JP5914455B2 - 偏光測定のためのシステムおよび方法 - Google Patents

Description

本発明は、偏光測定の分野であり、複数のビーム構成要素へのビーム分割を利用して光学ビームの偏光を測定するためのシステムおよび方法に関する。

光学ビームの偏光測定は、様々な分析用途に必要である。光学偏光分析法としばしば呼ばれるこのような偏光測定技法は、とりわけ、偏光解析法、生体イメージング、およびイメージング偏光分析法において用いられる。

光学ビームの全体的偏光状態は、ストークスパラメータによって定義され得る。ストークスパラメータは、光学ビームの、または通常、コヒーレントなもしくはコヒーレントでない放射である電磁放射の偏光状態を説明する４つの値の組である。示されたストークスパラメータによって光学ビームの偏光状態を決定するためのいくつかの一般的に使用される方法は、回転する４分の１波長板を通って透過される光学ビームの時間依存性信号の測定に基づいており、偏光分析器が後に続く。偏光状態は、検出済み出力信号のフーリエ解析によって決定され得る（非特許文献１）。他の方法は、より速く、より簡単な偏光測定技法を実現することを目的として開発された。このような方法は、４つのチャネルの偏光器に基づいており（非特許文献２）、入力ビームを４つのチャネルに分けるビームスプリッタを利用する。スプリットビーム構成要素のそれぞれは、異なる偏光光学部の使用によって分析され、入力ビームの偏光状態は、４つのスプリットビームの測定済み強度から計算される。しかし、これらの技法は、複数の偏光器に対する要件に悩まされ、また均一な偏光を有する光学ビームの偏光測定しか実現することができないということにも悩まされる（非特許文献３）。

例えば、特許文献１には、光ビームの偏光の３つの連続的な所定の状態を作り出すための偏光光学源と、光学ネットワークによって透過された、または光学ネットワークから反射された光ビームの一部分の偏光を測定するための光学偏光メータとを含む計器について説明されている。この技法によれば、光ビームは、４つのビームに分割され、ビームのうちの３つは、光学素子を通過し、４つのビームすべての透過強度は、ストークスパラメータを計算するために測定される。光ビームは、光学素子に対するビームの位置およびアライメントを調整する空間フィルタとして作用する単一モード光学ファイバを通って光学偏光メータに入る。この光学ファイバに起因する光ビーム偏光の歪みは、２つの異なる線形に偏光した光ビームを案内すること、および真のストークスパラメータを得るために反転され、後続の測定の測定済みストークスパラメータが乗算される較正行列を構成するために使用されるストークスパラメータを測定することによって補正される。偏光の３つの連続的な所定の状態は、３つの対応するジョーンズ入力ベクトルをもたらし、光学ネットワークの応答に対するストークスパラメータは、３つのジョーンズ出力ベクトルに変換される。次いで、複素定数内での光学ネットワークに対するジョーンズ行列が、ジョーンズ入力ベクトルおよびジョーンズ出力ベクトルからコンピュータ計算される。相対偏光感度は、光学ネットワークに対するこの行列から決定され得る。光学ネットワークに起因する相対歪みは、光学ネットワークを介してより最近の測定の間に、行列の逆が乗算されることによって補正され得る。さらに、光学ネットワークにおけるパワー測定および適切な置換は、絶対決定および絶対補正を可能にする。

特許文献２には、少なくとも２つの波長のそれぞれにおいて、光ビームの偏光の３つの連続的な所定の状態を作り出すための偏光光学源、ならびに光ビームを４つのビームに分割し、ビームのうちの３つに光学素子を通過させ、４つのビームすべての透過強度を測定し、ストークスパラメータを計算することによって、光学ネットワークによって透過された、または光学ネットワークから反射されたそれぞれの波長において、光ビームの一部分の偏光を測定するための光学偏光メータと含む計器について説明されている。それぞれの波長における偏光の３つの連続的な所定の状態は、それぞれの波長において３つの対応するジョーンズ入力ベクトルをもたらし、光学ネットワークの応答に対するストークスパラメータは、ぞれぞれの波長において３つのジョーンズ出力ベクトルに変換される。次いで、複素定数内での光学ネットワークに対するジョーンズ行列が、それぞれの波長において、ジョーンズ入力ベクトルおよびジョーンズ出力ベクトルからコンピュータ計算される。光学ネットワークにおける偏光モード分散は、これらの行列から決定される。

近年、光学ビームの空間的変化偏光プロファイリングの機能をもたらす新規手法が開発されている。このような偏光分析法の技法の一部に、偏光回折格子および偏光子が利用される（非特許文献４）。利用可能性の理論的研究および実験的証明により、サブ波長誘電体回折格子の使用が示された（非特許文献５）。他の新しく開発された技法は、入力ビームを２つの直交偏光のビーム構成要素に分割するための方解石結晶の使用を含む。方解石結晶の軸に対して通常偏光および異常偏光を有する２つの構成要素をそれぞれ、異なる検出器に方向付けて、リアルタイムの偏光測定結果が得られる（非特許文献６）。

特許文献３には、ストークスパラメータ測定デバイス、およびストークスパラメータ測定方法が提供されている。このストークスパラメータ測定デバイスは、複屈折性結晶材料で形成された光学素子を含み、この光学素子によって、測定すべき信号光を複数の偏光した光ビームに分割し、複数の偏光した光ビームの間で１つまたは複数の偏光状態を調整する偏光分割デバイスと、偏光分割デバイスによって分割され、偏光分割デバイスから放出された信号光の光学構成要素の光電変換を行う受光部分とを備える。

上述の偏光測定技法、ならびに現存する偏光測定システムは、１つの測定と次の測定との間に偏光素子の機械的回転を組み合わせたいくつかの連続的な測定に基づいており、したがって、高価であり、複雑であり、緩慢である（非特許文献７）。

