JP5937358B2

JP5937358B2 - Release film

Info

Publication number: JP5937358B2
Application number: JP2012003137A
Authority: JP
Inventors: 伸枝宗像; 武久　慶太; 慶太武久
Original assignee: Teijin DuPont Films Japan Ltd
Current assignee: Teijin DuPont Films Japan Ltd
Priority date: 2012-01-11
Filing date: 2012-01-11
Publication date: 2016-06-22
Anticipated expiration: 2032-01-11
Also published as: JP2013141792A

Description

本発明は、光学用透明粘着シート（ＯＣＡ：ＯｐｔｉｃａｌＣｌｅａｒＡｄｈｅｓｉｖｅ）用離型フィルムに関する。 The present invention relates to a release film for a transparent optical adhesive sheet (OCA: Optical Clear Adhesive).

近年、ポリエステルフィルムを基材とする離型フィルムは、タッチパネル等の部材貼り合わせの際に用いられる光学用透明粘着シート（ＯＣＡ）のキャリアフィルムやセパレーターとして用いられている。 In recent years, release films based on polyester films have been used as carrier films and separators for optically transparent adhesive sheets (OCA) used for bonding members such as touch panels.

タッチパネル等の部材貼り合わせに用いられるＯＣＡは、例えば、キャリアフィルムとしての離型フィルムの上に、ＯＣＡ粘着層となる樹脂組成物を塗布し、その上にセパレーターとしての離型フィルムを貼り合わせ、離型フィルム（キャリアフィルム：重剥離）／ＯＣＡ粘着層／離型フィルム（セパレーター：軽剥離）複合体を作成し、かかる複合体を必要な大きさに打ち抜き加工することにより製造される。使用に際しては、複合体からセパレーター側の離型フィルムを剥がし、タッチパネル等の部材の貼り合わせ面に貼り付け、次いでキャリアフィルム側の離型フィルムを剥がし、液晶表示装置等の相手部材と貼り合わせて用いられる。 OCA used for bonding members such as a touch panel is, for example, by applying a resin composition to be an OCA adhesive layer on a release film as a carrier film, and bonding a release film as a separator thereon, It is manufactured by preparing a release film (carrier film: heavy release) / OCA adhesive layer / release film (separator: light release) composite and punching the composite into a required size. When using, peel off the release film on the separator side from the composite, stick it on the bonding surface of the member such as the touch panel, then peel off the release film on the carrier film side, and paste it on the other member such as the liquid crystal display device. Used.

国際公開第２００９／０６３８４７号パンフレットInternational Publication No. 2009/063847 Pamphlet

しかしながら近年、従来のポリエステルフィルムを基材とする離型フィルムを、ＯＣＡ、特にＯＣＡ粘着層の厚みが、例えば１００〜５００μｍ程度のごとく比較的厚いＯＣＡを製造する際のセパレーターとして使用した場合、完成したＯＣＡを所望の大きさに打ち抜き加工するに際して、セパレーター側から刃を入れて打ち抜き加工すると、セパレーターが上手く切断できずにＯＣＡ粘着層を押しつぶしてしまったり、打ち抜き部分においてＯＣＡ粘着層にセパレーターが食い込み、セパレーターを剥離し難くなったりする、打ち抜き不良に係る問題が、新たに生じてきた。 However, in recent years, when a release film based on a conventional polyester film is used as a separator for producing OCA, particularly OCA having a relatively thick OCA adhesive layer of, for example, about 100 to 500 μm, it is completed. When punching the OCA into the desired size, if the blade is inserted from the separator side and punched, the OCA adhesive layer will be crushed without the separator being cut well, or the separator will bite into the OCA adhesive layer at the punched part. New problems have arisen concerning punching defects that make it difficult to separate the separator.

この打ち抜き不良の原因としては、セパレーターのポリエステルフィルムのコシなどが関係していると考えられるが、詳細は不明であった。又、一部の不良は、打ち抜き条件（打ち抜き速度、打ち抜き刃の形状、打ち抜き刃の角度など）を適宜調整することでも改良できる場合があるが、加工メーカーからは、根本的に打ち抜き性の良いフィルムの要望は大きい。
そこで本発明は、ＯＣＡに用いられる離型フィルムであって、ＯＣＡ打ち抜き加工の際に、打ち抜き不良に係る問題の生じ難い離型フィルムを提供することを目的とする。 The cause of this punching failure is considered to be related to the stiffness of the polyester film of the separator, but the details are unknown. In addition, some defects may be improved by appropriately adjusting the punching conditions (punching speed, punching blade shape, punching blade angle, etc.). The demand for film is great.
Therefore, an object of the present invention is to provide a release film that is used for OCA and that is less likely to cause a problem related to punching defects during OCA punching.

本発明は、上記課題を解決するために、以下の構成を採用するものである。
１．基材フィルムと、その少なくとも片面に形成された離型層とからなる離型フィルムであって、該基材フィルムは、フィルム面内における最大の屈折率ｎＴＤが１．６７２〜１．６８７、フィルム厚み方向の屈折率ｎＺが１．４９２〜１．４９６であり、ｎＺ≦０．４４４×ｎＴＤ＋０．７５０の関係式を満たし、固有粘度が０．５３〜０．５８ｄｌ／ｇである、光学用透明粘着シート用離型フィルム。
２．先端径４ｍｍの突き刺し治具を用いて測定した突き刺し強度測定時の伸びの値が８．５ｍｍ以下である、上記１に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。
３．基材フィルムのサブピーク温度Ｔｓｍが２２７℃以上、２４５℃以下である、上記１または２に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。
４．基材フィルムの密度が１．４０１ｇ／ｃｍ^３以上、１．４１０ｇ／ｃｍ^３以下である、上記１〜３のいずれか１項に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。
５．離型層表面における剥離力が、常温測定時において１０ｍＮ／２５ｍｍ以上、１００ｍＮ／２５ｍｍ以下であり、７０℃２０時間加熱後の測定時において１０ｍＮ／２５ｍｍ以上、１００ｍＮ／２５ｍｍ以下である、上記１〜４のいずれか１項に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。
６．粘着層の両面に離型フィルムを有する積層体であって、該積層体における離型フィルムの少なくとも一方が上記１〜５のいずれか１に記載の離型フィルムである、積層体。 The present invention adopts the following configuration in order to solve the above problems.
1. A release film comprising a base film and a release layer formed on at least one surface thereof, the base film having a maximum refractive index nTD in the film plane of 1.672 to 1.687, film A transparent optical material having a refractive index nZ in the thickness direction of 1.492 to 1.696, satisfying a relational expression of nZ ≦ 0.444 × nTD + 0.750, and having an intrinsic viscosity of 0.53 to 0.58 dl / g. Release film for adhesive sheets.
2. 2. The release film for a transparent adhesive sheet for optical use according to 1 above, wherein an elongation value at the time of piercing strength measurement measured using a piercing jig having a tip diameter of 4 mm is 8.5 mm or less.
3. 3. The release film for an optical transparent pressure-sensitive adhesive sheet according to the above 1 or 2, wherein the substrate film has a sub-peak temperature Tsm of 227 ° C. or higher and 245 ° C. or lower.
4). 4. The release film for an optical transparent adhesive sheet according to any one of 1 to ³ above, wherein the density of the base film is 1.401 g / cm ³ or more and 1.410 g / cm ³ or less.
5. The peeling force on the surface of the release layer is 10 mN / 25 mm or more and 100 mN / 25 mm or less when measured at room temperature, and 10 mN / 25 mm or more and 100 mN / 25 mm or less when measured after heating at 70 ° C. for 20 hours. 5. The release film for optically transparent adhesive sheet according to any one of 4.
6). It is a laminated body which has a release film on both surfaces of an adhesion layer, Comprising: At least one of the release films in this laminated body is a release film of any one of said 1-5.

本発明によれば、ＯＣＡ、特に厚みが比較的厚いＯＣＡの打ち抜き加工の際に、打ち抜き不良に係る問題の生じ難いＯＣＡ用離型フィルムを提供することができる。かかるＯＣＡ用離型フィルムは、ＯＣＡのセパレーターとして好適に用いることができる。 According to the present invention, it is possible to provide a release film for OCA which is less likely to cause a problem related to punching defects when punching OCA, particularly OCA having a relatively large thickness. Such a release film for OCA can be suitably used as an OCA separator.

＜離型フィルム＞
本発明の離型フィルムは、基材フィルムと、その少なくとも片面に形成された離型層とからなる離型フィルムである。
以下、本発明の離型フィルムを構成する各構成成分について説明する。 <Release film>
The release film of the present invention is a release film comprising a base film and a release layer formed on at least one surface thereof.
Hereafter, each structural component which comprises the release film of this invention is demonstrated.

＜基材フィルム＞
（ポリエステル）
本発明における基材フィルムは、耐熱性や剛性、品質等に優れ、ＯＣＡに適していることから、ポリエステルフィルムが好ましい。
本発明において、かかるポリエステルフィルムを構成するポリエステルは、第１成分としてのジカルボン酸成分および第２成分としてのグリコール成分からなる。ジカルボン酸成分としてはテレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等を例示できる。特に、基材フィルムの機械特性に優れるという観点から、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。また、グリコール成分としてはエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−へキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ポリエチレングリコール等を例示できる。特に、基材フィルムの剛直性に優れるという観点から、エチレングリコールが好ましい。 <Base film>
(polyester)
The substrate film in the present invention is preferably a polyester film because it is excellent in heat resistance, rigidity, quality and the like and is suitable for OCA.
In the present invention, the polyester constituting such a polyester film comprises a dicarboxylic acid component as the first component and a glycol component as the second component. Examples of the dicarboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, hexahydroterephthalic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid and the like. In particular, terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid are preferable from the viewpoint of excellent mechanical properties of the base film. Examples of the glycol component include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, cyclohexanedimethanol, polyethylene glycol, and the like. . In particular, ethylene glycol is preferable from the viewpoint of excellent rigidity of the base film.

