JP5956584B2 - 硝酸含有媒質中でのエッチング後のプラスチック表面の処理 - Google Patents

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Description

本発明は、一般的に、硝酸イオンを含む酸性溶液中でのエッチングに続くプラスチック表面の処理に関する。
長年に渡り、プラスチック基材上への電着金属の堆積を促進する工程が利用されてきた。典型的な工程は、
(1)続いて付けられる堆積物が良好な接着性を有するよう、プラスチックの表面が粗面化してぬれ性を有するように好適なエッチング液中でプラスチックをエッチングする工程と、
(2)典型的には銅又はニッケルの自己触媒的に付けられる金属コーティングの堆積を開始することが可能な金属のコロイド溶液又はイオン溶液を用いて、プラスチックの表面を活性化する工程と、
(3)自己触媒的に付けられる金属の薄層を堆積させる工程と、
(4)金属化プラスチック基材上への金属の電着を行う工程と、
を含む。
典型的には、銅、ニッケル、及びクロムの少なくともいずれかの層が、最終物品を製造するために付けられる。
最も広く使用されているプラスチック基材としては、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS)、又はポリカーボネートと混合したABS(ABS/PC)が挙げられる。これらの材料は、射出成形の工程によって容易に部品へと成形される。ABSは、アクリロニトリル/スチレン共重合体の比較的硬質のマトリックスを含み、ブタジエンが重合して分離相を形成する。これが、様々な技術を用いて容易にエッチングすることができるポリブタジエン(ポリマー骨格中に二重結合を含む)の軟質の相である。
従来、エッチングは、高温で運用しなければならないクロム酸及び硫酸の混合物を用いて行われてきた。クロム酸は、ポリブタジエンポリマーの骨格中の二重結合の酸化によりABSのポリブタジエン相を溶解可能であり、これは、広い範囲のABSプラスチック及びABS/PCプラスチックに渡り信頼性があり効果的であることが証明されている。しかしながら、クロム酸の使用は、その毒性及び発癌性により次第に規制されるようになってきている。このため、ABSプラスチック及びABS/PCプラスチックをエッチングする他の手段に対する相当な量の研究がなされてきた。
これを実現しようとするための可能な多くの手法が存在する。例えば、酸性の過マンガン酸塩は、ポリブタジエン中の二重結合を酸化することができる。鎖切断は、次いで過ヨウ素酸イオンでの更なる酸化により実現することができる。オゾンもまたポリブタジエンを酸化することが可能であり、この手法もまた試みられている。しかしながら、オゾンは使用するには極めて危険であり、また毒性が強い。同様に、ABSをエッチングするために三酸化硫黄を上手く利用することができるが、これは典型的なめっきライン上では上手く実現することができない。クロム酸を使用することなくABSプラスチックをエッチングするための従来技術の他の例は、それぞれの主題の全体が参照することにより本願明細書中に援用される特許文献1〜特許文献3に見出すことができる。しかしながら、これらの方法はいずれも商業的に広く受け入れられていない。
それ故、無電解ニッケルを受けるパラジウムコロイドを含有した従来の活性化工程を利用し続けながら、クロム酸なしでプラスチックをエッチングする改良された方法の必要性が、従来技術には依然として存在する。
米国特許出願公開第2005/0199587号明細書(Bengston) 米国特許出願公開第2009/0092757号明細書(Sakou) 米国特許第5,160,600号明細書(Gordhanbai)
本発明の目的は、クロム酸を使用することなく、プラスチックをエッチングするための方法を提供することにある。
本発明の別の目的は、クロム酸を使用することなく、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体をエッチングするための方法を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、エッチングされたプラスチックの表面を調整するための改良された調整処理を提供することにある。