米国特許第５，２９８，９７２号 米国特許第５，２２７，６２３号 米国特許第７，６７９，７４４号

Ｇ． Ｐ． Ｎｏｒｄｉｎ、Ｊ． Ｔ． Ｍｅｉｅｒ、Ｐ． Ｃ． Ｄｅｇｕｚｍａｎ、およびＭ． Ｗ． Ｊｏｎｅｓ、「Ｍｉｃｒｏｐｏｌａｒｉｚｅｒ ａｒｒａｙ ｆｏｒ ｉｎｆｒａｒｅｄ ｉｍａｇｉｎｇ ｐｏｌａｒｉｍｅｔｒｙ」、Ｊ． Ｏｐｔ． Ｓｏｃ． Ａｍ． Ａ １６， １１６８ （１９９９） Ｍ． Ｍｕｊａｔ、およびＡ． Ｄｏｇａｒｉｕ、「Ｒｅａｌ−ｔｉｍｅ ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｏｆ ｔｈｅ ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｆｕｎｃｔｉｏｎ」、Ａｐｐｌ． Ｏｐｔ． ４０， ３４， （２００１） Ｄ． Ｍａｒｔｉｎｏ、Ｅ． Ｇａｒｃｉａ−Ｃａｕｒｅｌ、Ｂ． Ｌａｕｄｅ、およびＢ． Ｄｒｖｉｌｌｏｎ、「Ｇｅｎｅｒａｌ ｍｅｔｈｏｄｓ ｆｏｒ ｏｐｔｉｍｉｚｅｄ ｄｅｓｉｇｎ ａｎｄ ｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｍｕｅｌｌｅｒ ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒｓ」、Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ １１２， ４５５ （２００４） Ｆ． Ｇｏｒｉ、「Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｓｔｏｋｅｓ ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ ｂｙ ｍｅａｎｓ ｏｆ ａ ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ ｇｒａｔｉｎｇ」、Ｏｐｔ． Ｌｅｔｔ． ２４， ５８４ （１９９９） Ｇ． Ｂｉｅｎｅｒ、Ａ． Ｎｉｖ、Ｖ． Ｋｌｅｉｎｅｒ、およびＥ． Ｈａｓｍａｎ、「Ｎｅａｒ−ｆｉｅｌｄ Ｆｏｕｒｉｅｒ ｔｒａｎｓｆｏｒｍ ｐｏｌａｒｉｍｅｔｒｙ ｂｙ ｕｓｅ ｏｆ ａ ｄｉｓｃｒｅｔｅ ｓｐａｃｅ−ｖａｒｉａｎｔ ｓｕｂｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ ｇｒａｔｉｎｇ」、Ｊ． Ｏｐｔ． Ｓｏｃ． Ａｍ． Ａ ２０， １９４０ （２００３） Ｊ． Ｋｉｍ、Ｄ． Ｅ． Ｋｉｍ、「Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｏｆ ｔｈｅ ｄｅｇｒｅｅ ｏｆ ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｓｐｅｃｔｒａ ｆｒｏｍ ｌａｓｅｒ ｐｒｏｄｕｃｅｄ ｒｅｃｏｍｂｉｎｉｎｇ Ａｌ ｐｌａｓｍａｓ」、Ｐｈｙｓ． Ｒｅｖ． Ｅ． ６６， ０１７４０１ （２００２） Ｍ． Ｆｒｉｄｍａｎ、Ｇ． Ｍａｃｈａｖａｒｉａｎｉ、Ｎ． Ｄａｖｉｄｓｏｎ、およびＡ． Ａ． Ｆｒｉｅｓｅｍ、「Ｆｉｂｅｒ ｌａｓｅｒｓ ｇｅｎｅｒａｔｉｎｇ ｒａｄｉａｌｌｙ ａｎｄ ａｚｉｍｕｔｈａｌｌｙ ｐｏｌａｒｉｚｅｄ ｌｉｇｈｔ」、Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｌｅｔｔ． ９３， １９１１０４ （２００８） Ｒ． Ｏｒｏｎ、Ｓ． Ｂｌｉｔ、Ｎ． Ｄａｖｉｄｓｏｎ、Ａ． Ａ． Ｆｒｉｅｓｅｍ、Ｚ． Ｂｏｍｚｏｎ、およびＥ． Ｈａｓｍａｎ、「Ｔｈｅ ｆｏｒｍａｔｉｏｎ ｏｆ ｌａｓｅｒ ｂｅａｍｓ ｗｉｔｈ ｐｕｒｅ ａｚｉｍｕｔｈａｌ ｏｒ ｒａｄｉａｌ ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ」、Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｌｅｔｔ． ７７， ３３２２ （２０００）

当技術分野には、光学ビームの全偏光状態、すなわち、空間変動偏光および／または波長変動偏光についての情報をリアルタイムに提供できる新規偏光測定技法に対する必要性が存在する。本発明は、光学ビームの空間変動偏光プロファイルをリアルタイムに決定するための新規の手法、すなわち、ビームの横断面に沿って偏光分布（プロファイル）を測定できる技法を提供する。また、この測定は、ビームにわたって偏光状態の一時的な変動に敏感である。

本発明の技法は、径方向および方位角に偏光したビームなどの不均一な偏光分布を有する光学ビームを偏光測定するためのシステムおよび方法を提供する。本発明は、任意の一般的なまたはランダムに偏光した光学ビームの時間変動偏光プロファイルをもたらすことができる。空間変動および時間変動の偏光状態を有する光学ビームは、顕微鏡法、材料処理、粒子のトラッピングおよび加速、レーザ光増幅、および偏光暗号化用途などの様々な用途に非常に有益である。

本発明の偏光測定技法は、入力光学ビームを所定の数の実質的に平行なビーム構成要素に分割することに基づき、それぞれのビーム構成要素は、他のビーム構成要素に対する偏光状態において所定のシフトを有する。ビーム構成要素をＣＣＤカメラなど、画素行列を使用して同時に検出して、ビーム構成要素のそれぞれの中の強度分布を決定する。入力光学ビームの横断面に沿う偏光状態分布は、ストークスパラメータの決定を用いながらビーム構成要素の検出済み強度分布に従ってリアルタイムに決定される。

入力光学ビームの偏光状態は、ビームの横断面に沿うストークスパラメータの分布によって説明され得る。ストークスパラメータは、ベクトル（Ｓ_０， Ｓ_１， Ｓ_２， Ｓ_３）としばしば表される電磁放射の偏光状態を説明する４つの値の組である。本発明によれば、ストークスパラメータベクトルは、画素行列によって検出されるように、所定の数のスプリットビームの構成要素のそれぞれにわたる強度分布により、入力ビームの横断面に沿うそれぞれの点（画像画素）に関して決定される。

入力光学ビームは、分割しながら、スプリットビーム構成要素のそれぞれに異なる偏光回転を与えるように構成された第１の偏光ビームスプリッタによって一定の数（好ましくは３つ）のビーム構成要素に分けられる。複屈折素子、例えば方解石結晶が、３つのスプリットビーム構成要素の光学経路内に位置付けられ、これらのビーム構成要素のそれぞれを、複屈折素子の軸に対して、通常偏光および異常偏光の空間的に分離された出力ビーム構成要素の対にさらに分割するように構成されている。出力ビーム構成要素のそれぞれの中の強度分布は、前記ビーム構成要素の光学経路内に位置付けられた画素行列によって検出される。入力光学ビームの偏光分布を表すストークスパラメータの分布は、画素行列によって検出された出力ビーム構成要素の強度分布に従って決定され得る。入力ビームの時間依存性偏光状態は、前記画素行列のフレームレートで検出される出力ビーム構成要素の強度分布に従って決定され得る。

本発明はまた、波長の関数として偏光測定を行うことが可能である。このことは、第１の偏光ビームスプリッタと複屈折素子との間に回折格子を用いて、入力光学ビームの異なる波長構成要素を空間的に分離することによって達成され得る。細長いスリットが、入力ビームの波長依存性偏光分布および一次元変動偏光分布の両方を得るために、第１の偏光ビームスプリッタの上流に位置付けられて使用可能である。

本発明の１つの広範な態様によれば、光学ビームの偏光を測定する際に使用するためのシステムが提供され、本システムは、入力光学ビームの横断面に沿って偏光プロファイルを決定するように構成され、動作可能である。本システムは、偏光ビーム分割アセンブリを備える光学システムと、画素行列とを含む。偏光ビーム分割アセンブリは、入力光学ビームを所定の偏光関係を互いに有する所定の数のビーム構成要素に分割するように構成され、動作可能である。偏光ビーム分割アセンブリは、入力光学ビームの光学経路内に、入力光学ビームを一定の偏光関係を互いに有する第１の複数のビーム構成要素に分割する第１の偏光ビームスプリッタと、第１の複数のビーム構成要素の光学経路内に、ビーム構成要素のそれぞれを通常偏光構成要素および異常偏光構成要素の対に分割するための複屈折素子とを備え、それによって、前記所定の数の出力ビーム構成要素が生成される。画素行列は、入射するビーム内の強度分布を検出する。画素行列は、出力ビーム構成要素の実質的に交差しない光学経路内に位置付けられ、検出済み出力ビーム構成要素内の強度分布をそれぞれ示す対応する数の出力データピースを生成する。これらのデータピースに含まれているデータは、入力光学ビームの横断面に沿って偏光プロファイルを示す。

本システムは、画素行列の出力に接続可能であり、測定済みデータ（複数のデータピース）を受け取り、出力ビーム構成要素のそれぞれの中の強度分布を分析し、ビームの偏光プロファイルを示す入力光学ビームのストークスパラメータを決定するように構成され、動作可能な制御ユニットと関連付けられる。

好ましくは、本システムは、６つの出力ビーム構成要素を生成する。第１の偏光ビームスプリッタは、入力光学ビームから、異なる偏光の３つの空間的に分離されたビーム構成要素を生成するように構成され、動作可能である。

決定済み偏光プロファイルは、入力光学ビームの横断面内の偏光構成要素の空間的および時間的変化に対応することが可能である。

本発明のいくつかの実施形態において、第１の偏光ビームスプリッタは、システムを通って光伝播の光学軸と交差する隔置された実質的に平行な平面内に適応した第１および第２の反射面を含む。第１の反射面は、部分的に反射性であり、入力光学ビームの光学経路内に位置付けられたそのセグメントを含み、それによって、前記入力光学ビームを複屈折素子に向かって前記第１の偏光ビームスプリッタを通って透過される第１のビーム部分と、第２の反射面に向かって反射される第２のビーム部分とに分割する。第２の反射面は、比較的に高反射性であり、前記第２のビーム部分を第１の反射面のセグメントに向かって反射する。それによって、第１および第２の反射面は、前記入力光学ビームの部分を連続的に反射し、複屈折素子へと空間的に分離された光学経路に沿って伝播する前記第１の複数のビーム構成要素に分割するようにともに動作する。

本発明のいくつかの実施形態において、第１の偏光ビームスプリッタは、前記第１および第２の反射面を画定する、反射コーティングで少なくとも部分的にコーティングされた第１および第２の平行側面を有する光学的透明板を備える。光学的透明板の第１の側面は、部分的に反射面を形成するようにコーティングされ、入力光学ビームの光学経路内に位置付けられたそのセグメントを含み、それによって、前記入力光学ビームを複屈折素子に向かって前記第１の偏光ビームスプリッタを通って透過される第１のビーム部分と、第２の反射面に向かって反射される第２のビーム部分とに分割する。光学的透明板の第２の対向する側面は、高反射面を形成するようにコーティングされたセグメントを備える。それによって、前記光学的透明板の第１および第２のコーティングされた面は、連続的に反射し、前記入力光学ビームの部分を複屈折素子へと空間的に分離された光学経路に沿って伝播する前記第１の複数のビーム構成要素に分割するように動作する。いくつかの他の実施形態において、第１および第２の反射面は、個別の隔置された素子（ミラー）によって構成される。

いくつかの実施形態において、第１および第２の面は、光学軸と所定の角度を成す平面内に位置付けられ、それによって、前記第１および第２の面と相互作用するビーム構成要素の偏光回転が生じ、それによって、前記第１の複数のビーム構成要素におけるビーム構成要素間の前記所定の偏光関係がもたらされる。これは、８８度の角度であっても、または３３度の角度であってもよい。いくつかの他の実施形態において、第１の偏光ビームスプリッタは、前記第１の反射面と前記第２の反射面との間に位置付けられた偏光回転子（例えば、光学軸に対してある角度で配向された４分の１波長板）を備え、それによって、複屈折素子に向かって第１の偏光ビームスプリッタから生じるビーム構成要素間の前記偏光関係がもたらされる。これらの実施形態のいずれかにおいて、第１の偏光ビームスプリッタとのビーム相互作用は、結果的に、相互作用するビーム構成要素それぞれの偏光構成要素間の光学遅延を招き、したがって、実際には、第１の偏光ビームスプリッタから生じるそれぞれ２つの局所的に隣接するビーム構成要素間の偏光回転、したがって偏光差を引き起こす。例えば、光学遅延λ／４は、ビームの偏光構成要素間の位相差π／２に対応する。

いくつかの実施形態において、本システムは、第１の偏光ビームスプリッタと複屈折素子との間に位置付けられた回折格子を備え、入力光学ビームの異なる波長を回折するように構成されている。好ましくは、集束レンズアセンブリが、回折格子から複屈折素子に伝播するビーム構成要素の光学経路内に位置付けられる。また、本システムは、入力光学ビームの光学経路内に位置付けられたスリット（開口）を含んでもよい。

本発明の別の広範な態様によれば、光学ビームの横断面に沿う偏光プロファイルの測定に使用するための光学デバイスが提供され、本光学デバイスは、光学ビームを所定の偏光関係を互いに有する６つのビーム構成要素に分割するように構成され、動作可能である偏光ビーム分割アセンブリであって、前記光学ビームの光学経路内に、前記光学ビームを３つの隔置された実質的に平行な光学経路に沿って伝播する一定の偏光関係を互いに有する３つの空間的に分離されたビーム構成要素に分割するように構成された第１の偏光ビームスプリッタを備える、偏光ビーム分割アセンブリと、前記３つのビーム構成要素のそれぞれを通常偏光構成要素および異常偏光構成要素の対に分割するための前記光学経路内に位置付けられた複屈折素子とを備え、それによって、前記６つのビーム構成要素が生成され、光学ビームの前記６つのビーム構成要素内の強度分布は、前記光学ビームの横断面に沿って偏光プロファイルを示す。

本発明のさらに別の態様によれば、光学ビームの偏光を測定する際に使用するための方法が提供され、本方法は、光学ビームを所定の偏光関係を互いに有する３つの対のビーム構成要素に分割するステップであって、それぞれの対が、通常偏光構成要素および異常偏光構成要素を含む、ステップと、前記６つのビーム構成要素のそれぞれの中の強度分布を測定するステップと、６つのビーム構成要素の強度分布を分析するステップと、光学ビームの横断面に沿って偏光プロファイルを決定するステップとを含む。

本発明を理解し、いかに実際に行うことが可能であるかを知るために、次に実施形態を非限定的な例のみによって添付の図面を参照して説明することとする。

本発明による空間的変化偏光測定のためのシステムをブロック図の形で示す図である。 本発明の実施形態による偏光測定システム（当該システムにおいて、反射面は、透明板の両側面に反射コーティングによって実装されている）の例を示す図である。 本発明の実施形態による偏光測定システム（当該システムにおいて、反射面は、隔置された個別素子の反射面である）の例を示す図である。 本発明の偏光測定システムを使用する光学ビーム偏光測定の出力を示し、出力ビーム構成要素の強度分布を示す図である。 本発明の偏光測定システムを使用する光学ビーム偏光測定の出力を示し、出力ビーム構成要素の強度分布を示す図である。 本発明の偏光測定システムを使用する光学ビーム偏光測定の出力を示し、出力ビーム構成要素の強度分布を示す図である。 本発明の偏光測定システムを使用する光学ビーム偏光測定の出力を示し、（水平な）第１の平面における線形偏光（図３Ａおよび図４Ａ）の計算されたストークスパラメータを示す図である。 本発明の偏光測定システムを使用する光学ビーム偏光測定の出力を示し、第１の平面に対して４５°の配向での第２の平面における線形偏光（図３Ｂおよび図４Ｂ）の計算されたストークスパラメータを示す図である。 本発明の偏光測定システムを使用する光学ビーム偏光測定の出力を示し、円形偏光（図３Ｃおよび図４Ｃ）の計算されたストークスパラメータを示す図である。 本発明の別の実施形態による偏光測定システムを示す図である。 径方向に偏光した光学ビームのシミュレーションされたストークスパラメータを示す図である。 径方向に偏光した光学ビームのストークスパラメータの実験的結果を示す図である。 径方向に偏光した光学ビームの偏光マップを示す図である。 方位角に偏光した光学ビームのシミュレーションされたストークスパラメータを示す図である。 方位角に偏光した光学ビームのストークスパラメータの実験的結果を示す図である。 方位角に偏光した光学ビームの偏光マップを示す図である。 本発明により構成されたシステムによって測定される入力ビームの時間変動偏光状態を示す図である。 本発明の実施形態により波長変動偏光のための偏光測定デバイスを示す図である。 偏光した照明を用いて画像化するための実験的結果を示す図である。 偏光した照明を用いて画像化するための実験的結果を示す図である。 偏光した照明を用いて画像化するための実験的結果を示す図である。 偏光した照明を用いて画像化するための実験的結果を示す図である。 ２つの波長を有するレーザ光の波長依存性偏光状態の測定結果を示すグラフである。 ２つの波長を有するレーザ光の波長依存性偏光状態の測定結果を示す図である

入力光学ビーム１０の空間変動偏光測定および時間変動偏光測定のための本発明のシステム１００のブロック図を示す図１を参照する。システム１００は、入力光学ビーム１０の横断面に沿って偏光プロファイルを決定するように構成され、動作可能である。システム１００は、偏光ビーム分割アセンブリ５０と、画素行列６０とを含む。偏光ビーム分割アセンブリ５０は、入力光学ビーム１０を、所定の偏光関係を互いに有する所定の数のビーム構成要素に分割するように構成され、動作可能である。画素行列６０は、出力ビーム構成要素の実質的に交差しない光学経路内に位置付けられ、スプリットビーム構成要素を受け取り、そのそれぞれの中の強度分布を検出する。画素行列６０は、出力ビーム構成要素の中の強度分布をそれぞれ示す対応する数の出力データピースを生成する。これらのデータピースに含まれているデータは、入力光学ビームの横断面に沿って偏光プロファイルを示す。

図に示すように、偏光ビーム分割アセンブリ５０は、入力光学ビーム１０を、線形偏光を画定する所定の軸（垂直軸および水平軸）に対して、所定の偏光関係を互いに有する所定の数のビーム構成要素Ｉ_１乃至Ｉ_ｎに分ける。スプリットビーム構成要素Ｉ_１乃至Ｉ_ｎは、出力ビーム構成要素の光学経路内に位置決めされた１つまたは複数の画素行列６０によって検出される。入力ビーム１０の偏光状態は、複数のビーム構成要素Ｉ_１乃至Ｉ_ｎのそれぞれの検出済み強度分布に対応するデータピースを分析することによって決定される。そのために、システム１００は、制御ユニット８０と関連付けられる（例えば、その構成部分として制御ユニットを含む、あるいは有線または無線信号伝送によって、外部制御ユニットに接続するための通信ポートを有する）。典型的には、制御ユニット８０はとりわけ、光学ビームの中の強度分布にそれぞれ対応する複数のデータピースを受け取り、これらのデータピースを処理し、これらのビーム構成要素が生じる入力ビームのストークスパラメータを決定し、それを示す出力データを生成するように予めプログラミングされたデータ処理および分析ユーティリティを含むコンピュータシステムである。出力データは、ビームにわたるストークスのパラメータ分布の形態であっても、またはビームにわたる偏光プロファイルの形態であってもよい。

本発明のいくつかの実施形態よれば、偏光ビーム分割アセンブリ５０は、第１の偏光ビームスプリッタ、および複屈折素子を含む。そのような偏光ビーム分割アセンブリ５０が、第１の偏光ビームスプリッタ５２、および複屈折素子５４、例えば方解石結晶を含んでいる偏光測定システム１００をそれぞれ例示する図２Ａおよび図２Ｂを参照する。偏光ビームスプリッタ５２は、システムを通る光伝播の光学軸と交差する隔置された実質的に平行な平面内に適応した２つの反射面を画定する。図２Ａの例において、そのような隔置された反射面は、共通の透明素子の両側面に反射コーティングによって構成されている。より具体的には、偏光ビームスプリッタ５２は、部分反射面５２ａおよび高反射面５２ｂを形成するために、反射コーティングが両側にコーティングされた透明板である。図２Ｂの例において、隔置された反射面は、個別の素子によって構成されている。より具体的には、偏光ビームスプリッタ５２は、システムを通る光伝播の方向に沿って隔置された関係で配置されている実質的に平行な平面内に位置付けられた隔置された反射素子の対を含む。