上記のポリエステルは、さらに第３成分として、さらに上記ジカルボン酸成分の少なくとも１つ、あるいはグリコール成分の少なくとも１つを共重合したコポリエステルであっても良い。かかる第３成分としては、第１成分として選択されたジカルボン酸成分あるいは第２成分として選択されたグリコール成分とは異なる共重合成分を選択することができる。また、第３成分としては、三官能以上の多価カルボン酸成分あるいはポリオール成分を含んでも良いが、その場合の共重合量は、得られるポリエステルが実質的に線状となる範囲（例えば５モル％以下、さらに好ましくは３モル％以下、特に好ましくは１モル％以下）で少量共重合したポリエステルであることが好ましい。以上のような本発明におけるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。 The polyester may be a copolyester obtained by copolymerizing at least one of the dicarboxylic acid components or at least one glycol component as a third component. As the third component, a copolymer component different from the dicarboxylic acid component selected as the first component or the glycol component selected as the second component can be selected. Further, the third component may include a trifunctional or higher polyvalent carboxylic acid component or a polyol component. In this case, the copolymerization amount is within a range in which the obtained polyester is substantially linear (for example, 5 mol). % Or less, more preferably 3 mol% or less, and particularly preferably 1 mol% or less). As the polyester in the present invention as described above, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate are preferable, and polyethylene terephthalate is particularly preferable.

かかるポリエステルは常法により作ることができ、本発明における離型フィルムに使用されるポリエステルの固有粘度（オルトクロロフェノール中、２５℃における固有粘度）は、０．５５ｄｌ／ｇ以上、０．５７ｄｌ／ｇ以下であることが好ましい。これにより基材フィルムとした後の固有粘度を、後述する範囲にすることが容易となる。 Such a polyester can be produced by a conventional method. The intrinsic viscosity of the polyester used in the release film in the present invention (intrichlorophenol at 25 ° C.) has an intrinsic viscosity of 0.55 dl / g or more, 0.57 dl / g or less is preferable. Thereby, it becomes easy to make the intrinsic viscosity after making it a base film into the range mentioned later.

（屈折率）
本発明における基材フィルムは、フィルム面内における最大の屈折率ｎＴＤが１．６７２〜１．６８７であり、フィルム厚み方向の屈折率ｎＺが１．４９２〜１．４９６であり、ｎＴＤとｎＺとが、ｎＺ≦０．４４４×ｎＴＤ＋０．７５０（式１）の関係式を満たすことが必要である。屈折率が上記態様であると、ＯＣＡの打ち抜き性が良好となる。ここで、フィルム面内における最大の屈折率とは、フィルム面内において屈折率が最大になる方向の屈折率を示す。かかる方向は、一般的にはフィルムの製膜機械軸方向（縦方向または長手方向またはＭＤと呼称する場合がある。）と直交する方向（横方向または幅方向またはＴＤと呼称する場合がある。）となり、好ましい。 (Refractive index)
The base film in the present invention has a maximum refractive index nTD in the film plane of 1.672 to 1.687, a refractive index nZ in the film thickness direction of 1.492 to 1.696, nTD and nZ, However, it is necessary to satisfy the relational expression of nZ ≦ 0.444 × nTD + 0.750 (Formula 1). When the refractive index is in the above-described manner, the OCA punchability is good. Here, the maximum refractive index in the film plane indicates the refractive index in the direction in which the refractive index is maximum in the film plane. Such a direction may generally be referred to as a direction (lateral direction or width direction or TD) perpendicular to the film forming machine axial direction of the film (which may be referred to as a longitudinal direction or a longitudinal direction or MD). This is preferable.

ｎＴＤが高すぎると、打ち抜き性には大きな問題は生じないが、一方で、基材フィルムの製膜が困難となり生産性が落ちる場合があり、更に、離型フィルムが避けやすくなり、ＯＣＡ製造工程上でも取り扱い性に劣るという問題が生じる。そのためｎＴＤは、１．６８６以下が好ましく、１．６８５以下がより好ましく、１．６８４以下がさらに好ましい。他方、低すぎると、打ち抜き性が劣るばかりではく、基材フィルムの厚み斑の悪化という問題も生じる。かかる観点から、ｎＴＤは、好ましくは１．６７４以上、より好ましくは１．６７５以上、さらに好ましくは１．６７６以上である。
また、ｎＺは、高すぎると打ち抜き性が劣る問題が生じ、他方、低すぎると面配向が高くなり過ぎて、基材フィルムが切断し易くなる問題が生じる。かかる観点から、ｎＺは、好ましくは１．４９３以上であり、また、好ましくは１．４９５以下である。 If nTD is too high, there will be no major problem in punchability, but on the other hand, it may be difficult to form a base film and productivity may be reduced. Even above, the problem of poor handling occurs. Therefore, nTD is preferably 1.686 or less, more preferably 1.865 or less, and even more preferably 1.684 or less. On the other hand, if it is too low, not only the punchability is inferior, but also the problem of deterioration in thickness unevenness of the base film occurs. From this viewpoint, nTD is preferably 1.675 or more, more preferably 1.675 or more, and further preferably 1.676 or more.
On the other hand, if nZ is too high, there is a problem that the punchability is inferior. On the other hand, if nZ is too low, the plane orientation becomes too high and the base film is easily cut. From this viewpoint, nZ is preferably 1.493 or more, and preferably 1.495 or less.

さらに、ｎＴＤが上記範囲内であっても、比較的低い領域においては、ｎＺが高すぎると打ち抜き性に劣る傾向となる。ｎＺが高いということは、全体として面配向が低い傾向となるためである。すなわち、式１において、左辺が右辺より大きいと、打ち抜き性が劣る問題が生じる。好ましくはｎＺ≦０．５×ｎＴＤ＋０．６５６の関係式を満たすことである。また、面配向が低いと、フィルムの結晶化にも影響を与え、それによる打ち抜き性の向上効果にも影響を与える場合がある。
基材フィルムの屈折率を上記態様とすることは、すなわち離型フィルムの屈折率を上記態様とすることとなる。基材フィルムの屈折率を上記態様とするには、例えば、基材フィルムの製膜において、後述する好ましい延伸条件を採用すればよい。 Furthermore, even if nTD is within the above range, in a relatively low region, if nZ is too high, punching tends to be inferior. The high nZ is because the plane orientation tends to be low as a whole. That is, in Formula 1, when the left side is larger than the right side, there is a problem that punchability is inferior. Preferably, the relational expression nZ ≦ 0.5 × nTD + 0.656 is satisfied. In addition, when the plane orientation is low, the crystallization of the film is also affected, and the effect of improving the punchability may be affected accordingly.
Setting the refractive index of the base film to the above-described mode means that the refractive index of the release film is set to the above-described mode. In order to set the refractive index of the base film to the above-described aspect, for example, the preferable stretching conditions described later may be adopted in the formation of the base film.

（固有粘度）
本発明における基材フィルムは、固有粘度（オルトクロロフェノール中、２５℃）が０．５３〜０．５８ｄｌ／ｇである。本発明においては、基材フィルムの屈折率が上述態様であると同時に、固有粘度が上記数値範囲にあると、ＯＣＡ製造時の打ち抜き工程での打ち抜き性が良好となる。基材フィルムの固有粘度が上記範囲より低いと、基材フィルムの製膜が困難となり生産性が落ちる場合がある。よって好ましくは０．５４ｄｌ／ｇ以上、より好ましくは０．５５ｄｌ／ｇ以上である。他方、基材フィルムの固有粘度が上記範囲より高い場合は、基材フィルムのコシが強すぎて、打ち抜き性が悪くなる。よって好ましくは０．５７ｄｌ／ｇ以下、より好ましくは０．５６ｄｌ／ｇ以下である。 (Intrinsic viscosity)
The base film in the present invention has an intrinsic viscosity (in orthochlorophenol, 25 ° C.) of 0.53 to 0.58 dl / g. In the present invention, when the refractive index of the base film is the above-described aspect and the intrinsic viscosity is in the above numerical range, the punchability in the punching process during OCA production is good. If the intrinsic viscosity of the base film is lower than the above range, it may be difficult to form the base film and productivity may be lowered. Therefore, it is preferably 0.54 dl / g or more, more preferably 0.55 dl / g or more. On the other hand, when the intrinsic viscosity of the substrate film is higher than the above range, the stiffness of the substrate film is too strong, and the punchability is deteriorated. Therefore, it is preferably 0.57 dl / g or less, more preferably 0.56 dl / g or less.

（サブピーク温度Ｔｓｍ）
基材フィルムのサブピーク温度（Ｔｓｍ、単位：℃）は、２２７℃以上、２４５℃以下であることが好ましい。これによりＯＣＡ打ち抜き性の向上効果を高くすることができる。Ｔｓｍは、低すぎると打ち抜き生が悪化する傾向にある。かかる観点から、Ｔｓｍは、さらに好ましくは２３０℃以上である。他方、高すぎると、基材フィルムの結晶化が進みすぎ、機械的強度が下がってしまう。かかる観点から、Ｔｓｍは、より好ましくは２４２℃以下、さらに好ましくは２３９℃以下である。
なお、上記Ｔｓｍを達成する為には、後述する基材フィルムの好ましい製造方法を採用すればよい。 (Sub-peak temperature Tsm)
The sub-peak temperature (Tsm, unit: ° C) of the base film is preferably 227 ° C or higher and 245 ° C or lower. Thereby, the improvement effect of OCA punching property can be made high. If Tsm is too low, punching tends to deteriorate. From this viewpoint, Tsm is more preferably 230 ° C. or higher. On the other hand, when too high, crystallization of a base film will advance too much and mechanical strength will fall. From this viewpoint, Tsm is more preferably 242 ° C. or lower, and further preferably 239 ° C. or lower.
In addition, what is necessary is just to employ | adopt the preferable manufacturing method of the base film mentioned later in order to achieve said Tsm.

