JP5910466B2 - 浄水製造方法および装置 - Google Patents
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アンモニアと炭酸ガスのロスが5%程度になると、膜透過水量に影響してくると考えられるので、5%/(0.1%/日)=50日 即ち、50日毎にアンモニアと炭酸ガスを誘導溶液循環量の5%ずつ補充する必要があることになる。
溶媒が水である液体と、所定量の揮発性溶質を水に溶解した誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、前記液体中の水を前記半透膜を通して前記誘導溶液に移動させる浸透工程と、前記工程で得られる、水で希釈された希釈誘導溶液を所定の温度に調整した後、減圧蒸留塔に送入し、塔頂部から前記溶質の揮発物と水蒸気からなるガスを得るとともに、塔底部から浄水を得る減圧蒸留工程と、前記ガスを冷却することにより前記誘導溶液を再生する冷却再生工程とを有する浄水製造方法であって、前記減圧蒸留塔の減圧ポンプの排気を前記ガスに混合して前記冷却再生工程で冷却することを特徴とする浄水製造方法と、
溶媒が水である液体と、所定量の揮発性溶質を水に溶解した誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、前記液体中の水を前記半透膜を通して前記誘導溶液に移動させる浸透工程と、前記工程で得られる、水で希釈された希釈誘導溶液を所定の温度に調整した後、減圧蒸留塔に送入し、塔頂部から前記溶質の揮発物と水蒸気からなるガスを得るとともに、塔底部から浄水を得る減圧蒸留工程と、前記ガスを冷却することにより前記誘導溶液を再生する冷却再生工程とを有する浄水製造方法であって、前記減圧蒸留塔の減圧ポンプの排気を前記冷却再生工程で再生された誘導溶液中に導入することを特徴とする浄水製造方法と、
溶媒が水である液体と、所定量の揮発性溶質を水に溶解した誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、前記液体中の水を前記半透膜を通して前記誘導溶液に移動させる浸透工程と、前記工程で得られる、水で希釈された希釈誘導溶液を所定の温度に調整した後、減圧蒸留塔に送入し、塔頂部から前記溶質の揮発物と水蒸気からなるガスを得るとともに、塔底部から浄水を得る減圧蒸留工程と、前記ガスを冷却することにより前記誘導溶液を再生する冷却再生工程とを有する浄水製造方法であって、前記減圧蒸留塔の減圧ポンプの排気を冷却凝縮し、凝縮液を前記冷却再生工程で再生された誘導溶液に導入することを特徴とする浄水製造方法と、
これらの方法に用いられる装置に関するものである。
浸透工程は、浄化対象液と誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、浄化対象液中の水をこの半透膜を通して誘導溶液に移動させる工程である。
減圧蒸留工程は、前記浸透工程で水の移動によって希釈された希釈誘導溶液を所定の温度に調整した後、減圧蒸留塔に送入し、塔頂部から二酸化炭素、アンモニア、水蒸気からなるガス(塔頂ガス)を得るとともに、塔底部からは浄水を得る工程である。
冷却再生工程は、蒸留塔の塔頂部から取り出される二酸化炭素、アンモニア、水蒸気からなるガスを冷却し、誘導溶液を再生する工程である。
再生した誘導溶液は半透膜へ送って循環使用する。
これらの方法は併用することもできる。
浸透手段は、浄化対象液と誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、浄化対象液中の水をこの半透膜を通して誘導溶液に移動させる手段であり、半透膜装置を用いる。
希釈誘導溶液温度調節手段は、半透膜装置で浄化対象液から水を抽出して希釈された誘導溶液を所定の温度に調整する手段であり、これは加熱によって行われる。加熱手段は問わないが、系内で発生する熱を有効利用する点で熱交換器を用いるのがよい。熱源としては蒸留塔の塔頂部から得られるガスや塔底部から得られる浄水などの熱を利用することができる。
