JP5939159B2 - 芳香族ポリアミド多孔質膜、電池用セパレータおよび電池 - Google Patents
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Description
(1)3次元構造解析により得られる3μm立方の領域における孔の分岐点総数が2,000〜20,000である芳香族ポリアミド多孔質膜。
(2)3次元構造解析により得られる3μm立方の領域における孔の分岐点総数が5,000〜15,000である、上記(1)に記載の芳香族ポリアミド多孔質膜。
(3)3次元構造解析により得られる厚み方向の平均孔経路屈曲率が1.2〜2.1であり、同構造解析により得られる長手方向および幅方向の平均孔経路屈曲率のいずれもが1.0〜2.1である、上記(1)または(2)に記載の芳香族ポリアミド多孔質膜。
(4)磁場勾配NMR法により測定される厚み方向のリチウムイオン拡散係数が4.0〜12.0m2/sである、上記(1)〜(3)のいずれかに記載の芳香族ポリアミド多孔質膜。
(5)膜厚が9〜40μmであり、ガーレ透気度が5〜200秒/100mlである、上記(1)〜(4)のいずれかに記載の芳香族ポリアミド多孔質膜。
(6)上記(1)〜(5)のいずれかに記載の芳香族ポリアミド多孔質膜を用いてなる電池用セパレータ。
(7)上記(6)に記載の電池用セパレータを用いた電池。
化学式(1):
化学式(3)〜(7):
A群: −O−、−CO−、−CO2−、−SO2−、
B群: −CH2−、−S−、−C(CH3)2−
などから選ばれた基を用いることができる。
化学式(8):
実施例における物性の測定方法は次の方法に従って行った。
臭化リチウム(LiBr)を2.5質量%添加したN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に、ポリマーを0.5g/dlの濃度で溶解させ、ウベローデ粘度計を使用して、30℃にて流下時間を測定した。ポリマーを溶解させないブランクのNMPの流下時間も同様に測定し、下式を用いて対数粘度(ηinh)を算出した。
t0:ブランクの流下時間(秒)
t:サンプルの流下時間(秒)。
RB80U型粘度計(東機産業社製)を用い、STローター(ローターコードNo.29)により30℃、10rpmにおいて溶液粘度を測定した。
初めに、試料の幅方向(TD)−厚み方向(ZD)断面を、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察した。集束イオンビーム(FIB)を用いて試料を削りTD−ZD断面を得る工程、および、得られたTD−ZD断面をSEMを用いて観察する工程を、試料の長手方向(MD)に20nm間隔で151回繰り返し実施することで、MD方向に3μmの長さにわたり、20nm間隔で連続的なTD−ZD断面像を得た。観察条件は以下のとおりである。
加速電圧:2kV
加工倍率:50,000倍
加工エリア:3μm(TD)×3μm(ZD)
スライス条件:20nmステップ×151回(MD)
試料前処理:空孔部を樹脂包埋
次に、画像解析ソフトウェア VG studio Max 1.2(日本ビジュアルサイエンス社製)を用い、前記方法で得られた連続断面像を樹脂部と空孔部に二階調化し、観察された3μm立方の領域における三次元像を再構築した。得られた三次元再構築像を細線化処理した。細線化処理は、三次元像の空孔部の孔の中心部を線分化する処理である。この処理によって、孔経路の構造を解析することができる。解析領域における孔の分岐点の数を数え、3μm立方の領域における分岐点総数を得た。
試料内部に電解液を浸透させて保持させた状態で、パルス磁場勾配核磁気共鳴(PFG−NMR)法でリチウムイオンの拡散係数を求めた。厚み方向の拡散係数を測定するため、直径4mmの円形に切断した試料を内径5mmのミクロ試料管へ導入し、総厚み5mm以上に積層した。この時、積層する試料間や、試料と試料管側面との間に隙間が存在すると、試料孔外(バルク電解液中)のリチウムイオン由来の測定値が観測されるため、試料を十分に密に試料管へ導入し、下記の電解液を浸透させた。以下の測定条件において、リチウムイオンを測定し、拡散係数を求めた。
エチレンカーボネート/メチルエチルカーボネート(1:2 vol%)
装置:ECA−500(日本電子社製)
測定周波数:194.4MHz
ロック溶媒:なし
積算回数:16回
測定温度:30℃
パルスシーケンス:BPPLED
磁場勾配強度:0.1〜3.0T/m
拡散時間:150ms
勾配磁場印加時間:2ms
ステップ数:16点
解析法:CONTIN
CONTINによる解析で得られた二次元スペクトル(DOSYスペクトル)の拡散係数分布のピークトップを試料孔内に存在するリチウムイオンの拡散係数とした。
定圧厚み測定器FFA−1(尾崎製作所製)を用いて多孔質膜の厚みを測定した。測定子径は5mm、測定荷重は1.25Nである。幅方向に、20mm間隔で10箇所測定し、平均値を求めた。
B型ガーレーデンソメーター(安田精機製作所製)を使用し、JIS−P8117(1998)に規定された方法に従って、多孔質膜のガーレ透気度の測定を行った。試料の多孔質膜を直径28.6mm、面積645mm2の円孔に締め付け、内筒により(内筒質量567g)、筒内の空気を試験円孔部から筒外へ通過させ、空気100mlが通過する時間を測定することでガーレ透気度とした。
200mm角の試料の厚みと質量を測定し、多孔質膜の見かけの密度(かさ密度)d1を求めた。これとポリマーの真密度d0より、下式を用いて空孔率を算出した。
空孔率(%)=(1−d1/d0)×100。
試料の多孔質膜を、幅10mm、長さ220mmの短冊状に切り取り、長辺を測定方向とした。長辺の両端から約10mmの部分に印をつけ、印の間隔をL1とした。200℃の熱風オーブン中で10分間、実質的に張力を掛けない状態で熱処理を行った後の印の間隔をL2とし、下式で熱収縮率を計算した。フィルムの長手方向および幅方向にそれぞれ5回測定し、それぞれ平均値を求めた。
熱収縮率(%)=((L1−L2)/L1)×100。
以下の通り、コイン型のリチウムイオン二次電池を作製し、評価を行った。
・正極
コバルト酸リチウム(LiCoO2、日本化学工業社製)89.5質量部と、アセチレンブラック(電気化学工業社製)4.5質量部およびポリフッ化ビニリデン(PVdF、クレハ社製)の乾燥質量が6質量部となるように、濃度6質量%のPVdFのNMP溶液を用い、正極剤ペーストを作製した。得られたペーストを集電体である厚さ20μmのアルミニウム箔(日本製箔社製)上に塗布し、乾燥した後、直径13mmの円形に打ち抜き加工を行うことで正極を得た。
メソフェーズカーボンマイクロビーズ(MCMB、大阪ガスケミカル社製)87質量部と、アセチレンブラック3質量部およびPVdFの乾燥質量が10質量部となるように、濃度6質量%のPVdFのNMP溶液を用い、負極剤ペーストを作製した。得られたペーストを集電体である厚さ18μmの銅箔(日本製箔社製)上に塗布し、乾燥した後、直径14.5mmの円形に打ち抜き加工を行うことで負極を得た。
エチレンカーボネート30質量部、ジメチルカーボネート70質量部の混合液にLiPF6が1mol/Lとなるように溶解させたものを用いた。
ガスケットを装着した溶着済み封口板のスペーサー上に上記負極を負極剤が上になるように静置し、上から上記電解液を注液した。その上にセパレータとして試料の多孔質膜(直径17mmの円形)を静置し、さらにセパレータ上から電解液を注液した。次に上記正極を正極剤が下になるように静置し、ケースを静置した。これをカシメ機で封口し、直径20mm、厚み3.2mmのコイン型電池を作製した。
作製したコイン型電池を、定電流0.2C(1mA)で電池電圧が3.7Vになるまで充電を行い、充電後、20℃で96時間エージングした。その後、定電流0.2Cで電池電圧が3.0Vになるまで放電を行った。このエージング処理の後、定電流0.2Cで電池電圧が4.2Vになるまで充電を行い、その後、定電流0.2Cで電池電圧が3.0Vになるまで放電を行った。この充放電を1サイクルとし、合計4サイクルの充放電を行うことで仕上げ充放電を完了した。仕上げ充放電はすべて20℃の雰囲気下で行った。以下のa〜cの電池評価は仕上げ充放電を行ったコイン型電池を用いて実施した。
本評価はすべて20℃の雰囲気下で行った。作製したコイン型電池について、定電流0.2C(1mA)で電池電圧が4.2Vになるまで充電を行い、その後、定電流0.2Cで電池電圧が3.0Vになるまで放電を行った。このときの放電容量を0.2Cでの放電容量とした。次に、定電流0.2Cで電池電圧が4.2Vになるまで充電を行い、その後、定電流3C(15mA)で電池電圧が3.0Vになるまで放電を行った。このときの放電容量を3Cでの放電容量とした。これらの結果から、下式を用いて容量維持率を算出し、以下の基準でA〜Dの評価を行った。
容量維持率(%)=(3Cでの放電容量)/(0.2Cでの放電容量)×100
A:60%以上
B:50%以上60%未満
C:40%以上50%未満
D:40%未満。
