JP6010381B2 - Release film - Google Patents

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Description

本発明は、光学用透明粘着シート(OCA:Optical Clear Adhesive)用離型フィルムに関する。   The present invention relates to a release film for a transparent optical adhesive sheet (OCA: Optical Clear Adhesive).

近年、ポリエステルフィルムを基材とする離型フィルムは、タッチパネル等の部材貼り合わせの際に用いられる光学用透明粘着シート(OCA)のキャリアフィルムやセパレーターとして用いられている。   In recent years, release films based on polyester films have been used as carrier films and separators for optically transparent adhesive sheets (OCA) used for bonding members such as touch panels.

タッチパネル等の部材貼り合わせに用いられるOCAは、例えば、キャリアフィルムとしての離型フィルムの上に、OCA粘着層となる樹脂組成物を塗布し、その上にセパレーターとしての離型フィルムを貼り合わせ、離型フィルム(キャリアフィルム:重剥離)/OCA粘着層/離型フィルム(セパレーター:軽剥離)複合体を作成し、かかる複合体を必要な大きさに打ち抜き加工することにより製造される。さらに実際には、打ち抜いたままではセパレーターを剥離し難いため、打ち抜き後に、一旦セパレーターを剥離し、打ち抜かれたOCA粘着層よりも大きな面積を有するセパレーターを再度貼り付けたものが、次工程に供される。   OCA used for bonding members such as a touch panel is, for example, by applying a resin composition to be an OCA adhesive layer on a release film as a carrier film, and bonding a release film as a separator thereon, It is manufactured by preparing a release film (carrier film: heavy release) / OCA adhesive layer / release film (separator: light release) composite and punching the composite into a required size. Furthermore, in practice, since it is difficult to peel off the separator as it is punched, the separator is peeled once after punching, and the separator having a larger area than the punched OCA adhesive layer is pasted again for the next step. Is done.

使用に際しては、上述の複合体からセパレーター側の離型フィルムを剥がし、タッチパネル等の部材の貼り合わせ面に貼り付け、次いでキャリアフィルム側の離型フィルムを剥がし、液晶表示装置等の相手部材と貼り合わせて用いられる。   In use, the separator-side release film is peeled off from the above-mentioned composite, and is attached to the bonding surface of a member such as a touch panel, and then the carrier film-side release film is peeled off and attached to a counterpart member such as a liquid crystal display device. Used together.

国際公開第2009/063847号パンフレットInternational Publication No. 2009/063847 Pamphlet

打ち抜き後のOCAは、枚葉で取り扱われることとなるが、上述した工程においては、セパレーターを貼り直す工程があるため、該工程において発生する剥離帯電がOCAに残存し、かかる帯電により、OCAを枚葉で取り扱う際においてOCAどうしが貼り付いてしまい搬送ミスが生じる等取り扱い性が低くなるという問題がある。   The OCA after punching is handled by a single wafer. However, in the above-described process, since there is a process of reattaching the separator, the peeling charge generated in the process remains in the OCA. There is a problem that handling properties are lowered such as when OCA sticks to each other when handling with a single wafer and a conveyance error occurs.

さらに、主にキャリアフィルムとしての離型フィルムについて、本発明者らは、従来の離型フィルムをキャリアフィルムとして用いたOCAでは、キャリアフィルム剥離後のOCA粘着層のヘーズ上昇により、タッチパネル等の光学製品の品質検査がし難くなる問題を新たに見出した。すなわち、例えばタッチパネル等の光学製品の製造時において、OCAのセパレーターを剥離し、部材に貼り付け、次いでキャリアフィルムを剥離した後、相手方の部材を貼り付ける前に、光学製品の品質検査を行う場合があるが、そのような場合においては、OCA粘着層のヘーズが高くなってしまうと品質検査が行い難くなる。   Furthermore, regarding the release film mainly as a carrier film, the present inventors, in OCA using a conventional release film as a carrier film, caused an increase in the haze of the OCA adhesive layer after peeling of the carrier film, resulting in an optical such as a touch panel. We found a new problem that makes product quality inspection difficult. That is, for example, when manufacturing optical products such as touch panels, the OCA separator is peeled off and attached to the member, then the carrier film is peeled off, and then the optical product is inspected before attaching the counterpart member. However, in such a case, if the haze of the OCA adhesive layer becomes high, quality inspection becomes difficult.

そして、本発明者らは、このヘーズ上昇の原因として、離型フィルムの離型層表面における表面粗さがOCA粘着層へ転写してしまうことが一因となっていることに着目した。この対策として、離型層表面を平滑にするような設計が考えられるが、一方で、平滑すぎると滑り性、取り扱い性が悪化し、搬送時等においてスクラッチが入りやすくなり、かかるスクラッチにより、セパレーターやキャリアフィルムを剥離する前の品質検査において検査し難くなったり、スクラッチがOCA粘着層に不具合を生じ、セパレーターやキャリアフィルムを剥離した後の品質検査がし難くなったりする問題がある。   The inventors of the present invention have noted that the cause of this increase in haze is that the surface roughness of the release film surface of the release film is transferred to the OCA adhesive layer. As a countermeasure, a design that smoothes the surface of the release layer is conceivable, but on the other hand, if it is too smooth, the slipping property and the handling property are deteriorated, and scratches are easily generated during transportation. In addition, there is a problem that it is difficult to inspect in the quality inspection before peeling the carrier film, or that the scratch causes a defect in the OCA adhesive layer, making it difficult to inspect the quality after peeling the separator or carrier film.

そこで本発明は、OCAに用いられる離型フィルムであって、OCAの剥離帯電を抑制することができ、またOCA粘着層のヘーズ上昇を抑制することができ、かつ取り扱い性に優れた、離型フィルムを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention is a release film used for OCA, which can suppress the release charge of OCA, can suppress the haze increase of the OCA adhesive layer, and has excellent handling properties. The object is to provide a film.

本発明は、上記課題を解決するために、以下の構成を採用するものである。
1.基材フィルムの少なくとも片面に帯電防止層および離型層をこの順で有する離型フィルムであって、該離型層表面における10点平均粗さRzが650nm以上、1600nm以下であり、該離型層表面における表面固有抵抗値が10Ω/□以上、1012Ω/□以下である、光学用透明粘着シート用離型フィルム。
2.帯電防止層が、4官能性ケイ素化合物の加水分解および/または縮合反応によって形成されてなる酸化ケイ素膜である、上記1に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。
3.離型層表面における剥離力が、常温測定時において19.5mN/25mm以上、680mN/25mm以下である、上記1または2に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。
4.離型層表面における10点平均粗さRzが650nm以上、1200nm以下である、上記1〜3のいずれか1に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。
5.離型層表面において、高さ0.2μm以上の突起が100〜800個/mmであり、高さ0.6μm以上の突起が10〜130個/mmであり、高さ1.2μm以上の突起が10個/mm以下である、上記4に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。
6.粘着層の両面に、上記1〜5のいずれか1に記載の離型フィルムを有する積層体。
The present invention adopts the following configuration in order to solve the above problems.
1. A release film having an antistatic layer and a release layer in this order on at least one surface of a base film, wherein the 10-point average roughness Rz on the release layer surface is 650 nm or more and 1600 nm or less, and the release film A release film for a transparent adhesive sheet for optical use, having a surface specific resistance value of 10 6 Ω / □ or more and 10 12 Ω / □ or less on the surface of the layer.
2. 2. The release film for an optical transparent adhesive sheet according to the above 1, wherein the antistatic layer is a silicon oxide film formed by hydrolysis and / or condensation reaction of a tetrafunctional silicon compound.
3. The release film for an optical transparent pressure-sensitive adhesive sheet according to the above 1 or 2, wherein the release force on the surface of the release layer is 19.5 mN / 25 mm or more and 680 mN / 25 mm or less when measured at room temperature.
4). The release film for optically transparent adhesive sheets for optical recording according to any one of 1 to 3, wherein the 10-point average roughness Rz on the surface of the release layer is 650 nm or more and 1200 nm or less.
5. In the release layer surface is more than the height 0.2μm projections 100 to 800 pieces / mm 2, more height 0.6μm projections is 10 to 130 pieces / mm 2, more height 1.2μm 5. The release film for a transparent adhesive sheet for optics according to 4, wherein the number of protrusions is 10 pieces / mm 2 or less.
6). The laminated body which has a release film of any one of said 1-5 on both surfaces of an adhesion layer.

本発明によれば、OCAの剥離帯電を抑制することができ、またOCA粘着層のヘーズ上昇を抑制することができ、かつ取り扱い性に優れた、OCA用離型フィルムを提供することができる。かかるOCA用離型フィルムは、OCAのキャリアフィルム及びセパレーターとして好適に用いることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the release charge for OCA which can suppress peeling charge of OCA, can suppress the haze rise of an OCA adhesion layer, and was excellent in the handleability can be provided. Such a release film for OCA can be suitably used as an OCA carrier film and a separator.

<離型フィルム>
本発明の離型フィルムは、基材フィルムと、その少なくとも片面に帯電防止層と離型層とをこの順序で有するものである。
<Release film>
The release film of the present invention has a base film and an antistatic layer and a release layer in this order on at least one surface thereof.

(表面粗さ)
本発明の離型フィルムは、離型層表面における10点平均粗さRzが650nm以上、1600nm以下である。離型層表面のRzが上記数値範囲にあると、離型フィルムを剥離した後のOCA粘着層のヘーズ上昇を抑制することができる。さらに離型フィルムの取り扱い性に優れる。Rzが上記範囲より高いと、離型フィルムを剥離した後のOCA粘着層のヘーズが上昇してしまう。このような観点から、Rzは、好ましくは1200nm以下、より好ましくは1150nm以下、さらに好ましくは1000nm以下である。反対に、Rzが上記範囲より低いと、フィルムの滑り性が悪化し、離型層の塗工時やOCA製造時の工程等において離型フィルムの取り扱い性が低くなり、スクラッチが発生しやすくなる。更には、離型フィルム同士が貼り付きやすくなる傾向にあり、剥離帯電が起こりやすくなる傾向がある。このような観点から、Rzは、好ましくは650nm以上、より好ましくは700nm以上、さらに好ましくは730nm以上である。
(Surface roughness)
In the release film of the present invention, the 10-point average roughness Rz on the release layer surface is 650 nm or more and 1600 nm or less. When Rz on the surface of the release layer is in the above numerical range, the haze increase of the OCA pressure-sensitive adhesive layer after peeling the release film can be suppressed. Furthermore, the handleability of the release film is excellent. If Rz is higher than the above range, the haze of the OCA pressure-sensitive adhesive layer after peeling the release film will increase. From such a viewpoint, Rz is preferably 1200 nm or less, more preferably 1150 nm or less, and still more preferably 1000 nm or less. On the other hand, if Rz is lower than the above range, the slipping property of the film is deteriorated, the handling property of the release film is lowered in the process of coating the release layer or OCA, and scratches are likely to occur. . Furthermore, the release films tend to stick to each other, and peeling charge tends to occur easily. From such a viewpoint, Rz is preferably 650 nm or more, more preferably 700 nm or more, and further preferably 730 nm or more.

かかる10点平均粗さRzは、基材フィルムに添加する粒子の態様を後述の好ましい態様にすることで達成できる。又、基材フィルム製造時に、溶融状態のポリエステル樹脂を回転冷却ドラム上で冷却する方法を採用する際は、該回転冷却ドラム面に接した側のフィルム表面に離型層を設けると、上記したRzの好ましい範囲をより容易に達成することができて好ましい。   Such 10-point average roughness Rz can be achieved by changing the aspect of the particles added to the base film to the preferred aspect described below. In addition, when adopting a method of cooling the molten polyester resin on the rotary cooling drum during the production of the base film, a release layer is provided on the film surface on the side in contact with the rotary cooling drum surface, as described above. The preferable range of Rz can be achieved more easily, which is preferable.