（密度）
基材フィルムの密度は、１．４０１ｇ／ｃｍ^３以上、１．４１０ｇ／ｃｍ^３以下であることが好ましい。これによりＯＣＡ打ち抜き性の向上効果を高くすることができる。密度は低すぎると打ち抜き性が悪化する傾向にある。かかる観点から、密度は、より好ましくは１．４０２ｇ／ｃｍ^３以上である。他方、高すぎると、フィルムが脆くなり、打ち抜き、裁断時などの取り扱い性が低下するため好ましくない。かかる観点から、密度は、より好ましくは１．４０８ｇ／ｃｍ^３以下、さらに好ましくは１．４０６ｇ／ｃｍ^３以下である。
なお、上記密度を達成するためには、後述する基材フィルムの好ましい製造方法を採用すればよい。 (density)
The density of the base film is preferably 1.401 g / cm ³ or more and 1.410 g / cm ³ or less. Thereby, the improvement effect of OCA punching property can be made high. If the density is too low, the punchability tends to deteriorate. From this viewpoint, the density is more preferably 1.402 g / cm ³ or more. On the other hand, if it is too high, the film becomes fragile, and handling properties such as punching and cutting are lowered, which is not preferable. From this viewpoint, the density is more preferably 1.408 g / cm ³ or less, and still more preferably 1.406 g / cm ³ or less.
In addition, what is necessary is just to employ | adopt the preferable manufacturing method of the base film mentioned later in order to achieve the said density.

（表面粗さ）
本発明においては、ＯＣＡ粘着層のヘーズ上昇を防ぐ為に、離型層表面における１０点平均粗さＲｚが６５０ｎｍ以上、１２００ｎｍ以下であることが好ましい。このためには、基材フィルム表面（離型層を形成する側の表面であって、離型層を形成する前の表面）における１０点平均粗さＲｚは、６００ｎｍ以上、１２００ｎｍの範囲であることが好ましく、基材フィルムの１０点平均粗さＲｚを上記数値範囲とすることによって、離型層形成後の離型フィルム表面（離型層表面）におけるＲｚを調整しやすくなり、離型フィルムを剥離した後のＯＣＡのヘーズが上昇するのを防ぐことができる。
基材フィルムの１０点平均１０点Ｒｚを上記数値範囲とするためには、基材フィルムに無機又は有機物の粒子を添加することで調整することができる。又、回転冷却ドラムへの接地面も重要であり、接地面は非接地面よりも平滑になる傾向がある。 (Surface roughness)
In the present invention, in order to prevent haze increase of the OCA adhesive layer, the 10-point average roughness Rz on the surface of the release layer is preferably 650 nm or more and 1200 nm or less. For this purpose, the 10-point average roughness Rz on the substrate film surface (the surface on the side where the release layer is formed and before the release layer is formed) is in the range of 600 nm or more and 1200 nm. Preferably, by setting the 10-point average roughness Rz of the base film within the above numerical range, it becomes easier to adjust Rz on the release film surface (release layer surface) after the release layer is formed. The haze of OCA after peeling off can be prevented from rising.
In order to make 10-point average 10-point Rz of the base film within the above numerical range, it can be adjusted by adding inorganic or organic particles to the base film. The ground contact surface to the rotating cooling drum is also important, and the ground contact surface tends to be smoother than the non-ground surface.

（粒子）
本発明において基材フィルムに含有することが好ましい粒子としては、有機粒子、無機粒子のいずれであっても良いが、酸化チタン粒子、酸化ケイ素粒子、硫酸バリウム粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化マグネシウム粒子、炭酸カルシウム粒子、カオリン粒子、タルク粒子等のような無機粒子、ポリスチレン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子等のような有機粒子が挙げられる。有機粒子としては、ポリエチレン粒子、ポリプロピレン粒子、エチレン−プロピレンターポリマー粒子、オレフィン系アイオノマー粒子等のような他の樹脂粒子も挙げられる。これらのうち１種又は２種以上用いてもよい。本発明においては、より好ましい表面粗さ、光線透過率、ヘーズ値が得られるという観点から、無機粒子が好ましい。とりわけ、酸化チタン粒子、シリカ粒子が好ましい。また、基材フィルム中にボイドが形成され難く、透明性に優れるという点、また、適した表面態様が得やすいという点から、塊状粒子が好ましい。とりわけ好ましい粒子は、塊状シリカ粒子である。 (particle)
In the present invention, the particles preferably contained in the base film may be either organic particles or inorganic particles. However, titanium oxide particles, silicon oxide particles, barium sulfate particles, aluminum oxide particles, magnesium oxide particles, Examples include inorganic particles such as calcium carbonate particles, kaolin particles, and talc particles, and organic particles such as polystyrene resin particles, acrylic resin particles, urea resin particles, and melamine resin particles. Examples of organic particles include other resin particles such as polyethylene particles, polypropylene particles, ethylene-propylene terpolymer particles, and olefinic ionomer particles. You may use 1 type (s) or 2 or more types among these. In the present invention, inorganic particles are preferable from the viewpoint of obtaining more preferable surface roughness, light transmittance, and haze value. In particular, titanium oxide particles and silica particles are preferable. In addition, bulky particles are preferable from the viewpoint that voids are hardly formed in the base film, the transparency is excellent, and a suitable surface state is easily obtained. Particularly preferred particles are massive silica particles.

基材フィルムにおける粒子の平均粒径は、０．１μｍ以上、３μｍ以下が好ましい。また、含有量は、基材フィルムの質量を基準として、０．０２質量％以上、０．０８質量％以下が好ましい。このような態様とすることによって、基材フィルム表面におけるＲｚを、上述したごとく本発明における好ましい範囲としやすくなり、それにより本発明における好ましい離型層表面のＲｚを達成しやすくなる。平均粒径が大きすぎたり、含有量が多すぎたりすると、Ｒｚが大きくなりすぎる傾向にあり、他方平均粒径が小さすぎたり、含有量が少なすぎたりすると、Ｒｚが小さくなりすぎる傾向にある。このような観点から、平均粒径は、０．１μｍ以上がより好ましく、０．２μｍ以上がさらに好ましく、２．５μｍ以下がより好ましく、２．０μｍ未満がさらに好ましい。また含有量は、０．０２５質量％以上がより好ましく、０．０３質量％以上がさらに好ましく、０．０７質量％以下がより好ましく、０．０６質量％以下がさらに好ましい。 The average particle size of the particles in the base film is preferably 0.1 μm or more and 3 μm or less. The content is preferably 0.02% by mass or more and 0.08% by mass or less based on the mass of the base film. By setting it as such an aspect, it becomes easy to make Rz in the base film surface into the preferable range in this invention as mentioned above, and, thereby, it becomes easy to achieve Rz of the preferable mold release layer surface in this invention. If the average particle size is too large or the content is too large, Rz tends to be too large, while if the average particle size is too small or the content is too small, Rz tends to be too small. . From such a viewpoint, the average particle diameter is more preferably 0.1 μm or more, further preferably 0.2 μm or more, more preferably 2.5 μm or less, and further preferably less than 2.0 μm. Moreover, 0.025 mass% or more is more preferable, as for content, 0.03 mass% or more is further more preferable, 0.07 mass% or less is more preferable, and 0.06 mass% or less is further more preferable.

本発明においては、異なる種類や、異なる粒子径の２種以上の粒子を併用することができる。例えば、比較的粒径の大きな塊状粒子と、比較的粒径の小さな粒子、好ましくは球状粒子を併用することができる。これにより、比較的小さな粒子によりフィルム表面に微細な凹凸が形成され、滑り性の向上効果が高くなり好ましい。 In the present invention, two or more kinds of particles having different kinds or different particle diameters can be used in combination. For example, massive particles having a relatively large particle diameter can be used in combination with particles having a relatively small particle diameter, preferably spherical particles. Thereby, fine irregularities are formed on the film surface by relatively small particles, and the effect of improving slipperiness is increased, which is preferable.

（積層構成）
また、本発明における基材フィルムは、単層フィルムであってもよいし、離型層を形成する表面となる表層と芯層とを有する、２層以上の積層フィルムであってもよい。例えば、２〜５層の積層フィルム（例えば、表層／芯層の２層構成や、表層／芯層／表層の３層構成、表層／芯層１／芯層２／表層の４層構成等）が好ましく、特に、表層と芯層とからなる３層フィルム（表層／芯層／表層の構成）であることが好ましく、これにより、表層に含有される粒子による表面突起形成と、芯層に含有される粒子による芯層からの突き上げによる表面突起形成との両方を調整できるようになり、Ｒｚをより達成しやすくなる。 (Laminated structure)
In addition, the base film in the present invention may be a single layer film, or may be a laminated film of two or more layers having a surface layer and a core layer to be a surface for forming a release layer. For example, a laminated film of 2 to 5 layers (for example, a two-layer structure of surface layer / core layer, a three-layer structure of surface layer / core layer / surface layer, a four-layer structure of surface layer / core layer 1 / core layer 2 / surface layer, etc.) In particular, a three-layer film (surface layer / core layer / surface layer structure) composed of a surface layer and a core layer is preferable, whereby surface protrusion formation by particles contained in the surface layer and inclusion in the core layer are preferable. It becomes possible to adjust both the surface protrusion formation by pushing up from the core layer by the particles formed, and it becomes easier to achieve Rz.

かかる積層フィルムにおいても、粒子の平均粒径の好ましい範囲は単層の場合と同様である。また、含有量については、表層においては、表層の質量を基準として０．０１質量％以上、０．０３質量％以下であることが好ましい。また、芯層においては、芯層の質量を基準として０．０３質量％以上、０．０９質量％以下であることが好ましい。これによりＲｚを達成しやすくなる。 Also in such a laminated film, the preferred range of the average particle diameter of the particles is the same as in the case of a single layer. The content of the surface layer is preferably 0.01% by mass or more and 0.03% by mass or less based on the mass of the surface layer. Moreover, in a core layer, it is preferable that they are 0.03 mass% or more and 0.09 mass% or less on the basis of the mass of a core layer. This makes it easier to achieve Rz.

また、積層フィルムの場合、離型層側となる表層の厚み（１層の厚み）は、１〜８μｍであることが好ましく、さらに好ましくは２〜５μｍであり、上述した粒子の態様と合わせて、Ｒｚが達成しやすくなる。また、芯層の厚み（複数の芯層を有する場合は、それらの合計の厚み）は、１５〜１８６μｍであることが好ましく、さらに好ましくは２５〜１７５μｍである。このような態様とすることで、離型層を形成する側のフィルム表面に、芯層が含有する粒子に起因する突起が形成されて、Ｒｚがより達成しやすくなる。
又、基材フィルムには、本発明の目的を損なわない限りにおいて、必要に応じて酸化防止剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤、帯電防止剤等の添加剤を含有することもできる。 In the case of a laminated film, the thickness of the surface layer (one layer thickness) on the release layer side is preferably 1 to 8 μm, more preferably 2 to 5 μm, and in combination with the above-described particle mode. , Rz is easily achieved. Further, the thickness of the core layer (in the case of having a plurality of core layers, the total thickness thereof) is preferably 15 to 186 μm, and more preferably 25 to 175 μm. By setting it as such an aspect, the processus | protrusion resulting from the particle | grains which a core layer contains is formed in the film surface of the side which forms a release layer, and Rz becomes easier to achieve.
In addition, the base film may contain additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a fluorescent brightener, and an antistatic agent as necessary, as long as the object of the present invention is not impaired.

＜離型層＞
本発明における離型層は、付加型シリコーン及び縮合型シリコーンを用いることができるが、生産性の点から、反応の速い付加型シリコーンが好ましく用いられる。縮合型シリコーンは、生産時に十分に硬化しにくいため、離型層を形成する工程内の搬送ローラーにシリコーンが転写し、堆積し、堆積したシリコーンがフィルムに再度移行することにより異物欠点となる場合がある。また、離型性の点からも、樹脂変性シリコーンは、ＯＣＡのセパレーターとして用いられる離型フィルムとして好適に用いられる剥離力領域を達成することが比較的困難である。このような観点からも、付加型シリコーンが好適に用いられる。 <Release layer>
As the release layer in the present invention, addition type silicone and condensation type silicone can be used. From the viewpoint of productivity, addition type silicone having a quick reaction is preferably used. Condensation type silicone is difficult to cure sufficiently during production, so that the silicone is transferred to the transfer roller in the process of forming the release layer, and deposited, and the deposited silicone is transferred to the film, resulting in a foreign matter defect. There is. Also, from the viewpoint of releasability, it is relatively difficult for the resin-modified silicone to achieve a peeling force region that is suitably used as a release film used as an OCA separator. From this point of view, addition type silicone is preferably used.

本発明における離型層の厚みは、０．０１〜１μｍが好ましい。離型層の厚みが上記数値範囲にあると、ＯＣＡのセパレーター用として適した離型性を得ることが容易となる。このような観点から、厚みは、さらに好ましくは０．０５〜０．５μｍ、特に好ましくは０．０８〜０．３μｍである。 As for the thickness of the mold release layer in this invention, 0.01-1 micrometer is preferable. When the thickness of the release layer is in the above numerical range, it becomes easy to obtain release properties suitable for OCA separators. From such a viewpoint, the thickness is more preferably 0.05 to 0.5 μm, and particularly preferably 0.08 to 0.3 μm.

＜離型フィルムの製造方法＞
（基材フィルムの製造方法）
本発明における基材フィルムは、二軸延伸フィルムであることが好ましい。かかる二軸延伸フィルムは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、ポリエステルからなる二軸延伸フィルムの場合は、まず、ポリエステルを乾燥する。かかる乾燥においては、例えば乾燥機内の湿度を調整する等によりポリエステル中の水分含有量を調整することができ、それにより得られるフィルムの固有粘度を調整することができる。次いで、Ｔｍ〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｍはポリエステルの融点（単位：℃）を表す。）で押出機にて溶融し、ダイ（例えばＴ−ダイ、Ｉ−ダイ等）から回転冷却ドラム上に押出し、２０〜９０℃で急冷して未延伸フィルムを製造し、次いで、該未延伸フィルムを（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｇはポリエステルのガラス転移点温度（単位：℃）を表す。）で縦方向に２．５〜８．０倍、好ましくは２．９〜５．０倍、さらに好ましくは３．２〜４．０倍の倍率で延伸し、横方向に３．３〜４．５倍、好ましくは３．４〜４．０倍で延伸し、２２５〜２４５℃の温度で１〜６０秒間熱固定することにより製造できる。延伸倍率を上記数値範囲とすることによって、厚み斑をより小さくすることができるばかりでなく、本発明が規定する屈折率の態様としやすくなり、良好な打ち抜き性が得やすくなる。又、熱固定温度を上記範囲とすることで、本発明が好ましく規定する密度を得ることができ、打ち抜き性をさらに良いものとすることができる。熱固定条件については、基材フィルムのサブピーク温度が２２７℃以上、さらには２３０℃以上、また、２４５℃以下、より好ましくは２４２℃以下、さらには２３９℃以下となる条件が好ましい。例えば上記温度範囲である。このようなサブピーク温度とすることによって、打ち抜き性の向上効果を高くすることができる。 <Method for producing release film>
(Manufacturing method of base film)
The base film in the present invention is preferably a biaxially stretched film. Such a biaxially stretched film can be produced by a conventionally known method. For example, in the case of a biaxially stretched film made of polyester, the polyester is first dried. In such drying, the moisture content in the polyester can be adjusted, for example, by adjusting the humidity in the dryer, and the intrinsic viscosity of the resulting film can be adjusted. Next, it is melted in an extruder at a temperature of Tm to (Tm + 70) ° C. (where Tm represents the melting point (unit: ° C.) of the polyester), and is rotationally cooled from a die (for example, T-die, I-die, etc.). Extruded onto a drum, rapidly cooled at 20 to 90 ° C. to produce an unstretched film, and then the unstretched film was subjected to a temperature of (Tg-10) to (Tg + 70) ° C. (where Tg is the glass transition temperature of the polyester) (Unit: ° C.)) is stretched at a magnification of 2.5 to 8.0 times, preferably 2.9 to 5.0 times, more preferably 3.2 to 4.0 times in the longitudinal direction. It can be produced by stretching in the transverse direction by 3.3 to 4.5 times, preferably 3.4 to 4.0 times, and heat-fixing at a temperature of 225 to 245 ° C. for 1 to 60 seconds. By setting the draw ratio within the above numerical range, not only can the thickness unevenness be reduced, but also the mode of the refractive index defined by the present invention can be easily obtained, and good punchability can be easily obtained. Further, by setting the heat setting temperature within the above range, the density preferably defined by the present invention can be obtained, and the punchability can be further improved. As for the heat setting condition, a condition in which the sub-peak temperature of the base film is 227 ° C. or higher, further 230 ° C. or higher, 245 ° C. or lower, more preferably 242 ° C. or lower, and further 239 ° C. or lower is preferable. For example, the above temperature range. By setting it as such subpeak temperature, the improvement effect of punching property can be made high.

なお、本発明における基材フィルムの厚みは、基材フィルムとして適度なコシがあれば特に限定されないが、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、さらに好ましくは３０μｍ以上である。他方、厚すぎると打ち抜き加工性の向上効果が低くなる傾向にあり、好ましくは１７７μｍ以下、より好ましくは１２５μｍ以下、さらに好ましくは１００μｍ以下、特に好ましくは７０μｍ以下である。このような範囲であると、ＯＣＡセパレーターとして好適である。 In addition, the thickness of the base film in the present invention is not particularly limited as long as the base film has an appropriate stiffness, but is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, and further preferably 30 μm or more. On the other hand, if it is too thick, the effect of improving the punchability tends to be low, and it is preferably 177 μm or less, more preferably 125 μm or less, still more preferably 100 μm or less, and particularly preferably 70 μm or less. Within such a range, it is suitable as an OCA separator.

（離型層の形成方法）
本発明における離型層は、離型層を構成する各構成成分を含有する塗液（以下、離型層塗液と呼称する場合がある。）を、基材フィルム上に塗布し、乾燥、硬化することによって形成する。塗布する面は、離型層表面のＲｚを好ましい値にしやすいという観点から、基材フィルムにおいて、樹脂をダイより押し出して、回転冷却ドラムに接した側の面が好ましい。 (Formation method of release layer)
The release layer in the present invention is a coating liquid containing each component constituting the release layer (hereinafter sometimes referred to as a release layer coating liquid) is applied on a base film, dried, It is formed by curing. The surface to be coated is preferably the surface on the side of the base film that is in contact with the rotary cooling drum by extruding the resin from the die from the viewpoint that the Rz on the surface of the release layer is easily set to a preferred value.

離型層塗液を基材フィルムに塗布するための塗布方法としては、公知の任意の塗布方法が適用でき、例えばグラビアロールコート法、リバースロールコート法、ダイコート法、キスコート法、リバースキスコート法、オフセットグラビアコート法、マイヤーバーコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法、ドクターブレード法等を単独または組み合わせて適用することができる。また、ハジキなど塗布外観の安定性を向上させる目的で、塗液には若干量の界面活性剤を含有させることができる。 As a coating method for applying the release layer coating liquid to the base film, any known coating method can be applied, for example, gravure roll coating method, reverse roll coating method, die coating method, kiss coating method, reverse kiss coating method. The offset gravure coating method, the Mayer bar coating method, the roll brush method, the spray coating method, the air knife coating method, the impregnation method, the curtain coating method, the doctor blade method and the like can be applied alone or in combination. Further, for the purpose of improving the stability of the coating appearance such as repelling, the coating liquid can contain a slight amount of a surfactant.

離型層塗液を塗布後、乾燥、および硬化する条件としては、１００℃以上、１８０℃以下の温度で１０秒以上、１２０秒以下の時間加熱することが好ましく、１１０℃以上、１６０℃以下の温度で２０秒以上、９０秒以下の時間加熱することがさらに好ましく、１２０℃以上、１４０℃以下の温度で３０秒以上、６０秒以下の時間加熱することが特に好ましい。上記のごとく乾燥条件を採用することによって、離型層の強度をより高くすることができ、更にはポリエステルフィルムの熱シワの発生を抑えることができる。 As conditions for drying and curing after applying the release layer coating solution, it is preferable to heat at a temperature of 100 ° C. or higher and 180 ° C. or lower for 10 seconds or longer and 120 seconds or shorter, 110 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. It is more preferable to heat at a temperature of 20 seconds to 90 seconds, and particularly preferable to heat at a temperature of 120 ° C. to 140 ° C. for 30 seconds to 60 seconds. By adopting the drying conditions as described above, the strength of the release layer can be further increased, and furthermore, the generation of heat wrinkles in the polyester film can be suppressed.

＜離型フィルムの特性＞
（突き刺し強度測定時の伸び）
本発明の離型フィルムは、先端径４ｍｍの突き刺し治具を用いて測定した突き刺し強度測定時の伸びの値が８．５ｍｍ以下であることが好ましい。このような態様であると、打ち抜き性に優れる。突き刺し時の伸びが大きすぎると、打ち抜き性に劣る。このような観点から、上記突き刺し時の伸びは、より好ましくは８．２ｍｍ以下、さらに好ましくは８．０ｍｍ以下である。打ち抜き性の観点からは、かかる伸びの値は小さい方がこのましく、その下限は好ましくは０ｍｍである。
上記のような突き刺し時の伸びは、基材フィルムの製膜条件を調整することにより達成でき、例えば延伸倍率を高く、結晶化温度を高くすることにより、伸びは小さくなる傾向にある。 <Characteristics of release film>
(Elongation at the time of piercing strength measurement)
The release film of the present invention preferably has an elongation value of 8.5 mm or less measured at the piercing strength measured using a piercing jig having a tip diameter of 4 mm. With such an embodiment, the punchability is excellent. If the elongation at the time of piercing is too large, the punchability is poor. From such a viewpoint, the elongation at the time of piercing is more preferably 8.2 mm or less, and still more preferably 8.0 mm or less. From the viewpoint of punchability, the smaller the elongation value, the better. The lower limit is preferably 0 mm.
The elongation at the time of piercing as described above can be achieved by adjusting the film forming conditions of the substrate film. For example, the elongation tends to be small by increasing the draw ratio and increasing the crystallization temperature.

（剥離力）
本発明における離型フィルムは、離型層表面における常温剥離力（常温測定時における剥離力）が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上、１００ｍＮ／２５ｍｍ以下であることが好ましい。常温剥離力が上記数値範囲にあると、ＯＣＡ粘着層との剥離力が安定し、またＯＣＡセパレーターとして適度な剥離力で剥離することができる。常温剥離力が低すぎると、ＯＣＡの製造工程でＯＣＡ粘着層と離型フィルムとの間で浮きが生じ易くなる傾向にある。このような観点から、常温剥離力は、より好ましくは２０ｍＮ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは３０ｍＮ／２５ｍｍ以上である。他方、高すぎると、セパレーターとしての離型フィルムを剥離する際に、離型フィルムとＯＣＡ粘着層との界面で上手く剥がれずに、キャリアフィルムとＯＣＡ粘着層との界面から先に剥がれてしまう等の問題が生じてしまう。このような観点から、常温剥離力は、より好ましくは８０ｍＮ／２５ｍｍ以下、さらに好ましくは６０ｍＮ／２５ｍｍ以下、特に好ましくは５０ｍＮ／２５ｍｍ以下である。 (Peeling force)
The release film in the present invention preferably has a room temperature peeling force (peeling force at room temperature measurement) on the surface of the release layer of 10 mN / 25 mm or more and 100 mN / 25 mm or less. When the room temperature peeling force is in the above numerical range, the peeling force with the OCA adhesive layer is stable, and the OCA separator can be peeled with an appropriate peeling force. When the room temperature peeling force is too low, there is a tendency that floating is likely to occur between the OCA adhesive layer and the release film in the OCA manufacturing process. From such a viewpoint, the room temperature peeling force is more preferably 20 mN / 25 mm or more, and further preferably 30 mN / 25 mm or more. On the other hand, if it is too high, when the release film as a separator is peeled off, it does not peel off well at the interface between the release film and the OCA adhesive layer, but peels off first from the interface between the carrier film and the OCA adhesive layer, etc. Problem arises. From such a viewpoint, the room temperature peeling force is more preferably 80 mN / 25 mm or less, further preferably 60 mN / 25 mm or less, and particularly preferably 50 mN / 25 mm or less.

また、離型層表面における加熱剥離力（７０℃２０時間加熱後測定における剥離力）は、１０ｍＮ／２５ｍｍ以上、１００ｍＮ／２５ｍｍ以下であることが好ましい。加熱剥離力が上記数値範囲にあると、高温に晒されたとしてもＯＣＡ粘着層との剥離力が安定し、また高温に晒されたとしてもＯＣＡセパレーターとして適度な剥離力で剥離することができる。加熱剥離力が低すぎると、ＯＣＡの製造工程でＯＣＡ粘着層と離型フィルムとの間で浮きが生じ易くなる傾向にある。このような観点から、加熱剥離力は、より好ましくは２０ｍＮ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは３０ｍＮ／２５ｍｍ以上、特に好ましくは４０ｍＮ／２５ｍｍ以上である。他方、高すぎるとセパレーター剥離時に、セパレーターとＯＣＡ粘着層との界面で上手く剥がれずに、キャリアフィルムとＯＣＡ粘着層との界面から先に剥がれてしまう問題が生じてしまう。このような観点から、加熱剥離力は、より好ましくは８０ｍＮ／２５ｍｍ以下、さらに好ましくは７０ｍＮ／２５ｍｍ以下、特に好ましくは６０ｍＮ／２５ｍｍ以下である。 Moreover, it is preferable that the heat peeling force (peeling force in the measurement after heating at 70 ° C. for 20 hours) on the release layer surface is 10 mN / 25 mm or more and 100 mN / 25 mm or less. When the heat peeling force is within the above numerical range, the peeling force with the OCA adhesive layer is stable even when exposed to high temperatures, and it can be peeled with an appropriate peeling force as an OCA separator even when exposed to high temperatures. . When the heat peeling force is too low, there is a tendency that floating tends to occur between the OCA adhesive layer and the release film in the OCA production process. From such a viewpoint, the heat peeling force is more preferably 20 mN / 25 mm or more, further preferably 30 mN / 25 mm or more, and particularly preferably 40 mN / 25 mm or more. On the other hand, if it is too high, there will be a problem that when the separator is peeled off, it does not peel off well at the interface between the separator and the OCA adhesive layer, but peels off first from the interface between the carrier film and the OCA adhesive layer. From such a viewpoint, the heat peeling force is more preferably 80 mN / 25 mm or less, further preferably 70 mN / 25 mm or less, and particularly preferably 60 mN / 25 mm or less.

このように、常温剥離力と加熱剥離力との剥離力差が小さいことは、ＯＣＡセパレーターとして特に好適である。かかる剥離力差は、好ましくは２０ｍＮ／２５ｍｍ以下、より好ましくは１５ｍＮ／２５ｍｍ以下、さらに好ましくは１２ｍＮ／２５ｍｍ以下、特に好ましくは１０ｍＮ／２５ｍｍ以下である。 Thus, a small peel force difference between the room temperature peel force and the heat peel force is particularly suitable as an OCA separator. The difference in peeling force is preferably 20 mN / 25 mm or less, more preferably 15 mN / 25 mm or less, further preferably 12 mN / 25 mm or less, and particularly preferably 10 mN / 25 mm or less.

上記剥離力は、離型層の態様を適宜調整することにより達成することができる。すなわち、離型層がシリコーン系である場合は、用いられるシリコーンの架橋点を少なくしたり、塗膜厚みを厚くしたりすると、常温剥離力は高くなる傾向にある。また、残存するＳｉ−Ｈを減少させると、加熱剥離力は低くなる傾向にあり、残存するＳｉ−Ｈを多くすると、加熱剥離力は高くなる傾向にある。 The peeling force can be achieved by appropriately adjusting the mode of the release layer. That is, when the release layer is of a silicone type, the room temperature peeling force tends to increase when the number of crosslinking points of the silicone used is reduced or the coating film thickness is increased. Further, when the remaining Si—H is decreased, the heat peeling force tends to decrease, and when the remaining Si—H is increased, the heat peeling force tends to increase.

（残留接着率）
本発明における離型フィルムの離型層表面における残留接着力は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９５％以上である。残留接着率の値が前記範囲であると、離型層からの移行成分が少なく、品質のより優れた、すなわち接着性のより安定したＯＣＡを得ることができる。
かかる残留接着率は、離型層からの移行成分を低減することにより達成できる。例えば、未反応成分を低減させたり、架橋反応を十分に進行させたりすればよい。 (Residual adhesion rate)
The residual adhesive force on the surface of the release layer of the release film in the present invention is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 95% or more. When the value of the residual adhesion rate is within the above range, there can be obtained an OCA with less migration components from the release layer and better quality, that is, more stable adhesion.
Such residual adhesion rate can be achieved by reducing the migration component from the release layer. For example, unreacted components may be reduced or the crosslinking reaction may be sufficiently advanced.

