PbO · B 2 O 3 , PbO · SiO 2 · B 2 O 3 , ZnO · PbO, ZnO · PbO · B 2 O 3 and the like. It is done. Meanwhile, as the lead-free glass frit, for example, SiO 2 · B 2 O 3 · Al 2 O 3, Bi 2 O 3 · B 2 O 3, Bi 2 O 3 · ZnO, Bi 2 O 3 · B 2 O 3 · ZnO SiO 2 · ZnO · RO (R represents an alkaline earth metal), ZnO · B 2 O 3 · SiO 2 (zinc borosilicate glass), and the like.

ガラスフリットは、その軟化点が400℃〜600℃であることが好ましい。軟化点が400℃以上であることで、過度の焼結を効果的に抑制できる。一方、軟化点が600℃以下であることで、焼結時に十分な溶融流動が起こるので、十分な接着強度が発現する。軟化点は、ASTM C338−57の繊維伸び法(fiber elongation method)に準じて測定される。   The glass frit preferably has a softening point of 400 ° C to 600 ° C. Excessive sintering can be effectively suppressed because a softening point is 400 degreeC or more. On the other hand, when the softening point is 600 ° C. or lower, sufficient melt flow occurs during sintering, and thus sufficient adhesive strength is exhibited. The softening point is measured according to ASTM C338-57 fiber elongation method.

導電性組成物の別の構成成分である樹脂バインダーとしても、導電性組成物の技術分野において従来用いられているものと同様のものを用いることができる。樹脂バインダーとしてはエポキシ樹脂が一般的であるが、要求特性や使用箇所に応じてポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリイミド樹脂及びその他の熱硬化性樹脂や、熱可塑性樹脂を用いることもできる。また樹脂バインダーとして、エチルセルロースのパイン油溶液、エチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテート溶液、エチルセルロースのテルピネオール溶液等も用いることもできる。   As the resin binder which is another component of the conductive composition, the same resin binders conventionally used in the technical field of conductive compositions can be used. Epoxy resins are generally used as resin binders, but polyester resins, urethane resins, silicone resins, acrylic resins, methacrylic resins, polyimide resins, and other thermosetting resins and thermoplastic resins depending on the required properties and locations of use. Can also be used. As the resin binder, ethyl cellulose pine oil solution, ethylene glycol monobutyl ether monoacetate solution, ethyl cellulose terpineol solution, or the like can also be used.

ガラスフリット及び樹脂バインダーとともに用いられる導電性粒子は、その構造に特徴を有している。詳細には、導電性粒子は、銅又は銀を母材とするコア粒子と、該コア粒子の表面に配置された複数の無機酸化物粒子からなる被覆層とを有している。   Conductive particles used with glass frit and resin binders are characterized by their structure. In detail, the electroconductive particle has the core particle which uses copper or silver as a base material, and the coating layer which consists of a some inorganic oxide particle arrange | positioned on the surface of this core particle.

コア粒子は、導電性粒子の導電性を確保する部位であり、導電性粒子の大半を占めている。コア粒子の内部には、後述する無機酸化物粒子は含まれていない。コア粒子としては、銅源の化合物や銀源の化合物を用いた湿式還元法によって得られたものを用いることができる。あるいは、銅や銀の溶湯を用いたアトマイズ法によって得られたものを用いることができる。コア粒子の形状に特に制限はなく、導電性組成物の具体的な用途に応じて適切な形状のものを選択すればよい。コア粒子の形状としては、例えば球状や多面体状が一般的であるが、フレーク状のものを用いてもよい。なお、後述するとおり、コア粒子の表面を被覆する被覆層の厚みはコア粒子の粒径よりも十分に小さいものなので、コア粒子の形状は、導電性粒子の形状と概ね同じであるとみなすことができる。   A core particle is a site | part which ensures the electroconductivity of electroconductive particle, and occupies most electroconductive particles. The core particles do not contain inorganic oxide particles described later. As the core particles, those obtained by a wet reduction method using a copper source compound or a silver source compound can be used. Or what was obtained by the atomizing method using the molten metal of copper or silver can be used. There is no restriction | limiting in particular in the shape of a core particle, What is necessary is just to select the thing of a suitable shape according to the specific use of an electroconductive composition. As the shape of the core particle, for example, a spherical shape or a polyhedral shape is common, but a flake shape may be used. As will be described later, since the thickness of the coating layer covering the surface of the core particle is sufficiently smaller than the particle size of the core particle, the shape of the core particle is considered to be substantially the same as the shape of the conductive particle. Can do.

コア粒子の粒径は、導電性組成物の具体的な用途に応じて適切に選択される。例えば本発明の導電性組成物を用いて太陽電池の電極を形成する場合には、一次粒子の平均粒径が好ましくは0.1〜20μm、更に好ましくは0.2〜7.0μmであるコア粒子を用いることが有利である。一次粒子の平均粒径は、コア粒子を顕微鏡観察し、観察視野における100個以上のコア粒子の最大横断長を測定する。そしてその測定値の平均を求め、これを一次粒子の平均粒径とする。   The particle size of the core particles is appropriately selected according to the specific use of the conductive composition. For example, when the electrode of a solar cell is formed using the conductive composition of the present invention, the core having an average primary particle diameter of preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.2 to 7.0 μm. It is advantageous to use particles. The average particle diameter of the primary particles is obtained by observing the core particles under a microscope and measuring the maximum transverse length of 100 or more core particles in the observation field. And the average of the measured value is calculated | required and let this be the average particle diameter of a primary particle.