減圧蒸留塔は公知のものを用いればよく、棚段方式、充填方式等いずれのものであってもよい。蒸留塔下部には加熱器を設け、下部の浄水を熱することにより発生する蒸気を上部から落下してくる希釈誘導溶液と接触させて熱交換させる。加熱器にはリボイラーや熱交換等を用いることができる。加熱器の熱源は問わないが、発電所のタービンから出てくる復水前の蒸気や、排熱から回収される熱水などを用いることができる。
蒸留塔の塔頂から、希釈誘導溶液温度調節手段を経由して塔頂ガス冷却再生手段に配管接続し、塔頂部から得られる二酸化炭素、アンモニア、水蒸気からなるガスを冷却して水溶液状態にする。冷却手段は問わないが、熱交換器を用いることができる。冷却する熱源としては、特に限定されないが、河川水、海水、空気などを用いることができる。
別の浄水製造装置の構成を図2に示す。
この装置は、減圧ポンプの排気を熱交換器16の下部の液溜りに吹き込むようにした外は図1と同じである。このフローでは液溜りに排気を吹き込むため蒸発ガスの冷却が不十分となりやや回収率が低くなるものの、設備コストは従来とほとんど変わらない。
さらに別の浄水製造装置の構成を図3に示す。
さらに別の浄水製造装置の構成を図4に示す。
2 海水
3 濃縮された海水
4 半透膜
5 半透膜を通過して移動する水
6 誘導溶液
7 希釈誘導溶液
8 水溶液とガスを混合する容器
9 混合された二酸化炭素とアンモニアを含む水溶液
10 蒸留塔の塔頂ガス
11 減圧蒸留塔
12 浄水
13 減圧ポンプ
14 冷却器
16 熱交換器
17 熱交換器
18 ポンプ
Claims (14)
- 溶媒が水である液体と、所定量の揮発性溶質を水に溶解した誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、前記液体中の水を前記半透膜を通して前記誘導溶液に移動させる浸透工程と、前記工程で得られる、水で希釈された希釈誘導溶液を所定の温度に調整した後、減圧蒸留塔に送入し、塔頂部から前記溶質の揮発物と水蒸気からなるガスを得るとともに、塔底部から浄水を得る減圧蒸留工程と、前記ガスを冷却することにより前記誘導溶液を再生する冷却再生工程とを有する浄水製造方法であって、前記減圧蒸留塔の減圧ポンプの排気を前記ガスに混合して前記冷却再生工程で冷却することを特徴とする浄水製造方法。
- 溶媒が水である液体と、所定量の揮発性溶質を水に溶解した誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、前記液体中の水を前記半透膜を通して前記誘導溶液に移動させる浸透工程と、前記工程で得られる、水で希釈された希釈誘導溶液を所定の温度に調整した後、減圧蒸留塔に送入し、塔頂部から前記溶質の揮発物と水蒸気からなるガスを得るとともに、塔底部から浄水を得る減圧蒸留工程と、前記ガスを冷却することにより前記誘導溶液を再生する冷却再生工程とを有する浄水製造方法であって、前記減圧蒸留塔の減圧ポンプの排気を前記冷却再生工程で再生された誘導溶液中に導入することを特徴とする浄水製造方法。
- 溶媒が水である液体と、所定量の揮発性溶質を水に溶解した誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、前記液体中の水を前記半透膜を通して前記誘導溶液に移動させる浸透工程と、前記工程で得られる、水で希釈された希釈誘導溶液を所定の温度に調整した後、減圧蒸留塔に送入し、塔頂部から前記溶質の揮発物と水蒸気からなるガスを得るとともに、塔底部から浄水を得る減圧蒸留工程と、前記ガスを冷却することにより前記誘導溶液を再生する冷却再生工程とを有する浄水製造方法であって、前記減圧蒸留塔の減圧ポンプの排気を冷却凝縮し、凝縮液を前記冷却再生工程で再生された誘導溶液に導入することを特徴とする浄水製造方法。
- 減圧蒸留塔に送入する前記希釈誘導溶液の温度を、前記ガスと熱交換することにより調整することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の浄水製造方法。