（密着性）
本発明における離型フィルムは、基材フィルムへの離型層の密着性にも優れたものであることが望ましい。離型層の密着性が悪いと、ハンドリングの際の擦れにより離型層が脱落したり、ＯＣＡから離型フィルムを剥離した際にＯＣＡ面に離型層が転写することがあり好ましくない。離型層の基材フィルムに対する密着性を高くするには、基材フィルムにあらかじめ密着向上の前処理を行う、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等の方法があり、本発明においてはこれらを採用することが好ましい。 (Adhesion)
The release film in the present invention is desirably excellent in adhesion of the release layer to the base film. If the release layer has poor adhesion, the release layer may fall off due to rubbing during handling, or the release layer may be transferred to the OCA surface when the release film is peeled off from the OCA. In order to increase the adhesion of the release layer to the substrate film, there are methods such as corona treatment, plasma treatment, flame treatment, etc., in which the substrate film is pretreated to improve adhesion beforehand, and these are employed in the present invention. It is preferable to do.

（光学用透明粘着シート）
以上のような本発明の離型フィルムを用いて、光学用透明粘着シート（ＯＣＡ）を作成することができる。かかるＯＣＡは、ＯＣＡ粘着層の両面に離型フィルムを有する積層体の構成を有する。かかる積層体における離型フィルムの少なくとも一方として、本発明の離型フィルムを採用することが好ましい。とりわけ、セパレーター（軽剥離）側の離型フィルムとして、本発明の離型フィルムを採用することが好ましい。 (Optical transparent adhesive sheet)
An optical transparent adhesive sheet (OCA) can be prepared using the release film of the present invention as described above. Such OCA has a configuration of a laminate having release films on both sides of the OCA adhesive layer. It is preferable to employ the release film of the present invention as at least one of the release films in the laminate. In particular, it is preferable to employ the release film of the present invention as the release film on the separator (light release) side.

以下、実施例により本発明をさらに説明する。なお、各特性値は以下の方法で測定した。 Hereinafter, the present invention will be further described by examples. Each characteristic value was measured by the following method.

（１）剥離力
（１−１）常温剥離力
サンプルフィルムの離型層表面にポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ、日東電工株式会社製）を貼り合わせ、５ｋｇの圧着ローラーで圧着した後、離型層と粘着テープとの剥離カ（単位：ｍＮ／２５ｍｍ）を引張り試験機にて測定した。剥離角度は１８０度、ヘッドスピードは３００ｍｍ／分とした。任意の５箇所の平均値として、常温剥離力を求めた。 (1) Peeling force (1-1) Room temperature peeling force A polyester pressure-sensitive adhesive tape (No. 31B, manufactured by Nitto Denko Corporation) is bonded to the surface of the release layer of the sample film, and after being pressure-bonded with a 5 kg pressure roller, the mold is released. The peeling force (unit: mN / 25 mm) between the layer and the adhesive tape was measured with a tensile tester. The peeling angle was 180 degrees and the head speed was 300 mm / min. The room temperature peeling force was determined as an average value at any five locations.

（１−２）加熱剥離力
サンプルフィルムの離型層表面にポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ、日東電工株式会社製）を貼り合わせ、５ｋｇの圧着ローラーで圧着した後、サンプル上に２０ｇ／ｃｍ^２の重りを乗せて７０℃のオーブンで２０時間加熱した後、取り出して室温にて冷ました後に、上記と同様にして離型層と粘着テープとの剥離力（単位：ｍＮ／２５ｍｍ）を引張り試験機にて測定した。任意の５箇所の平均値として、加熱剥離力求めた。 (1-2) Heat-peeling force A polyester adhesive tape (No. 31B, manufactured by Nitto Denko Corp.) is bonded to the surface of the release layer of the sample film, and after crimping with a 5 kg pressure roller, 20 g / cm ² on the sample. After heating for 20 hours in an oven at 70 ° C. and taking out and cooling at room temperature, a tensile test was performed on the peel strength (unit: mN / 25 mm) between the release layer and the adhesive tape in the same manner as above. Measured with a machine. The heat peeling force was determined as an average value at any five locations.

（２）残留接着率
ポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ、日東電工株式会社製）を、ＪＩＳＧ４３０５に規定する冷間圧延ステンレス板（ＳＵＳ３０４）に貼り付けた後、それを剥離して剥離力を測定し、基礎接着力（ｆ_０）（単位：Ｎ／２５ｍｍ）とした。次に新しいポリエステル粘着テープをサンプルフィルムの離型層表面に５ｋｇの圧着ローラーで圧着した後、３０秒間放置してから粘着テープを剥がした。そして、この剥がしたポリエステル粘着テープを前記ステンレス板に貼り付け、それを剥離して剥離力を測定し残留接着力（ｆ）（単位：Ｎ／２５ｍｍ）とした。得られた基礎接着力（ｆ_０）と残留接着カ（ｆ）とから下記式を用いて残留接着率を求めた。
残留接着率（％）＝（ｆ／ｆ_０）×１００
本発明において残留接着力は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９５％以上であり、離型層からの移行成分が少なく、品質のより優れた（接着性のより安定した）ＯＣＡを得ることができる。 (2) Residual adhesion rate After sticking a polyester pressure-sensitive adhesive tape (No. 31B, manufactured by Nitto Denko Corporation) on a cold-rolled stainless steel plate (SUS304) specified in JIS G4305, it was peeled and the peel strength was measured. And the basic adhesive strength (f ₀ ) (unit: N / 25 mm). Next, after a new polyester pressure-sensitive adhesive tape was pressure-bonded to the surface of the release layer of the sample film with a 5 kg pressure roller, it was left for 30 seconds and then peeled off. And this peeled polyester adhesive tape was affixed on the said stainless steel plate, it peeled, the peeling force was measured, and it was set as the residual adhesive force (f) (unit: N / 25mm). From the obtained basic adhesive force (f ₀ ) and the residual adhesive force (f), the residual adhesive rate was determined using the following formula.
Residual adhesion rate (%) = (f / f ₀ ) × 100
In the present invention, the residual adhesive strength is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 95% or more. Stable) OCA can be obtained.

（３）密着性
離型フィルムを作成した後、サンプルを温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下で２４時間放置した。次いで、経時処理後のサンプルについて、離型層表面を親指で１０回強く擦り、ラブオフテストを実施した。この時、親指はあらかじめエタノールを含ませたガーゼでよく拭き、脱脂してから上記作業を実施した。得られたラブオフテスト後のサンプルについて、親指で擦った部分における離型層の状態を目視観察し、以下の基準に従って判定した。
○ ：目視にて、離型層に曇りが観測されない。
△ ：目視にて、離型層に多少の曇りが観測された。
× ：目視にて、離型層に曇りが観測された。
さらに、親指で擦った部分にセロハン粘着テープを貼り付け、それを剥離する際の引っ掛かりの度合いについて、以下の基準に従って評価した。引っ掛かりがあるということは、離型層が除去されてしまったことを意味する。
○ ：セロハン粘着テープを剥離する際に、引っ掛かりが無い。
△ ：セロハン粘着テープを剥離する際に、多少の引っ掛かりがある。
× ：セロハン粘着テープを剥離する際に、引っ掛かりがある。
××：セロハン粘着テープを剥離する際に、強い引っ掛かり（離型層が無い部分と同等の引っ掛かり）がある。 (3) Adhesiveness After producing a release film, the sample was left for 24 hours in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH. Next, with respect to the sample after the aging treatment, the release layer surface was rubbed strongly 10 times with the thumb, and a rub-off test was performed. At this time, the thumb was thoroughly wiped with gauze preliminarily containing ethanol and degreased before carrying out the above operation. About the obtained sample after the rub-off test, the state of the release layer in the portion rubbed with the thumb was visually observed and judged according to the following criteria.
○: No cloudiness is observed in the release layer by visual observation.
Δ: Some cloudiness was observed in the release layer visually.
X: Cloudiness was observed in the release layer visually.
Furthermore, the cellophane adhesive tape was affixed to the part rubbed with the thumb, and the degree of catch when peeling it was evaluated according to the following criteria. The presence of catch means that the release layer has been removed.
○: There is no catch when the cellophane adhesive tape is peeled off.
Δ: When the cellophane adhesive tape is peeled off, there is a slight catch.
X: There is a catch when the cellophane adhesive tape is peeled off.
XX: When the cellophane adhesive tape is peeled off, there is a strong catch (a catch equivalent to a part having no release layer).

（４）屈折率
得られたポリエステルフィルムについて、フィルム面内において、縦方向を９０度、横方向を０度として、円方向に１０度毎の屈折率、および厚み方向の屈折率をアッベ法（ＮａＤ線）にて測定した。フィルム面内においては、得られた値の内最大の値を、フィルム面内における最大の屈折率ｎＴＤとした。なお、屈折率の測定は、フィルム製膜において、回転冷却ドラムに接した側の面において行った。 (4) Refractive index With respect to the obtained polyester film, in the film plane, the longitudinal direction is 90 degrees, the lateral direction is 0 degrees, the refractive index every 10 degrees in the circular direction, and the refractive index in the thickness direction are Abbe's methods ( (NaD line). In the film plane, the maximum value among the obtained values was defined as the maximum refractive index nTD in the film plane. The refractive index was measured on the surface on the side in contact with the rotary cooling drum in film formation.