コア粒子の表面を被覆する被覆層は、複数の無機酸化物粒子から構成されている。無機酸化物粒子は、単層の状態でコア粒子の表面を被覆していてもよく、あるいは無機酸化物粒子の上に更に別の無機酸化物粒子が配置された状態でコア粒子の表面を被覆していてもよい。コア粒子の表面に被覆層が形成された状態においては、コア粒子の表面は外部に実質的に露出していなくてもよく、あるいはコア粒子の表面の一部が外部に露出していてもよい。導電性粒子間の導電性を高める観点からは、コア粒子の表面に被覆層が形成された状態において、コア粒子の表面の一部が外部に露出していていることが有利である。   The coating layer covering the surface of the core particle is composed of a plurality of inorganic oxide particles. The inorganic oxide particles may cover the surface of the core particle in a single layer state, or the core particle surface may be covered with another inorganic oxide particle arranged on the inorganic oxide particle. You may do it. In the state where the coating layer is formed on the surface of the core particle, the surface of the core particle may not be substantially exposed to the outside, or a part of the surface of the core particle may be exposed to the outside. . From the viewpoint of increasing the conductivity between the conductive particles, it is advantageous that a part of the surface of the core particle is exposed to the outside in a state where the coating layer is formed on the surface of the core particle.

無機酸化物粒子は、分子間力によってコア粒子の表面に固着されていてもよい。あるいは、各無機酸化物粒子はその一部が、コア粒子の表面に包埋されて、機械的に固着されていてもよい。導電性組成物の焼結時における導電性粒子表面での溶融ガラスフリットの濡れ広がりを効果的に抑制する観点からは、各無機酸化物粒子はその一部が、コア粒子の表面に包埋されていることが好ましい。どのような固着形態であっても、無機酸化物粒子は、それ単独の状態で導電性組成物中に実質的に存在していないことが望ましい。「実質的に存在していない」とは、導電性組成物中に意図的に無機酸化物粒子をそれ単独の状態で配合することを排除する趣旨であり、導電性組成物の製造過程において不可避的に微量の無機酸化物粒子がそれ単独の状態で混入することは許容される趣旨である。   The inorganic oxide particles may be fixed to the surface of the core particles by intermolecular force. Alternatively, a part of each inorganic oxide particle may be embedded in the surface of the core particle and mechanically fixed. From the viewpoint of effectively suppressing the wetting and spreading of the molten glass frit on the surface of the conductive particles during sintering of the conductive composition, a part of each inorganic oxide particle is embedded in the surface of the core particle. It is preferable. In any fixed form, it is desirable that the inorganic oxide particles are not substantially present in the conductive composition by itself. “Substantially not present” is intended to exclude intentionally blending the inorganic oxide particles into the conductive composition in its own state, and is unavoidable in the process of manufacturing the conductive composition. In other words, it is acceptable that a very small amount of inorganic oxide particles are mixed in a single state.

無機酸化物粒子をコア粒子の表面に固着させるには、例えば次の方法を採用することができる。すなわち、メカノケミカル等の手段によってコア粒子の表面に無機酸化物粒子を付着させる。次いで該無機酸化物粒子の付着しているコア粒子を相互に又は他物体と衝突させて該コア粒子の表面に該無機酸化物粒子を固着させる。固着には、例えばオングミル、メカノフュージョン(ホソカワミクロン製)、ハイブリタイザー、コートマイザー、ディスパーコート、ジェットマイザーなどの装置を用いることができる。これらの装置を用いて固着を行うことで、コア粒子の表面に、無機酸化物粒子を容易に包埋することができる。   In order to fix the inorganic oxide particles to the surface of the core particles, for example, the following method can be employed. That is, the inorganic oxide particles are adhered to the surface of the core particles by means such as mechanochemical. Next, the core particles to which the inorganic oxide particles are adhered collide with each other or other objects to fix the inorganic oxide particles to the surface of the core particles. For fixing, for example, an ong mill, mechano-fusion (manufactured by Hosokawa Micron), a hybridizer, a coat mizer, a disperse coat, a jet mizer or the like can be used. By fixing using these apparatuses, the inorganic oxide particles can be easily embedded in the surfaces of the core particles.

