JP5911087B2 - 断層測定装置 - Google Patents
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Description
支持反射部材から再度反射された光を前記支持反射部材に反射して戻す第二の固定反射部材と、を有する。
図1は、本実施形態に係る断層測定装置の概略を示す機能ブロック図であり、図2は、本実施形態に係る光路可変部材の概略を示す図である。
本実施形態に係る断層測定装置1は、光を放出する光源2と、光源2から放出された光を第一の光21と第二の光22に分割する光分割部材3と、第一の光21の光路を変化させる光路可変部材4と、第一の光21と第二の光22を結合させる光結合部材5と、光結合部材5により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材6とを有して構成されている。
図6は、本発明の実施形態2の光路長可変部材4の概略を説明する図であり、図7は、本実施形態の光路を示す図である。本実施形態が実施形態1と異なるのは、第三の固定反射部材47を配置している点である。実施形態1と同じ構成については説明を省略する。
Claims (3)
- 光を放出する光源と、
前記光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割する光分割部材と、
前記第一の光の光路を変化させる光路可変部材と、
前記第一の光と前記第二の光を結合させる光結合部材と、
前記結合部材により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材と、を有し、
前記光路可変部材は、
支持板と、
前記支持板を支持し、かつ回転させる回転支持部材と、
前記支持板上に配置され、第一の反射面と第二の反射面とを有する支持反射部材と、
第一の反射面と第二の反射面とを有する第一の固定反射部材と、
第二の固定反射部材と、を有し、
前記支持反射部材の第一の反射面に反射された光が前記支持反射部材の第二の反射面に入射及び反射され、
前記支持反射部材の第二の反射面に反射された光が前記第一の固定反射部材の第一の反射面に入射及び反射され、
前記第一の固定反射部材の第一の反射面に反射された光が前記第一の固定反射部材の第二の反射面に入射及び反射され、
前記第一の固定反射部材の第二の反射面に反射された光が前記支持反射部材の第二の反射面に再度入射及び反射され、
前記支持反射部材の第二の反射面に反射された光が前記支持反射部材の第一の反射面に再度入射及び反射され、
前記第二の固定反射部材は、前記支持反射部材の第一の反射面に再度反射された光が入射されるものである断層測定装置。 - 前記第一の固定反射部材の第一の反射面及び第二の反射面は、前記支持反射部材の第一の反射面及び第二の反射面と異なる方向に傾斜されている請求項1に記載の断層測定装置。
- 前記光結合部材は、前記光路可変部材により光路長が変化した第一の光と、被測定物に対して照射され反射した第二の光を結合する請求項1又は2に記載の断層測定装置。
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