JP5919823B2 - 磁束分布制御装置 - Google Patents
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Description
このように、本発明は、閉ループ線路10を除去した部分では、その周囲に存在する閉ループ線路10を流れる誘導電流により磁束を再合成して、磁束を有効に透過、すなわち、磁束を収束させるものであり、単に、金属板の中央部に孔を設けた場合とは、動作原理が基本的に異なる。上記のことは、閉ループ線路10を3×3のマトリックス配置にした場合において、中央の閉ループ線路10のスイッチ素子20をオフ状態にした場合と等価であるので、この場合にも上記の原理は成立する。
また、本装置では、磁束を点状に収束させた磁束分布を得ることができることから、焦点位置に磁界センサを配置させることで、磁界測定の感度を向上させることができる。
また、本装置では、磁束分布を制御できることから、磁場に反応するマグネットシートを焦点面に設けることで、磁束ディスプレイを実現することができる。
また、本装置では、磁束分布を制御できることから、電磁調理器において特定の領域を加熱し、又は、特定の領域を加熱しないようにすることができる。
10、A0、A1、C、D、E、G…閉ループ線路
20…スイッチ素子
30…分布制御装置
40…誘電体基板
Claims (3)
- 交流磁束の分布を制御する磁束分布制御装置において、
誘電体基板と、
前記誘電体基板に、複数、マトリックス配列され、遮断状態と導通状態について個々に独立している導体から成り、導通状態において貫通する前記交流磁束により誘導電流が流れる閉ループ線路と、
前記各閉ループ線路に挿入された、誘導電流の遮断と導通を制御する、又は、誘導電流の大きさ又は位相を制御する電流制御装置と、
前記各電流制御装置を制御して、前記各閉ループ線路を貫通する前記交流磁束を制御することで磁束分布を制御する分布制御装置と、
を有し、
前記閉ループ線路は円形又は正方形であり、円形の直径又は正方形の1辺の長さは、前記交流磁束の波長の1/10 5 以上1/10 3 以下であり、隣接する前記閉ループ線路間の間隔は、円形の直径又は正方形の1辺の長さよりも小さく、
前記磁束分布制御装置は、焦点面において、収束した磁束分布を発生させる装置である
ことを特徴とする磁束分布制御装置。 - 前記電流制御装置は、前記誘導電流の遮断と導通とを2値制御するスイッチ素子であることを特徴とする請求項1に記載の磁束分布制御装置。
- 前記電流制御装置は、前記誘導電流の大きさ又は位相を制御する可変インピーダンス素子、又は、前記誘導電流の大きさ又は位相を制御する可変インピーダンス回路であることを特徴とする請求項1に記載の磁束分布制御装置。
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