本発明は、被覆層を構成する無機酸化物粒子の材質にも特徴の一つを有する。詳細には、無機酸化物粒子を構成する無機酸化物は、ガラスフリットと相溶性を有するものである。無機酸化物粒子の材質を、ガラスフリットの材質との関係で選択することで、導電性組成物の焼結時に溶融したガラスフリットが、導電性粒子の表面で濡れ広がることを効果的に抑制することができる。溶融ガラスフリットの濡れ広がりの抑制は、導電性粒子間の距離が拡大することを抑制することにつながり、ひいては導電性粒子の熱収縮開始温度に悪影響を及ぼすことなく、電気抵抗の上昇を抑制でき、また短絡発生を抑制できる。溶融ガラスフリットの濡れ広がりの抑制は、更に、焼結後に生じやすいクラックの抑制にもつながる。   The present invention has one of the characteristics of the material of the inorganic oxide particles constituting the coating layer. Specifically, the inorganic oxide constituting the inorganic oxide particles has compatibility with the glass frit. By selecting the material of the inorganic oxide particles in relation to the material of the glass frit, the glass frit melted during sintering of the conductive composition is effectively suppressed from spreading on the surface of the conductive particles. be able to. Suppression of the spread of the molten glass frit leads to suppression of an increase in the distance between the conductive particles, and consequently, an increase in electrical resistance can be suppressed without adversely affecting the thermal shrinkage start temperature of the conductive particles. Moreover, the occurrence of short circuit can be suppressed. The suppression of the wet spread of the molten glass frit further leads to the suppression of cracks that are likely to occur after sintering.

「無機酸化物粒子がガラスフリットと相溶性を有する」とは、コア粒子の表面に無機酸化物粒子からなる被覆層を有する導電性粒子と、ガラスフリットと、樹脂バインダーとを含む組成物を焼成して導体を形成し、該導体を倍率5千〜1万倍で顕微鏡観察したときに、該導体の表面にガラスフリットに由来する粒状感が認められないことをいう。逆に、該導体の表面に粒状感が認められる場合には、その無機酸化物粒子は、ガラスフリットと相溶性を有さないと判断する。焼成は、例えば1容量%水素及び99容量%窒素の雰囲気下で、1000℃、60分の条件とすることができる。   “Inorganic oxide particles are compatible with glass frit” means that a composition comprising conductive particles having a coating layer made of inorganic oxide particles on the surface of core particles, glass frit, and a resin binder is fired. Thus, when a conductor is formed and the conductor is observed with a microscope at a magnification of 5,000 to 10,000, no graininess derived from glass frit is observed on the surface of the conductor. On the contrary, when a granular feeling is recognized on the surface of the conductor, it is determined that the inorganic oxide particles are not compatible with the glass frit. Firing can be performed at 1000 ° C. for 60 minutes in an atmosphere of 1% by volume hydrogen and 99% by volume nitrogen, for example.

ガラスフリットと相溶性を有する無機酸化物粒子の種類は、ガラスフリットの組成に依存する。例えばガラスフリットが、SiO2・B23・ZnOを主成分とする場合(例えばこれら三者の合計量の割合が、ガラスフリットの50質量%以上である場合)、無機酸化物粒子を構成する物質は、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ及びアルミニウムドープ酸化スズ(ATO)から選ばれる1種又は2種以上であることが好ましいことが、本発明者の検討の結果判明した。また、ガラスフリットを構成する無機酸化物のうちの少なくとも1種がZnOであり、かつ無機酸化物粒子がZnO粒子である場合に、溶融ガラスフリットの導電性粒子表面での濡れ広がりが効果的に抑制されることも、本発明者の検討の結果判明した。 The kind of inorganic oxide particles having compatibility with glass frit depends on the composition of glass frit. For example, when the glass frit is mainly composed of SiO 2 · B 2 O 3 · ZnO (for example, when the total amount of these three components is 50% by mass or more of the glass frit), the inorganic oxide particles are formed. As a result of the inventor's examination, it has been found that the substance to be used is preferably one or more selected from zinc oxide, magnesium oxide, tin oxide, and aluminum-doped tin oxide (ATO). Further, when at least one of the inorganic oxides constituting the glass frit is ZnO and the inorganic oxide particles are ZnO particles, the wet glass spreads effectively on the surface of the conductive particles of the molten glass frit. It has also been found as a result of the study of the present inventor that it is suppressed.

導電性粒子に占める無機酸化物粒子の割合は、少量であっても溶融ガラスフリットの濡れ広がりの抑制に効果的であることが本発明者の検討の結果判明した。具体的には、導電性粒子に占める無機酸化物粒子の割合が、好ましくは0.1〜10質量%、更に好ましくは0.5〜5.0質量%という少量であっても、所望の効果が十分に奏される。導電性粒子に占める無機酸化物粒子の割合は次の方法で測定される。すなわち、表面に向き酸化物を付着させた粉を酸やアルカリ溶液で全溶解させた後、ICP発光分光分析にて割合を測定する。   As a result of the inventor's investigation, it has been found that the ratio of the inorganic oxide particles to the conductive particles is effective in suppressing the wetting and spreading of the molten glass frit even if the amount is small. Specifically, the desired effect can be achieved even when the proportion of the inorganic oxide particles in the conductive particles is as small as 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5.0% by mass. Is fully played. The proportion of the inorganic oxide particles in the conductive particles is measured by the following method. That is, after the powder having an oxide attached to the surface is completely dissolved with an acid or alkali solution, the ratio is measured by ICP emission spectroscopic analysis.