この目的のために、本発明は、一般的に、プラスチック基材を処理して無電解めっきをその上に受ける方法であって、
a)プラスチック基材を、硝酸イオンを含む酸性溶液と接触させることにより、少なくともプラスチック基材の表面をエッチングする工程と、
b)前記エッチングしたプラスチック基材を、アンモニア、アミン、又はこれらの組合せを含む水溶液を含む調整溶液と接触させる工程と、
c)前記エッチングされ調整されたプラスチック基材を活性化する工程と、
d)前記活性化されたプラスチック基材を無電解金属めっき液中に浸漬してその上に金属を堆積させる工程と、
を含む方法に関する。
図1は、未処理のABSから得られた赤外分析を示す。 図2Aは、従来のクロム酸/硫酸エッチング液で処理したABSから得られた赤外分析を示す。 図2Bは、従来のクロム酸/硫酸エッチング液で処理したABSから得られた赤外分析を示す。 図3Aは、硝酸イオン及び銀イオンの酸性溶液で処理したABSから得られた赤外分析を示す。 図3Bは、硝酸イオン及び銀イオンの酸性溶液で処理したABSから得られた赤外分析を示す。 図4Aは、硝酸イオン及び銀イオンの酸性溶液で処理し、次いでアンモニア溶液で後処理したABSから得られた赤外分析を示す。 図4Bは、硝酸イオン及び銀イオンの酸性溶液で処理し、次いでアンモニア溶液で後処理したABSから得られた赤外分析を示す。
硝酸/銀(II)エッチング組成物を用いた予備実験において、本発明者らは、このエッチング組成物は、ABSプラスチック又はABS/PCプラスチックを効果的にエッチングして優れた表面トポグラフィーを生み出すために使用することができるものの、後続の表面の触媒反応を実現することができず、部品が次いで無電解ニッケルめっき工程において浸漬された際にニッケルが析出しないことを発見した。赤外分光法を用いたプラスチックの表面の試験は、プラスチックの表面がある程度化学的に変化したことを示している。エッチング段階の後に新たなピークが見出され、これはプラスチックが熱水(80℃)中に10分間浸漬されたときにほぼ消失した。しかしながら、プラスチックの表面の組成が明らかにその元の組成に似たものに戻ったとしても、表面のパラジウムの吸着及び後続の触媒化は実現できなかった。
驚くべきことに、本発明者らは、アミンを含有する溶液中にエッチングされたプラスチックを浸漬することで、パラジウム吸着を実現できるように表面を調整することができることを発見した。理論に縛られることは望まないが、本発明者らは、アミンがエッチングされたプラスチックの表面に吸着され、それ故、酸性パラジウムコロイド溶液に浸漬したときにプラスチックの表面に正電荷を付与することが可能であると考えている。第一級アミン、第二級アミン、及び第三級アミンでは、この正電荷は恐らくはアミンのプロトン化により形成され、第四級アミンでは、正の電荷は既にアミン上に存在する。
本発明者らはまた、赤外分光法により、エッチングされたプラスチックはアミンを基にした後処理で変性することができることを見出した。エッチング段階の後に導入されたピークの消失に加えて、新たな官能基が導入されたようである。本発明の組成物は、後続の自己触媒金属堆積物の堆積を触媒するために、効果的なパラジウム吸着を実現できるようにプラスチックの表面を調整する。
本発明により、硝酸含有溶液中でエッチングされたプラスチックの触媒反応及び後続の金属化のための方法が提供される。好ましい実施形態において、本発明の方法は、
a)プラスチック基材を、硝酸イオンを含む酸性溶液と接触させることにより、少なくともプラスチック基材の表面をエッチングする工程と、
b)前記エッチングしたプラスチック基材を、アンモニア、アミン、又はこれらの組合せを含む水溶液を含む調整溶液と接触させる工程と、
c)前記エッチングされ調整されたプラスチック基材を活性化する工程と、
d)前記活性化されたプラスチック基材を無電解金属めっき液中に浸漬してその上に金属を堆積させる工程と、
を含む。
上記の手順の後、金属化された成分は通常の方法で電気めっきすることができる。
酸性エッチング液は、好ましくは硝酸を含む。加えて、硫酸等の他の無機酸を組成物に添加してもよい。好ましい実施形態において、酸性エッチング液はまた、例えば、銀、マンガン、コバルト、セリウム、及びこれらの組合せを含む金属の酸化性金属イオンを、好ましくはそれらの最大の酸化状態で含有する。好ましくは、これらのイオンは、電気化学的酸化の工程により製造される。加えて、必要に応じて、湿潤剤を酸性エッチング液に添加してもよい。1つの好適な湿潤剤は、Macuplex STRの商品名でMacDermid,Inc.から入手可能である。
次いで、エッチングされたプラスチック基材を調整溶液と接触させる。好ましい一実施形態では、エッチングされたプラスチック基材は、調整溶液中に浸漬される。該水性調整溶液中のアミン又はアンモニアの濃度は、重要ではないが、好ましくは約5g/L〜約100g/Lの範囲であり、より好ましくは約10g/L〜約50g/Lの範囲である。溶液のpHは、0〜14とすることができるが、6〜12の範囲であることが好ましい。
上述したように、アミンは、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、又は第四級アミンであってもよい。代替的に、溶液はアミンの代わりにアンモニアを含んでいてもよい。加えて、本発明の調製溶液においては、異なるアミンの組合せ、又はアミンとアンモニアとの組合せを使用することも可能である。
好適な第一級アミンとしては、例えば、モノエチルアミン、モノ−n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、モノ−n−ブチルアミン、イソブチルアミン、モノエタノールアミン、ネオペンタノールアミン、2−アミノプロパノール、3−アミノプロパノール、2−ヒドロキシ−2’(アミノプロポキシ)エチルエーテル、1−アミノプロパノール、モノイソプロパノールアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、アミノエチルエタノールアミン、及びこれらの組合せが挙げられる。好ましい実施形態では、第一級アミンは、モノイソプロパノールアミン又はジエチレントリアミンを含む。
好適な第二級アミンとしては、例えば、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジエタノールアミン、メチルエチルアミン、ジ−n−プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、及びこれらの組合せが挙げられる。好ましい実施形態では、第二級アミンは、ジエタノールアミン又はジエチレントリアミンを含む。
好適な第三級アミンとしては、例えば、N,N−ジメチルエタノールアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリイソプロピルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、及びこれらの1以上の組合せが挙げられる。好ましい実施形態では、第三級アミンは、N,N−ジメチルエタノールアミンを含む。
第四級(ポリ)アミンを含む第四級アミンもまた、一般的に好適である。好適な第四級アミンはまた、以下の一般式を有する高分子第四級アミンを含む。
ここで、
、R、R及びRは、独立して、同一又は異なっていてもよく、−CH、−CHCH、−CH(CH又は−CHCHOHから選択されてもよく、
は、−CHCH−、−CHCHCH−、−CHCHCHCH−、−CHCHOHCH−、又は−CHCHOCHCHであり、
X及びYは、同一又は異なっていてもよく、Cl、Br、及びIから選択され、
v及びuは、同一又は異なっていてもよく、それぞれ1〜7とすることができ、
nは、2〜約200である。
一実施形態では、高分子第四級アミンは、上記式において、
、R、R及びRがそれぞれCHであり、
が、−CHCHOCHCHであり、
v及びuが3であり、
X及びYがClであり、
nが平均約6である、
Mirapol(登録商標)WT(Rhodiaから入手可能)である。
他の好適なポリマーアミンとしては、BASFから入手可能なLugalvan(登録商標)G35等のポリエチレンイミンが挙げられる。
本発明は、以下の非限定的な実施例を参照することにより説明することができる。
以下の詳細は、実施例に適用される。
POLYLAC(登録商標)PA727は、台湾のChi Mei,Inc.製のアクリロニトリル・ブタジエン・スチレン(ABS)の商用グレードである。