本評価はすべて20℃の雰囲気下で行った。作製したコイン型電池について、定電流0.2Cで電池電圧が4.2Vになるまで充電を行い、その後、定電流0.2Cで電池電圧が3.0Vになるまで放電を行った。この充放電を1サイクルとし、合計500サイクルの充放電を行った。1サイクル目の放電容量と500サイクル目の放電容量から、下式を用いて容量維持率を算出し、以下の基準でA〜Dの評価を行った。
容量維持率(%)=(500サイクル目の放電容量)/(1サイクル目の放電容量)×100
A:60%以上
B:50%以上60%未満
C:40%以上50%未満
D:40%未満。
作製したコイン型電池について、20℃の雰囲気下、定電流0.2Cで電池電圧が4.2Vになるまで充電を行い、その後、20℃の雰囲気下、定電流0.2Cで電池電圧が3.0Vになるまで放電を行った。このときの放電容量を初期の放電容量とした。次に、20℃の雰囲気下、定電流0.2Cで電池電圧が4.2Vになるまで充電した。この充電状態の電池を80℃の雰囲気下に20日間保存した。保存後、20℃の雰囲気下において、定電流0.2Cで電池電圧が3.0Vになるまで放電を行った。その後、20℃の雰囲気下、定電流0.2Cで再度1サイクルの充放電を行い、放電容量を測定した。このときの放電容量を保存後の放電容量とした。これらの結果から、下式を用いて容量回復率を算出し、以下の基準でA〜Dの評価を行った。
容量回復率(%)=(保存後の放電容量)/(初期の放電容量)×100
A:80%以上
B:70%以上80%未満
C:60%以上70%未満
D:60%未満。
脱水したN−メチル−2−ピロリドン(NMP、三菱化学社製)に、ジアミン全量に対して50モル%に相当する2−クロロ−1,4−フェニレンジアミン(日本化薬社製)と50モル%に相当する4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(東京化成社製)を窒素気流下で溶解させ、30℃以下に冷却した。そこへ、系内を窒素気流下、30℃以下に保った状態で、ジアミン全量に対して98モル%に相当する2−クロロテレフタロイルクロライド(日本軽金属社製)を添加して、全量添加後、約2時間の撹拌を行い、芳香族ポリアミドを重合した。得られた重合溶液を、酸クロライド全量に対して97モル%の炭酸リチウム(本荘ケミカル社製)および6モル%のジエタノールアミン(東京化成社製)により中和することで芳香族ポリアミドの溶液を得た。得られた芳香族ポリアミドの対数粘度ηinhは2.5dl/gであった。
2−クロロ−1,4−フェニレンジアミンをジアミン全量に対して80モル%、4,4’−ジアミノジフェニルエーテルをジアミン全量に対して20モル%とする以外は実施例1と同様にして重合および中和を行い、対数粘度ηinhが2.5dl/gの芳香族ポリアミド溶液を得た。
芳香族ポリアミドの対数粘度ηinhを2.0dl/gとすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
製膜原液の組成を芳香族ポリアミド10質量%、PVP5質量%、水3質量%とし、調温調湿空気中での処理時間を2分とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
調温調湿空気を温度35℃、相対湿度85%RHとし、調温調湿空気中での処理時間を90秒とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
支持体を厚み0.5mmのステンレス(SUS316)ベルト(表面積1m2あたりの熱容量2.4kJ/K・m2)とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
実施例1と同様の製膜原液を用いて、支持体である厚み5mmのガラス板(表面積1m2あたりの熱容量11.3kJ/K・m2)上にアプリケーターを用いて膜状に塗布した。その後、温度50℃、相対湿度85%RHの調温調湿空気中で1分間、塗布膜が失透するまで処理した。次に、失透した塗布膜を支持体から剥離し、ステンレス製の枠に固定した後、60℃の水浴に10分間浸漬することで溶媒の抽出を行った。続いて、得られた膜を、枠に固定したまま、熱風オーブンを用いて、200℃において1分、230℃において2分、熱処理を行い、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
製膜原液の組成を芳香族ポリアミド14質量%、PVP5質量%、水10質量%とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
調温調湿空気を温度20℃、相対湿度85%RHとし、調温調湿空気中での処理時間を2分とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