両方の例において、第１の反射面５２ａは、部分的に反射性であり（光学ビームの約８０〜９８％が反射される）、第２の面５２ｂは、高反射性である（ほとんど１００％反射性である）。２つの隔置された実質的に平行な反射面は、入力光学ビーム１０の光学経路内に位置決めされ、入力ビーム伝播軸によって画定される光伝播の光学軸に対して一定の角度だけ傾斜している。異なる反射率の反射面のこのような構成との光学ビーム相互作用は、結果的に、部分反射面とのビーム相互作用中のビーム分割と、反射面のいずれかの反射面とのそのそれぞれの相互作用におけるビームの偏光回転を招く。より具体的には、傾斜した反射面とのビームの相互作用は、分割されているビームの横方向電気（ＴＥ）偏光構成要素と横方向電磁（ＴＭ）偏光構成要素との間、または水平偏光構成要素と垂直偏光構成要素との間の光学遅延を与える（これは位相差を与える。）

偏光回転は、光学ビームの互いに異なる偏光構成要素間の光学遅延の結果であることに留意されたい。λ／４の光学遅延は、互いに異なる構成要素間の位相差π／２によって示される。明瞭性を高めるために、本明細書では用語、位相差（例えば、位相差λ／４）は、光学遅延を明確にするために使用される。

この例に示すように、光学軸に沿って伝播する入力光学ビームは、部分反射面５２ａ上に衝突し、複屈折素子５４に向かって面５２ａを通って透過され、かつ入力光学ビーム１０と同じ偏光を有する第１のビーム構成要素１２と、第２の反射面５２ｂに向かって面５２ａから反射される第２のビーム構成要素１４とに分割されることになり、第２の反射面５２ｂは、ビーム構成要素１４を面５２ａに反射し戻す。傾斜面５２ａおよび５２ｂによるビームの連続的反射は、結果的に、垂直偏光構成要素と水平偏光構成要素との間にλ／４の位相差を招く。λ／４の光学遅延（偏光構成要素間の位相差）は、本発明の技法により測定済みストークスパラメータに対して最適な信号対雑音をもたらす。しかし、偏光構成要素間の位相差（光学遅延）は、λ／３またはλ／５など、約λ／４である場合があり、しかし、これらの構成には、ストークスパラメータ決定プロセスに対するいくつかの修正が必要である。面５２ａと相互作用するとき、ビーム構成要素１４は、複屈折素子５４に向かって部分的に透過されるビーム構成要素１４と、面５２ｂに向かって部分的に反射されるビーム構成要素１６とに分割され、面５２ｂは、このビーム構成要素を面５２ａに反射し戻し、面５２ａはそれを複屈折素子５４に部分的に透過する。いくつかの構成において、反射面（第１の偏光ビームスプリッタ５２）の傾斜角度は、２つの反射後、各反射、すなわちλ／４位相差において、横方向電気（ＴＥ）偏光構成要素と横方向電磁（ＴＭ）偏光構成要素との間にλ／８位相差を与えるものとなっている。他の構成は、異なる傾斜角度で配置され、それにより、各反射は、偏光構成要素間にλ／１６位相差を与えることになる。これらの構成において、奇数の透過構成要素が使用されるだけであり、マスク５６が、偶数の透過ビーム構成要素をブロックするために使用され得る。面５２ａおよび５２ｂとのこれらのビームの連続的相互作用は、結果的に、第３のビーム構成要素１６が、２つの偏光構成要素間のλ／２位相差を累積するということを招く。異なる偏光状態を有するこのように生成される３つの実質的に平行なビーム構成要素１２、１４、および１６は、複屈折素子５４を通って伝播し、複屈折素子５４は、これらのビーム構成要素のそれぞれを通常偏光構成要素と異常偏光構成要素とに分割する。したがって、複屈折素子５４は、３つの入射ビーム構成要素を６つの出力ビームＩ_１乃至Ｉ_６に分割し、ただし、ビームＩ_１とＩ_２は、ビーム１２の通常偏光構成要素と異常偏光構成要素であり、ビームＩ_３とＩ_４は、ビーム１４の通常偏光構成要素と異常偏光構成要素であり、ビームＩ_５とＩ_６は、ビーム１６の通常偏光構成要素と異常偏光構成要素である。

したがって、この例において、偏光ビームスプリッタ５２は、２つの隔置された反射面５２ａおよび５２ｂを画定する。これは、光学的透明板５２の両側の壁に適切な反射コーティング（例えば、銀コーティング）を施すことによって実装され得る。コーティング５２ａは、反射率約８０％〜９８％、例えば９０％の反射率により部分的に反射性であるように構成されている。対向壁のコーティング５２ｂは、前記壁の一部のみをカバーし、それにより、入力光学ビーム１０は、前記壁を通って伝播することが可能になり、ほとんど１００％反射しているように構成されている。したがって、入力ビーム１０は、透明壁のコーティングされていない領域を通って伝播し、部分反射コーティング５２ａとの相互作用が透明板の内部で前後に行き来すると、結果的に、部分反射コーティング５２ａを通って複屈折素子に透過される複数の平行なスプリットビーム構成要素の形成につながる。

前述のように、光学軸に対する反射面５２ａおよび５２ｂの傾斜角度は、偏光ビームスプリッタ５２から生じる光学入力ビーム１０の偏光構成要素間に適切な位相差を与えるように選択される。例えば、結合波分析に基づいて、本発明者らは、図２Ａの構成において、金をコーティングされた反射面が使用される場合、光学軸に対して３３°の傾斜角度を反射面５２ａおよび５２ｂに適応させると、結果的に、偏光ビームスプリッタ５２から生じる出力ビームのそれぞれのＴＥ偏光構成要素とＴＭ偏光構成要素との間にλ／１６位相差が生じるということが分かった。この構成において、偏光測定に使用される３つのスプリットビーム構成要素は、複屈折素子５４に向かって第１の反射面５２ａを通って透過される奇数のビーム構成要素のみであり、マスク５６が、望ましくない偶数の透過ビーム構成要素をブロックするために使用される。光学軸に対して８８°の傾斜角度を用いる同様の構成を使用すると、結果的に、ＴＥ偏光構成要素とＴＭ偏光構成要素との間にλ／８の位相差が生じることになり、したがって、偏光ビームスプリッタ５２の内部のより少数の反射が、ビーム構成要素１２と１４と１６との間に適切な偏光差を与えるためには必要である。同様の効果は、図２Ｂの構成を使用すると、すなわち６８°の傾斜角度を使用して、部分的に分離された反射面５２ａおよび５２ｂの対を用いると達成され得る。

正確な傾斜角度が、面５２ａおよび５２ｂの反射コーティングにより、および（図２Ａの構成を用いて）使用される透明板の反射インデックスにより、異なる場合があることに留意されたい。さらに、入力光学ビームのＴＥ偏光モードおよびＴＭ偏光モードにおけるそれぞれの反射に与えられる位相差は、入力ビームの波長に（弱いながらも）左右されることになる。

６つの出力ビームＩ_１乃至Ｉ_６は、画素行列６０、例えば、ＣＣＤカメラの感光面のそれぞれの隔置された領域上に入射される。画素行列の電気出力（測定済みデータＭＤ）は、それぞれの出力ビーム構成要素の横断面に沿って強度分布をそれぞれ示す６つのデータピースを含んでいる。出力ビーム構成要素の強度分布の測定済みデータＭＤは、さらに後述するように、このデータを処理して、入力光学ビーム１０の偏光状態を決定する制御ユニット（図１の８０）に伝えられる。

図３Ａから図３Ｃは、水平線形偏光の６つの出力ビームＩ_１〜Ｉ_６の３つの画像（図３Ａ）、入力ドーナツ形状の光学ビームの４５°線形偏光（図３Ｂ）、および入力ドーナツ形状の光学ビームの円形偏光（図３Ｃ）を示している。図４Ａから図４Ｃは、対応するストークスパラメータ分布を示している。

制御ユニット（図１の８０）は、図３Ａ〜図３Ｃの画像を示す測定済みデータを受け取り、このデータを処理して、ストークスパラメータを決定するように動作する。入力ビームの横断面内の任意の点（ｘ，ｙ）におけるストークスパラメータは、以下の方程式の組、すなわち

に従って、出力ビーム構成要素から決定され得る。ここで、Ｓ_０（ｘ，ｙ）は、入力ビーム強度分布であり、Ｓ_１（ｘ，ｙ）、Ｓ_２（ｘ，ｙ）、およびＳ_３（ｘ，ｙ）は、入力ビームの横断面内の各点における偏光状態分布を指定し、Ｉ_１とＩ_２は、第１のビーム構成要素１２の通常偏光構成要素と異常偏光構成要素の強度分布であり、Ｉ_３とＩ_４は、ビーム構成要素１４の通常偏光構成要素と異常偏光構成要素の強度分布であり、Ｉ_５とＩ_６は、ビーム構成要素１６の通常偏光構成要素と異常偏光構成要素の強度分布であり、α、β、およびγは、

ならびに

によって得られる正規化定数である。正規化パラメータα、β、およびγはまた、空間的依存性があって、より複雑なもしくは不均一な光学ビームおよび／または光学機構（ｓｅｔｕｐ）もしくは画素行列における不均一性の原因になり得る。

図４Ａ〜図４Ｃは、決定されたストークスパラメータを示している。予想されるように、水平線形偏光（図４Ａ）では、光学強度のほとんどがストークスパラメータＳ_１に見られる。４５°線形偏光を有する入力ビームの測定では（図４Ｂ）、光学強度のほとんどが、ストークスパラメータＳ_２に凝縮されていることが示され、円形偏光した入力ビームの場合（図４Ｃ）は、強度のほとんどがＳ_３に見られる。デバイスは、他のストークスパラメータに１％未満の望ましくない残存強度をもたらし、それは、較正済み光学ビームの知られている偏光に対応せず、１％未満の推定誤差がもたらされる。

次に、本発明による偏光測定システム１００の別の例を示す図５を参照する。理解し易くするために、同じ参照符号を、すべての例において共通である構成要素を識別するために使用する。この例において、偏光ビームスプリッタ５２は、隔置された実質的に平行な平面内に配置された第１の部分反射素子（ミラー）５２ａおよび第２の高反射素子（ミラー）５２ｂと、２つのミラー間に位置付けられ、実質的にそれに平行な４分の１波長板５３とを含む。入力光学ビーム１０は、偏光ビームスプリッタ５２（ミラー５２ａおよび５２ｂと、偏光回転子５３）と相互作用しながら、異なる偏光の３つの平行なビーム構成要素１２、１４、および１６に分割され、複屈折素子５４に伝播する。偏光ビームスプリッタ５２は、入力光学ビーム伝播によって画定される光学軸に対して、小さい角度（典型的には１０度未満）で配向される。この角度は、反射ミラーにより、ビーム偏光の変動を最小限にするために比較的小さく、それにより、所望の偏光差は主に、偏光回転子５３をビーム構成要素が通過することによって生じることになる。３つのスプリットビーム構成要素１２、１４、および１６の光学経路内に位置付けられた複屈折素子５４は、その主軸が４分の１波長板５３の軸に対して２２．５°の角度で傾斜しているように配置される。複屈折素子５４は、ビーム構成要素１２、１４、および１６のそれぞれを通常偏光構成要素および異常偏光構成要素の対に分割し、したがって、画素行列６０によって検出される異なる偏光の６つの出力ビーム構成要素Ｉ_１乃至Ｉ_６が生成される。

径方向および方位角に偏光した光学ビームの偏光測定を、図６Ａ〜図６Ｃおよび図７Ａ〜図７Ｃに示す。これらの図は、ストークスパラメータのシミュレーションされた分布（図６Ａおよび図７Ａ）と、本発明による測定されたストークスパラメータ（図６Ｂおよび図７Ｂ）と、径方向に偏光した光学ビーム（図６Ａ〜図６Ｃ）の偏光分布のシミュレーションされたベクトルマップ（図６Ｃ）および方位角に偏光した光学ビーム（図７Ａ〜図７Ｃ）の偏光分布のシミュレーションされたベクトルマップ（図７Ｃ）とを示している。シミュレーションされたストークスパラメータと実験的ストークスパラメータと差は、任意の実際的光学システムにおいて生じる不完全性の結果になり得る。

上述のように、偏光測定のための本発明の技法はまた、入力光学ビームの時間変動偏光プロファイルをもたらすことが可能である。画素行列６０を構成する単純なＣＣＤカメラは、１０ｍｓまでの測定間の測定レートを可能にすることができる。より高速なカメラ（高フレームレート）を使用すると、より高速な時間分解能測定を行うことができる。

図８は、本発明のシステムを使用して測定された正規化ポアンカレ球体上に示された時間の関数として入力ビームの横断面内の３つの点Ｐ_１〜Ｐ_３におけるストークスパラメータの軌跡を例示している。この例において、入力光学ビームは、開口数０．０７、コア径２２μｍ、およびクラッド径１２５μｍである大きいモードエリアファイバ増幅器を通って透過される径方向に偏光したビームである。増幅器がオンされると、ファイバ増幅器の熱変化および応力変化が、光学ビームの偏光変動を誘起する。入力ビームの偏光状態は、１０ｍｓフレームレートを有するＣＣＤカメラを用いて、本発明のシステムによって測定された。

次に、ビームにわたる空間座標ではなく、波長の関数としてリアルタイムの偏光状態を得るための本発明のさらに別の実施形態により構成された偏光測定デバイス１１０を示す図９を参照する。上述の例と同様のシステム１１０は、（図２を参照して上述したものと同様に構成された）第１の偏光ビームスプリッタ５２、複屈折素子５４、および画素行列６０を含む。また、システム１１０には、偏光ビームスプリッタ５２から伝播するスプリットビーム構成要素１２、１４、および１６の光学経路内に位置付けられた回折格子７０と、複屈折素子５４に向かって回折格子７０から伝播する光の光学経路内に集束レンズアレイ７５とが設けられる。複屈折素子上に入射するビーム構成要素は、入力ビームのスペクトルに対応する。複屈折素子５４は、入射ビーム構成要素のそれぞれを通常偏光構成要素および異常偏光構成要素に分割し、したがって、画素行列６０によって検出される６つの出力ビーム構成要素Ｉ_１〜Ｉ_６が生成される。画素行列の出力は、６つの異なる偏光構成要素のスペクトルを示す６つのデータピースを含んでいる測定済みデータを示す。入力光学ビームにおける波長ごとの偏光状態は、上述の方程式１〜４に従って、６つの検出されたスペクトルから決定され得る。