（５）ＯＣＡ加工適正
（５−１）ＯＣＡの作成
平坦なガラス基板上に、キャリアフィルム用離型フィルム（帝人デュポンフィルム株式会社制、品番：Ａ３１−１２５μｍ）を、離型面を上にして置き、該離型フィルムの四辺に厚さ２．０ｍｍのスペーサーを置いて成形下型とし、該離型フィルムの中心部に、混合、脱泡した未硬化の液状シリコーンゲル（旭化成ワッカーシリコーン（株）社製、品番：ＳＬＪ３３６３）を、気泡を巻き込まないように流し入れ、次いで、気泡を巻き込まないように、セパレーター用離型フィルムとしての本発明の離型フィルムの離型面を前記液状シリコーンゲル原料表面に接触被覆し、次いで、セパレーター用離型フィルムの上から上押し型となる平坦なガラス板を乗せて、手で押してスペーサー厚みに成形した。次に、前記成形工程のガラス板型とともに、前記シリコーンゲル原料を熱風式オーブン中で７０℃１時間加熱硬化させ、その後、オーブンから取り出してガラス基板を取り外して、室温まで自然冷却し、ＯＣＡ（キャリアフィルム用離型フィルム／ＯＣＡ粘着層／セパレーター用離型フィルムの構成）を得た。なお、ＯＣＡ粘着層は厚みが３００μｍとなるよう調整した。 (5) Proper OCA processing (5-1) Creation of OCA A carrier film release film (Teijin DuPont Films, product number: A31-125 μm) on a flat glass substrate with the release surface facing up Place a spacer with a thickness of 2.0 mm on the four sides of the release film to form a lower mold, and mix and defoam an uncured liquid silicone gel (Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd.) at the center of the release film. ), Product number: SLJ3363) was poured in so as not to entrap air bubbles, and then the release surface of the release film of the present invention as a release film for a separator was used as the liquid silicone gel raw material so as not to entrain air bubbles. Cover the surface with contact, then place a flat glass plate on top of the release film for the separator, and press it by hand to form a spacer thickness It was. Next, together with the glass plate mold of the molding step, the silicone gel raw material is heated and cured in a hot air oven at 70 ° C. for 1 hour, then removed from the oven, the glass substrate is removed, naturally cooled to room temperature, and OCA ( (Release film for carrier film / OCA adhesive layer / release film for separator)). The OCA adhesive layer was adjusted to have a thickness of 300 μm.

（５−２）打ち抜き性評価
上記により得られたＯＣＡを、本発明の離型フィルム（軽剥離セパレーター）側から、片刃打ち抜き加工した。打ち抜きサンプルを１０点作成し、打ち抜き後のサンプルの状態を以下の基準で評価した。
◎ ：全てのサンプルで打ち抜き面に離型フィルム及びＯＣＡの変形が見られず、打ち抜き性が極めて良好。
○ ：８点以上のサンプルで打ち抜き面に離型フィルム及びＯＣＡの変形が見られず、打ち抜き性が良好。
△ ：６点以上のサンプルで打ち抜き面に離型フィルム及びＯＣＡの変形が見られず、打ち抜き性がやや良好。
× ：半数以上のサンプルに打ち抜き面に離型フィルム及びＯＣＡの変形が見られ、打ち抜き性が不良。
××：全てのサンプルに打ち抜き面に離型フィルム及びＯＣＡの変形が見られ、打ち抜き性が特に不良。 (5-2) Punchability evaluation The OCA obtained as described above was subjected to a single-blade punching process from the release film (light release separator) side of the present invention. Ten punched samples were prepared, and the state of the sample after punching was evaluated according to the following criteria.
A: All samples have no punching surface and no deformation of the release film and OCA, and the punching property is extremely good.
○: Deformation of the release film and OCA is not observed on the punched surface in samples of 8 points or more, and the punchability is good.
Δ: Samples of 6 or more points have no release film and OCA deformation on the punched surface, and the punchability is slightly good.
X: Deformation of the release film and OCA was observed on the punched surface of more than half of the samples, and the punchability was poor.
XX: Deformation of the release film and OCA is observed on the punching surface of all samples, and the punchability is particularly poor.

（６）ガラス転移点温度（Ｔｇ）、融点（Ｔｍ）、サブピーク温度（Ｔｓｍ）
樹脂サンプルの場合は試料１０ｍｇ、フィルムサンプルの場合は試料２０ｍｇを、パーキンエルマー社製のＤＳＣ装置（示差走査熱量計）にセットし、室温から２０℃／分で３００℃まで昇温し、サブピーク温度（Ｔｓｍ）（単位：℃）を測定した。次いで、試料を３００℃の温度で５分間保持した後、液体窒素中で急冷し、この急冷試料を１０℃／分で３００℃付近まで昇温してガラス転移温度（Ｔｇ）（単位：℃）、融点（Ｔｍ）（単位：℃）を測定した。 (6) Glass transition temperature (Tg), melting point (Tm), sub-peak temperature (Tsm)
In the case of a resin sample, 10 mg of the sample, and in the case of a film sample, 20 mg of the sample are set in a DSC apparatus (differential scanning calorimeter) manufactured by PerkinElmer, Inc., and the temperature is raised from room temperature to 300 ° C. at 20 ° C./min. (Tsm) (unit: ° C.) was measured. Next, after holding the sample at a temperature of 300 ° C. for 5 minutes, the sample was rapidly cooled in liquid nitrogen, and the rapidly cooled sample was heated to about 300 ° C. at a rate of 10 ° C./min, and the glass transition temperature (Tg) (unit: ° C.) The melting point (Tm) (unit: ° C.) was measured.

（７）固有粘度
固有粘度（［η］ｄｌ／ｇ）は、２５℃のｏ−クロロフェノール溶液で測定した。 (7) Intrinsic viscosity Intrinsic viscosity ([η] dl / g) was measured with an o-chlorophenol solution at 25 ° C.

（８）密度
硝酸カルシウム水溶液を用いた密度勾配管で、２５℃での浮沈法により測定した。 (8) Density A density gradient tube using an aqueous calcium nitrate solution was measured by a flotation method at 25 ° C.

（９）粒子の平均粒径
試料台上に、粒子の粉体を個々の粒子ができるだけ重らないように散在させ、金スパッター装置によりこの表面に金薄膜蒸着層を厚み２００〜３００オングストロームで形成し、走査型電子顕微鏡を用いて１万〜３満倍で観察し、日本レギュレーター（株）製ルーゼックス５００にて、少なくとも１１０個の粒子について、長径（Ｄｌｉ）、短径（Ｄｓｉ）、および面積円相当径（Ｄｉ）を求めた。
粒子の個数ｎとし、上記で得られた値を下記式に用いて、面積相当粒径（Ｄｉ）の数平均値を平均粒径（Ｄ）とした。 (9) Average particle diameter of particles On a sample stage, powder particles are scattered so that individual particles do not overlap as much as possible, and a gold thin film deposition layer is formed on the surface with a thickness of 200 to 300 angstroms by a gold sputtering device. Then, observed at a magnification of 10,000 to 3 using a scanning electron microscope, and with a Luzex 500 manufactured by Japan Regulator Co., Ltd., the major axis (Dli), minor axis (Dsi), and area of at least 110 particles The equivalent circle diameter (Di) was determined.
The number n of particles was used, and the value obtained above was used in the following formula, and the number average value of the area equivalent particle diameter (Di) was defined as the average particle diameter (D).

（１０）突き刺し強度測定時の伸び
食品衛生法の突き刺し強度試験測定方法に準じて、得られたフィルムサンプルを内径３２ｍｍの治具を用いて面状に固定し、サンプル面に垂直に、先端形状が直径４ｍｍの半円形の針を毎分５０±０.５ｍｍの速度で突き刺し、針が貫通するまでの最大フィルム伸び（単位：ｍｍ）を測定し、突き刺し時の伸びとした。 (10) Elongation at the time of piercing strength measurement According to the piercing strength test measurement method of the Food Sanitation Act, the obtained film sample is fixed in a planar shape using a jig having an inner diameter of 32 mm, and the tip shape is perpendicular to the sample surface. Was pierced with a semicircular needle having a diameter of 4 mm at a speed of 50 ± 0.5 mm per minute, and the maximum film elongation (unit: mm) until the needle penetrated was measured to obtain the elongation at the time of piercing.

［実施例１］
（基材フィルム）
固有粘度０．６５ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートペレット（ＰＥＴ）（ガラス転移点温度Ｔｇ＝７８℃、融点Ｔｍ＝２５８℃、ＤＳＣ法による。）を１００質量部、平均粒径１．７μｍの塊状酸化ケイ素微粒子を０．０５質量部の割合にて混合し、乾燥し、２軸タイプエスクトルーダーにて溶融混合し、冷却ドラム上に押出し、未延伸シートを得た。続いて、かかる未延伸シートを、９０℃で縦延伸倍率３．２倍、１３０℃で横延伸倍率４．４倍に延伸した後、熱固定温度２４０℃で４秒間熱処理し、厚さ５０μの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。なお、得られたフィルムの固有粘度が０．５６ｄｌ／ｇとなるように、ペレットの乾燥条件を調整した。 [Example 1]
(Base film)
100 parts by mass of polyethylene terephthalate pellets (PET) having an intrinsic viscosity of 0.65 dl / g (glass transition temperature Tg = 78 ° C., melting point Tm = 258 ° C. according to DSC method), bulk silicon oxide having an average particle size of 1.7 μm Fine particles were mixed at a ratio of 0.05 part by mass, dried, melted and mixed with a biaxial type extruder, and extruded onto a cooling drum to obtain an unstretched sheet. Subsequently, the unstretched sheet was stretched at 90 ° C. to a longitudinal stretching ratio of 3.2 times and at 130 ° C. to a transverse stretching ratio of 4.4 times, and then heat-treated at a heat setting temperature of 240 ° C. for 4 seconds to obtain a thickness of 50 μm. A biaxially stretched polyester film was obtained. The drying conditions of the pellets were adjusted so that the intrinsic viscosity of the obtained film was 0.56 dl / g.