溶融ガラスフリットの導電性粒子表面での濡れ広がりを効果的に抑制する観点からは、無機酸化物粒子は微粒であることが有利であることも判明した。詳細には、顕微鏡観察(例えば透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡)によって測定された無機酸化物粒子の粒径は、導電性粒子の体積累積粒径D50の好ましくは20%以下であり、更に好ましくは10%以下であり、一層好ましくは5%以下である。また、無機酸化物粒子の粒径は、導電性粒子の体積累積粒径D50の好ましくは0.001%以上であり、更に好ましくは0.002%以上であり、一層好ましくは0.1%以上であり、更に一層好ましくは0.5%以上である。この範囲の粒径は、上述した体積累積粒径D50を有するコア粒子に、無機酸化物粒子を確実に固着させる点からも有利である。 It was also found that the inorganic oxide particles are advantageously fine particles from the viewpoint of effectively suppressing the wetting and spreading of the molten glass frit on the surface of the conductive particles. Specifically, the particle diameter of the inorganic oxide particles measured by microscopic observation (for example, a transmission electron microscope or a scanning electron microscope) is preferably 20% or less of the volume cumulative particle diameter D 50 of the conductive particles. More preferably, it is 10% or less, More preferably, it is 5% or less. The particle size of the inorganic oxide particles are preferably of a volume cumulative particle diameter D 50 of the conductive particles is 0.001% or more, still more preferably 0.002% or more, more preferably 0.1% Or more, and more preferably 0.5% or more. The particle size of this range, the core particles having a volume cumulative particle diameter D 50 as described above, it is also advantageous to securely fix the inorganic oxide particles.

無機酸化物粒子の粒径は、導電性粒子を顕微鏡観察し、観察視野における100個以上の無機酸化物粒子の最大横断長を測定する。そしてその測定値の平均を求め、これを無機酸化物粒子の粒径とする。   The particle size of the inorganic oxide particles is obtained by observing the conductive particles under a microscope and measuring the maximum transverse length of 100 or more inorganic oxide particles in the observation field. And the average of the measured value is calculated | required and this is made into the particle size of inorganic oxide particle.

導電性粒子自体の粒径は、累積体積50容量%における体積累積粒径D50が0.1〜20μmであることが好ましく、0.2〜10μmであることが更に好ましい。この範囲の粒径を有する導電性粒子を用いることで、溶融ガラスフリットの導電性粒子表面での濡れ広がりを効果的に抑制することができる。また、所望の導電性を発現させることができる。 As for the particle size of the conductive particles themselves, the volume cumulative particle size D 50 at a cumulative volume of 50% by volume is preferably 0.1 to 20 μm, and more preferably 0.2 to 10 μm. By using conductive particles having a particle size in this range, wetting and spreading on the surface of the conductive particles of the molten glass frit can be effectively suppressed. Moreover, desired electroconductivity can be expressed.

導電性粒子の体積累積粒径D50は例えば次の方法で測定される。すなわち0.1gの試料を、SNディスパーサント5468の0.1質量%水溶液(サンノプコ社製)と混合した後、超音波ホモジナイザ(日本精機製作所製 US−300T)で5分間分散させる。そしてレーザー回折散乱式粒度分布測定装置 Micro Trac HRA 9320−X100型(Leeds+Northrup社製)を用いて粒度分布を測定する。 Cumulative volume particle diameter D 50 of the conductive particles is measured by, for example, the following method. That is, 0.1 g of a sample is mixed with a 0.1% by mass aqueous solution of SN Dispersant 5468 (manufactured by San Nopco), and then dispersed for 5 minutes with an ultrasonic homogenizer (US-300T, manufactured by Nippon Seiki Seisakusho). Then, the particle size distribution is measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring device Micro Trac HRA 9320-X100 (Leeds + Northrup).

これまでに説明してきた導電性組成物の構成成分であるガラスフリット、樹脂バインダー及び導電性粒子に関し、導電性組成物中でのこれらの配合割合は、次のとおりであることが好ましい。すなわち、ガラスフリットの配合割合は、導電性粒子100質量部に対して好ましくは1〜30質量部、更に好ましくは5〜20質量部である。樹脂バインダーの配合割合は、導電性粒子100質量部に対して好ましくは5〜25質量部、更に好ましくは10〜20質量部である。   Regarding the glass frit, the resin binder, and the conductive particles that are the constituent components of the conductive composition described so far, it is preferable that the blending ratio in the conductive composition is as follows. That is, the blending ratio of the glass frit is preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive particles. The blending ratio of the resin binder is preferably 5 to 25 parts by mass, more preferably 10 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive particles.