(突起分布)
本発明の離型フィルムは、離型層表面において、高さ0.2μm以上の突起が100〜800個/mmであり、高さ0.6μm以上の突起が10〜130個/mmであり、高さ1.2μm以上の突起が10個/mm以下であることが好ましい。このような態様とすることで、優れた滑り性を確保しながら、OCA粘着層への凹凸形状の転写抑制の向上効果を高くすることができ、OCA粘着層のヘーズ上昇抑制の向上効果を高くできる。いずれも低すぎると滑り性の向上効果が低く、いずれも高すぎるとヘーズ上昇抑制の向上効果が低い。このような観点から、高さ0.2μm以上の突起は、より好ましくは150〜700個/mm、さらに好ましくは200〜600個/mmであり、高さ0.6μm以上の突起は、より好ましくは20〜100個/mm、さらに好ましくは30〜70個/mmであり、高さ1.2μm以上の突起は、より好ましくは8個/mm以下、さらに好ましくは5個/mm以下である。
(Protrusion distribution)
Release film of the present invention, the release layer surface, or the height 0.2μm projections was 100 to 800 pieces / mm 2, more than the height 0.6μm projections at 10 to 130 pieces / mm 2 And the number of protrusions having a height of 1.2 μm or more is preferably 10 pieces / mm 2 or less. By setting it as such an aspect, the improvement effect of the transcription | transfer suppression of the uneven | corrugated shape to an OCA adhesion layer can be made high, ensuring the outstanding slipperiness, and the improvement effect of the haze rise suppression of an OCA adhesion layer is made high. it can. When both are too low, the improvement effect of slipperiness is low, and when both are too high, the improvement effect of haze rise suppression is low. From such a viewpoint, the protrusion having a height of 0.2 μm or more is more preferably 150 to 700 pieces / mm 2 , further preferably 200 to 600 pieces / mm 2 , and the protrusion having a height of 0.6 μm or more is more preferably 20 to 100 / mm 2, more preferably from 30 to 70 pieces / mm 2, the height 1.2μm or more projections is more preferably 8 / mm 2 or less, more preferably 5 pieces / mm 2 or less.

かかる突起高さは、基材フィルムに添加する粒子の態様を後述の好ましい態様にすることで達成できる。又、基材フィルム製造時に、溶融状態のポリエステル樹脂を回転冷却ドラム上で冷却する方法を採用する際は、該回転冷却ドラム面に接していた側のフィルム表面に離型層を設けると、より容易に、かかる突起高さ分布の態様を満足する表面が得られ、好ましい。   Such protrusion height can be achieved by changing the aspect of the particles added to the base film to the preferred aspect described below. In addition, when adopting a method of cooling the molten polyester resin on the rotary cooling drum during the production of the base film, if a release layer is provided on the film surface that is in contact with the rotary cooling drum surface, It is easy to obtain a surface that satisfies this aspect of the height distribution of protrusions, which is preferable.

(表面固有抵抗値)
本発明の離型フィルムは、離型層表面における表面固有抵抗値が10Ω/□以上、1012Ω/□以下である。かかる範囲とすることで、剥離帯電を抑制することができる。表面固有抵抗値が高すぎる場合は、剥離帯電の抑制が不十分となり、OCAの搬送性低下等取り扱い性に劣るものとなる。かかる観点から、表面固有抵抗値は、好ましくは1011Ω/□以下、さらに好ましくは1010Ω/□以下である。他方、表面固有抵抗値が低いことは、剥離帯電抑制には好ましいことであるが、より低い表面固有抵抗値を得ようとすると、例えば熱硬化型、UV硬化型の離型層では硬化阻害になりやすい等、離型層の形成が困難となる場合があり、それによって適した離型性能が得難くなる場合がある。また過剰品質となりコストが高くなる場合がある。かかる観点から、好ましくは10Ω/□以上、さらに好ましくは10Ω/□以上である。
(Surface specific resistance)
In the release film of the present invention, the surface specific resistance value on the surface of the release layer is 10 6 Ω / □ or more and 10 12 Ω / □ or less. By setting it as such a range, peeling electrification can be suppressed. When the surface specific resistance value is too high, the peeling charge is not sufficiently suppressed, and the handling property such as OCA transportability is deteriorated. From such a viewpoint, the surface resistivity is preferably 10 11 Ω / □ or less, more preferably 10 10 Ω / □ or less. On the other hand, a low surface specific resistance value is preferable for suppressing peeling electrification, but if a lower surface specific resistance value is to be obtained, for example, a thermosetting type or UV curable release layer may inhibit the hardening. In some cases, it may be difficult to form a release layer, and it may be difficult to obtain suitable release performance. Moreover, it may become excessive quality and cost may become high. From this viewpoint, it is preferably 10 8 Ω / □ or more, more preferably 10 9 Ω / □ or more.

かかる表面固有抵抗値は、上記したような特性となるように、任意の帯電防止層を、基材フィルムと離型層との間に設けることで達成すればよい。例えば、帯電防止性の高い帯電防止剤を用いたり、帯電防止層の厚みを厚くしたり、離型層の厚みを薄くしたりすることによって、帯電防止性を高くすることができる。好ましくは後述するような態様とすればよい。
以下、本発明の離型フィルムを構成する各構成成分について説明する。
Such a surface specific resistance value may be achieved by providing an arbitrary antistatic layer between the base film and the release layer so as to have the above-described characteristics. For example, the antistatic property can be increased by using an antistatic agent having a high antistatic property, increasing the thickness of the antistatic layer, or reducing the thickness of the release layer. Preferably, an embodiment as described later may be adopted.
Hereafter, each structural component which comprises the release film of this invention is demonstrated.

<基材フィルム>
(ポリエステル)
本発明における基材フィルムは、特に限定されないが、可撓性を有し、耐熱性を備えた熱可塑性樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルムが好ましく用いられる。かかる熱可塑性樹脂フィルムを構成するポリマーとしては、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン等が好ましく例示される。中でも、耐熱性や剛性、品質等に優れ、OCAに適していることから、ポリエステルが好ましい。
<Base film>
(polyester)
The base film in the present invention is not particularly limited, but a thermoplastic resin film made of a thermoplastic resin having flexibility and heat resistance is preferably used. Preferred examples of the polymer constituting the thermoplastic resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, aliphatic polyamides, aromatic polyamides, polyethylene, and polypropylene. Among them, polyester is preferable because it is excellent in heat resistance, rigidity, quality, and the like and is suitable for OCA.

本発明におけるポリエステルは、第1成分としてのジカルボン酸成分および第2成分としてのグリコール成分からなる。ジカルボン酸成分としてはテレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等を例示できる。特に、基材フィルムの機械特性に優れるという観点から、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。また、グリコール成分としてはエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−へキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ポリエチレングリコール等を例示できる。特に、基材フィルムの剛直性に優れるという観点から、エチレングリコールが好ましい。   The polyester in the present invention comprises a dicarboxylic acid component as the first component and a glycol component as the second component. Examples of the dicarboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, hexahydroterephthalic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid and the like. In particular, terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid are preferable from the viewpoint of excellent mechanical properties of the base film. Examples of the glycol component include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, cyclohexanedimethanol, polyethylene glycol, and the like. . In particular, ethylene glycol is preferable from the viewpoint of excellent rigidity of the base film.

上記のポリエステルは、第3成分として、さらに上記ジカルボン酸成分の少なくとも1つ、あるいはグリコール成分の少なくとも1つを共重合したコポリエステルであっても良い。かかる第3成分としては、第1成分として選択されたジカルボン酸成分あるいは第2成分として選択されたグリコール成分とは異なる共重合成分を選択することができる。また、第3成分としては、三官能以上の多価カルボン酸成分あるいはポリオール成分を含んでも良いが、その場合の共重合量は、得られるポリエステルが実質的に線状となる範囲(例えば5モル%以下、さらに好ましくは3モル%以下、特に好ましくは1モル%以下)で少量共重合したポリエステルであることが好ましい。以上のような本発明におけるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。   The polyester may be a copolyester obtained by copolymerizing at least one of the dicarboxylic acid components or at least one of the glycol components as a third component. As the third component, a copolymer component different from the dicarboxylic acid component selected as the first component or the glycol component selected as the second component can be selected. Further, the third component may include a trifunctional or higher polyvalent carboxylic acid component or a polyol component. In this case, the copolymerization amount is within a range in which the obtained polyester is substantially linear (for example, 5 mol). % Or less, more preferably 3 mol% or less, and particularly preferably 1 mol% or less). As the polyester in the present invention as described above, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate are preferable, and polyethylene terephthalate is particularly preferable.

かかるポリエステルは常法により作ることができ、ポリエステルの固有粘度(オルトクロロフェノール中、35℃における固有粘度)が、0.45(単位:dl/g)以上であると、フィルムの剛性が高い等機械特性に優れるため好ましい。
本発明における基材フィルムは単層であっても、積層構成であっても良い。
Such a polyester can be produced by a conventional method. When the intrinsic viscosity of the polyester (intrichlorophenol at 35 ° C.) is 0.45 (unit: dl / g) or more, the rigidity of the film is high. It is preferable because of its excellent mechanical properties.
The base film in the present invention may be a single layer or a laminated structure.

(表面粗さ)
本発明においては、OCA粘着層のヘーズ上昇を防ぐ為に、上述のごとく、離型層表面における10点平均粗さRzが650nm以上、1600nm以下である必要がある。このためには、基材フィルム表面(帯電防止層および離型層を形成する側の表面であって、帯電防止層および離型層を形成する前の表面)における10点平均粗さRzは、好ましくは600nm以上、さらに好ましくは650nm以上、また、好ましくは1250nm以下、さらに好ましくは1200nm以下の範囲であり、基材フィルムの10点平均粗さRzを上記数値範囲とすることによって、離型層形成後の離型フィルム表面(離型層表面)におけるRzを調整しやすくなり、離型フィルムを剥離した後のOCAのヘーズが上昇するのを抑制することができる。
(Surface roughness)
In the present invention, in order to prevent haze increase of the OCA adhesive layer, as described above, the 10-point average roughness Rz on the surface of the release layer needs to be 650 nm or more and 1600 nm or less. For this purpose, the 10-point average roughness Rz on the substrate film surface (the surface on the side where the antistatic layer and the release layer are formed and before the formation of the antistatic layer and the release layer) is The release layer is preferably 600 nm or more, more preferably 650 nm or more, preferably 1250 nm or less, more preferably 1200 nm or less, and the 10-point average roughness Rz of the base film is within the above numerical range. It becomes easy to adjust Rz on the release film surface (release layer surface) after formation, and the haze of OCA after peeling the release film can be suppressed.

基材フィルムの10点平均粗さRzを上記数値範囲とするためには、基材フィルムに無機物又は有機物の粒子を添加することで調整することができる。又、回転冷却ドラムへの接地面も重要であり、接地面は非接地面よりも平滑になる傾向がある。そのため、より平滑な離型層表面とするためには、ドラム接地面を離型層形成面として採用すればよい。
また、OCA粘着層と接する離型層を有する側とは反対側の表面においては、10点平均粗さRzが650nm以上、1600nm以下であることが好ましい。このような範囲とすることで、フィルム同士の貼り付きを抑制し、OCAの取り扱い性を向上することができる。
In order to make 10-point average roughness Rz of a base film into the said numerical range, it can adjust by adding the particle | grains of an inorganic substance or organic substance to a base film. The ground contact surface to the rotating cooling drum is also important, and the ground contact surface tends to be smoother than the non-ground surface. Therefore, in order to obtain a smoother release layer surface, the drum ground surface may be adopted as the release layer forming surface.
Further, the 10-point average roughness Rz is preferably 650 nm or more and 1600 nm or less on the surface opposite to the side having the release layer in contact with the OCA adhesive layer. By setting it as such a range, sticking of films can be suppressed and the handling property of OCA can be improved.