調温調湿空気を温度70℃、相対湿度85%RHとし、調温調湿空気中での処理時間を2分とすること以外実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
支持体を厚み50μmのステンレス(SUS304)箔(表面積1m2あたりの熱容量0.2kJ/K・m2)とすること以外は実施例7と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
芳香族ポリアミドを得るためのモノマーを、ジアミン全量に対して70モル%に相当する1,3−フェニレンジアミン(東京化成社製)と30モル%に相当する1,4−フェニレンジアミン(東京化成社製)、および98モル%に相当するイソフタロイルクロライド(東京化成社製)とし、芳香族ポリアミドの対数粘度ηinhを2.1dl/g、製膜原液の組成を芳香族ポリアミド14質量%、PVP5質量%、水10質量%とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
芳香族ポリアミドの対数粘度ηinhを1.8dl/gとすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
芳香族ポリアミドの対数粘度ηinhを1.8dl/gとし、製膜原液の組成を芳香族ポリアミド16質量%、PVP5質量%、水10質量%とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
芳香族ポリアミドの対数粘度ηinhを1.8dl/gとし、製膜原液の組成を芳香族ポリアミド12質量%、PVP20質量%、水10質量%とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
芳香族ポリアミドの対数粘度ηinhを2.8dl/gとし、製膜原液の組成を芳香族ポリアミド4質量%、PVP10質量%、水10質量%とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
製膜原液の組成を芳香族ポリアミド10質量%、PVP5質量%とし、水を添加せず、調温調湿空気中での処理時間を3分とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
実施例1と同様の製膜原液を用いて、支持体である厚み5mmのガラス板上にアプリケーターを用いて膜状に塗布した。その後、得られた塗布膜を支持体ごと、水50質量%およびNMP50質量%からなり、温度25℃の凝固液中に浸漬し、失透した塗布膜を支持体から剥離した。以降は実施例7と同様にステンレス製の枠に固定し、水洗および熱処理を行い、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
支持体を厚み75μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レ社製U34、表面積1m2あたりの熱容量0.1kJ/K・m2)とすること以外は実施例1と同様にして、多孔質膜を得た。得られた多孔質膜の、主な製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。
Claims (7)
- 3次元構造解析により得られる3μm立方の領域における孔の分岐点総数が2,000〜20,000である芳香族ポリアミド多孔質膜。
- 3次元構造解析により得られる3μm立方の領域における孔の分岐点総数が5,000〜15,000である、請求項1に記載の芳香族ポリアミド多孔質膜。
- 3次元構造解析により得られる厚み方向の平均孔経路屈曲率が1.2〜2.1であり、同構造解析により得られる長手方向および幅方向の平均孔経路屈曲率のいずれもが1.0〜2.1である、請求項1または2に記載の芳香族ポリアミド多孔質膜。
- 磁場勾配NMR法により測定される厚み方向のリチウムイオン拡散係数が4.0〜12.0m2/sである、請求項1〜3のいずれかに記載の芳香族ポリアミド多孔質膜。
- 膜厚が9〜40μmであり、ガーレ透気度が5〜200秒/100mlである、請求項1〜4のいずれかに記載の芳香族ポリアミド多孔質膜。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の芳香族ポリアミド多孔質膜を用いてなる電池用セパレータ。
- 請求項6に記載の電池用セパレータを用いた電池。
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