（離型層）
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０質量部とトルエン３０質量部とからなる混合溶剤に、ポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーン（東レ・ダウコーニング株式会社製：ＬＴＣ３１０）６質量部を溶解し、触媒（東レ・ダウコーニング株式会社製：ＮＣ−２５）をシリコーン１００質量部に対し２質量部の割合で混合して離型層塗液を作成した。この離型層塗液を常法のロールコートにより、上記で得られたポリエステルフィルムの冷却ドラムに接触した面上に塗布し、１３０℃の乾燥温度にて３０秒乾燥し、乾燥膜厚みが０．１０μｍの離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 (Release layer)
In a mixed solvent consisting of 70 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK) and 30 parts by mass of toluene, 6 parts by mass of silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd .: LTC310) containing polydimethylsiloxane as a main component is dissolved. A release layer coating solution was prepared by mixing 2 parts by mass with 100 parts by mass of silicone. This release layer coating solution is applied onto the surface of the polyester film obtained above in contact with the cooling drum by conventional roll coating, and dried at a drying temperature of 130 ° C. for 30 seconds, resulting in a dry film thickness of 0. A 10 μm release layer was formed to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［実施例２］
基材フィルムの縦延伸倍率を３．５倍、横延伸倍率を４．７倍とし、熱固定温度を２４４℃とした以外は実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。
得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Example 2]
Biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm in the same manner as in Example 1 except that the base film has a longitudinal stretching ratio of 3.5 times, a transverse stretching ratio of 4.7 times, and a heat setting temperature of 244 ° C. Got. A release layer was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1 to obtain a release film.
The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［実施例３］
（基材フィルム）
固有粘度０．６５ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートペレット（ＰＥＴ）（ガラス転移点温度Ｔｇ＝７８℃、融点Ｔｍ＝２５８℃、ＤＳＣ法による。）を１００質量部、平均粒径１．７μｍの塊状酸化ケイ素微粒子を０．０２質量部の割合にて混合したものを表層側ポリエステル（Ａ）とし、同様のポリエチレンテレフタレートペレットに、平均粒径１．７μｍの塊状酸化ケイ素粒子を０．０８質量部の割合にて混合したものを芯層側ポリエステル（Ｂ）として準備した後、各ポリエステルを乾燥し、ポリエステル（Ａ）を第１の押し出し機に、ポリエステル（Ｂ）を第２の押し出し機に供給し、溶融状態にして、３層フィードブロック装置を使用して、ポリエステル（Ａ）を表層として２層に分岐させ、ポリエステル（Ｂ）を芯層として１層に分岐させ、表層／芯層／表層の３層積層状態の溶融体として冷却ドラム上に押出し、未延伸シートを得た。続いて、かかる未延伸シートを９０℃で縦延伸倍率３．２倍、１３０℃で横延伸倍率４．５倍に延伸した後、熱固定温度２４０℃、４秒間熱処理し、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。尚、両表層の厚みが２．５μｍ、芯層の厚みが４５μｍとなるよう制御した。 [Example 3]
(Base film)
100 parts by mass of polyethylene terephthalate pellets (PET) having an intrinsic viscosity of 0.65 dl / g (glass transition temperature Tg = 78 ° C., melting point Tm = 258 ° C. according to DSC method), bulk silicon oxide having an average particle size of 1.7 μm A mixture of fine particles at a ratio of 0.02 parts by mass is used as the surface layer side polyester (A), and the same polyethylene terephthalate pellets are mixed with lump silicon oxide particles having an average particle diameter of 1.7 μm at a ratio of 0.08 parts by mass. Prepared as a core layer side polyester (B), each polyester is dried, polyester (A) is supplied to the first extruder, polyester (B) is supplied to the second extruder, and melted. Using a three-layer feed block device, the polyester (A) is branched into two layers as the surface layer, and the polyester (B) is used as the core layer. It was branched into one layer and extruded onto a cooling drum as a melt in a three-layered state of surface layer / core layer / surface layer to obtain an unstretched sheet. Subsequently, the unstretched sheet was stretched at 90 ° C. to a longitudinal stretch ratio of 3.2 times and at 130 ° C. to a transverse stretch ratio of 4.5 times, and then heat-treated at a heat setting temperature of 240 ° C. for 4 seconds to obtain a 50 μm-thick An axially stretched polyester film was obtained. The thicknesses of both surface layers were controlled to 2.5 μm, and the thickness of the core layer was controlled to 45 μm.

（離型層）
得られたポリエステルフィルムに、実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 (Release layer)
A release layer was formed on the obtained polyester film in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［実施例４］
基材フィルムの縦延伸倍率を３．４倍、横延伸倍率を４．３倍とし、熱固定温度を２４０℃とし、又、フィルムの固有粘度が０．５５ｄｌ／ｇとなるようペレットの乾燥条件を調整した以外は実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得て、得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Example 4]
Pellet drying conditions so that the base film has a longitudinal draw ratio of 3.4 times, a transverse draw ratio of 4.3 times, a heat setting temperature of 240 ° C., and an inherent viscosity of the film of 0.55 dl / g. A biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that was adjusted, and a release layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. It was. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［実施例５］
基材フィルムの熱固定温度を２２８℃とした以外は比較例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Example 5]
A biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the heat setting temperature of the base film was 228 ° C. A release layer was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［実施例６］
基材フィルムの縦延伸倍率を３．３倍、横延伸倍率を４．１倍とした以外は実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得て、得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Example 6]
A biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the longitudinal stretching ratio of the base film was 3.3 times and the lateral stretching ratio was 4.1 times. A release layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［比較例１］
基材フィルムの縦延伸倍率を３．５倍、横延伸倍率を４．０倍とし、熱固定温度を２３４℃とした以外は実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Comparative Example 1]
Biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm in the same manner as in Example 1 except that the base film has a longitudinal stretching ratio of 3.5 times, a lateral stretching ratio of 4.0 times, and a heat setting temperature of 234 ° C. Got. A release layer was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［比較例２］
基材フィルムの熱固定温度を２４０℃とした以外は比較例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Comparative Example 2]
A biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the heat setting temperature of the base film was 240 ° C. A release layer was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［比較例３］
基材フィルムの縦延伸倍率を３．５倍、横延伸倍率を３．８倍とし、熱固定温度を２４０℃とした以外は実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Comparative Example 3]
Biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm in the same manner as in Example 1 except that the base film has a longitudinal stretching ratio of 3.5 times, a lateral stretching ratio of 3.8 times, and a heat setting temperature of 240 ° C. Got. A release layer was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［比較例４］
基材フィルムの縦延伸倍率を３．１倍、横延伸倍率を４．８倍とし、熱固定温度を２４０℃とした以外は実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を塗工しようとしたところ、フィルムの破断が多発し、離型フィルムサンプルを得ることができなかった。 [Comparative Example 4]
Biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm in the same manner as in Example 1 except that the base film has a longitudinal stretching ratio of 3.1 times, a lateral stretching ratio of 4.8 times, and a heat setting temperature of 240 ° C. Got. When an attempt was made to apply a release layer to the obtained film in the same manner as in Example 1, the film was frequently broken, and a release film sample could not be obtained.

［比較例５］
基材フィルムの縦延伸倍率を３．０倍、横延伸倍率を３．３倍とし、熱固定温度を２４０℃とした以外は実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Comparative Example 5]
Biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm in the same manner as in Example 1 except that the base film has a longitudinal stretching ratio of 3.0 times, a transverse stretching ratio of 3.3 times, and a heat setting temperature of 240 ° C. Got. A release layer was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［比較例６］
フィルムの固有粘度が０．５９ｄｌ／ｇとなるようペレットの乾燥条件を調整した以外は、実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Comparative Example 6]
A biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the drying conditions of the pellets were adjusted so that the intrinsic viscosity of the film was 0.59 dl / g. A release layer was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

［比較例７］
フィルムの固有粘度が０．５２ｄｌ／ｇとなるようペレットの乾燥条件を調整した以外は、実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を塗工しようとしたところ、フィルムの破断が多発し、離型フィルムサンプルを得ることができなかった。 [Comparative Example 7]
A biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the drying conditions of the pellets were adjusted so that the intrinsic viscosity of the film was 0.52 dl / g. When an attempt was made to apply a release layer to the obtained film in the same manner as in Example 1, the film was frequently broken, and a release film sample could not be obtained.

［比較例８］
基材フィルムの縦延伸倍率を３．０倍、横延伸倍率を４．１倍とした以外は実施例１と同様にして、厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得て、得られたフィルムに実施例１と同様にして離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表１に示す。 [Comparative Example 8]
A film obtained by obtaining a biaxially stretched polyester film having a thickness of 50 μm in the same manner as in Example 1 except that the longitudinal stretch ratio of the base film was 3.0 times and the lateral stretch ratio was 4.1 times. A release layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

本発明の離型フィルムは、ＯＣＡのセパレーターとして好適に用いることができる。 The release film of the present invention can be suitably used as an OCA separator.

Claims

A method for producing a release film comprising a base film and a release layer formed on at least one side of the base film, wherein the base film is 4.1 to 4.7 times the unstretched film in the transverse direction. The maximum refractive index nTD in the film plane is 1.672 to 1.687, the refractive index nZ in the film thickness direction is 1.492 to 1.696, and nZ ≦ 0.444 ×. The manufacturing method of the release film for optical transparent adhesive sheets which satisfy | fills the relational expression of nTD + 0.750 and whose intrinsic viscosity is 0.53-0.58 dl / g.

The manufacturing method of the release film for optical transparent adhesive sheets of Claim 1 whose elongation value at the time of piercing | strength measurement measured using the piercing jig | tool with a tip diameter of 4 mm is 8.5 mm or less.

The manufacturing method of the release film for optical transparent adhesive sheets of Claim 1 or 2 whose subpeak temperature Tsm of a base film is 227 degreeC or more and 245 degrees C or less.

The density of the base film is 1.401g / cm ³ or more and 1.410g / cm ³ or less, the production method of the release film for optical transparent pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 3.

The peeling force on the surface of the release layer is 10 mN / 25 mm or more and 100 mN / 25 mm or less when measured at room temperature, and 10 mN / 25 mm or more and 100 mN / 25 mm or less when measured after heating at 70 ° C. for 20 hours. The manufacturing method of the mold release film for optical transparent adhesive sheets of any one of -4.

It is a manufacturing method of the laminated body which has a release film on both surfaces of the adhesion layer, Comprising: The release created with the manufacturing method of any one of Claims 1-5 as at least one of the release film in this laminated body The manufacturing method of a laminated body which uses a mold film.