図９に示す実施形態はまた、一次元に沿って空間変動偏光測定および波長変動偏光測定のために構成され得る。これは、入力光学ビーム１０の光学経路内にスリット５８を設けることによってなされ得る。この構成において、スリット５８は、光学入力ビームの細長い横断面のみがシステムに入ることを可能にし、このことは、結果的に、入力ビーム１０のスペクトル変動と空間変動の両方に対応する出力強度分布をもたらすことになる。

空間変化偏光測定における本発明の能力を提示するために、本発明者らは、入力時に粉砕され、圧力を加えられたガラス板を通って透過される線形に偏光した光を使用して実験の組を行った。ガラスの粉砕および応力により、ＴＥ偏光とＴＭ偏光の間に位相シフトが与えられ、したがって、入力光の偏光状態に影響がもたらされる。ビームにわたる各点における全偏光状態は、本発明により構成されたシステムによって測定された。図１０Ａ乃至図１０Ｄは、粉砕されたガラス板にわたる３つのストークスパラメータに従って画像化されたこの板を画像化することによる実験結果を示している。図１０Ａは、粉砕されたガラス板の画像を示し、図１０Ｂ乃至図１０Ｄは、ストークスパラメータＳ_１乃至Ｓ _３をそれぞれ計算することによって受け取ったガラス板の画像を示している。これらの図は、（Ｓ_３ストークスパラメータに対応する）円形偏光した照明においてより高いコントラストを有する応力線を示し、入力線形偏光した光が、ガラス板を通って透過されるとき、円形偏光した光に変換されたことを示している。波長変化偏光測定を図１１Ａ〜図１１Ｂに示す。これらの図は、２つのレージング波長を有するファイバレーザからの光のスペクトル（図１１Ａ）、および正規化ポアンカレ球体上に、対応する偏光状態（図１１Ｂ）を示している。測定システムは、第１の偏光ビームスプリッタ５２と複屈折素子５４の間に挿入される回折格子７０を用いる図９に説明したものと同様にして構成された。回折格子７０は、出力ビーム構成要素に広がる波長を誘起し、ＣＣＤにおいてスペクトル画像をもたらし、したがって、それぞれの特定の波長における偏光が同時に決定され得る。この修正された構成により、時間の関数として２つの波長を有するファイバレーザから生じる光の偏光状態の測定が可能になる。図１１Ａおよび図１１Ｂは、特定の時間における結果を示し、図１１Ａは、ファイバレーザからの光のスペクトルを示しており、ただし、２つのレージング波長は、λ_１およびλ_２として示され、図１１Ｂは、正規化ポアンカレ球体上に、対応する偏光状態を示している。２つのレージング波長は、ポアンカレ球体上の対蹠点にあることが分かり、それらの偏光状態が直交することを示している。

したがって、本発明は、単色である光ビーム、多色または無彩色の光ビームの空間変化偏光をリアルタイムに測定するための小型システム構成を提供する。本発明の技法は、入力ビームの各点または各波長のいずれかにおいて、９８．５％の精度で全偏光状態を得ることを実現する。この構成はまた、付随して、空間変化および波長変化の偏光状態を測定することが可能である。

１０ 入力光学ビーム
１２ 第１のビーム構成要素
１４ 第２のビーム構成要素
１６ 第３のビーム構成要素
５０ 偏光ビーム分割アセンブリ
５２ 偏光ビームスプリッタ
５２ａ 第１の反射面、第１の反射素子（ミラー）
５２ｂ 第２の反射面、第２の反射素子（ミラー）
５３ ４分の１波長板、偏光回転子
５４ 複屈折素子
５６ マスク
６０ 画素行列
７０ 回折格子
７５ 集束レンズアレイ
８０ 制御ユニット
１００ システム
１１０ システム

Claims (17)