(粒子)
本発明において基材フィルムに含有することが好ましい粒子としては、有機粒子、無機粒子のいずれであっても良いが、酸化チタン粒子、酸化ケイ素粒子、硫酸バリウム粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化マグネシウム粒子、炭酸カルシウム粒子、カオリン粒子、タルク粒子等のような無機粒子、ポリスチレン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子等のような有機粒子が挙げられる。有機粒子としては、ポリエチレン粒子、ポリプロピレン粒子、エチレン−プロピレンターポリマー粒子、オレフィン系アイオノマー粒子等のような他の樹脂粒子も挙げられる。これらのうち1種又は2種以上用いてもよい。本発明においては、より好ましい表面粗さ、光線透過率、ヘーズ値が得られるという観点から、無機粒子が好ましい。とりわけ、酸化チタン粒子、シリカ粒子が好ましい。また、基材フィルム中にボイドが形成され難く、透明性に優れるという点、また、適した表面態様が得やすいという点から、塊状粒子が好ましい。とりわけ好ましい粒子は、塊状シリカ粒子である。
(particle)
In the present invention, the particles preferably contained in the base film may be either organic particles or inorganic particles. However, titanium oxide particles, silicon oxide particles, barium sulfate particles, aluminum oxide particles, magnesium oxide particles, Examples include inorganic particles such as calcium carbonate particles, kaolin particles, and talc particles, and organic particles such as polystyrene resin particles, acrylic resin particles, urea resin particles, and melamine resin particles. Examples of organic particles include other resin particles such as polyethylene particles, polypropylene particles, ethylene-propylene terpolymer particles, and olefinic ionomer particles. You may use 1 type (s) or 2 or more types among these. In the present invention, inorganic particles are preferable from the viewpoint of obtaining more preferable surface roughness, light transmittance, and haze value. In particular, titanium oxide particles and silica particles are preferable. In addition, bulky particles are preferable from the viewpoint that voids are hardly formed in the base film, the transparency is excellent, and a suitable surface state is easily obtained. Particularly preferred particles are massive silica particles.

本発明の基材フィルムは、平均粒径0.1μm以上、3μm以下の粒子を含有する態様が好ましい。また、含有量は、基材フィルムの質量を基準として、0.02質量%以上、0.08質量%以下が好ましい。このような態様とすることによって、基材フィルム表面におけるRzを、上述したごとく本発明における好ましい範囲としやすくなり、それにより本発明が規定する離型層表面のRzを達成しやすくなる。平均粒径が大きすぎたり、含有量が多すぎたりすると、Rzが大きくなりすぎる傾向にあり、他方平均粒径が小さすぎたり、含有量が少なすぎたりすると、Rzが小さくなりすぎる傾向にある。このような観点から、平均粒径は、0.1μm以上がより好ましく、0.2μm以上がさらに好ましく、2.5μm以下がより好ましく、2.0μm未満がさらに好ましい。また含有量は、0.025質量%以上がより好ましく、0.03質量%以上がさらに好ましく、また、0.07質量%以下がより好ましく、0.06質量%以下がさらに好ましい。   The base film of the present invention preferably contains particles having an average particle size of 0.1 μm or more and 3 μm or less. The content is preferably 0.02% by mass or more and 0.08% by mass or less based on the mass of the base film. By setting it as such an aspect, it becomes easy to make Rz in the base film surface into the preferable range in this invention as mentioned above, and it becomes easy to achieve Rz of the mold release layer surface which this invention prescribes | regulates. If the average particle size is too large or the content is too large, Rz tends to be too large, while if the average particle size is too small or the content is too small, Rz tends to be too small. . From such a viewpoint, the average particle diameter is more preferably 0.1 μm or more, further preferably 0.2 μm or more, more preferably 2.5 μm or less, and further preferably less than 2.0 μm. Moreover, 0.025 mass% or more is more preferable, as for content, 0.03 mass% or more is further more preferable, 0.07 mass% or less is more preferable, and 0.06 mass% or less is further more preferable.

本発明においては、異なる種類や、異なる粒子径の2種以上の粒子を併用することができる。例えば、比較的粒径の大きな塊状粒子と、比較的粒径の小さな粒子、好ましくは球状粒子を併用することができる。これにより、比較的小さな粒子によりフィルム表面に微細な凹凸が形成され、滑り性の向上効果が高くなり好ましい。   In the present invention, two or more kinds of particles having different kinds or different particle diameters can be used in combination. For example, massive particles having a relatively large particle diameter can be used in combination with particles having a relatively small particle diameter, preferably spherical particles. Thereby, fine irregularities are formed on the film surface by relatively small particles, and the effect of improving slipperiness is increased, which is preferable.

(積層構成)
本発明における基材フィルムは、離型層を形成する表面となる表層と、芯層とを有する、2層以上の積層フィルムであってもよい。例えば、2〜5層の積層フィルム(例えば、表層/芯層の2層構成や、表層/芯層/表層の3層構成、表層/芯層1/芯層2/表層の4層構成等)が好ましく、特に、表層と芯層とからなる3層フィルム(表層/芯層/表層の構成)であることが好ましく、これにより、表層に含有される粒子による表面突起形成と、芯層に含有される粒子による芯層からの突き上げによる表面突起形成との両方を調整できるようになり、Rzをより達成しやすくなる。
(Laminated structure)
The base film in the present invention may be a laminated film of two or more layers having a surface layer to be a surface for forming a release layer and a core layer. For example, a laminated film of 2 to 5 layers (for example, a two-layer structure of surface layer / core layer, a three-layer structure of surface layer / core layer / surface layer, a four-layer structure of surface layer / core layer 1 / core layer 2 / surface layer, etc.) In particular, a three-layer film (surface layer / core layer / surface layer structure) composed of a surface layer and a core layer is preferable, whereby surface protrusion formation by particles contained in the surface layer and inclusion in the core layer are preferable. It becomes possible to adjust both the surface protrusion formation by pushing up from the core layer by the particles formed, and it becomes easier to achieve Rz.

かかる積層フィルムにおいても、粒子の平均粒径の好ましい範囲は単層の場合と同様である。また、含有量については、表層においては、表層の質量を基準として0.01質量%以上が好ましく、また、0.08質量%以下が好ましく、より好ましくは0.05質量%以下、さらには0.03質量%以下であることが好ましい。また、芯層においては、芯層の質量を基準として0.03質量%以上、0.09質量%以下であることが好ましい。これによりRzを達成しやすくなる。   Also in such a laminated film, the preferred range of the average particle diameter of the particles is the same as in the case of a single layer. The content of the surface layer is preferably 0.01% by mass or more based on the mass of the surface layer, preferably 0.08% by mass or less, more preferably 0.05% by mass or less, and further 0 0.03 mass% or less is preferable. Moreover, in a core layer, it is preferable that they are 0.03 mass% or more and 0.09 mass% or less on the basis of the mass of a core layer. This makes it easier to achieve Rz.

また、積層フィルムの場合、離型層側となる表層の厚み(1層の厚み)は、1〜8μmであることが好ましく、さらに好ましくは2〜5μmであり、上述した粒子の態様と合わせて、Rzが達成しやすくなる。また、芯層の厚み(複数の芯層を有する場合は、それらの合計の厚み)は、15〜186μmであることが好ましく、さらに好ましくは25〜175μmである。このような態様とすることで、離型層を形成する側のフィルム表面に、芯層が含有する粒子に起因する突起が形成されて、Rzがより達成しやすくなる。
また、基材フィルムには、本発明の目的を損なわない限りにおいて、必要に応じて酸化防止剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤、帯電防止剤等の添加剤を含有することもできる。
In the case of a laminated film, the thickness of the surface layer (one layer thickness) on the release layer side is preferably 1 to 8 μm, more preferably 2 to 5 μm, and in combination with the above-described particle mode. , Rz is easily achieved. Further, the thickness of the core layer (in the case of having a plurality of core layers, the total thickness thereof) is preferably 15 to 186 μm, and more preferably 25 to 175 μm. By setting it as such an aspect, the processus | protrusion resulting from the particle | grains which a core layer contains is formed in the film surface of the side which forms a release layer, and Rz becomes easier to achieve.
In addition, the base film may contain additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a fluorescent brightener, and an antistatic agent as necessary, as long as the object of the present invention is not impaired.

<離型層>
本発明における離型層は、付加型シリコーン及び縮合型シリコーンを用いることができるが、生産性の点から、反応の速い付加型シリコーンが好ましく用いられる。縮合型シリコーンは、生産時に十分に硬化しにくいため、離型層を形成する工程内の搬送ローラーにシリコーンが転写し、堆積し、堆積したシリコーンがフィルムに再度移行することにより異物欠点となる場合がある。
<Release layer>
As the release layer in the present invention, addition type silicone and condensation type silicone can be used. From the viewpoint of productivity, addition type silicone having a quick reaction is preferably used. Condensation type silicone is difficult to cure sufficiently during production, so that the silicone is transferred to the transfer roller in the process of forming the release layer, and deposited, and the deposited silicone is transferred to the film, resulting in a foreign matter defect. There is.

本発明における離型層の厚みは、0.01〜1μmが好ましい。離型層の厚みが上記数値範囲にあると、OCAのキャリアフィルムとして適した離型性を得ることが容易となる。また、帯電防止性の向上効果を高めることができる。厚すぎると帯電防止効果が低下する傾向にあり、また薄すぎると離型性が低下する傾向にある。このような観点から、厚みは、さらに好ましくは0.05μm以下、より好ましくは0.06μm以上、特に好ましくは0.07以上であり、また、好ましくは0.5μm以下、特に好ましくは0.3μm以下である。   As for the thickness of the mold release layer in this invention, 0.01-1 micrometer is preferable. When the thickness of the release layer is in the above numerical range, it becomes easy to obtain release properties suitable as an OCA carrier film. Further, the effect of improving the antistatic property can be enhanced. If it is too thick, the antistatic effect tends to decrease, and if it is too thin, the releasability tends to decrease. From such a viewpoint, the thickness is more preferably 0.05 μm or less, more preferably 0.06 μm or more, particularly preferably 0.07 or more, and preferably 0.5 μm or less, particularly preferably 0.3 μm. It is as follows.

<帯電防止層>
本発明における帯電防止層は、上述した離型層表面における表面固有抵抗値を満足することができ、またその上に離型層を形成でき、本発明の目的を阻害しないものであれば特に限定されない。例えば界面活性剤型の帯電防止剤、金属酸化物微粒子による帯電防止剤、シロキサン系の帯電防止剤などが挙げられる。
<Antistatic layer>
The antistatic layer in the present invention is particularly limited as long as it can satisfy the above-mentioned surface specific resistance value on the surface of the release layer and can form a release layer on the surface and does not impair the object of the present invention. Not. For example, a surfactant type antistatic agent, an antistatic agent by metal oxide fine particles, a siloxane antistatic agent, and the like can be mentioned.

本発明においては、表面固有抵抗値に優れ、また離型層の形成も可能であるばかりか、上に直接離型層を形成することによって、離型層との密着性にも優れるという観点から、以下のような帯電防止層であることが特に好ましい。
本発明において特に好ましい帯電防止層の態様は、シロキサン系の帯電防止剤を用い、シラノール(下記[化1])の作用で帯電防止性を奏し、三次元的なシロキサン網を形成している酸化ケイ素膜である。
In the present invention, from the viewpoint of excellent surface resistivity and formation of a release layer, as well as excellent adhesion to the release layer by forming a release layer directly on the surface. Particularly preferred are the following antistatic layers.
In the present invention, a particularly preferred antistatic layer is an oxide that uses a siloxane antistatic agent, exhibits antistatic properties by the action of silanol (the following [Chemical Formula 1]), and forms a three-dimensional siloxane network. It is a silicon film.

Figure 0006010381
Figure 0006010381

酸化ケイ素膜は4官能性ケイ素化合物の加水分解および/または縮合反応によって形成するが、この反応に作用する水分は例えばフィルム表面に付着している水分、空気中の水分で十分である。
4官能性ケイ素化合物としては、例えば(ClSiO)等のクロルポリシロキサン、或いは加水分解を引き起こし易いアルコキシシランやアルコキシポリシロキサン等を挙げることができる。この化合物は、塗布前に水に作用させて加水分解させておくことが好ましく、特に側鎖及び末端基の8割以上が水酸基で置換された部分加水分解物としておくことが好ましい。
The silicon oxide film is formed by hydrolysis and / or condensation reaction of a tetrafunctional silicon compound. For example, the moisture that is attached to the film surface or the moisture in the air is sufficient as the moisture that acts on this reaction.
Examples of the tetrafunctional silicon compound include chloropolysiloxanes such as (Cl 2 SiO) n , or alkoxysilanes and alkoxypolysiloxanes that easily cause hydrolysis. This compound is preferably hydrolyzed by acting on water before coating, and particularly preferably a partially hydrolyzed product in which 80% or more of side chains and terminal groups are substituted with hydroxyl groups.

4官能性ケイ素化合物の加水分解物、縮合反応は、例えばアルコキシシラン「Si(OR)、R=低級アルキル」で説明すると、温和な反応条件で

Figure 0006010381
の反応によってシラノールを生成し、このシラノール同士が、
Figure 0006010381
の反応によって縮合して三次元構造をもつ酸化ケイ素のガラス状膜を形成する。この反応は室温ないし140℃以下の温度で十分に進行すると共に、反応副生成物はガラス状となり、反応残渣のない利点をもつ。 The hydrolyzate and condensation reaction of a tetrafunctional silicon compound can be described with, for example, alkoxysilane “Si (OR) 4 , R = lower alkyl” under mild reaction conditions.
Figure 0006010381
Silanol is produced by the reaction of
Figure 0006010381
A glass-like film of silicon oxide having a three-dimensional structure is formed by condensation by the above reaction. This reaction proceeds satisfactorily at room temperature to a temperature of 140 ° C. or less, and the reaction by-product becomes glassy and has the advantage of no reaction residue.

4官能性ケイ素化合物の部分加水分解物をフィルム表面に塗布すると、上述から理解できるように、温湿度の影響を受けて硬化し、フィルムと強固に接着すると共に、それ自体優れた帯電防止性を持つようになる。
上記のような4官能性ケイ素化合物及び/またはその部分加水分解物は、市場から入手することができ、例えばコルコートEC920,コルコートEC851、コルコートP、コルコートN−103X等を挙げることができる。
When a partial hydrolyzate of a tetrafunctional silicon compound is applied to the film surface, as can be understood from the above, it cures under the influence of temperature and humidity, adheres firmly to the film, and itself has excellent antistatic properties. To have.
The tetrafunctional silicon compound and / or a partial hydrolyzate thereof as described above can be obtained from the market, and examples thereof include Colcoat EC920, Colcoat EC851, Colcoat P, Colcoat N-103X and the like.

帯電防止層の厚みは0.05μm以上、0.5μm以下であることが好ましい。かかる範囲とすることによって離型性能を保持したまま優れた表面固有抵抗値を得やすくなる。また、上述した好ましい態様の帯電防止層を採用すると同時に厚みを上記範囲とすることにより、離型層との接着性により優れる。薄すぎると表面固有抵抗値は高くなる傾向にあり、また接着性の向上効果が低くなる傾向にある。他方、厚すぎると離型層の形成が困難となる場合がある。更には、表面が平滑になりすぎて滑り性が悪化したり、コストの点でも好ましくない。これら観点から、帯電防止層の厚みは、より好ましくは0.06μm以上、また、より好ましくは0.3μm以下、さらに好ましくは0.2μm以下である。   The thickness of the antistatic layer is preferably 0.05 μm or more and 0.5 μm or less. By setting it as such a range, it becomes easy to obtain an excellent surface specific resistance value while maintaining the release performance. In addition, by adopting the above-described preferred antistatic layer, and having the thickness within the above range, the adhesion to the release layer is more excellent. If it is too thin, the surface resistivity tends to increase, and the effect of improving adhesiveness tends to decrease. On the other hand, if it is too thick, it may be difficult to form a release layer. Furthermore, the surface becomes too smooth, the slipperiness is deteriorated, and the cost is not preferable. From these viewpoints, the thickness of the antistatic layer is more preferably 0.06 μm or more, more preferably 0.3 μm or less, and still more preferably 0.2 μm or less.

<下塗り層>
本発明においては、基材フィルムと帯電防止層との密着性を向上する目的において、基材フィルムと帯電防止層との間に下塗り層を設けることができる。かかる下塗り層としては、水溶性有機シラン化合物から形成されたものが好ましい。
本発明において下塗り層の形成に用いる水可溶性有機シラン化合物は、通常ケイ素原子に結合している加水分解性の基と各種の有機官能性基とを有する構造をもつものである。
<Undercoat layer>
In the present invention, for the purpose of improving the adhesion between the base film and the antistatic layer, an undercoat layer can be provided between the base film and the antistatic layer. Such an undercoat layer is preferably formed from a water-soluble organosilane compound.
The water-soluble organosilane compound used for forming the undercoat layer in the present invention has a structure having a hydrolyzable group bonded to a silicon atom and various organic functional groups.

かかる水可溶性有機シラン化合物としては、例えばγ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β−(アミノプロピル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは、本発明に使用できる水可溶性有機シラン化合物の一部を例示したものであり、これらに限定されるものではない。また、水可溶性有機シラン化合物は1種または2種以上を用いることができる。   Examples of such water-soluble organic silane compounds include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxymethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ -Aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β- (aminopropyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane and the like. These are examples of water-soluble organosilane compounds that can be used in the present invention, and are not limited to these. Moreover, 1 type (s) or 2 or more types can be used for a water-soluble organosilane compound.

水可溶性有機シラン化合物における加水分解性の基は、加水分解によって水酸基を形成し、下塗り層の上に塗布される帯電防止層中の無機物との結合を強める作用を奏すると考えられ、また活性の強い有機官能性基はポリエステルフィルム、被覆層バインダー樹脂等との親和力が強く、例えば分子中の1級または2級のアミノ基は水酸基、カルボキシル基、エポキシ基をはじめとする多くの官能基と反応し、フィルムと下塗り層、下塗り層と帯電防止層との結合を強固なものにすると考えられる。   The hydrolyzable group in the water-soluble organic silane compound is considered to have an action of forming a hydroxyl group by hydrolysis and strengthening the bond with the inorganic substance in the antistatic layer applied on the undercoat layer. Strong organic functional group has strong affinity with polyester film, coating layer binder resin, etc. For example, primary or secondary amino group in the molecule reacts with many functional groups including hydroxyl group, carboxyl group and epoxy group. It is considered that the bond between the film and the undercoat layer and between the undercoat layer and the antistatic layer is strengthened.

水可溶性有機シラン化合物は、水溶液として通常0.1〜5.0%の濃度で用いられ、ポリエステルフィルムの表面への塗工量としては0.02〜0.2g/m(乾燥後)が好ましい。水可溶性有機シラン化合物の塗工は製膜工程中で行っても良く、製膜工程と違うところで行っても良い。製膜工程中で行う場合、未延伸フィルム、一軸延伸フィルム(特に縦延伸フィルム)、二軸延伸フィルム、二軸延伸・熱固定後のフィルム等に塗工できる。これらのうち横延伸に供する前の縦延伸フィルムに塗工するのが好ましい。塗工方法としては、例えばスピンコート法、グラビアコート法、キスコート法、バーコート法、リバースコート法等の各種塗工法を用いることができる。塗工はポリエステルフィルムの片面または両面である。 The water-soluble organosilane compound is usually used as an aqueous solution at a concentration of 0.1 to 5.0%, and the coating amount on the surface of the polyester film is 0.02 to 0.2 g / m 2 (after drying). preferable. The application of the water-soluble organosilane compound may be performed during the film forming process, or may be performed at a place different from the film forming process. When performing in a film forming process, it can be applied to an unstretched film, a uniaxially stretched film (particularly a longitudinally stretched film), a biaxially stretched film, a film after biaxial stretching and heat setting, and the like. Among these, it is preferable to apply to a longitudinally stretched film before being subjected to lateral stretching. As the coating method, for example, various coating methods such as spin coating, gravure coating, kiss coating, bar coating, and reverse coating can be used. Coating is on one or both sides of a polyester film.

<離型フィルムの製造方法>
(基材フィルムの製造方法)
本発明における基材フィルムは、二軸延伸フィルムであることが好ましい。かかる二軸延伸フィルムは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、ポリエステルからなる二軸延伸フィルムの場合は、ポリエステルを乾燥後、Tm〜(Tm+70)℃の温度(ただし、Tmはポリエステルの融点(単位:℃)を表す。)で押出機にて溶融し、ダイ(例えばT−ダイ、I−ダイ等)から回転冷却ドラム上に押出し、20〜90℃で急冷して未延伸フィルムを製造し、次いで、該未延伸フィルムを(Tg−10)〜(Tg+70)℃の温度(ただし、Tgはポリエステルのガラス転移点温度(単位:℃)を表す。)で縦方向に2.5〜8.0倍、好ましくは2.9〜5.0倍、さらに好ましくは3.2〜4.0倍の倍率で延伸し、横方向に2.5〜8.0倍、好ましくは3.1〜5.2倍、さらに好ましくは3.4〜4.2倍の倍率で延伸し、必要に応じて180〜250℃の温度で1〜60秒間熱固定することにより製造できる。延伸倍率を上記数値範囲とすることによって、厚み斑をより小さくすることができる。
上記において、回転冷却ドラムの表面が鏡面処理された表面であると、後述するように、かかる面に接地したフィルム表面に帯電防止層および離型層を形成することで、本発明における好ましい離型層表面を得やすくなるため、好ましい。
<Method for producing release film>
(Manufacturing method of base film)
The base film in the present invention is preferably a biaxially stretched film. Such a biaxially stretched film can be produced by a conventionally known method. For example, in the case of a biaxially stretched film made of polyester, after drying the polyester, it is melted in an extruder at a temperature of Tm to (Tm + 70) ° C. (where Tm represents the melting point (unit: ° C.) of the polyester). , Extruded from a die (for example, T-die, I-die, etc.) onto a rotating cooling drum, rapidly cooled at 20 to 90 ° C. to produce an unstretched film, and then the unstretched film is (Tg-10) to ( Tg + 70) ° C (where Tg represents the glass transition temperature of the polyester (unit: ° C)) 2.5 to 8.0 times, preferably 2.9 to 5.0 times in the machine direction. Preferably, the film is stretched at a magnification of 3.2 to 4.0 times, and is 2.5 to 8.0 times, preferably 3.1 to 5.2 times, more preferably 3.4 to 4.2 times in the transverse direction. 1 at a temperature of 180 to 250 ° C. if necessary. It can be prepared by fixing 60 seconds heat. By setting the draw ratio within the above numerical range, the thickness unevenness can be further reduced.
In the above, when the surface of the rotary cooling drum is a mirror-finished surface, as will be described later, by forming an antistatic layer and a release layer on the surface of the film grounded to the surface, a preferable release in the present invention Since it becomes easy to obtain the layer surface, it is preferable.

なお、本発明における基材フィルムの厚みは、基材フィルムとして適度なコシがあれば特に限定されないが、好ましくは20μm以上、より好ましくは30μm以上である。他方、厚すぎても取り扱い難く、好ましくは188μm以下、より好ましくは175μm以下、さらに好ましくは150μm以下である。このような範囲であると、OCA用の離型フィルムとして好適である。
さらに適度なコシのためには、キャリアフィルムとして用いる際には、38〜188μm、さらには50〜150μmが好ましい。また、セパレーターとして用いる際には、20〜100μm、さらには38〜75μmが好ましい。
In addition, the thickness of the base film in the present invention is not particularly limited as long as the base film has a proper stiffness, but is preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more. On the other hand, it is difficult to handle even if it is too thick, preferably 188 μm or less, more preferably 175 μm or less, and even more preferably 150 μm or less. Within such a range, it is suitable as a release film for OCA.
Furthermore, when using as a carrier film, 38-188 micrometers, Furthermore, 50-150 micrometers is preferable for a moderate stiffness. Moreover, when using as a separator, 20-100 micrometers, Furthermore, 38-75 micrometers is preferable.

(帯電防止層の形成方法)
本発明における帯電防止層は、帯電防止層を構成する各構成成分を含有する塗液(以下、帯電防止層塗液と呼称する場合がある。)を、基材フィルム上に塗布し、乾燥、硬化することによって形成する。塗布する面は、離型層表面のRzを好ましい値にしやすいという観点から、基材フィルムにおいて、樹脂をダイより押し出して、回転冷却ドラムに接した側の面が好ましい。
(Method for forming antistatic layer)
The antistatic layer in the present invention is a coating liquid containing each component constituting the antistatic layer (hereinafter sometimes referred to as an antistatic layer coating liquid) is applied onto a base film, dried, It is formed by curing. The surface to be coated is preferably the surface on the side of the base film that is in contact with the rotary cooling drum by extruding the resin from the die from the viewpoint that the Rz on the surface of the release layer is easily set to a preferred value.

