JP5916600B2 - 画像形成方法及びその方法に用いる感光性組成物 - Google Patents
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Description
また、前記光重合開始剤は、前記光酸発生剤が酸を発生しない波長域、即ち280nm以上の波長域の光で感光することができるものが好ましい。
本発明の画像形成方法は、280nm未満の波長域の光により酸を発生する光酸発生剤と電子供与性染料とを含有する感光性組成物の塗膜に対し、異なる波長域で複数回露光することにより、着色部と未着色部とからなる画像パターン(以下、「画像コントラスト」などともいう。)の形成と定着をそれぞれ行うものである。
一般に、感光波長域の強度(感度)は、その濃度に依存するため、光酸発生剤の有する感光波長域の裾が280nmにかかるものであっても、その配合量を制限することによって280nmにかかる強度を低減し、280nm以上の波長域での露光では酸を発生しない光酸発生剤として用いることができる。
さらにこれらの中でも、ArFエキシマーレーザー(193nm)、KrBrエキシマーレーザー(207nm)、KrClエキシマーレーザー(223nm)、KrFエキシマーレーザー(248nm)がより好ましい。
*2:ネオマーDA-600(三洋化成工業社製)
*3:IRGACURE 907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
*4:CGI-325(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
*5:IRGACURE 369(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
*6:アデカオプトマーSP-066(ADEKA社製)
*7:TS-01(三和ケミカル社製)
*8:WPAG-170(和光純薬工業社製)
*9:アデカオプトマーSP-152(固形分50%)(ADEKA社製)
*10:KS-66(信越シリコーン社製)
*11:S-205(山田化学工業社製)
表1の組成物例1〜7の感光性組成物をバフ研磨した銅ベタ基板上に、それぞれスクリーン印刷にて全面印刷し、80℃で30分間乾燥することで基板上に無色透明の塗膜を形成した。
[露光工程A(画像コントラスト形成工程)]
(1)露光条件1
露光工程Aとして、光源に248nmを発振するKrFエキシマーレーザーを用い、上記試験基板に対し、1000mJ/cm2でパターニングを行った。その後、80℃で10分間のPEB処理(露光後加熱処理)を行った。
(2)露光条件2
露光工程Aとして、光源にメタルハライドランプを用い、上記試験基板に対し、所定のパターンを形成したネガマスクを介して全光波長領域で1000mJ/cm2の光照射を行った。その後、80℃で10分間のPEB処理(露光後加熱処理)を行った。
(3)露光条件3
露光工程Bとして、露光工程Aで露光を終えた後、300nm以下の波長をカットするためにPETフィルム越しにメタルハライドランプを用いて真空密着露光を行い、塗膜全体を1000mJ/cm2で光照射し、画像を形成した塗膜を有する基板(画像形成基板)を得た。
(4)露光条件4
露光工程Bとして、露光工程Aで露光を終えた後、405nmの波長を発振する直描露光機を用い、塗膜全体を1000mJ/cm2で光照射し、画像を形成した塗膜を有する基板(画像形成基板)を得た。
(1)画像コントラスト
実施例1〜5、比較例1〜5で得られた画像形成基板について、画像コントラストを目視で確認した。評価基準は以下のとおりである。
発色あり…露光後の発色が見られる。
発色なし…露光前後に色彩変化なし。
実施例1〜5、比較例1〜5で得られた画像形成基板について、各露光工程後のタック性(指触性)により、塗膜の硬化状態を評価した。評価基準は以下のとおりである。
○…指触時に塗膜表面に指跡が全く残らない。
×…指触時に塗膜表面に指跡が残る。
実施例1〜5、比較例1〜5で得られた画像形成基板について、着色部と未着色部のそれぞれを、アセトンによるラビングテストを50回行い、塗膜の溶解、剥がれを目視で確認し、この評価により、塗膜の硬化性を確認した。評価基準は以下のとおりである。
○…ラビングテスト後の塗膜の溶解、剥がれ無し。
×…ラビングテスト後の塗膜の溶解、剥がれ有り。
実施例1〜5、比較例1〜5で得られた画像形成基板について、UVカット蛍光灯下で1ヶ月間放置し、未着色部のカブリを目視で確認することにより、画像安定性(耐光性)を評価した。評価基準は以下のとおりである。
○…放置後の未着色部の力ブリは見られず、画像コントラストが維持された状態。
△…放置後の未着色部のカブリが見られるが、画像コントラストの判別は可能な状態。
×…放置後の未着色部のカブリが見られ、画像コントラストの判別がつかない状態。
Claims (4)
- 280nm以上の波長域の露光では酸を発生しない光酸発生剤と電子供与性染料とを含有する感光性組成物の塗膜に対し、280nm未満にのみ波長分布を持つ光源により部分的に露光を行い、画像パターンを形成する露光工程Aと、
300nm以下の波長域が分離された光源により全面露光を行い、画像パターンを定着する露光工程Bと
を含むことを特徴とする画像形成方法。 - 請求項1に記載の画像形成方法に用いられる感光性組成物であって、
280nm以上の波長域の露光では酸を発生しない光酸発生剤、電子供与性染料、光重合開始剤及びエチレン性不飽和基含有化合物を含有し、
前記光酸発生剤が、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス(4−メチルフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス(4−メチルフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−4−メチルフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル−2,4,6−トリメチルフェニルスルホニウムp−トルエンスルホネート、ビス(シクロへキシルスルホニル)ジアゾメタン、及びビス(t−ブチルスルホニル)ジアゾメタンの少なくとも何れか一種であることを特徴とする感光性組成物。 - 前記光重合開始剤は、280nm以上の波長域の光で感光することを特徴とする請求項2に記載の感光性組成物。
- 前記光重合開始剤は、280nm未満の波長域の光でも感光することを特徴とする請求項3に記載の感光性組成物。
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