実施例に記載の以下の製品は、MacDermid,Inc.から入手可能であり、その製品データシートに従って使用した。
赤外線(IR)機器及び分析の詳細:
機器−PerkinElmerスペクトル100FTIR分光計
分析の詳細:
−減衰全反射(ATR)モード
−波数範囲 4000cm−1〜6000cm−1
−スキャンの回数 8
実施例1
未処理のPOLYLAC(登録商標)PA727
未処理のABSから得られた赤外分析を、図1に示す。
実施例2
従来のクロム酸/硫酸エッチング液で処理した、POLYLAC(登録商標)PA727。
得られた赤外スペクトルを、図2A及び図2Bに示す。
以下の実施例3〜実施例9において、クロムを含まないエッチング液は、ガラスフリットによって分離された2区画のガラスセルに収容されており、エッチング液が陽極液である(陰極液は、陰極液には硝酸銀が存在しない点を除いて同じ組成である)。陽極材料及び陰極材料は白金めっきチタンメッシュであり、使用した陽極電流密度は32.5mA/cmであった。このシステムを、銀イオンを+2の酸化状態に電気化学的に酸化するために使用した。
撹拌のために機械的撹拌子を使用し、顕著な量の銀(II)イオンを生成するために、セルを使用前に最低2時間電気分解した。
実施例3
実施例3は、非クロムエッチング液で処理したABS基材を示す。
得られた赤外スペクトルを、図3A及び図3Bに示す。図3A及び図3Bは、硝酸イオン及び銀イオンを含む酸性溶液中でエッチングしたPOLYLAC(登録商標)PA727のFTIRスペクトルを示す。図3Aは、4000cm−1〜600cm−1での結果を示し、図3Bは、2000cm−1〜600cm−1での結果を示す。図3A及び図3B中の「*」は、エッチング工程により現れたピークを示す。
実施例4
実施例4は、非クロムエッチング液及びアンモニア後処理液で処理したABS基材を示す。
得られた赤外スペクトルを、図4A及び図4Bに示す。図4A及び図4Bは、硝酸イオン及び銀イオンを含む酸性溶液中でエッチングし、アンモニア溶液中で後処理したPOLYLAC(登録商標)PA727のFTIRスペクトルを示す。図4Aは、4000cm−1〜600cm−1での結果を示し、図4Bは、2000cm−1〜600cm−1での結果を示す。図4A及び図4Bに見られるように、実施例3において導入されたピークが存在しない。この実施例において、図4B中の「*」は、アミンでの処理により導入されたピークを示す。
実施例5
実施例5は、非クロムエッチング液、アンモニア後処理液、及び無電解ニッケル段階まで処理したABS基材を示す。
結果は、完全な無電解ニッケル金属化であった。
実施例6
実施例6は、非クロムエッチング液、脱イオン水後処理液、及び無電解ニッケル段階まで処理したABS基材を示す。
結果として、無電解ニッケル金属化はなかった。
実施例7
実施例7は、非クロムエッチング液、N,N−ジメチルエタノールアミン後処理液、及び無電解ニッケル段階まで処理したABS基材を示す。
結果は、完全な無電解ニッケル金属化であった。
実施例8
実施例8は、非クロムエッチング液、ジエチレントリアミン後処理液、及び無電解ニッケル段階まで処理したABS基材を示す。
結果は、完全な無電解ニッケル金属化であった。
実施例9
実施例9は、非クロムエッチング液、高分子第四級アミン後処理液、及び無電解ニッケル段階まで処理したABS基材を示す。
結果は、完全な無電解ニッケル金属化であった。

Claims (21)

  1. プラスチック基材を処理して無電解めっきをその上に受ける方法であって、
    a)前記プラスチック基材を、硝酸イオンを含む酸性溶液と接触させることにより、前記プラスチック基材の表面をエッチングする工程と、
    b)前記エッチングしたプラスチック基材を、アンモニア、アミン、又はこれらの組合せを含む水溶液を含む調整溶液と接触させる工程と、
    c)前記プラスチック基材を活性化する工程と、
    d)前記活性化されたプラスチック基材を無電解金属めっき液と接触させてその上に金属を堆積させる工程と、
    を含み、
    前記酸性溶液が、電気化学的酸化の工程により最大の酸化状態とした+2価の銀イオンを酸化性金属イオンとして含み、
    前記プラスチック基材を活性化する工程c)が、パラジウムを含む活性化溶液に前記プラスチック基材を接触させる工程である
