JP5938259B2 - 空中結像用の光学パネルの製造方法 - Google Patents
空中結像用の光学パネルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5938259B2 JP5938259B2 JP2012095161A JP2012095161A JP5938259B2 JP 5938259 B2 JP5938259 B2 JP 5938259B2 JP 2012095161 A JP2012095161 A JP 2012095161A JP 2012095161 A JP2012095161 A JP 2012095161A JP 5938259 B2 JP5938259 B2 JP 5938259B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical panel
- manufacturing
- aerial imaging
- wire
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
2 光学パネル
21 透明平板
22 光反射部
3 積層体
30 平板
31 透明基板
31a 変質層
32 光反射層
Claims (2)
- 透明基板の内部にレーザーを照射して一定のピッチで複数個の直線状の変質層を複数枚の透明基板の各々の内部のみに形成する変質層形成工程と、
前記透明基板の両面又は一面に光反射層を付着させて多数枚の平板を製作する平板製作工程と、
前記変質層形成工程と前記平板製作工程を経て得た前記多数枚の平板を積層し接着して積層体を形成する積層体形成工程と、
該積層体を、少なくとも両端部の前記透明基板に形成された前記変質層にワイヤーを押し付けて運動をさせ当該変質層に案内させながら、前記光反射層に対して垂直方向に切断して複数の光学パネルを切り出す切り出し工程と、
前記光学パネルの切り出し面を所定の厚みになるよう研磨する研磨工程と、
を含んでいることを特徴とする空中結像用の光学パネルの製造方法。 - 請求項1に記載の空中結像用の光学パネルの製造方法において、
前記ワイヤーの断面の直径は、前記変質層の断面の直径と同じ又は少し大きいことを特徴とする空中結像用の光学パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012095161A JP5938259B2 (ja) | 2012-04-18 | 2012-04-18 | 空中結像用の光学パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012095161A JP5938259B2 (ja) | 2012-04-18 | 2012-04-18 | 空中結像用の光学パネルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013220981A JP2013220981A (ja) | 2013-10-28 |
JP5938259B2 true JP5938259B2 (ja) | 2016-06-22 |
Family
ID=49592226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012095161A Active JP5938259B2 (ja) | 2012-04-18 | 2012-04-18 | 空中結像用の光学パネルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5938259B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6315305B2 (ja) * | 2013-02-19 | 2018-04-25 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス積層体及びこれを用いた光学結像部材 |
JP6392102B2 (ja) * | 2014-12-06 | 2018-09-19 | 有限会社オプトセラミックス | 空中結像用の光学パネルの製造方法 |
JP2016180785A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-13 | コニカミノルタ株式会社 | 反射型空中結像素子及びその製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004299969A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリカガラスのスライス方法 |
JP2007015169A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Seiko Epson Corp | スクライブ形成方法、スクライブ形成装置、多層基板 |
JP2011081300A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-04-21 | Pioneer Electronic Corp | 反射型面対称結像素子の製造方法 |
-
2012
- 2012-04-18 JP JP2012095161A patent/JP5938259B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013220981A (ja) | 2013-10-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9649775B2 (en) | Workpiece dividing method | |
JP5917862B2 (ja) | 加工対象物切断方法 | |
JP6506520B2 (ja) | SiCのスライス方法 | |
TWI719081B (zh) | 分離玻璃網的方法 | |
EP2529875B1 (en) | Laser processing method | |
JP4424302B2 (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
WO2014030519A1 (ja) | 加工対象物切断方法 | |
JP6165206B2 (ja) | 光制御パネルの製造方法、光制御パネル、光学結像装置、及び、空中映像形成システム | |
CN106414352B (zh) | 光学玻璃及玻璃基板的切断方法 | |
JP5938259B2 (ja) | 空中結像用の光学パネルの製造方法 | |
JP2014148454A (ja) | ガラス基板の切断方法、ガラス基板及び近赤外線カットフィルタガラス | |
JP6012185B2 (ja) | 半導体デバイスの製造方法 | |
JP2010161107A (ja) | 半導体装置製造方法 | |
TW201334902A (zh) | 雷射加工方法 | |
JP2006235126A (ja) | 光導波路への偏向ミラー製造方法 | |
JP2007118207A (ja) | 積層体の加工方法 | |
JP5969214B2 (ja) | 半導体デバイスの製造方法 | |
JP2008132500A (ja) | レーザ加工装置、レーザ加工方法、基板の製造方法、及び電気光学装置の製造方法 | |
KR20130026810A (ko) | 레이저 가공 방법 | |
JP6541987B2 (ja) | 光学素子及び結像素子の製造方法 | |
JP2011146552A (ja) | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 | |
JP6400453B2 (ja) | 空中結像用の光学パネルの製造方法 | |
WO2016132985A1 (ja) | 光学素子及び結像素子の製造方法 | |
JP2013157449A (ja) | 半導体デバイスの製造方法 | |
TWI741604B (zh) | 空中影像成像裝置之製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160318 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160421 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160516 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5938259 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |