JP2014504009A - 集積化したギャップを有する薄膜インダクタ - Google Patents
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Abstract
Description
1以上のアームと、
各アームを通る1以上の導体(コンダクタ)と、
1以上のアームのうちの第1のアームにおける1以上の導体を部分的に包み込む第1の強磁性ヨークであって、磁性上側セクションと、磁性下側セクションと、1以上のアームのうちの第1のアームにおける1以上の導体の両側に位置するビア(via)領域とを備え、磁性上側セクションと磁性下側セクションとが、ビア領域の低磁気抵抗経路(low reluctance path)を通じて結合されるものである、第1の強磁性ヨークと、
少なくとも1つのビア領域における上側セクションと下側セクションとの間の1以上の非磁性ギャップと
を含む。
少なくとも2つのアームと、
各アームを通る1以上の導体と、
少なくとも2つのアームのうちの第1のアームにおける1以上の導体を部分的に包み込む第1の強磁性ヨークであって、磁性上側セクションと、磁性下側セクションと、1以上のアームのうちの第1のアームにおける1以上の導体の両側に位置するビア領域とを備え、磁性上側セクションと磁性下側セクションとが、ビア領域の第1の低磁気抵抗経路を通じて結合されるものである、第1の強磁性ヨークと、
第1のアームの少なくとも1つのビア領域における上側セクションと下側セクションとの間の1以上の非磁性ギャップと、
少なくとも2つのアームのうちの第2のアームにおける1以上の導体を部分的に包み込む第2の強磁性ヨークであって、磁性上側セクションと、磁性下側セクションと、1以上のアームのうちの第2のアームにおける1以上の導体の両側に位置するビア領域とを備え、磁性上側セクションと磁性下側セクションとが、ビア領域の第2の低磁気抵抗経路を通じて結合されるものである、第2の強磁性ヨークと、
第2のアームの少なくとも1つのビア領域における上側セクションと下側セクションとの間の1以上の非磁性ギャップと
を含む。
2つのヨークの下側セクションを形成するステップと、
2つの下側セクションのうちのそれぞれの下側セクションの少なくとも一部の上に、電気的絶縁材料の第1の層を形成するステップと、
それぞれの下側セクションの上を通る1以上の導体を形成するステップと、
1以上の導体の上に、電気的絶縁材料の第2の層を形成するステップと、
ヨークの上側セクションを形成するステップであって、1以上の非磁性ギャップが1以上のビア領域に存在し、ビア領域は、それぞれのヨークの上側セクションと下側セクションとの間の1以上の導体のそれぞれの側に位置するものである、ステップと
を含む。
1以上のアームと、
各アームを通る1以上の導体と、
1以上のアームのうちの第1のアームにおける1以上の導体を部分的に包み込む第1の強磁性ヨークであって、磁性上側セクションと、磁性下側セクションと、1以上のアームのうちの第1のアームにおける1以上の導体の両側に位置するビア領域とを備え、磁性上側セクションと磁性下側セクションとが、ビア領域の低磁気抵抗経路を通じて結合されるものである、第1の強磁性ヨークと、
少なくとも1つのビア領域における上側セクションと下側セクションとの間の1以上の非磁性ギャップと
を含む。
少なくとも2つのアームと、
各アームを通る1以上の導体と、
少なくとも2つのアームのうちの第1のアームにおける1以上の導体を部分的に包み込む第1の強磁性ヨークであって、磁性上側セクションと、磁性下側セクションと、1以上の導体の両側に位置するビア領域とを備え、磁性上側セクションと磁性下側セクションとが第1の低磁気抵抗経路を通じて結合されるものである、第1の強磁性ヨークと、
第1のアームの上側セクションと下側セクションとの間の1以上の非磁性ギャップと、
を含む。第2の強磁性ヨークは、少なくとも2つのアームのうちの第2のアームにおける1以上の導体を部分的に包み込み、第2の強磁性ヨークは、
磁性上側セクションと、
磁性下側セクションと、
1以上の導体の両側に位置するビア領域と
を備え、磁性上側セクションと磁性下側セクションとが第2の低磁気抵抗経路を通じて結合される。第2の強磁性ヨークは更に、第2のアームの上側セクションと下側セクションとの間の1以上の非磁性ギャップを含む。
2つのヨークの下側セクションを形成するステップと、
2つの下側セクションのうちのそれぞれの下側セクションの少なくとも一部の上に、電気的絶縁材料の第1の層を形成するステップと、
それぞれの下側セクションの上を通る1以上の導体を形成するステップと、
1以上の導体の上に、電気的絶縁材料の第2の層を形成するステップと、
ヨークの上側セクションを形成するステップであって、1以上の非磁性ギャップが1以上のビア領域に存在し、ビア領域は、それぞれのヨークの上側セクションと下側セクションとの間の1以上の導体のそれぞれの側に位置するものである、ステップと
を含む。
Claims (24)
- 薄膜インダクタであって、
1以上のアームと、
それぞれの前記アームを通る1以上の導体と、
前記1以上のアームのうちの第1のアームにおける前記1以上の導体を部分的に包み込む第1の強磁性ヨークであって、磁性上側セクションと、磁性下側セクションと、前記1以上のアームのうちの前記第1のアームにおける前記1以上の導体の両側に位置するビア領域とを備え、前記磁性上側セクションと前記磁性下側セクションとが、前記ビア領域の低磁気抵抗経路を通じて結合されるものである、第1の強磁性ヨークと、
前記第1のアームの前記ビア領域のうちの少なくとも1つのビア領域における前記上側セクションと前記下側セクションとの間の1以上の非磁性ギャップと
を含む薄膜インダクタ。 - 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、前記1以上の非磁性ギャップは、電気的絶縁材料で作られる、薄膜インダクタ。
- 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、前記1以上の非磁性ギャップは、導電材料で作られる、薄膜インダクタ。
- 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、
前記1以上のアームのうちの第2のアームにおける前記1以上の導体を部分的に包み込む第2の強磁性ヨークであって、磁性上側セクションと、磁性下側セクションと、前記1以上のアームのうちの前記第2のアームにおける前記1以上の導体の両側に位置するビア領域とを備え、前記磁性上側セクションと前記磁性下側セクションとが、前記ビア領域の低磁気抵抗経路を通じて結合されるものである、第2の強磁性ヨークと、
前記第2のアームの前記ビア領域のうちの少なくとも1つのビア領域における前記上側セクションと前記下側セクションとの間の1以上の非磁性ギャップと
を更に備える薄膜インダクタ。 - 請求項4に記載の薄膜インダクタであって、それぞれの前記アームにおいて前記1以上の導体を包み込む前記強磁性ヨークのそれぞれは、前記強磁性ヨークにおける1つの非磁性ギャップを有する、薄膜インダクタ。
- 請求項4に記載の薄膜インダクタであって、それぞれの前記強磁性ヨークの前記非磁性ギャップは、薄膜インダクタの内側に位置する、薄膜インダクタ。
- 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、前記1以上の導体は渦巻き状の構成を有する、薄膜インダクタ。
- 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、前記コイルは、電気的絶縁材料により前記下側セクションから分離され、前記電気的絶縁材料は、前記1以上の非磁性ギャップを形成するものであり、かつ単一層デポジションにより作られたことによる物理的および構造的な特徴を有するものである、薄膜インダクタ。
- 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、前記第1の強磁性ヨークの前記上側セクションと前記下側セクションとは2つの非磁性ギャップにより分離される、薄膜インダクタ。
- 請求項9に記載の薄膜インダクタであって、前記2つの非磁性ギャップは異なる厚さである、薄膜インダクタ。
- 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、前記1以上の導体の巻き数は2回以上である、薄膜インダクタ。
- 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、前記1以上の導体の巻き数は1回である、薄膜インダクタ。
- 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、前記第1の強磁性ヨークの前記上側セクションは平面状であり、前記第1の強磁性ヨークの前記上側セクションと前記下側セクションとの間に磁性材料のピラーが配される、薄膜インダクタ。
- 請求項13に記載の薄膜インダクタであって、前記第1の強磁性ヨークの前記1以上の非磁性ギャップは、1以上の前記ピラーの底部のある、薄膜インダクタ。
- 請求項13に記載の薄膜インダクタであって、前記第1の強磁性ヨークの前記1以上の非磁性ギャップは、1以上の前記ピラーの頂部にある、薄膜インダクタ。
- 請求項1に記載の薄膜インダクタであって、前記第1の強磁性ヨークおよび前記第2の強磁性ヨークの前記上側セクションおよび前記下側セクションのうちの少なくとも1つは、前記第1のヨークと前記第2のヨークとにわたって連続したものである、薄膜インダクタ。
- 請求項4に記載の薄膜インダクタであって、前記第1の強磁性ヨークおよび前記第2の強磁性ヨークの前記上側セクションおよび前記下側セクションのうちの少なくとも1つは、磁性層と非磁性層とを積層したものである、膜インダクタ。
- システムであって、
電子デバイスと、
請求項4に記載の薄膜インダクタを含む電源と
を備えるシステム。 - 請求項18に記載の薄膜システムであって、それぞれの前記ヨークの前記上側セクションはコンフォーマルである、システム。
- 請求項18に記載の薄膜システムであって、それぞれの前記ヨークの前記上側セクションは平面状であり、それぞれの前記ヨークの前記上側セクションと前記下側セクションとの間に磁性材料のピラーが配される、システム。
- 請求項18に記載の薄膜システムであって、前記第1のヨークおよび前記第2のヨークの前記上側セクションおよび前記下側セクションのうちの少なくとも1つは、磁性層と非磁性層とを積層したものである、システム。
- 請求項18に記載の薄膜システムであって、前記薄膜インダクタと前記電子デバイスとが共通の基板に物理的に構築される、システム。
- 薄膜インダクタを作成する方法であって、
2つのヨークの下側セクションを形成するステップと、
2つの前記下側セクションのうちのそれぞれの下側セクションの少なくとも一部の上に、電気的絶縁材料の第1の層を形成するステップと、
それぞれの前記下側セクションの上を通る1以上の導体を形成するステップと、
前記1以上の導体の上に、電気的絶縁材料の第2の層を形成するステップと、
前記2つのヨークの上側セクションを形成するステップと
を含み、
1以上の非磁性ギャップが1以上のビア領域に存在し、前記ビア領域は、それぞれの前記ヨークの前記上側セクションと前記下側セクションとの間の前記1以上の導体のそれぞれの側に位置するものである、
方法。 - 請求項23に記載の方法であって、それぞれの前記ヨークの前記上側セクションは平面状であり、
それぞれの前記ヨークの前記上側セクションと前記下側セクションとの間に磁性材料のピラーを形成するステップ
を更に備える方法。
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