本発明の導電性組成物には、必要に応じ上述した成分の他に、導電性組成物の具体的な形態に応じて種々の成分を特に制限なく配合することができる。導電性組成物が例えば導電性ペーストである場合には、濃化剤、安定化剤、分散剤、粘度調整剤などを配合することができる。導電性組成物が例えば導電性インクである場合には、溶剤、表面張力調整剤、粘度調整剤、カップリング剤などを配合することができる。これらの成分は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの成分の配合割合は、導電性組成物の具体的な用途に応じて適切に決定される。   In addition to the above-described components, various components can be blended in the conductive composition of the present invention as needed, depending on the specific form of the conductive composition. When the conductive composition is, for example, a conductive paste, a thickener, a stabilizer, a dispersant, a viscosity modifier, and the like can be blended. When the conductive composition is, for example, a conductive ink, a solvent, a surface tension adjusting agent, a viscosity adjusting agent, a coupling agent, and the like can be blended. These components can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The blending ratio of these components is appropriately determined according to the specific application of the conductive composition.

本発明の導電性組成物が例えば導電性ペーストである場合には、上述した各成分を三本ロール混練機で混合することによって製造することができる。このとき、各成分の配合割合を調整したり、あるいは粘度調整剤を配合したりして、得られる導電性ペーストの粘度を調整することができる。   When the conductive composition of the present invention is, for example, a conductive paste, it can be produced by mixing the above-described components with a three-roll kneader. At this time, the viscosity of the conductive paste obtained can be adjusted by adjusting the blending ratio of each component or blending a viscosity modifier.

本発明の導電性組成物は例えば導電性ペーストや導電性インクの形態で、電気回路や電子素子の微細配線材料として用いることができる。あるいは太陽電池パネルやプラズマディスプレイパネルの電極形成用に用いることもできる。例えば導電性ペーストの形態で用いる場合には、該ペーストを対象物に施して塗膜を形成した後に、還元雰囲気下又は大気雰囲気下において、好ましくは400〜1100℃、更に好ましくは400〜1000℃の条件で焼結を行う。これによって導体を形成することができる。焼結時には、溶融ガラスフリットが導電性粒子の表面で濡れ広がりにくいので、導電性粒子間の距離が拡大しづらい。その結果導体の導電性が低下しづらく、また隣接する導体間での短絡が発生しづらい。   The conductive composition of the present invention can be used, for example, in the form of a conductive paste or conductive ink as a fine wiring material for electric circuits and electronic elements. Or it can also be used for electrode formation of a solar cell panel or a plasma display panel. For example, when used in the form of a conductive paste, after applying the paste to an object to form a coating film, it is preferably 400 to 1100 ° C., more preferably 400 to 1000 ° C. in a reducing atmosphere or an air atmosphere. Sintering is performed under the following conditions. Thereby, a conductor can be formed. At the time of sintering, the molten glass frit is difficult to spread on the surface of the conductive particles, so that it is difficult to increase the distance between the conductive particles. As a result, the conductivity of the conductor is difficult to decrease, and a short circuit between adjacent conductors is difficult to occur.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲は、かかる実施例に制限されない。特に断らない限り、「%」及び「部」はそれぞれ「質量%」及び「質量部」を意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the scope of the present invention is not limited to such examples. Unless otherwise specified, “%” and “part” mean “% by mass” and “part by mass”, respectively.

〔実施例1〕
(1)導電性粒子の製造
コア粒子として銅粒子(三井金属鉱業株式会社製1100Y)を用いた。この銅粒子は、一次粒子の平均粒径が1.0μmであった。無機酸化物粒子としては、ZnO超微粒子(三井金属鉱業(株)製、粒径10nm)を用いた。銅粒子とZnO超微粒子とを質量比9:1の割合で混合し、銅粒子の表面にZnO超微粒子を付着させた。次いでメカノフュージョン(ホソカワミクロン(株)製)を用い、8000rpmの条件で混合物を5分間循環させて、銅粒子の表面にZnO超微粒子を固着させた。このようにして導電性粒子を得た。この導電性粒子を顕微鏡観察したところ、銅粒子の表面にZnO超微粒子が包埋されていた。また銅粒子の表面はその一部が外部に露出していた。導電性粒子に占めるZnO超微粒子の割合は1.0%であった。導電性粒子の累積体積50容量%における体積累積粒径D50は1.1μmであった。
[Example 1]
(1) Production of conductive particles Copper particles (Mitsui Metal Mining Co., Ltd. 1100Y) were used as core particles. The copper particles had an average primary particle size of 1.0 μm. As the inorganic oxide particles, ZnO ultrafine particles (Mitsui Metal Mining Co., Ltd., particle size 10 nm) were used. Copper particles and ZnO ultrafine particles were mixed at a mass ratio of 9: 1, and ZnO ultrafine particles were adhered to the surfaces of the copper particles. Next, using Mechanofusion (manufactured by Hosokawa Micron Corporation), the mixture was circulated for 5 minutes under the condition of 8000 rpm to fix ZnO ultrafine particles on the surface of the copper particles. In this way, conductive particles were obtained. When the conductive particles were observed with a microscope, ZnO ultrafine particles were embedded in the surfaces of the copper particles. Moreover, a part of the surface of the copper particles was exposed to the outside. The proportion of the ultrafine ZnO particles in the conductive particles was 1.0%. The volume cumulative particle diameter D 50 at a cumulative volume of 50% by volume of the conductive particles was 1.1 μm.