帯電防止層塗液を基材フィルムに塗布するための塗布方法としては、公知の任意の塗布方法が適用でき、例えばグラビアロールコート法、リバースロールコート法、ダイコート法、キスコート法、リバースキスコート法、オフセットグラビアコート法、マイヤーバーコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法、ドクターブレード法等を単独または組み合わせて適用することができる。また、ハジキなど塗布外観の安定性を向上させる目的で、塗液には若干量の界面活性剤を含有させることができる。
帯電防止層塗液を塗布後、乾燥、および硬化する条件としては、50℃以上、150℃以下の温度で10秒以上、120秒以下の時間加熱することが好ましく、70℃以上、140℃以下の温度で20秒以上、90秒以下の時間加熱することがさらに好ましい。
As a coating method for applying the antistatic layer coating liquid to the base film, any known coating method can be applied, for example, gravure roll coating method, reverse roll coating method, die coating method, kiss coating method, reverse kiss coating method. The offset gravure coating method, the Mayer bar coating method, the roll brush method, the spray coating method, the air knife coating method, the impregnation method, the curtain coating method, the doctor blade method and the like can be applied alone or in combination. Further, for the purpose of improving the stability of the coating appearance such as repelling, the coating liquid can contain a slight amount of a surfactant.
As conditions for drying and curing after applying the antistatic layer coating solution, it is preferable to heat at a temperature of 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower for 10 seconds or longer and 120 seconds or shorter, and 70 ° C. or higher and 140 ° C. or lower. It is more preferable to heat at a temperature of 20 seconds to 90 seconds.

(離型層の形成方法)
本発明における離型層は、離型層を構成する各構成成分を含有する塗液(以下、離型層塗液と呼称する場合がある。)を、基材フィルムの帯電防止層上に塗布し、乾燥、硬化することによって形成する。塗布する面は、離型層表面のRzを好ましい値にしやすいという観点から、基材フィルムにおいて、樹脂をダイより押し出して、回転冷却ドラムに接した側の面が好ましい。
(Formation method of release layer)
The release layer in the present invention is a coating liquid containing each component constituting the release layer (hereinafter, sometimes referred to as a release layer coating liquid) applied on the antistatic layer of the base film. It is formed by drying and curing. The surface to be coated is preferably the surface on the side of the base film that is in contact with the rotary cooling drum by extruding the resin from the die from the viewpoint that the Rz on the surface of the release layer is easily set to a preferred value.

離型層塗液を基材フィルムに塗布するための塗布方法としては、公知の任意の塗布方法が適用でき、例えばグラビアロールコート法、リバースロールコート法、ダイコート法、キスコート法、リバースキスコート法、オフセットグラビアコート法、マイヤーバーコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法、ドクターブレード法等を単独または組み合わせて適用することができる。また、ハジキなど塗布外観の安定性を向上させる目的で、塗液には若干量の界面活性剤を含有させることができる。   As a coating method for applying the release layer coating liquid to the base film, any known coating method can be applied, for example, gravure roll coating method, reverse roll coating method, die coating method, kiss coating method, reverse kiss coating method. The offset gravure coating method, the Mayer bar coating method, the roll brush method, the spray coating method, the air knife coating method, the impregnation method, the curtain coating method, the doctor blade method and the like can be applied alone or in combination. Further, for the purpose of improving the stability of the coating appearance such as repelling, the coating liquid can contain a slight amount of a surfactant.

離型層塗液を塗布後、乾燥、および硬化する条件としては、100℃以上、180℃以下の温度で10秒以上、120秒以下の時間加熱することが好ましく、110℃以上、160℃以下の温度で20秒以上、90秒以下の時間加熱することがさらに好ましく、120℃以上、140℃以下の温度で30秒以上、60秒以下の時間加熱することが特に好ましい。上記のごとく乾燥条件を採用することによって、離型層の強度をより高くすることができ、更にはポリエステルフィルムの熱シワの発生を抑えることができる。   As conditions for drying and curing after applying the release layer coating solution, it is preferable to heat at a temperature of 100 ° C. or higher and 180 ° C. or lower for 10 seconds or longer and 120 seconds or shorter, 110 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. It is more preferable to heat at a temperature of 20 seconds to 90 seconds, and particularly preferable to heat at a temperature of 120 ° C. to 140 ° C. for 30 seconds to 60 seconds. By adopting the drying conditions as described above, the strength of the release layer can be further increased, and furthermore, the generation of heat wrinkles in the polyester film can be suppressed.

<離型フィルムの特性>
(剥離力)
本発明における離型フィルムは、離型層表面における常温剥離力(常温測定時における剥離力)が19.5mN/25mm以上、680mN/25mm以下であることが好ましい。常温剥離力が上記数値範囲にあると、OCA粘着層との剥離力が安定し、またOCA粘着層に対して適度な剥離力で剥離することができる。常温剥離力が低すぎると、OCA製造工程でOCA粘着層と離型フィルムとの間で浮きが生じやすくなる傾向にある。又、剥離力が高すぎると、完成したOCA製品を使用する際に、OCA粘着層から剥離することが困難となる傾向にある。このような観点から、キャリアフィルムとして用いる場合の常温剥離力は、より好ましくは、50mN/25mm以上、600mN/25mm以下、更に好ましくは、80mN/25mm以上、580mN/25mm以下である。又、セパレーターとして用いる場合、常温剥離力は、より好ましくは20mN/25mm以上、100mN/25mm以下、更に好ましくは22mN/25mm以上、80mN/25mm以下である。
<Characteristics of release film>
(Peeling force)
The release film in the present invention preferably has a normal temperature peeling force (peeling force at normal temperature measurement) on the surface of the release layer of 19.5 mN / 25 mm or more and 680 mN / 25 mm or less. When the room temperature peeling force is in the above numerical range, the peeling force with the OCA adhesive layer is stable, and the OCA adhesive layer can be peeled with an appropriate peeling force. When the room temperature peeling force is too low, there is a tendency that floating tends to occur between the OCA adhesive layer and the release film in the OCA manufacturing process. If the peel force is too high, it tends to be difficult to peel from the OCA adhesive layer when using a finished OCA product. From such a viewpoint, the room temperature peeling force when used as a carrier film is more preferably 50 mN / 25 mm or more and 600 mN / 25 mm or less, and still more preferably 80 mN / 25 mm or more and 580 mN / 25 mm or less. When used as a separator, the room temperature peeling force is more preferably 20 mN / 25 mm or more and 100 mN / 25 mm or less, still more preferably 22 mN / 25 mm or more and 80 mN / 25 mm or less.

上記剥離力は、離型層の態様を適宜調整することにより達成することができる。すなわち、離型層がシリコーン系である場合は、用いられるシリコーンの架橋点を少なくしたり、塗膜厚みを厚くしたりすると、常温剥離力は高くなる傾向にある。また、残存するSi−Hを減少させると、加熱剥離力は低くなる傾向にあり、残存するSi−Hを多くすると、加熱剥離力は高くなる傾向にある。   The peeling force can be achieved by appropriately adjusting the mode of the release layer. That is, when the release layer is of a silicone type, the room temperature peeling force tends to increase when the number of crosslinking points of the silicone used is reduced or the coating film thickness is increased. Further, when the remaining Si—H is decreased, the heat peeling force tends to decrease, and when the remaining Si—H is increased, the heat peeling force tends to increase.

(残留接着率)
本発明における離型フィルムの離型層表面における残留接着力は、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上である。残留接着率の値が前記範囲であると、離型層からの移行成分が少なく、品質のより優れた、すなわち接着性のより安定したOCAを得ることができる。
かかる残留接着率は、離型層からの移行成分を低減することにより達成できる。例えば、未反応成分を低減させたり、架橋反応を十分に進行させたりすればよい。
(Residual adhesion rate)
The residual adhesive force on the surface of the release layer of the release film in the present invention is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 95% or more. When the value of the residual adhesion rate is within the above range, there can be obtained an OCA with less migration components from the release layer and better quality, that is, more stable adhesion.
Such residual adhesion rate can be achieved by reducing the migration component from the release layer. For example, unreacted components may be reduced or the crosslinking reaction may be sufficiently advanced.

(密着性)
本発明における離型フィルムは、基材フィルムへの離型層の密着性にも優れたものであることが望ましい。離型層の密着性が悪いと、ハンドリングの際の擦れにより離型層が脱落したり、OCAから離型フィルムを剥離した際にOCA面に離型層が転写することがあり好ましくない。離型層の基材フィルムに対する密着性を高くするには、すなわち基材フィルムと帯電防止層との密着性を高くしたり、帯電防止層と離型層との密着性を高くしたりすることであるが、基材フィルムにあらかじめ前述のような密着向上の前処理を行う、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等の方法があり、本発明においてはこれらを採用することが好ましい。また、前述の好ましい帯電防止層の態様を採用することにより、帯電防止層と離型層との密着性の向上効果を高くすることができる。
(Adhesion)
The release film in the present invention is desirably excellent in adhesion of the release layer to the base film. If the release layer has poor adhesion, the release layer may fall off due to rubbing during handling, or the release layer may be transferred to the OCA surface when the release film is peeled off from the OCA. To increase the adhesion of the release layer to the substrate film, that is, increase the adhesion between the substrate film and the antistatic layer, or increase the adhesion between the antistatic layer and the release layer. However, there are methods such as corona treatment, plasma treatment, flame treatment and the like in which the base film is pretreated for improving adhesion as described above, and it is preferable to employ these in the present invention. Moreover, the effect of improving the adhesion between the antistatic layer and the release layer can be enhanced by adopting the above-described preferred antistatic layer mode.

<光学用透明粘着シート>
以上のような本発明の離型フィルムを用いて、光学用透明粘着シート(OCA)を作成することができる。かかるOCAは、OCA粘着層の両面に、OCA粘着層側が離型層となるようにして離型フィルムを有する積層体の構成を有する。かかる積層体における離型フィルムの両面に、本発明の離型フィルムを採用することが好ましい。好ましくは、一方がセパレーターとして好ましい態様を有する離型フィルムであり、もう一方がキャリアフィルムとして好ましい態様を有する離型フィルムである態様である。
<Optical transparent adhesive sheet>
An optical transparent adhesive sheet (OCA) can be prepared using the release film of the present invention as described above. Such OCA has a structure of a laminate having release films on both sides of the OCA adhesive layer such that the OCA adhesive layer side becomes a release layer. It is preferable to employ the release film of the present invention on both surfaces of the release film in such a laminate. Preferably, one is a release film having a preferred embodiment as a separator, and the other is a release film having a preferred embodiment as a carrier film.

以下、実施例により本発明をさらに説明する。なお、各特性値は以下の方法で測定した。   Hereinafter, the present invention will be further described by examples. Each characteristic value was measured by the following method.

(1)常温剥離力
サンプルフィルムの離型層表面にポリエステル粘着テープ(No.31B、日東電工株式会社製)を貼り合わせ、5kgの圧着ローラーで圧着した後、離型層と粘着テープとの剥離カ(単位:mN/25mm)を引張り試験機にて測定した。剥離角度は180度、ヘッドスピードは300mm/分とした。任意の5箇所の平均値として、常温剥離力を求めた。
(1) Room temperature peeling force A polyester adhesive tape (No. 31B, manufactured by Nitto Denko Corporation) is bonded to the surface of the release layer of the sample film, and after pressing with a 5 kg pressure roller, the release layer and the adhesive tape are peeled off. The moth (unit: mN / 25 mm) was measured with a tensile tester. The peeling angle was 180 degrees and the head speed was 300 mm / min. The room temperature peeling force was determined as an average value at any five locations.