1. 入力光学ビームの偏光を測定する際に使用するためのシステムであって、入力光学ビームの横断面に沿って偏光プロファイルを決定するように構成され、動作可能であり、
   前記入力光学ビームを所定の偏光関係を互いに有する６つの平行な出力ビーム構成要素に分割するように構成され、動作可能な偏光ビーム分割アセンブリを備えた光学システムであって、前記偏光ビーム分割アセンブリが、前記入力光学ビームの光学経路内に、前記入力光学ビームを一定の偏光関係を互いに有する第１の複数の平行な出力ビーム構成要素に分割する第１の偏光ビームスプリッタであって、前記入力光学ビームから、３つのビーム構成要素を含む前記第１の複数のビーム構成要素を生成するように構成され、動作可能である、該第１の偏光ビームスプリッタ、ならびに前記第１の複数の前記平行な出力ビーム構成要素の光学経路内に位置付けられた、前記平行な出力ビーム構成要素のそれぞれを通常偏光および異常偏光を有する平行な出力ビーム構成要素の対に分割するための複屈折素子を含み、それによって、前記６つの平行な出力ビーム構成要素が生成される、光学システムと、
   入射するビーム内の強度分布を検出するための画素行列であって、前記平行な出力ビーム構成要素の光学経路内に位置付けられ、前記平行な出力ビーム構成要素内の強度分布をそれぞれ示す対応する数の互いに分離された出力データピースを生成し、前記互いに分離された出力データピースに含まれているデータが、前記入力光学ビームの前記横断面に沿って前記偏光プロファイルを示す、画素行列と、
   を備えることを特徴とするシステム。
2. 前記画素行列の出力に接続可能であり、前記互いに分離された出力データピースを受け取り、前記平行な出力ビーム構成要素のそれぞれの中の強度分布を分析し、前記偏光プロファイルを示す前記入力光学ビームのストークスパラメータを決定するように構成され、動作可能な制御ユニットを備えることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
3. 前記偏光プロファイルが、前記入力光学ビームの前記横断面内の偏光構成要素の空間および時間変化に対応することを特徴とする請求項１または２に記載のシステム。
4. 前記第１の偏光ビームスプリッタが、前記システムを通って光伝播の光学軸と交差する隔置された実質的に平行な平面内に適応した第１および第２の反射面を含み、
   前記第１の反射面が、部分的に反射性であり、前記入力光学ビームの前記光学経路内に位置付けられたセグメントを含み、それによって、前記入力光学ビームを前記複屈折素子に向かって前記第１の偏光ビームスプリッタを通って透過される第１のビーム部分と、前記第２の反射面に向かって反射される第２のビーム部分とに分割し、前記第２の反射面が、比較的高反射性であり、前記第２のビーム部分を前記第１の反射面のセグメントに向かって反射し、それによって、前記第１および第２の反射面が、前記入力光学ビームの部分を連続的に反射し、前記複屈折素子へと空間的に分離された光学経路に沿って伝播する前記第１の複数のビーム構成要素に分割するようにともに動作することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載のシステム。
5. 前記第１および第２の面が、前記光学軸と所定の角度を成す前記平面内に位置付けられ、それによって、前記第１および第２の面と相互作用するビーム構成要素の偏光回転が生じ、それによって前記第１の複数のビーム構成要素における前記ビーム構成要素間に前記所定の偏光関係がもたらされることを特徴とする請求項４に記載のシステム。
6. 前記反射面との相互作用が、前記複屈折素子に向かって前記第１および第２の面から伝播するビーム要素が、２つの局所的に隣接するビーム構成要素の偏光構成要素間の光学遅延λ／４を有する前記複数の前記ビーム構成要素を含むように、偏光回転を前記ビーム構成要素に与えることを特徴とする請求項４または５に記載のシステム。
7. 前記第１の偏光ビームスプリッタが、前記第１および第２の面を画定する反射コーティングを用いて少なくとも部分的にコーティングされた第１および第２の対向する平行な側面を有する光学的透明板を備えることを特徴とする請求項４から６のいずれか一項に記載のシステム。
8. 前記第１および第２の反射面が、２つの隔置された別個の要素の面であることを特徴とする請求項４から６のいずれか一項に記載のシステム。
9. 前記第１の偏光ビームスプリッタが、前記第１の反射面と前記第２の反射面との間に位置付けられた偏光回転子を備え、それによって、前記複屈折素子に向かって前記第１の偏光ビームスプリッタから生じる前記ビーム構成要素間に偏光回転がもたらされることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
10. 前記偏光回転子が、前記光学軸に対してある角度で配向され、局所的に隣接するビーム構成要素の対ごとにλ／４に対応する位相差を与えるように構成されている４分の１波長板を備えることを特徴とする請求項９に記載のシステム。
11. 前記第１の偏光ビームスプリッタと前記複屈折素子との間に位置付けられ、前記入力光学ビームの異なる波長を回折して、前記入力光学ビームの異なる波長に対応する偏光測定を可能にするように構成されている回折格子を備えることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載のシステム。
12. 前記回折格子から前記複屈折素子に伝播する前記ビーム構成要素の光学経路内に、集束レンズアセンブリを備えることを特徴とする請求項１１に記載のシステム。
13. 前記入力光学ビームの光学経路内に位置付けられたスリットを備えることを特徴とする請求項１１または１２に記載のシステム。
14. 前記画素行列の出力に接続可能であり、前記データピースを受け取り、前記出力ビーム構成要素のそれぞれの中の強度分布を分析し、前記偏光プロファイルを示す前記入力光学ビームのストークスパラメータを決定するように構成され、動作可能な制御ユニットを備え、前記入力ビームの前記横断面内の任意の点（ｘ，ｙ）における前記ストークスパラメータが、以下の方程式の組、すなわち
    に従って、前記出力ビーム構成要素から決定され、ここで、Ｓ_０（ｘ，ｙ）は、入力ビーム強度分布であり、Ｓ_１（ｘ，ｙ）、Ｓ_２（ｘ，ｙ）、およびＳ_３（ｘ，ｙ）は、前記入力ビームの前記横断面内の各点における偏光状態分布を指定し、Ｉ_１とＩ_２は、前記第１の偏光ビームスプリッタから生じる第１のビーム構成要素の通常偏光構成要素と異常偏光構成要素の強度分布であり、Ｉ_３とＩ_４は、前記第１の偏光ビームスプリッタから生じる第２のビーム構成要素の通常偏光構成要素と異常偏光構成要素の強度分布であり、Ｉ_５とＩ_６は、前記第１の偏光ビームスプリッタから生じる前記第３のビーム構成要素の通常偏光構成要素と異常偏光構成要素の強度分布であり、α、β、およびγは、正規化定数である、請求項１から１３のいずれか一項に記載のシステム。
15. 光学ビームの横断面に沿う偏光プロファイルの測定に使用するための光学デバイスにおいて、光学ビームを所定の偏光関係を互いに有する６つのビーム構成要素に分割するように構成され、動作可能である偏光ビーム分割アセンブリであって、前記光学ビームの光学経路内に、前記光学ビームを３つの隔置された実質的に平行な光学経路に沿って伝播する一定の偏光関係を互いに有する３つの空間的に分離されたビーム構成要素に分割するように構成された第１の偏光ビームスプリッタを備える偏光ビーム分割アセンブリと、前記３つのビーム構成要素のそれぞれを通常偏光構成要素および異常偏光構成要素の対に分割するための前記光学経路内に位置付けられた複屈折素子と、を備え、それによって、前記６つのビーム構成要素が生成され、前記光学ビームの前記６つのビーム構成要素内の強度分布が、前記光学ビームの前記横断面に沿って前記偏光プロファイルを示すことを特徴とする光学デバイス。
16. 光学ビームの偏光を測定する際に使用するための方法であって、
    前記光学ビームを、所定の偏光関係を互いに有する３つの対のビーム構成要素に分割するステップであって、それぞれの対が、通常偏光構成要素および異常偏光構成要素を含むビーム構成要素３対から構成される６つのビーム構成要素が生成される、ステップと、
    前記６つのビーム構成要素のそれぞれの中の強度分布を測定するステップと、
    前記６つのビーム構成要素の前記強度分布を分析するステップと、
    前記光学ビームの横断面に沿って偏光プロファイルを決定するステップと、
    を含むことを特徴とする方法。
17. 前記６つのビーム構成要素の前記強度分布を分析する前記ステップが、前記偏光プロファイルを示す前記光学ビームのストークスパラメータを決定するステップを含み、前記光学ビームの前記横断面内の任意の点（ｘ，ｙ）における前記ストークスパラメータが、以下の方程式の組、すなわち
    に従って、出力ビーム構成要素から決定され、ここで、Ｓ_０（ｘ，ｙ）は、前記光学ビームの強度分布であり、Ｓ_１（ｘ，ｙ）、Ｓ_２（ｘ，ｙ）、およびＳ_３（ｘ，ｙ）は、前記光学ビームの前記横断面内の各点における偏光状態分布を指定し、Ｉ_１とＩ_２は、前記第１の偏光ビームスプリッタから生じる第１のビーム構成要素の前記通常偏光構成要素と前記異常偏光構成要素の前記強度分布であり、Ｉ_３とＩ_４は、前記第１の偏光ビームスプリッタから生じる第２のビーム構成要素の前記通常偏光構成要素と前記異常偏光構成要素の前記強度分布であり、Ｉ_５とＩ_６は、前記第１の偏光ビームスプリッタから生じる第３のビーム構成要素の前記通常偏光構成要素と前記異常偏光構成要素の前記強度分布であり、α、β、およびγは、正規化定数であることを特徴とする請求項１６に記載の方法。