(2)導電性組成物の製造
ガラスフリットとして、亜鉛ホウケイ酸ガラスフリット(旭硝子(株)製のASF−1981F)を用いた。このガラスフリットは、酸化亜鉛を30〜50質量%、酸化ホウ素を23質量%、二酸化ケイ素を2〜15質量%含有するものであった。樹脂バインダーとしてアクリル樹脂を用いた。ガラスフリット及び樹脂バインダーを、前記で得られた導電性粒子と混合し、三本ロール混練機で混練することで導電性ペーストを得た。ガラスフリットの配合量は、導電性粒子100部に対して17部とした。樹脂バインダーの配合量は、導電性粒子100部に対して15部とした。
(2) Production of Conductive Composition As the glass frit, zinc borosilicate glass frit (ASF-1981F manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was used. This glass frit contained 30 to 50% by mass of zinc oxide, 23% by mass of boron oxide, and 2 to 15% by mass of silicon dioxide. An acrylic resin was used as the resin binder. A glass frit and a resin binder were mixed with the conductive particles obtained above and kneaded with a three-roll kneader to obtain a conductive paste. The blending amount of the glass frit was 17 parts with respect to 100 parts of the conductive particles. The compounding quantity of the resin binder was 15 parts with respect to 100 parts of conductive particles.

〔実施例2〕
実施例1で用いたZnO超微粒子に代えて、ATO(アルミニウムドープ酸化スズ)超微粒子(三井金属鉱業株式会社製、粒径10nm)を用いる以外は実施例1と同様にして導電性粒子を得た。導電性粒子に占めるATO超微粒子の割合は1.0%であった。この導電性粒子の累積体積50容量%における体積累積粒径D50は0.9μmであった。この導電性粒子を用い、実施例1と同様にして導電性ペーストを製造した。
[Example 2]
Instead of the ZnO ultrafine particles used in Example 1, conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that ATO (aluminum-doped tin oxide) ultrafine particles (Mitsui Metal Mining Co., Ltd., particle size 10 nm) were used. It was. The proportion of ATO ultrafine particles in the conductive particles was 1.0%. The volume cumulative particle diameter D 50 at a cumulative volume of 50% by volume of the conductive particles was 0.9 μm. Using the conductive particles, a conductive paste was produced in the same manner as in Example 1.

〔実施例3〕
コア粒子として銅粒子(三井金属鉱業株式会社製1400Y)を用いた。この銅粒子は、一次粒子の平均粒径が4.5μmであった。また実施例1で用いたZnO超微粒子に代えて、MgO超微粒子(堺化学工業株式会社製、粒径100nm)を用いた。これら以外は実施例1と同様にして導電性粒子を得た。導電性粒子に占めるMgO超微粒子の割合は1.0%であった。この導電性粒子の累積体積50容量%における体積累積粒径D50は4.8μmであった。この導電性粒子を用い、実施例1と同様にして導電性ペーストを製造した。
Example 3
Copper particles (Mitsui Metal Mining Co., Ltd. 1400Y) were used as the core particles. The copper particles had an average primary particle size of 4.5 μm. Further, in place of the ZnO ultrafine particles used in Example 1, MgO ultrafine particles (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., particle size 100 nm) were used. Except these, it carried out similarly to Example 1, and obtained electroconductive particle. The proportion of the ultrafine MgO particles in the conductive particles was 1.0%. The volume cumulative particle diameter D 50 at a cumulative volume of 50% by volume of the conductive particles was 4.8 μm. Using the conductive particles, a conductive paste was produced in the same manner as in Example 1.

〔比較例1ないし3〕
実施例1で用いたZnO超微粒子に代えて、Al23超微粒子(比較例1、日本アエロジル社製酸化アルミニウムC、粒径13nm)、SiO2超微粒子(比較例2、日本アエロジル社製AEROSIL300、粒径7nm)、TiO2超微粒子(比較例3、堺化学工業社製TITONE A−110、粒径15nm)を用いる以外は実施例1と同様にして導電性粒子を得た。導電性粒子に占めるAl23超微粒子の割合は1.0%、SiO2超微粒子の割合は1.0%、TiO2超微粒子の割合は1.0%であった。これらの導電性粒子の累積体積50容量%における体積累積粒径D50は比較例1では1.1μm、比較例2では1.1μm、比較例3では1.1mであった。これらの導電性粒子を用い、実施例1と同様にして導電性ペーストを製造した。
[Comparative Examples 1 to 3]
In place of the ZnO ultrafine particles used in Example 1, Al 2 O 3 ultrafine particles (Comparative Example 1, aluminum oxide C manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., particle size 13 nm), SiO 2 ultrafine particles (Comparative Example 2, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) Conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that AEROSIL 300, particle size 7 nm) and TiO 2 ultrafine particles (Comparative Example 3, TITON A-110 manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., particle size 15 nm) were used. The proportion of Al 2 O 3 ultrafine particles in the conductive particles was 1.0%, the proportion of SiO 2 ultrafine particles was 1.0%, and the proportion of TiO 2 ultrafine particles was 1.0%. The volume cumulative particle diameter D 50 at a cumulative volume of 50% by volume of these conductive particles was 1.1 μm in Comparative Example 1, 1.1 μm in Comparative Example 2, and 1.1 m in Comparative Example 3. Using these conductive particles, a conductive paste was produced in the same manner as in Example 1.