(2)残留接着率
ポリエステル粘着テープ(No.31B、日東電工株式会社製)を、JIS G4305に規定する冷間圧延ステンレス板(SUS304)に貼り付けた後、それを剥離して剥離力を測定し、基礎接着力(f0)(単位:N/25mm)とした。次に新しいポリエステル粘着テープをサンプルフィルムの離型層表面に5kgの圧着ローラーで圧着した後、30秒間放置してから粘着テープを剥がした。そして、この剥がしたポリエステル粘着テープを前記ステンレス板に貼り付け、それを剥離して剥離力を測定し残留接着力(f)(単位:N/25mm)とした。得られた基礎接着力(f0)と残留接着カ(f)とから下記式を用いて残留接着率を求めた。
残留接着率(%)=(f/f0)×100
(2) Residual adhesion rate After sticking a polyester pressure-sensitive adhesive tape (No. 31B, manufactured by Nitto Denko Corporation) on a cold-rolled stainless steel plate (SUS304) specified in JIS G4305, it was peeled and the peel strength was measured. And a basic adhesive strength (f0) (unit: N / 25 mm). Next, after a new polyester pressure-sensitive adhesive tape was pressure-bonded to the surface of the release layer of the sample film with a 5 kg pressure roller, it was left for 30 seconds and then peeled off. And this peeled polyester adhesive tape was affixed on the said stainless steel plate, it peeled, the peeling force was measured, and it was set as the residual adhesive force (f) (unit: N / 25mm). The residual adhesive rate was determined from the obtained basic adhesive force (f0) and residual adhesive force (f) using the following formula.
Residual adhesion rate (%) = (f / f0) × 100

(3)密着性
離型フィルムを作成した後、サンプルを温度23℃、相対湿度55%RHの環境下で24時間放置した。次いで、経時処理後のサンプルについて、離型層表面を親指で10回強く擦り、ラブオフテストを実施した。この時、親指はあらかじめエタノールを含ませたガーゼでよく拭き、脱脂してから上記作業を実施した。得られたラブオフテスト後のサンプルについて、親指で擦った部分における離型層の状態を目視観察し、以下の基準に従って判定した。
○ :目視にて、離型層に曇りが観測されない。
△ :目視にて、離型層に多少の曇りが観測された。
× :目視にて、離型層に曇りが観測された。
さらに、親指で擦った部分にセロハン粘着テープを貼り付け、それを剥離する際の引っ掛かりの度合いについて、以下の基準に従って評価した。引っ掛かりがあるということは、離型層が除去されてしまったことを意味する。
○ :セロハン粘着テープを剥離する際に、引っ掛かりが無い。
△ :セロハン粘着テープを剥離する際に、多少の引っ掛かりがある。
× :セロハン粘着テープを剥離する際に、引っ掛かりがある。
××:セロハン粘着テープを剥離する際に、強い引っ掛かり(離型層が無い部分と同等の引っ掛かり)がある。
(3) Adhesiveness After producing a release film, the sample was left for 24 hours in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH. Next, with respect to the sample after the aging treatment, the release layer surface was rubbed strongly 10 times with the thumb, and a rub-off test was performed. At this time, the thumb was thoroughly wiped with gauze preliminarily containing ethanol and degreased before carrying out the above operation. About the obtained sample after the rub-off test, the state of the release layer in the portion rubbed with the thumb was visually observed and judged according to the following criteria.
○: No cloudiness is observed in the release layer by visual observation.
Δ: Some cloudiness was observed in the release layer visually.
X: Cloudiness was observed in the release layer visually.
Furthermore, the cellophane adhesive tape was affixed to the part rubbed with the thumb, and the degree of catch when peeling it was evaluated according to the following criteria. The presence of catch means that the release layer has been removed.
○: There is no catch when the cellophane adhesive tape is peeled off.
Δ: When the cellophane adhesive tape is peeled off, there is a slight catch.
X: There is a catch when the cellophane adhesive tape is peeled off.
XX: When the cellophane adhesive tape is peeled off, there is a strong catch (a catch equivalent to a part having no release layer).

(4)10点平均粗さ(Rz)
離型フィルムの離型層表面の突起プロファイルを、三次元粗さ測定装置SE−3CKT(株式会社 小坂研究所製)にて、縦倍率5000倍、横倍率200倍、走査ピッチ2nm、測定長1mm、カットオフ0.25mmで測定した。得られた突起プロファイルにおいて、ピーク(Hp)の高い方から5点と谷(Hv)の低い方から5点をとり、次の式により10点平均粗さ(Rz、単位:nm)を求めた。尚、解析には三次元粗さ解析装置SPA−11(株式会社 小坂研究所製)を用いた。
(4) 10-point average roughness (Rz)
Using a three-dimensional roughness measuring device SE-3CKT (manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd.), the projection profile on the surface of the release layer of the release film was measured with a vertical magnification of 5000 times, a lateral magnification of 200 times, a scanning pitch of 2 nm, and a measurement length of 1 mm. , Measured with a cut-off of 0.25 mm. In the obtained protrusion profile, 5 points from the highest peak (Hp) and 5 points from the lower valley (Hv) were taken, and the 10-point average roughness (Rz, unit: nm) was determined by the following formula. . For the analysis, a three-dimensional roughness analyzer SPA-11 (manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.) was used.

Figure 0006010381
Figure 0006010381

また、得られた突起プロファイル(横軸:突起高さ、縦軸:突起個数の突起プロファイル)から、高さが0.2μm以上、0.6μm以上、1.2μm以上のそれぞれの突起個数(個/mm)を求めた。 Further, from the obtained projection profile (horizontal axis: projection height, vertical axis: projection profile of the number of projections), the number of projections (pieces each having a height of 0.2 μm or more, 0.6 μm or more, 1.2 μm or more) / Mm 2 ).

(5)OCAヘーズ評価
(5−1)OCAの作成
平坦なガラス基板上に、キャリアフィルム用離型フィルムとして離型フィルム(実施例および比較例において1−xのもの)を、離型面を上にして置き、該離型フィルムの四辺に厚さ2.0mmのスペーサーを置いて成形下型とし、該離型フィルムの中心部に、混合、脱泡した未硬化の液状シリコーンゲル(旭化成ワッカーシリコーン(株)社製、品番:SLJ3363)を、気泡を巻き込まないように流し入れ、次いで、気泡を巻き込まないように、セパレーター用離型フィルムとしての離型フィルム(実施例および比較例において2−xのもの)の離型面を前記液状シリコーンゲル原料表面に接触被覆し、次いで、セパレーター用離型フィルムの上から上押し型となる平坦なガラス板を乗せて、手で押してスペーサー厚みに成形した。次に、前記成形工程のガラス板型とともに、前記シリコーンゲル原料を熱風式オーブン中で70℃1時間加熱硬化させ、その後、オーブンから取り出してガラス基板を取り外して、室温まで自然冷却し、OCA(キャリアフィルム用離型フィルム/OCA粘着層/セパレーター用離型フィルムの構成)を得た。なお、OCA粘着層は厚みが300μmとなるよう調整した。
(5) OCA haze evaluation (5-1) Creation of OCA A mold release film (1-x in Examples and Comparative Examples) as a release film for a carrier film on a flat glass substrate, and a mold release surface Placed on the four sides of the release film to place a 2.0 mm thick spacer to form a lower mold, and mixed and defoamed uncured liquid silicone gel (Asahi Kasei Wacker) at the center of the release film Silicone Co., Ltd., product number: SLJ3363) was poured to prevent entrainment of bubbles, and then a release film as a release film for separators (2-x in Examples and Comparative Examples) so as not to entrap bubbles. 1) is contact-coated on the surface of the liquid silicone gel raw material, and then a flat glass plate serving as an upper push mold is placed on the release film for the separator. It was pressed by hand to form a spacer thickness. Next, together with the glass plate mold of the molding step, the silicone gel raw material is heated and cured in a hot air oven at 70 ° C. for 1 hour, then removed from the oven, the glass substrate is removed, naturally cooled to room temperature, and OCA ( (Release film for carrier film / OCA adhesive layer / release film for separator)). The OCA adhesive layer was adjusted to have a thickness of 300 μm.

(5−2)ヘーズ評価
次いで、上記により得られたOCAからセパレーターを剥離して、ポリカーボネート板に貼り合せた後、キャリアフィルムを剥離し、その状態で、日本精密光学製へーズメーター(スガ試験機(株)製、ヘイズメーターHCM−2B、波長:580nm)を使用し、OCA面側を光源に向けてヘーズを測定した。かかる測定値をHz(1)とした。
次に、OCA粘着層において、キャリアフィルムを剥離した側の面に、上と同様のポリカーボネート板を貼り合わせ、これにより表面ヘーズをキャンセルした状態で、同様にヘーズを測定して、かかる測定値をHz(2)とした。これらの数値を下記の基準に従い、評価した。
◎ : Hz(1)−Hz(2)≦0.3
○ : 0.3<Hz(1)−Hz(2)≦0.45
△ : 0.45<Hz(1)−Hz(2)≦0.55
× : 0.55<Hz(1)−Hz(2)
(5-2) Haze evaluation Next, the separator was peeled off from the OCA obtained as described above and bonded to a polycarbonate plate, and then the carrier film was peeled off. Haze meter HCM-2B, wavelength: 580 nm) was used, and the haze was measured with the OCA side facing the light source. This measured value was set to Hz (1).
Next, in the OCA adhesive layer, a polycarbonate plate similar to the above is bonded to the surface on which the carrier film is peeled off, and the haze is measured in the same manner in a state where the surface haze is canceled. Hz (2). These numerical values were evaluated according to the following criteria.
A: Hz (1) -Hz (2) ≦ 0.3
○: 0.3 <Hz (1) −Hz (2) ≦ 0.45
Δ: 0.45 <Hz (1) −Hz (2) ≦ 0.55
X: 0.55 <Hz (1) -Hz (2)

(6)表面固有抵抗値
株式会社アドバンテスト社製(R8340/R12704)測定器にて、離型層表面について表面固有抵抗を測定した。測定環境は、温度23℃、相対湿度55%RHの雰囲気下に24時間エージングした試料フィルムを上記装置にて測定した。表面抵抗値は下記の基準で評価した。
(6) Surface resistivity The surface resistivity of the release layer surface was measured with a measuring instrument (R8340 / R12704) manufactured by Advantest Corporation. The measurement environment was a sample film which was aged for 24 hours in an atmosphere having a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH, and was measured with the above apparatus. The surface resistance value was evaluated according to the following criteria.

(7)OCA取り扱い性
まず、上記(5−1)で作成したOCAから、セパレーターを剥離し、再度新しいセパレーターを貼り直し、取り扱い性評価用のOCAを作成した。このようにして得られたOCA(これを1組という。)の枚葉シートを20組重ねて置いた後、1組ずつを手に取っていった際に、帯電により2組以上のOCA枚葉シートが重なってついてくることがないか確認し、下記の基準に従い、評価した。
○ : 20組中全ての枚葉シートが2組以上重なることなく取ることができた。
△ : 20組中4組以下の枚葉シートが2組以上重なってついてきたが、そのほかは重なることなく取ることができた。
× : 20組中5組以上の枚葉シートが2組以上重なってついてきた。
(7) OCA handleability First, a separator was peeled off from the OCA created in the above (5-1), a new separator was attached again, and an OCA for handling property evaluation was created. After 20 sheets of OCA (this is referred to as 1 set) obtained in this manner were stacked and then each set was picked up, 2 or more sets of OCA sheets were charged by charging. The leaf sheets were checked for overlapping and evaluated according to the following criteria.
○: All 20 sheets of sheets could be taken without overlapping two or more sets.
[Delta]: Four or less sheets of 20 sheets or more followed by two or more sheets, but other sheets could be taken without overlapping.
X: More than 5 sets of 20 sheets of 20 sets overlapped each other.

(8)ガラス転移点温度(Tg)、融点(Tm)
樹脂サンプルの場合は試料10mg、フィルムサンプルの場合は試料20mgを、パーキンエルマー社製のDSC装置(示差走査熱量計)にセットし、室温から20℃/分で300℃まで昇温し、試料を300℃の温度で5分間保持した後、液体窒素中で急冷し、この急冷試料を10℃/分で300℃付近まで昇温してガラス転移温度(Tg)(単位:℃)および融点(Tm)(単位:℃)を測定した。
(8) Glass transition temperature (Tg), melting point (Tm)
In the case of a resin sample, 10 mg of the sample, and in the case of a film sample, 20 mg of the sample are set in a DSC apparatus (differential scanning calorimeter) manufactured by PerkinElmer, Inc., and the temperature is increased from room temperature to 300 ° C. at 20 ° C./min. After maintaining at a temperature of 300 ° C. for 5 minutes, the sample was rapidly cooled in liquid nitrogen, and the rapidly cooled sample was heated to about 300 ° C. at 10 ° C./min to increase the glass transition temperature (Tg) (unit: ° C.) and the melting point (Tm ) (Unit: ° C.) was measured.