- 減圧蒸留塔に送入する前記希釈誘導溶液の温度を、さらに前記浄水と熱交換することにより調整することを特徴とする請求項4に記載の浄水製造方法。
- 前記半透膜が、水を選択的に透過する順浸透膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の浄水製造方法。
- 前記揮発性溶質が、アンモニアと二酸化炭素との塩であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の浄水製造方法。
- 溶媒が水である液体と、所定量の揮発性溶質を水に溶解した誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、前記液体中の水を前記半透膜を通して前記誘導溶液に移動させる浸透手段と、前記手段で得られる、水で希釈された希釈誘導溶液全量を所定の温度に調整する希釈誘導溶液温度調整手段と、前記温度調整手段で所定の温度に調整された希釈誘導溶液を減圧蒸留する減圧蒸留塔と、前記減圧蒸留塔の塔頂部から得られる前記溶質の揮発物と水蒸気からなるガスを冷却し、誘導溶液を再生する冷却再生手段と、前記減圧蒸留塔の塔底部から得られる前記溶質の揮発物をほとんど含まない浄水の回収手段とを有する浄水製造装置であって、前記減圧蒸留塔の減圧ポンプの排気を前記ガスに混合する手段を設けたことを特徴とする浄水製造装置。
- 溶媒が水である液体と、所定量の揮発性溶質を水に溶解した誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、前記液体中の水を前記半透膜を通して前記誘導溶液に移動させる浸透手段と、前記手段で得られる、水で希釈された希釈誘導溶液全量を所定の温度に調整する希釈誘導溶液温度調整手段と、前記温度調整手段で所定の温度に調整された希釈誘導溶液を減圧蒸留する減圧蒸留塔と、前記減圧蒸留塔の塔頂部から得られる前記溶質の揮発物と水蒸気からなるガスを冷却し、誘導溶液を再生する冷却再生手段と、前記減圧蒸留塔の塔底部から得られる前記溶質の揮発物をほとんど含まない浄水の回収手段とを有する浄水製造装置であって、前記減圧蒸留塔の減圧ポンプの排気を前記冷却再生手段で再生された誘導溶液に導入する手段を設けたことを特徴とする浄水製造装置。
- 溶媒が水である液体と、所定量の揮発性溶質を水に溶解した誘導溶液とを半透膜を介して接触させ、前記液体中の水を前記半透膜を通して前記誘導溶液に移動させる浸透手段と、前記手段で得られる、水で希釈された希釈誘導溶液全量を所定の温度に調整する希釈誘導溶液温度調整手段と、前記温度調整手段で所定の温度に調整された希釈誘導溶液を減圧蒸留する減圧蒸留塔と、前記減圧蒸留塔の塔頂部から得られる前記溶質の揮発物と水蒸気からなるガスを冷却し、誘導溶液を再生する冷却再生工程と、前記減圧蒸留塔の塔底部から得られる前記溶質の揮発物をほとんど含まない浄水の回収手段とを有する浄水製造装置であって、前記減圧蒸留塔の減圧ポンプの排気を冷却凝縮する凝縮器と、前記凝縮器の凝縮液を前記冷却再生手段で再生された誘導溶液に導入する手段を設けたことを特徴とする浄水製造装置。
- 前記希釈誘導溶液温度調整手段が、前記希釈誘導溶液と前記塔頂ガスとの熱交換器であることを特徴とする請求項8乃至請求項10のいずれか1項に記載の浄水製造装置。
- 前記希釈誘導溶液温度調整手段が、さらに、前記希釈誘導溶液と前記浄水との熱交換器も有することを特徴とする請求項11に記載の浄水製造装置。
- 前記半透膜が、水を選択的に透過する順浸透膜であることを特徴とする請求項8乃至請求項12のいずれか1項に記載の浄水製造装置。
- 前記揮発性溶質が、アンモニアと二酸化炭素との塩であることを特徴とする請求項8乃至請求項13のいずれか1項に記載の浄水製造装置。
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