    ことを特徴とする方法。
  2. 酸性溶液が、さらに硫酸を含む請求項1に記載の方法。
  3. 酸性溶液が、硝酸銀及び硝酸を含む請求項2に記載の方法。
  4. 酸性溶液が、湿潤剤を含む請求項3に記載の方法。
  5. 工程(b)の後に、プラスチック基材を酸洗浄液に浸漬する工程を含む請求項1に記載の方法。
  6. アミンが、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、及び第四級アミンの少なくとも1種を含む請求項1に記載の方法。
  7. 第一級アミンが、モノエチルアミン、モノ−n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、モノ−n−ブチルアミン、イソブチルアミン、モノエタノールアミン、ネオペンタノールアミン、2−アミノプロパノール、3−アミノプロパノール、2−ヒドロキシ−2’(アミノプロポキシ)エチルエーテル、1−アミノプロパノール、モノイソプロパノールアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、2−アミノエチルエタノールアミン、及びこれらの組合せからなる群から選択される請求項6に記載の方法。
  8. 第一級アミンが、モノイソプロパノールアミンを含む請求項7に記載の方法。
  9. 第二級アミンが、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジエタノールアミン、メチルエチルアミン、ジ−n−プロパノールアミン、イソプロパノールアミン、N−メチルエタノールアミン、ジエチレントリアミン、N−エチルエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、及びこれらの組合せからなる群から選択される請求項6に記載の方法。
  10. 第二級アミンが、ジエタノールアミンを含む請求項9に記載の方法。
  11. 第三級アミンが、N,N−ジメチルエタノールアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリイソプロピルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、及びこれらの1以上の組合せからなる群から選択される請求項6に記載の方法。
  12. 第三級アミンが、N,N−ジメチルエタノールアミンを含む請求項11に記載の方法。
  13. 第二級アミンが、ジエチレントリアミンを含む請求項9に記載の方法。
  14. 第四級アミンが、以下の一般式を有する高分子第四級アミンを含み、
    ここで、
    、R、R及びRは、独立して、同一又は異なっていてもよく、−CH、−CHCH、−CH(CH又は−CHCHOHから選択されてもよく、
    は、−CHCH−、−CHCHCH−、−CHCHCHCH−、−CHCHOHCH−、又は−CHCHOCHCHであり、
    X及びYは、同一又は異なっていてもよく、Cl、Br、及びIから選択され、
    v及びuは、同一又は異なっていてもよく、それぞれ1〜7とすることができ、
    nは、2〜200である、
    請求項6に記載の方法。
  15. 高分子第四級アミンにおいて、
    、R、R及びRがそれぞれCHであり、
    が−CHCHOCHCHであり、
    v及びuが3であり、
    X及びYがClであり、
    nが平均6である、
    請求項14に記載の方法。
  16. 調整溶液中のアミン及びアンモニアの少なくともいずれかの濃度が、5g/L〜100g/Lである請求項1に記載の方法。
  17. 調整溶液中のアミン及びアンモニアの少なくともいずれかの濃度が、10g/L〜50g/Lである請求項16に記載の方法。
  18. 調整溶液のpHが、0〜14である請求項1に記載の方法。
  19. 調整溶液のpHが、6〜12である請求項18に記載の方法。
  20. 工程(d)の前に、活性化されたプラスチック基材を酸処理に接触させる工程を更に含む請求項1に記載の方法。
  21. 無電解金属めっき液が、無電解ニッケルを含む請求項1に記載の方法。
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