(9)粒子の平均粒径
試料台上に、粒子の粉体を個々の粒子ができるだけ重らないように散在させ、金スパッター装置によりこの表面に金薄膜蒸着層を厚み200〜300オングストロームで形成し、走査型電子顕微鏡を用いて1万〜3満倍で観察し、日本レギュレーター(株)製ルーゼックス500にて、少なくとも110個の粒子について、長径(Dli)、短径(Dsi)、および面積円相当径(Di)を求めた。
粒子の個数nとし、上記で得られた値を下記式に用いて、面積相当粒径(Di)の数平均値を平均粒径(D)とした。
(9) Average particle diameter of particles On a sample stage, powder particles are scattered so that individual particles do not overlap as much as possible, and a gold thin film deposition layer is formed on the surface with a thickness of 200 to 300 angstroms by a gold sputtering device. Then, observed at a magnification of 10,000 to 3 using a scanning electron microscope, and with a Luzex 500 manufactured by Japan Regulator Co., Ltd., the major axis (Dli), minor axis (Dsi), and area of at least 110 particles The equivalent circle diameter (Di) was determined.
The number n of particles was used, and the value obtained above was used in the following formula, and the number average value of the area equivalent particle diameter (Di) was defined as the average particle diameter (D).

Figure 0006010381
Figure 0006010381

(10)滑り性評価(離型フィルム取り扱い性)
JIS−K7125に従い、離型層表面の静摩擦係数(μs)を測定した。測定は5回行い、平均値を算出した。測定値を下記の基準で評価した。
○ : 摩擦係数の値が<0.5
× : 摩擦係数の値が≧0.5
また、上記測定後のフィルム表面の傷について、下記の基準で評価した。
○ : 測定後のフィルム表面に傷が見られない。
× : 測定後のフィルム表面に微細な傷が見られる。
(10) Sliding property evaluation (release film handling property)
According to JIS-K7125, the static friction coefficient (μs) on the surface of the release layer was measured. The measurement was performed 5 times and the average value was calculated. The measured values were evaluated according to the following criteria.
○: The coefficient of friction is <0.5
×: The coefficient of friction is ≧ 0.5
Moreover, the following reference | standard evaluated about the damage | wound of the film surface after the said measurement.
○: No scratches are observed on the film surface after measurement.
X: Fine scratches are observed on the film surface after measurement.

[実施例1−1]
(基材フィルム)
固有粘度0.65dl/gのポリエチレンテレフタレートペレット(PET)(ガラス転移点温度Tg=78℃、融点Tm=258℃、DSC法による。)を100質量部、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子を0.05質量部の割合にて混合し、乾燥し、2軸タイプエスクトルーダーにて溶融混合し、冷却ドラム上に押出し、未延伸シートを得た。続いて、かかる未延伸シートを、90℃で縦延伸倍率3.3倍、130℃で横延伸倍率3.5倍に延伸した後、熱固定温度210℃で4秒間熱処理し、厚さ100μmの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
(帯電防止層)
ポリシロキサンの加水分解物(コルコート社製:コルコートP)をイソプロピルアルコール(IPA)により希釈し、固形分1.5wt%の溶液を作成し、帯電防止層塗液を作成した。この帯電防止層塗液を常法のロールコートにより、上記で得られたポリエステルフィルムの冷却ドラムに接触した面上に塗布し、130℃の乾燥温度で30秒乾燥し、乾燥塗膜厚みが0.10μmの帯電防止層を形成し、帯電防止フィルムを得た。
(離型層)
メチルエチルケトン(MEK)70質量部とトルエン30質量部とからなる混合溶剤に、ポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーン(東レダウコーニング株式会社製:BY24−312)5.3質量部を溶解し、触媒(東レダウコーニング株式会社製:SRX−312)をシリコーン100質量部に対し2質量部の割合で混合して離型層塗液を作成した。この離型層塗液を常法のロールコートにより、上記で得られた帯電防止フィルムの帯電防止層を塗布した面上に塗布し、130℃の乾燥温度にて30秒乾燥し、乾燥膜厚みが0.10μmの離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表1に示す。
[Example 1-1]
(Base film)
100 parts by mass of polyethylene terephthalate pellets (PET) having an intrinsic viscosity of 0.65 dl / g (glass transition temperature Tg = 78 ° C., melting point Tm = 258 ° C. according to DSC method), bulk silicon oxide having an average particle size of 1.7 μm The particles were mixed at a ratio of 0.05 part by mass, dried, melted and mixed with a biaxial type extruder, and extruded onto a cooling drum to obtain an unstretched sheet. Subsequently, the unstretched sheet was stretched at 90 ° C. at a longitudinal stretching ratio of 3.3 times and at 130 ° C. at a transverse stretching ratio of 3.5 times, and then heat-treated at a heat setting temperature of 210 ° C. for 4 seconds to obtain a thickness of 100 μm. A biaxially stretched polyester film was obtained.
(Antistatic layer)
A polysiloxane hydrolyzate (manufactured by Colcoat Co., Ltd .: Colcoat P) was diluted with isopropyl alcohol (IPA) to prepare a solution having a solid content of 1.5 wt% to prepare an antistatic layer coating solution. This antistatic layer coating solution is applied on the surface of the polyester film obtained above in contact with the cooling drum by a conventional roll coating, and dried at a drying temperature of 130 ° C. for 30 seconds. An antistatic layer having a thickness of 10 μm was formed to obtain an antistatic film.
(Release layer)
In a mixed solvent composed of 70 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK) and 30 parts by mass of toluene, 5.3 parts by mass of silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd .: BY24-312) having polydimethylsiloxane as a main component is dissolved, and a catalyst is obtained. (Toray Dow Corning Co., Ltd. product: SRX-312) was mixed at a ratio of 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of silicone to prepare a release layer coating solution. This release layer coating solution is applied onto the surface of the antistatic film obtained above by applying a conventional roll coat, and dried at a drying temperature of 130 ° C. for 30 seconds to obtain a dry film thickness. Formed a release layer of 0.10 μm to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

[実施例1−2]
基材フィルムに添加する粒子を、PET100質量部に対して、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子を0.04質量部と、平均粒径0.1μmのアルミナ粒子を0.02質量部とにした以外は実施例1−1と同様にして、厚さ100μmの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。更に、実施例1−1と同様にして帯電防止層、離型層を順次形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表1に示す。
[Example 1-2]
The particles added to the base film are 0.04 parts by mass of bulk silicon oxide particles having an average particle diameter of 1.7 μm and 0.02 parts by mass of alumina particles having an average particle diameter of 0.1 μm with respect to 100 parts by mass of PET. A biaxially stretched polyester film having a thickness of 100 μm was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that. Further, an antistatic layer and a release layer were sequentially formed in the same manner as in Example 1-1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

[実施例1−3]
極限粘度0.65dl/gのポリエチレンテレフタレートペレット(PET)(ガラス転移点温度Tg=78度、融点Tm=258℃、DSC法による。)を100質量部、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子を0.02質量部の割合にて混合したものを表層側ポリエステル(A)とし、同様のポリエチレンテレフタレートペレット100質量部に、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子を0.08質量部の割合にて混合したものを芯層側ポリエステル(B)として準備した。各ポリエステルを乾燥し、ポリエステル(A)を第1の押し出し機に、ポリエステル(B)を第2の押し出し機に供給し、溶融状態にして、3層フィードブロック装置を使用して、ポリエステル(A)を表層として2層に分岐させ、ポリエステル(B)を芯層として1層に分岐させ、表層/芯層/表層の3層積層状態の溶融体として冷却ドラム上に押出し、未延伸シートを得た。続いて、かかる未延伸シートを90℃で縦延伸倍率3.3倍、130℃で横延伸倍率3.5倍に延伸した後、熱固定温度210℃、4秒間熱処理し、厚さ100μmの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。尚、両表層の厚みが各6μm、芯層の厚みが88μmとなるよう制御した。さらに、得られたポリエステルフィルムに、実施例1−1と同様にして帯電防止層、離型層を順次形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表1に示す。
[Example 1-3]
Lumped silicon oxide having 100 parts by mass of polyethylene terephthalate pellets (PET) having an intrinsic viscosity of 0.65 dl / g (glass transition temperature Tg = 78 ° C., melting point Tm = 258 ° C., DSC method) and an average particle diameter of 1.7 μm A mixture of particles at a ratio of 0.02 parts by mass is used as the surface layer side polyester (A), and 0.08 parts by mass of bulk silicon oxide particles having an average particle diameter of 1.7 μm is added to 100 parts by mass of the same polyethylene terephthalate pellets. Was mixed as a core layer side polyester (B). Each polyester is dried, the polyester (A) is supplied to the first extruder, the polyester (B) is supplied to the second extruder, and the polyester (A) is melted using a three-layer feedblock device. ) Is branched into two layers as a surface layer, polyester (B) is branched into one layer as a core layer, and extruded onto a cooling drum as a melt in a three-layered state of surface layer / core layer / surface layer to obtain an unstretched sheet It was. Subsequently, the unstretched sheet was stretched at 90 ° C. to a longitudinal stretching ratio of 3.3 times and at 130 ° C. to a transverse stretching ratio of 3.5 times, and then heat-treated at 210 ° C. for 4 seconds to obtain a 100 μm-thick An axially stretched polyester film was obtained. The thicknesses of both surface layers were controlled to be 6 μm and the thickness of the core layer was 88 μm. Further, an antistatic layer and a release layer were sequentially formed on the obtained polyester film in the same manner as in Example 1-1 to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

[実施例1−4]
離型層塗液および離型層塗液を、ポリエステルフィルムの冷却ドラムに接触していない面に塗布したこと以外は実施例1−1と同様にして帯電防止層、離型層を順次形成し、離型フィルムを得た。得られた帯電防止付き離型フィルムの特性を表1に示す。
[Example 1-4]
An antistatic layer and a release layer were sequentially formed in the same manner as in Example 1-1 except that the release layer coating solution and the release layer coating solution were applied to the surface of the polyester film that was not in contact with the cooling drum. A release film was obtained. The properties of the obtained release film with antistatic properties are shown in Table 1.

[実施例1−5]
基材フィルムに添加する粒子を、PET100質量部に対して、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子0.06質量部とした以外は実施例1−4と同様にして厚さ100μmの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。更に、実施例1−4同様、冷却ドラムに接触していない面に、実施例1−1と同様の帯電防止層、離型層を順次形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表1に示す。
[Example 1-5]
The particle to be added to the base film was the same as Example 1-4 except that 0.06 part by mass of bulk silicon oxide particles having an average particle diameter of 1.7 μm with respect to 100 parts by mass of PET. An axially stretched polyester film was obtained. Further, as in Example 1-4, the same antistatic layer and release layer as in Example 1-1 were sequentially formed on the surface not in contact with the cooling drum to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

[実施例1−6]
表層側ポリエステル(A)に添加する粒子を、表層側ポリエステル(A)におけるPET100質量部に対して、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子0.07質量部とし、芯層側ポリエステル(B)に添加する粒子を、芯層側ポリエステル(B)におけるPET100質量部に対して、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子0.08質量部とした以外は実施例1−3と同様にして厚さ100μmの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。更に、実施例1−1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表1に示す。
[Example 1-6]
The particles added to the surface layer side polyester (A) are 0.07 parts by mass of bulk silicon oxide particles having an average particle diameter of 1.7 μm with respect to 100 parts by mass of the PET in the surface layer side polyester (A). ) Was added in the same manner as in Example 1-3, except that 0.08 parts by mass of bulk silicon oxide particles having an average particle diameter of 1.7 μm with respect to 100 parts by mass of PET in the core layer side polyester (B). Thus, a biaxially stretched polyester film having a thickness of 100 μm was obtained. Further, a release film was obtained in the same manner as in Example 1-1. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

[実施例1−7]
帯電防止層の塗布厚みを0.20μmとした以外は実施例1−1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの評価結果を表1に示す。
[Example 1-7]
A release film was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the coating thickness of the antistatic layer was 0.20 μm. Table 1 shows the evaluation results of the obtained release film.

[実施例1−8]
帯電防止層の塗布厚みを0.07μmとした以外は実施例1−1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの評価結果を表1に示す。
[Example 1-8]
A release film was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the coating thickness of the antistatic layer was changed to 0.07 μm. Table 1 shows the evaluation results of the obtained release film.