〔比較例4〕
コア粒子として銅粒子(三井金属鉱業株式会社製1400Y)を用いた。この銅粒子は、一次粒子の平均粒径が4.5μmであった。また超微粒子として、比較例1で用いたAl23粒子(日本アエロジル社製酸化アルミニウムC、粒径13nm)を用いた。これら以外は実施例1と同様にして導電性粒子を得た。導電性粒子に占めるAl23超微粒子の割合は1.0%であった。この導電性粒子の累積体積50容量%における体積累積粒径D50は4.5μmであった。この導電性粒子を用い、実施例1と同様にして導電性ペーストを製造した。
[Comparative Example 4]
Copper particles (Mitsui Metal Mining Co., Ltd. 1400Y) were used as the core particles. The copper particles had an average primary particle size of 4.5 μm. As the ultrafine particles, Al 2 O 3 particles (aluminum oxide C manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., particle size 13 nm) used in Comparative Example 1 were used. Except these, it carried out similarly to Example 1, and obtained electroconductive particle. The ratio of Al 2 O 3 ultrafine particles to the conductive particles was 1.0%. The volume cumulative particle diameter D 50 at a cumulative volume of 50% by volume of the conductive particles was 4.5 μm. Using the conductive particles, a conductive paste was produced in the same manner as in Example 1.

〔評価〕
実施例1ないし3及び比較例1ないし4で得られた導電性ペーストについて、以下の方法で焼成膜の抵抗値を評価した。その結果を以下の表1に示す。また、これらの導電性ペーストをアルミナ基板に塗布して塗膜を形成し、該塗膜を1%水素及び99%窒素の雰囲気下で、1000℃、60分にわたり焼成して導体を形成した。この導体の走査型電子顕微鏡像を図1(a)ないし(c)及び図2(a)ないし(c)に示す。
[Evaluation]
For the conductive pastes obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4, the resistance value of the fired film was evaluated by the following method. The results are shown in Table 1 below. Further, these conductive pastes were applied to an alumina substrate to form a coating film, and the coating film was baked at 1000 ° C. for 60 minutes in an atmosphere of 1% hydrogen and 99% nitrogen to form a conductor. Scanning electron microscope images of this conductor are shown in FIGS. 1 (a) to 1 (c) and FIGS. 2 (a) to 2 (c).

〔焼成膜の抵抗値の測定方法〕
三菱化学アナリック製のロレスタGPを用いて焼成膜の抵抗値の測定を行い、○×の評価を行った。評価方法としては抵抗値が高く測定レンジ(10-3−10-7Ω)を超えたものを×とし、抵抗が低く測定できたものを○とした。
[Measurement method of fired film resistance]
The resistance value of the fired film was measured using a Loresta GP manufactured by Mitsubishi Chemical Analic Co., Ltd., and evaluated for ◯ ×. As an evaluation method, the one having a high resistance value and exceeding the measurement range (10 −3 -10 −7 Ω) was evaluated as “x”, and the one having a low resistance could be measured as “◯”.

図1(a)ないし(c)と図2(a)ないし(d)との対比から明らかなとおり、実施例1ないし3の導電性ペーストを焼成して得られた導体はその表面が平滑であり粒状感が認められないのに対し、比較例1ないし4の導電性ペーストを焼成して得られた導体はその表面に粒状感が認められることが判る。これらのことから、実施例1ないし3で用いた無機酸化物粒子は、ガラスフリットと相溶性を有するものであるのに対し、比較例1ないし4で用いた無機酸化物粒子は、ガラスフリットと相溶性を有さないものであることが判る。
また、表1に示す結果から明らかなとおり、実施例1ないし3の導電性ペーストは、比較例1ないし4の導電性ペーストに比べて、低抵抗な膜を作製することが可能であることが判る。
As is clear from the comparison between FIGS. 1A to 1C and FIGS. 2A to 2D, the conductors obtained by firing the conductive pastes of Examples 1 to 3 have a smooth surface. It can be seen that while there is no graininess, the conductors obtained by firing the conductive pastes of Comparative Examples 1 to 4 have graininess on the surface. From these facts, the inorganic oxide particles used in Examples 1 to 3 are compatible with glass frit, whereas the inorganic oxide particles used in Comparative Examples 1 to 4 are glass frit and It can be seen that they are not compatible.
Further, as is clear from the results shown in Table 1, the conductive pastes of Examples 1 to 3 can produce a low resistance film compared to the conductive pastes of Comparative Examples 1 to 4. I understand.