[比較例1−1]
基材フィルムに添加する粒子を、PET100質量部に対して、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子0.07質量部とした以外は実施例1−1と同様にして、厚さ100μmの二軸延伸ポリエステルフィルムを得て、実施例1−1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表1に示す。
[Comparative Example 1-1]
A particle having a thickness of 100 μm was added in the same manner as in Example 1-1 except that particles added to the base film were 0.07 parts by mass of bulk silicon oxide particles having an average particle diameter of 1.7 μm with respect to 100 parts by mass of PET. A biaxially stretched polyester film was obtained, and a release film was obtained in the same manner as in Example 1-1. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

[比較例1−2]
基材フィルムに添加する粒子を、PET100質量部に対して、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子0.008質量部とした以外は実施例1−1と同様にして、厚さ100μmの二軸延伸ポリエステルフィルムを得て、実施例1−1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表1に示す。
[Comparative Example 1-2]
A particle having a thickness of 100 μm was added in the same manner as in Example 1-1 except that particles added to the base film were 0.008 parts by mass of bulk silicon oxide particles having an average particle size of 1.7 μm with respect to 100 parts by mass of PET. A biaxially stretched polyester film was obtained, and a release film was obtained in the same manner as in Example 1-1. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

[比較例1−3]
帯電防止層上に離型層を付与しなかった以外は実施例1−5と同様にして帯電防止フィルムを得た。得られた帯電防止フィルムの特性を表1に示す。
[Comparative Example 1-3]
An antistatic film was obtained in the same manner as in Example 1-5 except that the release layer was not provided on the antistatic layer. The properties of the obtained antistatic film are shown in Table 1.

[比較例1−4]
ポリエステルフィルム上に帯電防止層を付与しなかった以外は実施例1−5と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表1に示す。
[Comparative Example 1-4]
A release film was obtained in the same manner as in Example 1-5 except that the antistatic layer was not provided on the polyester film. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.

[比較例1−5]
帯電防止層の形成に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)/ポリスチレンスルホン酸(PSS)の水分散体(ナガセケムテックス製:バイトロンP)を蒸留水で希釈し、固形分1.0wt%の溶液を作成し、これを帯電防止層塗液として用い、乾燥塗膜厚みが0.15μmとなるようにした以外は、実施例1−5と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムは、帯電防止層成分により離型層の硬化阻害が起こり、離型層の硬化不良が見られた。この離型フィルムの特性を表1に示す。
[Comparative Example 1-5]
For the formation of the antistatic layer, an aqueous dispersion of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT) / polystyrene sulfonic acid (PSS) (manufactured by Nagase ChemteX: Vitron P) is diluted with distilled water to obtain a solid content. A release film was obtained in the same manner as in Example 1-5 except that a 1.0 wt% solution was prepared, and this was used as the antistatic layer coating solution, so that the dry coating thickness was 0.15 μm. It was. In the obtained release film, inhibition of curing of the release layer occurred due to the antistatic layer component, and poor curing of the release layer was observed. The properties of this release film are shown in Table 1.

[実施例2−1]
(基材フィルム)
固有粘度0.65dl/gのポリエチレンテレフタレートペレット(PET)(ガラス転移点温度Tg=78℃、融点Tm=258℃、DSC法による。)を100質量部、平均粒径1.7μmの塊状酸化ケイ素粒子を0.05質量部の割合にて混合し、乾燥し、2軸タイプエスクトルーダーにて溶融混合し、冷却ドラム上に押出し、未延伸シートを得た。続いて、かかる未延伸シートを、90℃で縦延伸倍率3.3倍、130℃で横延伸倍率3.5倍に延伸した後、熱固定温度210℃で4秒間熱処理し、厚さ50μmの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。
(帯電防止層)
ポリシロキサンの加水分解物(コルコート社製:コルコートP)をイソプロピルアルコール(IPA)により希釈し、固形分1.5wt%の溶液を作成し、帯電防止層塗液を作成した。この帯電防止層塗液を常法のロールコートにより、上記で得られたポリエステルフィルムの冷却ドラムに接触した面上に塗布し、130℃の乾燥温度で30秒乾燥し、乾燥塗膜厚みが0.10μmの帯電防止層を形成し、帯電防止フィルムを得た。
(離型層)
メチルエチルケトン(MEK)70質量部とトルエン30質量部とからなる混合溶剤に、ポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーン(信越化学工業株式会社製:TFR1476)6質量部を溶解し、触媒(信越化学工業株式会社製:CM670)をシリコーン100質量部に対し2質量部の割合で混合して離型層塗液を作成した。この離型層塗液を常法のロールコートにより、上記で得られた帯電防止フィルムの帯電防止層を塗布した面上に塗布し、130℃の乾燥温度にて30秒乾燥し、乾燥膜厚みが0.10μmの離型層を形成し、離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの特性を表2に示す。
[Example 2-1]
(Base film)
100 parts by mass of polyethylene terephthalate pellets (PET) having an intrinsic viscosity of 0.65 dl / g (glass transition temperature Tg = 78 ° C., melting point Tm = 258 ° C. according to DSC method), bulk silicon oxide having an average particle size of 1.7 μm The particles were mixed at a ratio of 0.05 part by mass, dried, melted and mixed with a biaxial type extruder, and extruded onto a cooling drum to obtain an unstretched sheet. Subsequently, the unstretched sheet was stretched at 90 ° C. at a longitudinal stretching ratio of 3.3 times and at 130 ° C. at a transverse stretching ratio of 3.5 times, and then heat-treated at a heat setting temperature of 210 ° C. for 4 seconds to obtain a thickness of 50 μm. A biaxially stretched polyester film was obtained.
(Antistatic layer)
A polysiloxane hydrolyzate (manufactured by Colcoat Co., Ltd .: Colcoat P) was diluted with isopropyl alcohol (IPA) to prepare a solution having a solid content of 1.5 wt% to prepare an antistatic layer coating solution. This antistatic layer coating solution is applied on the surface of the polyester film obtained above in contact with the cooling drum by a conventional roll coating, and dried at a drying temperature of 130 ° C. for 30 seconds. An antistatic layer having a thickness of 10 μm was formed to obtain an antistatic film.
(Release layer)
In a mixed solvent composed of 70 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK) and 30 parts by mass of toluene, 6 parts by mass of silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: TFR1476) containing polydimethylsiloxane as a main component is dissolved, and a catalyst (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is dissolved. A release layer coating solution was prepared by mixing 2 parts by mass with 100 parts by mass of silicone. This release layer coating solution is applied onto the surface of the antistatic film obtained above by applying a conventional roll coat, and dried at a drying temperature of 130 ° C. for 30 seconds to obtain a dry film thickness. Formed a release layer of 0.10 μm to obtain a release film. The properties of the obtained release film are shown in Table 2.

[実施例2−2]
帯電防止層の塗布厚みを0.20μmとした以外は実施例2−1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの評価結果を表2に示す。
[Example 2-2]
A release film was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the coating thickness of the antistatic layer was 0.20 μm. Table 2 shows the evaluation results of the obtained release film.

[実施例2−3]
帯電防止層の塗布厚みを0.07μmとした以外は実施例2−1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの評価結果を表2に示す。
[Example 2-3]
A release film was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the coating thickness of the antistatic layer was 0.07 μm. Table 2 shows the evaluation results of the obtained release film.

[比較例2−1]
帯電防止層を塗布しなかった以外は実施例2−1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムの評価結果を表2に示す。
[Comparative Example 2-1]
A release film was obtained in the same manner as in Example 2-1, except that the antistatic layer was not applied. Table 2 shows the evaluation results of the obtained release film.

[実施例3−1〜3−10、比較例3−1〜3−6]
上記で得られた離型フィルム(帯電防止フィルム)を用いて、表3に示す組み合わせにて、上記「(5−1)OCAの作成」の方法に準じてOCAを作成した。評価結果を表3に示す。
[Examples 3-1 to 3-10, Comparative examples 3-1 to 3-6]
Using the release film (antistatic film) obtained above, OCA was produced in the combinations shown in Table 3 according to the method of “(5-1) Creation of OCA”. The evaluation results are shown in Table 3.

Figure 0006010381
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比較例3−3においては、キャリアフィルムの滑りが悪くOCA塗工工程でうまくハンドリングできず、評価に値するOCAサンプルが作成できなかったため、OCAヘーズ評価、OCA取扱い性評価を行うことができなかった。
比較例3−4においては、キャリアフィルムの剥離性が不足し、キャリアフィルムが剥離できなかったため、OCAヘーズ評価ができなかった。OCA取扱い性は良好な結果であったが、キャリアフィルムを剥離できない為、最終的には使用できない結果となった。
比較例3−6においては、キャリアフィルムの離型層の硬化が不十分であったため、評価に値するOCAサンプルが作成できず、OCAヘーズ評価ができなかった。OCA取扱い性は良好な結果であったが、キャリアフィルムを上手く剥離できず、また離型層がOCAに付着してしまい、最終的には使用できない結果となった。
In Comparative Example 3-3, the carrier film was poorly slid and could not be handled well in the OCA coating process, and an OCA sample worthy of evaluation could not be created. Therefore, OCA haze evaluation and OCA handleability evaluation could not be performed. .
In Comparative Example 3-4, since the peelability of the carrier film was insufficient and the carrier film could not be peeled off, OCA haze evaluation could not be performed. Although the OCA handleability was a good result, since the carrier film could not be peeled, the result was not usable finally.
In Comparative Example 3-6, since the curing of the release layer of the carrier film was insufficient, an OCA sample worthy of evaluation could not be produced, and OCA haze evaluation could not be performed. Although the OCA handleability was a good result, the carrier film could not be peeled off well, and the release layer adhered to the OCA, so that it could not be used finally.

本発明の離型フィルムは、OCAの離型フィルムとして好適に用いることができる。   The release film of the present invention can be suitably used as an OCA release film.

Claims (6)

基材フィルムの少なくとも片面に帯電防止層および離型層をこの順で有する離型フィルムであって、該離型層表面における10点平均粗さRzが650nm以上、1600nm以下であり、該離型層表面における表面固有抵抗値が10Ω/□以上、1012Ω/□以下である、光学用透明粘着シート用離型フィルム。 A release film having an antistatic layer and a release layer in this order on at least one surface of a base film, wherein the 10-point average roughness Rz on the release layer surface is 650 nm or more and 1600 nm or less, and the release film A release film for a transparent adhesive sheet for optical use, having a surface specific resistance value of 10 6 Ω / □ or more and 10 12 Ω / □ or less on the surface of the layer. 帯電防止層が、4官能性ケイ素化合物の加水分解および/または縮合反応によって形成されてなる酸化ケイ素膜である、請求項1に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。   The release film for transparent optical adhesive sheets for optical use according to claim 1, wherein the antistatic layer is a silicon oxide film formed by hydrolysis and / or condensation reaction of a tetrafunctional silicon compound. 離型層表面における剥離力が、常温測定時において19.5mN/25mm以上、680mN/25mm以下である、請求項1または2に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。   The release film for transparent adhesive sheets for optical use according to claim 1 or 2, wherein the peeling force on the surface of the release layer is 19.5 mN / 25 mm or more and 680 mN / 25 mm or less when measured at room temperature. 離型層表面における10点平均粗さRzが650nm以上、1200nm以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。   The mold release film for optical transparent adhesive sheets of any one of Claims 1-3 whose 10-point average roughness Rz in a mold release layer surface is 650 nm or more and 1200 nm or less. 離型層表面において、高さ0.2μm以上の突起が100〜800個/mmであり、高さ0.6μm以上の突起が10〜130個/mmであり、高さ1.2μm以上の突起が10個/mm以下である、請求項4に記載の光学用透明粘着シート用離型フィルム。 In the release layer surface is more than the height 0.2μm projections 100 to 800 pieces / mm 2, more height 0.6μm projections is 10 to 130 pieces / mm 2, more height 1.2μm The mold release film for an optical transparent adhesive sheet according to claim 4, wherein the number of protrusions is 10 pieces / mm 2 or less. 粘着層の両面に、請求項1〜5のいずれか1項に記載の離型フィルムを有する積層体。   The laminated body which has a release film of any one of Claims 1-5 on both surfaces of an adhesion layer.
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