Claims (4)

導電性粒子、ガラスフリット及び樹脂バインダーを含む導電性組成物において、
前記導電性粒子は、金属を母材とするコア粒子と、該コア粒子の表面に配置された複数の無機酸化物粒子からなる被覆層とを有し、
前記導電性粒子の累積体積50容量%における体積累積粒径D 50 が0.1〜20μmであり、かつ顕微鏡観察によって測定された前記無機酸化物粒子の粒径が、前記導電性粒子の体積累積粒径D 50 の20%以下であり、
前記無機酸化物粒子を構成する無機酸化物が、前記ガラスフリットと相溶性を有し、
前記無機酸化物粒子が前記ガラスフリットと相溶性を有するとは、前記導電性組成物を、1容量%水素及び99容量%窒素の雰囲気下で、1000℃、60分の条件で焼成して導体を形成し、該導体を倍率5千〜1万倍で顕微鏡観察したときに、該導体の表面に該ガラスフリットに由来する粒状感が認められないことである、導電性組成物。
In a conductive composition comprising conductive particles, glass frit and a resin binder,
The conductive particles have core particles whose base material is a metal, and a coating layer composed of a plurality of inorganic oxide particles disposed on the surface of the core particles,
The volume cumulative particle diameter D 50 at a cumulative volume of 50% by volume of the conductive particles is 0.1 to 20 μm , and the particle diameter of the inorganic oxide particles measured by microscopic observation is the volume cumulative of the conductive particles. 20% or less of the particle size D 50 ,
Inorganic oxide constituting the inorganic oxide particles possess the glass frit compatible,
That the inorganic oxide particles are compatible with the glass frit means that the conductive composition is fired in an atmosphere of 1% by volume hydrogen and 99% by volume nitrogen at 1000 ° C. for 60 minutes. When the conductor is observed under a microscope at a magnification of 5,000 to 10,000 times, the conductive composition is such that no granular feeling derived from the glass frit is observed on the surface of the conductor.
前記導電性粒子に占める前記無機酸化物粒子の割合が0.1〜10質量%である請求項1に記載の導電性組成物。   The conductive composition according to claim 1, wherein a ratio of the inorganic oxide particles in the conductive particles is 0.1 to 10% by mass. 前記ガラスフリットの配合割合が、前記導電性粒子100質量部に対して1〜30質量部であり、
前記樹脂バインダーの配合割合が、前記導電性粒子100質量部に対して5〜25質量部である請求項1又は2に記載の導電性組成物。
The blending ratio of the glass frit is 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive particles,
The conductive composition according to claim 1 or 2 , wherein a blending ratio of the resin binder is 5 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive particles .
前記無機酸化物粒子を構成する物質が、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ及びアルミニウムドープ酸化スズから選ばれる1種又は2種以上である請求項1ないし3のいずれか一項に記載の導電性組成物。
The electroconductivity as described in any one of Claims 1 thru | or 3 with which the substance which comprises the said inorganic oxide particle is 1 type, or 2 or more types chosen from zinc oxide, magnesium oxide, a tin oxide, and aluminum dope tin oxide. Composition.
JP2012217714A 2012-09-28 2012-09-28 Conductive composition Expired - Fee Related JP5975824B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012217714A JP5975824B2 (en) 2012-09-28 2012-09-28 Conductive composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012217714A JP5975824B2 (en) 2012-09-28 2012-09-28 Conductive composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014072066A JP2014072066A (en) 2014-04-21
JP5975824B2 true JP5975824B2 (en) 2016-08-23

Family

ID=50747091

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012217714A Expired - Fee Related JP5975824B2 (en) 2012-09-28 2012-09-28 Conductive composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5975824B2 (en)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3929989B2 (en) * 2004-03-29 2007-06-13 京都エレックス株式会社 An electrically conductive paste and a ceramic multilayer circuit board using the electrically conductive paste.
JP2006310340A (en) * 2005-04-26 2006-11-09 Kyocera Corp Conductor paste, molded body, and wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014072066A (en) 2014-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4885781B2 (en) Conductive paste
JP4600282B2 (en) Conductive paste
KR102079148B1 (en) Electroconductive paste
US10403421B2 (en) Thick film resistor and production method for same
KR102488162B1 (en) Manufacturing method of conductive composition and terminal electrode
US11183315B2 (en) Conductive paste
JP5488282B2 (en) Conductive paste
US10446290B2 (en) Resistive composition
US9183967B2 (en) Low firing temperature copper composition
JP6727588B2 (en) Conductive paste
JP2011144077A (en) Highly electroconductive paste composition
JP5975824B2 (en) Conductive composition
KR20120004122A (en) Electrode paste and electrode using the same
JP2018152218A (en) Conductive paste, chip electronic component and method for producing the same
WO2019005452A1 (en) Copper-containing thick print electroconductive pastes
JP6260882B2 (en) Conductive paste and glass article
JP2009187695A (en) Conductor paste composition for display
JP4615987B2 (en) Metal paste and method for producing conductive film using the same
JPH0945130A (en) Conductor paste composite
JP2017199544A (en) Conductive composition, and method for manufacturing terminal electrode
JPH11292569A (en) Conductive paste and glass plate with conductor
JP2019165155A (en) Aluminum nitride circuit board and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150624

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20160224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160412

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160413

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160610

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160705

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160719

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5975824

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees