JP5907775B2 - Heating member - Google Patents

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Description

本発明は、加熱部材に関する。   The present invention relates to a heating member.

従来、様々な分野において、被加熱体を加熱するために加熱部材が利用されている。例えば、電子写真方式を採用する複写機やプリンター等の画像形成装置は、一般に、帯電させた感光体への画像データ露光による潜像形成、現像、転写媒体への転写、定着の各工程を経て画像形成を行う。上記定着工程では、転写材(紙)に転写されたトナーを加熱により溶融固着させて画像を形成するため、加熱ベルトや加熱ローラ等の加熱部材が用いられる。   Conventionally, in various fields, a heating member has been used to heat an object to be heated. For example, an image forming apparatus such as a copying machine or a printer that employs an electrophotographic method generally undergoes each process of latent image formation by image data exposure to a charged photoreceptor, development, transfer to a transfer medium, and fixing. Perform image formation. In the fixing step, a heating member such as a heating belt or a heating roller is used to form an image by melting and fixing the toner transferred to the transfer material (paper) by heating.

加熱部材としては、ハロゲンヒーター、セラミックヒーター等が公知である。最近では、電磁誘導加熱(以下、IHと省略する場合がある。)方式の加熱部材が注目を浴びている。IH方式の加熱部材は、ウォームアップ時間の短縮による消費電力の削減に有利なためである。この種の加熱部材は、電磁誘導加熱により誘導電流が生じる導電層を有しており、上記導電層を発熱層として利用する。導電層としては、金属めっき層が一般的に用いられている。   Known heating members include halogen heaters and ceramic heaters. Recently, an electromagnetic induction heating (hereinafter, sometimes abbreviated as IH) heating member has attracted attention. This is because the IH heating member is advantageous in reducing power consumption by shortening the warm-up time. This type of heating member has a conductive layer that generates an induced current by electromagnetic induction heating, and uses the conductive layer as a heat generating layer. A metal plating layer is generally used as the conductive layer.

上記加熱部材としては、例えば、特許文献1には、ポリイミド樹脂製の基層上に、無電解ニッケルめっき層と、電解銅めっき層と、シリコーンゴム層とを有する加熱部材が開示されている。   As the heating member, for example, Patent Document 1 discloses a heating member having an electroless nickel plating layer, an electrolytic copper plating layer, and a silicone rubber layer on a base layer made of polyimide resin.

特開2009−25565号公報JP 2009-25565 A

しかしながら、従来の加熱部材は、以下の点で問題がある。
すなわち、上記金属めっき層を有する加熱部材を形成するためには、通常、ポリマー製の基層表面に、Pd等の触媒金属の前駆体を付与した後、この前駆体を還元により金属化する活性化処理を行う。そして、このような基層へのめっき前処理工程の後、基層表面に無電解金属めっき層を形成する。さらにこれを電極として電解金属めっき層を形成することになる。
However, the conventional heating member has problems in the following points.
That is, in order to form a heating member having the above-mentioned metal plating layer, usually, a catalyst metal precursor such as Pd is applied to the surface of a polymer base layer, and then the precursor is metallized by reduction. Process. Then, after such a plating pretreatment step for the base layer, an electroless metal plating layer is formed on the surface of the base layer. Furthermore, an electrolytic metal plating layer is formed using this as an electrode.

ところが、上記めっき前処理を行って形成した無電解金属めっき層は、基層との密着性が悪い。そのため、無電解金属めっき層が基層から剥離しやすい。また、無電解金属めっき層が基層から剥離すれば、その結果として、その上に積層した電解金属めっき層等も基層から剥離してしまう。つまり、上記加熱部材は、基層と金属めっき層との密着性に劣るという問題がある。加熱部材の使用時に、金属めっき層が基層から剥離すると、電磁誘導加熱による昇温性の低下を招く。加熱部材は、通常、定期的な交換を前提とするものではなく、繰り返し使用されるものである。したがって、耐久性を有することは特に重要となる。   However, the electroless metal plating layer formed by performing the plating pretreatment has poor adhesion to the base layer. Therefore, the electroless metal plating layer is easily peeled from the base layer. Moreover, if the electroless metal plating layer peels from the base layer, as a result, the electrolytic metal plating layer or the like laminated thereon also peels from the base layer. That is, the heating member has a problem that the adhesion between the base layer and the metal plating layer is inferior. If the metal plating layer is peeled off from the base layer during use of the heating member, temperature rise due to electromagnetic induction heating is reduced. The heating member is usually not used on the premise of regular replacement but is used repeatedly. Therefore, having durability is particularly important.

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、基層と金属めっき層との密着性に優れた加熱部材を提供することにある。   This invention is made | formed in view of the said background, and is providing the heating member excellent in the adhesiveness of a base layer and a metal plating layer.

本発明の一態様は、被加熱体を加熱するための加熱部材であって、
基層用ポリマーより形成された基層と、該基層上に積層されためっき下地層と、該めっき下地層上に積層され、無電解金属めっきより形成された第1金属めっき層とを有しており、
上記めっき下地層は、バインダーポリマー中に、担体表面に触媒金属を担持する触媒担持担体が分散されてなり、かつ、上記第1金属めっき層側の表面に上記触媒担持担体が露出した部分を有しており、
上記バインダーポリマーは、ポリアミドイミド樹脂、変性ポリアミドイミド樹脂およびこれら樹脂にポリシロキサン化合物がブレンドされたものから選択される1種または2種以上であることを特徴とする加熱部材にある。
One aspect of the present invention is a heating member for heating an object to be heated,
A base layer made of a polymer for the base layer, a plating base layer laminated on the base layer, and a first metal plating layer laminated on the plating base layer and formed by electroless metal plating; ,
The plating base layer has a portion in which a catalyst-supporting carrier supporting a catalyst metal is dispersed on the surface of the carrier in a binder polymer, and the catalyst-supporting carrier is exposed on the surface of the first metal plating layer. And
The binder polymer, Ru heating member near characterized by one or more der Rukoto polyamideimide resin, a modified polyamide-imide resin and these resins polysiloxane compound is selected from those blends.

上記加熱部材において、めっき下地層は、担体表面に触媒金属を担持する触媒担持担体がバインダーポリマー中に分散されてなる。そのため、基層とめっき下地層との間は、基層用ポリマーとバインダーポリマー、つまり、ポリマー同士の密着になる。それ故、基層とめっき下地層との間の密着性を向上させることができる。   In the heating member, the plating underlayer is formed by dispersing a catalyst-carrying carrier carrying a catalyst metal on the carrier surface in a binder polymer. Therefore, the base layer polymer and the binder polymer, that is, the polymers are in close contact with each other between the base layer and the plating base layer. Therefore, the adhesion between the base layer and the plating base layer can be improved.

また、上記加熱部材において、めっき下地層は、第1金属めっき層側の表面に触媒担持担体が露出した部分を有している。そして、第1金属めっき層のめっき形成時には、めっき下地層の表面に露出する触媒担持担体の触媒金属を核として無電解金属めっきが析出するため、触媒金属と無電解金属めっきとの間は、金属結合により結合される。また、めっき下地層の表面に露出した触媒担持担体のうち、表面に露出していない部分は、バインダーポリマーに固定されている。それ故、めっき下地層と第1金属めっき層との間における密着性を向上させることができる。なお、上記第1金属めっき層上に、さらに電解金属めっきや無電解金属めっきを施し、金属めっき層を積層した場合であっても、めっき層同士の密着になるので、良好な密着性を確保することができる。   In the heating member, the plating base layer has a portion where the catalyst-supporting carrier is exposed on the surface on the first metal plating layer side. And at the time of plating formation of the first metal plating layer, since the electroless metal plating is deposited with the catalyst metal of the catalyst-supporting carrier exposed on the surface of the plating base layer as a nucleus, between the catalyst metal and the electroless metal plating, Bonded by metal bonds. Moreover, the part which is not exposed to the surface among the catalyst support | carriers exposed on the surface of the plating base layer is being fixed to the binder polymer. Therefore, the adhesion between the plating base layer and the first metal plating layer can be improved. In addition, even when electrolytic metal plating or electroless metal plating is further applied on the first metal plating layer and the metal plating layers are laminated, the plating layers are in close contact with each other, thus ensuring good adhesion. can do.

よって、本発明によれば、基層と金属めっき層との密着性に優れた加熱部材を提供することができる。また、上記加熱部材は、その製造時に煩雑なめっき前処理工程を基層に対して行う必要がない。そのため、製造ラインの小型化に寄与することが可能となり、製造性にも優れる。   Therefore, according to this invention, the heating member excellent in the adhesiveness of a base layer and a metal plating layer can be provided. Further, the heating member does not need to perform a complicated plating pretreatment process on the base layer at the time of manufacture. Therefore, it is possible to contribute to the downsizing of the production line, and the productivity is excellent.

実施例1の加熱部材を模式的に示した外観斜視図である。1 is an external perspective view schematically showing a heating member of Example 1. FIG. 図1のII−II断面図である。It is II-II sectional drawing of FIG. 図2の一部を拡大し、めっき下地層の微構造および積層構造を模式的に示した説明図である。It is explanatory drawing which expanded a part of FIG. 2, and showed typically the microstructure and laminated structure of the plating base layer. 実施例2の加熱部材における、めっき下地層の微構造および積層構造を模式的に示した説明図である。6 is an explanatory view schematically showing a microstructure and a laminated structure of a plating underlayer in the heating member of Example 2. FIG. 試料の加熱部材について、電磁誘導加熱による耐久性を評価するための評価装置の概要を模式的に示した説明図である。It is explanatory drawing which showed typically the outline | summary of the evaluation apparatus for evaluating the durability by electromagnetic induction heating about the heating member of a sample. 実験例で作製した、Pd担持カーボンの走査型電子顕微鏡写真(倍率3万倍)である。It is a scanning electron micrograph (magnification 30,000 times) of Pd carrying carbon produced in the example of an experiment. 実験例で作製した、Pd担持カーボンの走査型電子顕微鏡写真(倍率20万倍)である。It is a scanning electron micrograph (magnification 200,000 times) of Pd carrying carbon produced in the experiment example.

上記加熱部材は、被加熱体を加熱するために使用される。被加熱体の種類は特に限定されるものではない。被加熱体としては、具体的には、例えば、用紙等の転写材に転写された未定着のトナー、容器、容器や配管等の内部にある気体、液体、固体、プレート等の板状体、フィルムなどを例示することができる。加熱部材は、被加熱体と接触させて用いることもできるし、被加熱体と非接触で用いることもできる。   The said heating member is used in order to heat a to-be-heated body. The kind of to-be-heated body is not specifically limited. Specifically, as the heated body, for example, unfixed toner transferred onto a transfer material such as paper, a plate, such as a gas, liquid, solid, or plate in a container, container or pipe, A film etc. can be illustrated. The heating member can be used in contact with the heated body or can be used in non-contact with the heated body.

また、加熱部材は、その表面を他部材に圧接させた状態で使用することもできる。この場合、例えば、加熱部材と他部材との圧接部に被加熱体を通過させながら被加熱体を加熱することができる。また、上記他部材を被加熱体とすることもできる。これらの場合には、使用中に加熱部材に外力が作用することになるが、上記加熱部材は、基層と金属めっき層との密着性に優れ、剥離等が生じ難いので、良好な耐久性を発揮することができる。特に、加熱部材と他部材とが圧接した状態で加熱部材が回転するように構成されている場合には、加熱部材は、圧接部において繰り返し外力を受けて変形することになる。このような場合であっても、基層と金属めっき層との密着性に優れ、剥離等が生じ難く、良好な耐久性を発揮することができる。   Moreover, a heating member can also be used in the state which pressed the surface to the other member. In this case, for example, the heated body can be heated while passing the heated body through the pressure contact portion between the heating member and the other member. Moreover, the said other member can also be used as a to-be-heated body. In these cases, an external force acts on the heating member during use, but the heating member is excellent in adhesion between the base layer and the metal plating layer, and is not easily peeled off. It can be demonstrated. In particular, when the heating member is configured to rotate in a state where the heating member and the other member are in pressure contact, the heating member is repeatedly deformed by receiving external force at the pressure contact portion. Even in such a case, the adhesiveness between the base layer and the metal plating layer is excellent, peeling or the like hardly occurs, and good durability can be exhibited.

上記加熱部材において、基層は、例えば、筒状に形成することができる。この場合には、加熱部材を加熱ベルトとして利用することができる。また、加熱部材を比較的薄くすることができるので、IH昇温性の向上にも有利である。他にも例えば、基層は、軸体の外周にロール状に形成することもできる。この場合には、加熱部材を加熱ロールとして利用することができる。基層は、1層または2層以上から構成することができる。   In the heating member, the base layer can be formed in a cylindrical shape, for example. In this case, the heating member can be used as a heating belt. Further, since the heating member can be made relatively thin, it is advantageous for improving the IH temperature rise performance. In addition, for example, the base layer can be formed in a roll shape on the outer periphery of the shaft body. In this case, the heating member can be used as a heating roll. The base layer can be composed of one layer or two or more layers.

筒状の基層を有する場合、基層に用いられる基層用ポリマーとしては、例えば、ポリアミドイミド樹脂、変性ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、変性ポリイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、フッ素系樹脂、ポリカーボネート樹脂、これら樹脂にポリシロキサン化合物をブレンドしたものなどを例示することができる。これらは1種または2種以上併用することができる。上記基層用ポリマーとしては、好ましくは、ポリアミドイミド樹脂、変性ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、変性ポリイミド樹脂およびこれら樹脂にポリシロキサン化合物をブレンドしたものから選択される1種または2種以上を含んでいるとよい。筒状の基層の剛性が高くなるため、加熱部材の耐久性を向上させるのに有利だからである。   In the case of having a cylindrical base layer, the base layer polymer used for the base layer is, for example, a polyamideimide resin, a modified polyamideimide resin, a polyimide resin, a modified polyimide resin, a polyethersulfone resin, a fluorine resin, a polycarbonate resin, or these resins Examples thereof include those blended with a polysiloxane compound. These can be used alone or in combination of two or more. The base layer polymer preferably contains one or more selected from a polyamideimide resin, a modified polyamideimide resin, a polyimide resin, a modified polyimide resin, and a blend of these resins with a polysiloxane compound. Good. This is because the rigidity of the cylindrical base layer is high, which is advantageous for improving the durability of the heating member.

上記ポリシロキサン化合物としては、式1で表される繰り返し構造を有するシリコーンオイルを好適に用いることができる。この場合には、加熱部材の屈曲耐久性や靱性を向上させやすくなるからである。これは、上記ポリアミドイミド樹脂等の樹脂からなる海相中に、ポリシロキサン化合物からなる島相がミクロ分散し、海−島構造を形成しやすくなり、ポリシロキサン化合物からなる島相により、応力が緩和されるためであると考えられる。上記ポリシロキサン化合物のブレンド量は、上記樹脂100質量部に対し、好ましくは、0.01〜10質量部程度、より好ましくは、0.1〜5質量部程度とすることができる。加熱部材の屈曲耐久性、靱性のバランスに優れるからである。   As the polysiloxane compound, a silicone oil having a repeating structure represented by Formula 1 can be suitably used. In this case, it becomes easy to improve the bending durability and toughness of the heating member. This is because an island phase made of a polysiloxane compound is microdispersed in a sea phase made of a resin such as the above-mentioned polyamideimide resin, and it becomes easy to form a sea-island structure. This is thought to be mitigated. The blend amount of the polysiloxane compound is preferably about 0.01 to 10 parts by mass, and more preferably about 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin. This is because the heating member has an excellent balance of bending durability and toughness.

但し、式1中、RおよびRは、それぞれ水素原子または有機基を示す。また、nは正数を示す。 However, in Formula 1, R < 1 > and R < 2 > show a hydrogen atom or an organic group, respectively. N represents a positive number.

上記式1において、R、Rで表される有機基としては、特に限定はなく、例えば、メチル基、エチル基等のアルキル基や、フェニル基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、アルコキシ基、エーテル基等が挙げられる。また、上記式1における繰り返し単位nは、正数であれば特に限定はないが、好ましくはn=10〜1,000であり、特に好ましくはn=20〜300である。上記シリコーンオイルとしては、特に限定はないが、コストの点から、メチル基、フェニル基、水素原子等を置換基として結合したストレートシリコーンオイル等を好適に用いることができる。 In the above formula 1, the organic group represented by R 1 and R 2 is not particularly limited, and examples thereof include an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, a phenyl group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, and an alkoxy group. Group, ether group and the like. The repeating unit n in the above formula 1 is not particularly limited as long as it is a positive number, but preferably n = 10 to 1,000, and particularly preferably n = 20 to 300. The silicone oil is not particularly limited, but from the viewpoint of cost, a straight silicone oil bonded with a methyl group, a phenyl group, a hydrogen atom or the like as a substituent can be suitably used.

なお、筒状の基層中には、難燃剤、充填剤、レべリング剤、消泡剤などの添加剤を1種または2種以上含むことができる。また、筒状の基層の厚みは、耐久性の向上、製造容易性などの観点から、好ましくは20〜200μm、より好ましくは40〜150μm、さらに好ましくは60〜100μm程度とすることができる。   In addition, 1 type, or 2 or more types of additives, such as a flame retardant, a filler, a leveling agent, and an antifoamer, can be contained in a cylindrical base layer. In addition, the thickness of the cylindrical base layer is preferably 20 to 200 μm, more preferably 40 to 150 μm, and still more preferably about 60 to 100 μm, from the viewpoints of improved durability and ease of manufacture.

一方、ロール状の基層を有する場合、基層に用いられる基層用ポリマーとしては、種々の樹脂やゴム(本願にいうゴムにはエラストマーも含まれる、以下省略)を用いることができる。上記樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、ウレタンシリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、(メタ)アクリル樹脂、(メタ)アクリルシリコーン樹脂、フッ素樹脂、アセタール樹脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、カーボネート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、澱粉およびこれらの共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレンおよび他のオレフィン系単量体との共重合樹脂等のオレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル−スチレン共重合樹脂等のスチレン系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等のポリビニルアセタール系樹脂およびこれらの誘導体または変性体、ポリイソブチレン、ポリテトラヒドロフラン、ポリアニリン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリイソプレン、ポリブタジエン等のポリジエン類、ポリジメチルシロキサン等のポリシロキサン類、ポリスルホン類、ポリイミン類、ポリ無水酢酸類、ポリ尿素類、ポリスルフィド類、ポリフォスファゼン類、ポリケトン類、ポリフェニレン類、ポリハロオレフィン類、およびこれらの誘導体、メラミン樹脂などを例示することができる。また、上記ゴムとしては、例えば、シリコーンゴム(Q)、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)、ブタジエンゴム(BR)、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、ブチルゴム(IIR)、クロロプレンゴム(CR)、ヒドリンゴム(ECO、CO)、イソプレンゴム(IR)、ウレタンゴム(U)、エチレン−プロピレン−ジエンゴム(EPDM)、天然ゴム(NR)などを例示することができる。これらは1種または2種以上併用することができる。   On the other hand, in the case of having a roll-shaped base layer, as the base layer polymer used for the base layer, various resins and rubbers (the rubber referred to in the present application includes an elastomer and is omitted below) can be used. Examples of the resin include urethane resin, urethane silicone resin, polyamide resin, polyimide resin, (meth) acrylic resin, (meth) acrylic silicone resin, fluororesin, acetal resin, alkyd resin, polyester resin, polyether resin, and carbonate. Resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose and other cellulosic resins, polyacrylamide, polyethylene oxide, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyvinyl methyl ether, polyamine, polyethyleneimine, casein, gelatin, starch and Copolymers with these copolymers, polyethylene, polypropylene and other olefinic monomers Olefin resins, vinyl chloride resins, styrene resins such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymer resins, polyvinyl acetal resins such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, polyvinyl butyral resins, and derivatives or modified products thereof, Polyisobutylene, polytetrahydrofuran, polyaniline, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polydienes such as polyisoprene and polybutadiene, polysiloxanes such as polydimethylsiloxane, polysulfones, polyimines, polyacetic anhydrides, Examples include polyureas, polysulfides, polyphosphazenes, polyketones, polyphenylenes, polyhaloolefins, and derivatives thereof, melamine resins, and the like. Examples of the rubber include silicone rubber (Q), acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), butadiene rubber (BR), styrene-butadiene rubber (SBR), butyl rubber (IIR), chloroprene rubber (CR), hydrin rubber ( Examples thereof include ECO, CO), isoprene rubber (IR), urethane rubber (U), ethylene-propylene-diene rubber (EPDM), and natural rubber (NR). These can be used alone or in combination of two or more.

なお、ロール状の基層中には、難燃剤、充填剤、架橋剤、架橋助剤、滑剤、可塑剤、軟化剤、酸化防止剤などの添加剤を1種または2種以上含むことができる。ロール状の基層の厚みは、接地性、コストなどの観点から、好ましくは0.5〜3mm程度、より好ましくは1〜1.5mm程度とすることができる。   The roll-shaped base layer may contain one or more additives such as a flame retardant, a filler, a crosslinking agent, a crosslinking assistant, a lubricant, a plasticizer, a softening agent, and an antioxidant. The thickness of the roll-shaped base layer is preferably about 0.5 to 3 mm, more preferably about 1 to 1.5 mm, from the viewpoint of grounding property, cost, and the like.

上記加熱部材において、めっき下地層は、基層と第1金属めっき層との密着性の改善を図るために重要な層である。めっき下地層は、基層上に積層されている。具体的には、めっき下地層は、基層の外周面に沿って形成することができる。   In the heating member, the plating underlayer is an important layer for improving the adhesion between the base layer and the first metal plating layer. The plating base layer is laminated on the base layer. Specifically, the plating base layer can be formed along the outer peripheral surface of the base layer.

めっき下地層は、担体表面に触媒金属を担持する触媒担持担体が、バインダーポリマー中に分散されてなる。バインダーポリマーは、主に、触媒担持担体を分散した状態で保持し、めっき下地層を形づくる役割を有している。   The plating underlayer is formed by dispersing a catalyst-carrying carrier carrying a catalyst metal on the carrier surface in a binder polymer. The binder polymer mainly has a role of holding the catalyst support in a dispersed state and forming a plating underlayer.

バインダーポリマーとしては、ポリアミドイミド樹脂、変性ポリアミドイミド樹脂およびこれら樹脂にポリシロキサン化合物がブレンドされたものから選択される1種または2種以上が用いられる。 As the binder polymer, one or more selected from polyamideimide resins, modified polyamideimide resins, and those obtained by blending a polysiloxane compound with these resins are used.

上記加熱部材では、基層用ポリマーおよびバインダーポリマーが、同種のポリマーを含んでいるとよい。この場合には、基層とめっき下地層との親和性が高まり、基層とめっき下地層との間の密着性を向上させやすくなる。好ましくは、基層用ポリマーおよびバインダーポリマーが、同種のポリマーであるとよい。なお、上記「同種」とは、ポリマー同士が全く同一である場合だけでなく、ポリマー同士が基本骨格を同じくする場合を含む意味である。したがって、例えば、ある種類の樹脂(ポリアミドイミド樹脂等)に分類される各種樹脂は、それぞれ同種のポリマーであるといえる。また、未変性ポリマーと変性ポリマー同士、分子量が異なるポリマー同士、重合単位が共通であるポリマー同士等も、同種のポリマーの概念に含まれる。 In the heating member, the base layer polymer and the binder polymer, have good as containing polymers of the same kind. In this case, the affinity between the base layer and the plating base layer is increased, and the adhesion between the base layer and the plating base layer is easily improved. Preferably, the base layer polymer and the binder polymer are the same type of polymer. The “same type” means not only the case where the polymers are exactly the same, but also the case where the polymers have the same basic skeleton. Therefore, for example, it can be said that various resins classified into a certain type of resin (polyamideimide resin or the like) are the same type of polymer . Also, unmodified polymer and the modified polymer together, different molecular weight between polymers, polymers with each other such polymerized units are also common, it is included in the concept of the same type of polymer.

上記同種のポリマーを用いる場合、上記基層用ポリマーとしては、ポリアミドイミド樹脂、変性ポリアミドイミド樹脂、これら樹脂に上記ポリシロキサン化合物をブレンドしたものなどを好適に用いることができる。筒状(ベルト状)にした場合の強度、耐熱性、柔軟性に優れる等の利点があるからである。一方、バインダーポリマーとしては、ポリアミドイミド樹脂、変性ポリアミドイミド樹脂、これら樹脂に上記ポリシロキサン化合物をブレンドしたものなどを好適に用いることができる。上記基層用ポリマーとの親和性、後述する炭素系材料よりなる担体との親和性、耐熱性に優れる等の利点があるからである。 When using a polymer of the same type, as the base polymer, a polyamide-imide resin, modified polyamide-imide resin, it can be preferably used in a blend of the polysiloxane compound in these resins. This is because there are advantages such as excellent strength, heat resistance and flexibility in the case of a cylindrical shape (belt shape). On the other hand, as the binder polymer, a polyamide-imide resin, modified polyamide-imide resin, it can be preferably used in a blend of the polysiloxane compound in these resins. This is because there are advantages such as affinity with the polymer for the base layer, affinity with a carrier made of a carbon-based material described later, and excellent heat resistance.

触媒担持担体を構成する担体は、例えば、球状、略球状、繊維状、柱状、塊状、略房状等の各種の粒形状とすることができる。また、担体の材質としては、例えば、炭素系材料、金属酸化物、およびシリカから選択される1種または2種以上とすることができる。この場合には、バインダーポリマーとの親和性を確保しやすく、密着性向上に寄与しやすくなる。 The carrier constituting the catalyst-carrying carrier can have various particle shapes such as a spherical shape, a substantially spherical shape, a fiber shape, a columnar shape, a lump shape, and a substantially tufted shape. The material for the carrier, for example, carbon-based materials, metal oxides, and it is Ru can be with one or more selected from silica. In this case, it is easy to ensure affinity with the binder polymer, and it is easy to contribute to improvement in adhesion.

上記炭素系材料としては、具体的には、例えば、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、フラーレン、グラファイトなどを例示することができる。上記金属酸化物としては、具体的には、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどを例示することができる。上記担体の材質としては、好ましくは、バインダーポリマーとの親和性などの観点から、炭素系材料であるとよい。特に好ましくは、触媒金属の担持のしやすさ、バインダーポリマーとの親和性、経済性などの観点から、カーボンブラックであるとよい。   Specific examples of the carbon-based material include carbon black, carbon nanotube, fullerene, and graphite. Specific examples of the metal oxide include titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide, and magnesium oxide. The material of the carrier is preferably a carbon-based material from the viewpoint of affinity with the binder polymer. Carbon black is particularly preferable from the viewpoints of ease of supporting the catalyst metal, affinity with the binder polymer, economy, and the like.

なお、担体の平均粒径は、バインダーポリマー中での分散性が良好である、めっき下地層表面の平滑性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは0.01〜10μm程度、より好ましくは0.05〜5μm程度、さらに好ましくは0.1〜2μm程度とすることができる。なお、上記担体の平均粒径は、レーザー回折・散乱式粒子径・粒度分布測定装置[日機装(株)製、「マイクロトラックUPA−EX150」等]により測定することができる。   The average particle diameter of the carrier is preferably about 0.01 to 10 μm, more preferably from the viewpoint of good dispersibility in the binder polymer and easy to ensure the smoothness of the plating base layer surface. The thickness can be about 0.05 to 5 μm, more preferably about 0.1 to 2 μm. The average particle size of the carrier can be measured by a laser diffraction / scattering particle size / particle size distribution measuring apparatus [manufactured by Nikkiso Co., Ltd., “Microtrack UPA-EX150”, etc.].

一方、触媒担持担体を構成する触媒金属は、無電解金属めっき反応を発現させるのに必要な触媒能を有する金属(本願において、金属には合金が含まれる、以下省略)のことである。上記触媒金属としては、例えば、Pd、Pt、Pt以外のPt族、Ag、Au、これらの合金などを例示することができる。上記触媒金属は、具体的には、触媒能に優れる観点から、Pd、Pt、Agおよびこれらの合金から選択される1種または2種以上とすることができる。これらのうち、特に好ましくは、触媒能や無電解金属めっきとの金属結合性に優れる、汎用性が高い等の観点から、Pdを用いることができる。 On the other hand, the catalyst metal that constitutes the catalyst-supporting carrier is a metal having a catalytic ability necessary to develop an electroless metal plating reaction (in the present application, the metal includes an alloy, and is omitted hereinafter). Examples of the catalyst metal include Pt group other than Pd, Pt, and Pt, Ag, Au, and alloys thereof. The catalyst metal, specifically, from the viewpoint of excellent catalytic ability, Pd, Pt, Ru can be one or more selected from Ag and their alloys. Among these, Pd can be used particularly preferably from the viewpoints of excellent catalytic ability and metal bonding with electroless metal plating, and high versatility.

上記触媒担持担体は、具体的には、担体表面が露出した露出部分と、触媒金属が担持された担持部分とが混在した構造を有することができる。この場合には、担体表面とバインダーとの親和性を利用して、触媒担持担体をバインダーポリマーに固定しやすくなる。そのため、めっき下地層と第1金属めっき層との間の密着性向上に有利である。とりわけ、担体が炭素系材料であり、バインダーポリマーが、ポリアミドイミド樹脂、変性ポリアミドイミド樹脂、これら樹脂にポリシロキサン化合物をブレンドしたものである場合には、上記効果を得やすくなる。 Specifically, the catalyst-carrying carrier can have a structure in which an exposed portion where the carrier surface is exposed and a carrier portion where a catalyst metal is carried are mixed. In this case, it becomes easy to fix the catalyst-supporting carrier to the binder polymer by utilizing the affinity between the carrier surface and the binder. Therefore, it is advantageous for improving the adhesion between the plating base layer and the first metal plating layer. Especially, the carrier is a carbonaceous material, a binder polymer, a polyamide-imide resin, modified polyamide-imide resin, when to these resin is obtained by blending a polysiloxane compound becomes easier to obtain the effect.

また、担体表面を触媒金属によってほとんど覆ってしまう場合に比べ、触媒金属の使用量を低減することができる。そのため、省資源化に寄与できるとともに、加熱部材の低コスト化にも有利である。   In addition, the amount of catalyst metal used can be reduced as compared with the case where the support surface is almost covered with the catalyst metal. Therefore, it can contribute to resource saving and is advantageous in reducing the cost of the heating member.

上記めっき下地層は、第1金属めっき層側の表面に、触媒担持担体が露出した部分を有している。これは、上記表面に露出することなく、めっき下地層中に分散されている触媒担持担体と、上記表面に露出している触媒担持担体とが混在しうることを意味する。したがって、めっき下地層中に分散された全ての触媒担持担体が露出していなければならないという意味ではない。   The plating base layer has a portion where the catalyst carrier is exposed on the surface of the first metal plating layer. This means that the catalyst-carrying carrier dispersed in the plating base layer and the catalyst-carrying carrier exposed on the surface can coexist without being exposed on the surface. Therefore, it does not mean that all the catalyst-supporting carriers dispersed in the plating base layer must be exposed.

上記表面に露出している触媒担持担体の量は、特に限定されるものではないが、上記表面に露出している触媒担持担体は、めっき下地層の表面にほぼ一様に点在していることが好ましい。これら触媒担持担体に担持される触媒金属を起点に無電解金属めっきが一様に析出できるので、めっき下地層と第1金属めっき層との密着性が高くなるからである。また、上記表面に露出する触媒担持体の露出量は、担体に担持された触媒金属がバインダーポリマーの外に出ている部分があれば、特に限定されるものではない。   The amount of the catalyst-supporting carrier exposed on the surface is not particularly limited, but the catalyst-supporting carrier exposed on the surface is scattered almost uniformly on the surface of the plating base layer. It is preferable. This is because the electroless metal plating can be uniformly deposited starting from the catalyst metal supported on these catalyst-supporting carriers, so that the adhesion between the plating base layer and the first metal plating layer is enhanced. Further, the exposure amount of the catalyst carrier exposed on the surface is not particularly limited as long as there is a portion where the catalyst metal supported on the carrier comes out of the binder polymer.

上記めっき下地層において、触媒担持担体の含有量は、無電解金属めっきの析出を確実なものとする、めっき下地層と第1金属めっき層との密着性を向上させるなどの点から、バインダーポリマー100質量部に対し、好ましくは30質量部以上、より好ましくは50質量部以上、さらに好ましくは100質量部以上とすることができる。一方、触媒担持担体の含有量は、めっき下地層の柔軟性に優れる、添加効果が飽和する、経済性などの観点から、バインダーポリマー100質量部に対し、好ましくは300質量部以下、より好ましくは200質量部以下、さらに好ましくは150質量部以下とすることができる。   In the above plating underlayer, the content of the catalyst-supporting carrier is such that the deposition of electroless metal plating is ensured, the adhesion between the plating underlayer and the first metal plating layer is improved, and the binder polymer. Preferably it is 30 mass parts or more with respect to 100 mass parts, More preferably, it is 50 mass parts or more, More preferably, it can be 100 mass parts or more. On the other hand, the content of the catalyst-supporting carrier is preferably 300 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder polymer, from the viewpoints of excellent flexibility of the plating base layer, saturation of the addition effect, economy, and the like. The amount can be 200 parts by mass or less, more preferably 150 parts by mass or less.

また、上記めっき下地層の厚みは、基層と第1金属めっき層との十分な密着性を確保しやすくなる、層形成性を確保しやすくなるなどの観点から、好ましくは1μm以上とすることができる。めっき下地層の厚みは、より好ましくは2μm以上、さらに好ましくは5μm以上とすることができる。一方、めっき下地層の厚みは、層形成時間の短縮、経済性などの観点から、好ましくは30μm以下とすることができる。めっき下地層の厚みは、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは10μm以下とすることができる。   In addition, the thickness of the plating base layer is preferably set to 1 μm or more from the viewpoints of ensuring sufficient adhesion between the base layer and the first metal plating layer, and facilitating the formation of the layer. it can. The thickness of the plating base layer is more preferably 2 μm or more, and further preferably 5 μm or more. On the other hand, the thickness of the plating underlayer is preferably 30 μm or less from the viewpoints of shortening the layer formation time and economy. The thickness of the plating underlayer can be more preferably 20 μm or less, and even more preferably 10 μm or less.

上記加熱部材において、第1金属めっき層は、単体または後述する第2金属めっき層とともに、電磁誘導加熱によって発熱する発熱層として機能させることが可能な層である。また、後述する電解金属めっきよりなる第2金属めっき層を積層する際の電極として機能させることも可能な層である。第1金属めっき層は、めっき下地層上に積層されている。具体的には、第1金属めっき層は、めっき下地層の外周面に沿って形成することができる。第1金属めっき層は、無電解金属めっきより形成されている。   In the heating member, the first metal plating layer is a layer that can function as a heat generation layer that generates heat by electromagnetic induction heating together with a single metal plating layer or a second metal plating layer described later. Moreover, it is a layer which can be made to function as an electrode at the time of laminating | stacking the 2nd metal plating layer which consists of the electrolytic metal plating mentioned later. The first metal plating layer is laminated on the plating base layer. Specifically, the first metal plating layer can be formed along the outer peripheral surface of the plating base layer. The first metal plating layer is formed by electroless metal plating.

第1金属めっき層を形成する金属としては、例えば、Cu、Ni、Ag、Pd、Sn、Auおよびこれらの合金などを例示することができる。無電解金属めっき層を形成する金属としては、具体的には、例えば、めっき下地層との密着性を確保しやすい等の観点から、Cu、Ni、Ag、およびこれらの合金から選択される1種または2種以上とすることができる。特に好ましくは、NiおよびNi合金であるとよい。上記した触媒金属(とりわけPd)に対する触媒活性、めっき下地層との密着性に優れるなどの利点があるからである。 Examples of the metal that forms the first metal plating layer include Cu, Ni, Ag, Pd, Sn, Au, and alloys thereof. Specifically, the metal forming the electroless metal plating layer is, for example, selected from Cu, Ni, Ag, and alloys thereof from the viewpoint of easily ensuring adhesion with the plating base layer. Ru can be a seed or two or more. Ni and Ni alloys are particularly preferable. This is because there are advantages such as excellent catalytic activity with respect to the above-described catalytic metals (particularly Pd) and excellent adhesion to the plating base layer.

第1金属めっき層の厚みは、めっき下地層との密着性を確実なものとする、後述する第2金属めっき層を電解金属めっきにより形成する際に電極として機能させやすいなどの観点から、好ましくは0.1μm以上とすることができる。第1金属めっき層の厚みは、より好ましくは0.2μm以上、さらに好ましくは0.3μm以上とすることができる。一方、第1金属めっき層の厚みは、後述する第2金属めっき層を積層する場合には、加熱部材の変形時における割れ抑制、層形成時間の短縮などの観点から、好ましくは2μm以下とすることができる。第1金属めっき層の厚みは、より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.5μm以下とすることができる。なお、第1金属めっき層の厚みは、後述する第2金属めっき層を積層しない場合は、好ましくは30μm以下、より好ましくは25μm以下、さらに好ましくは20μm以下とすることができる。   The thickness of the first metal plating layer is preferable from the viewpoints of ensuring adhesion with the plating base layer and facilitating functioning as an electrode when the second metal plating layer described later is formed by electrolytic metal plating. Can be 0.1 μm or more. The thickness of the first metal plating layer is more preferably 0.2 μm or more, and further preferably 0.3 μm or more. On the other hand, the thickness of the first metal plating layer is preferably 2 μm or less from the viewpoint of suppressing cracking during the deformation of the heating member and shortening the layer formation time when the second metal plating layer described later is laminated. be able to. The thickness of the first metal plating layer is more preferably 1 μm or less, and even more preferably 0.5 μm or less. The thickness of the first metal plating layer is preferably 30 μm or less, more preferably 25 μm or less, and even more preferably 20 μm or less when the second metal plating layer described later is not laminated.

上記加熱部材は、第1金属めっき層上に、さらに、電解金属めっきまたは無電解金属めっきより形成された第2金属めっき層が積層されていてもよい。この第2金属めっき層は、主に、電磁誘導加熱によって発熱する発熱層として機能させることが可能な層である。 The heating member, the first metal plating layer, further, second metal plating layer formed from electroless metal plating or electroless metal plating but it may also be stacked. This second metal plating layer is a layer that can function as a heat generating layer that generates heat mainly by electromagnetic induction heating.

第2金属めっき層を有する場合には、第1金属めっき層を形成する金属と異なる金属種を選択したり、第1金属めっき層と異なる厚みを選択したりしやすくなる。そのため、加熱部材における金属めっき層の構成の自由度が向上する。それ故、例えば、第1金属めっき層よりも低電気抵抗な金属を選択すること等により、電磁誘導加熱により発熱させやすくなるなどの利点がある。また、第1金属めっき層の厚みよりも第2金属めっき層の厚みを厚く形成すること等により、電磁誘導加熱により発熱させやすくなるなどの利点がある。なお、第1金属めっき層と第2金属めっき層との間は、めっき層同士の密着になるので、良好な密着性を確保することができる。そのため、基層と第1金属めっき層との密着性が確保されておれば、基層から第2金属めっき層が剥離することはほとんどない。   When it has a 2nd metal plating layer, it becomes easy to select the metal seed | species different from the metal which forms a 1st metal plating layer, or to select thickness different from a 1st metal plating layer. Therefore, the freedom degree of the structure of the metal plating layer in a heating member improves. Therefore, for example, there is an advantage that heat is easily generated by electromagnetic induction heating by selecting a metal having a lower electrical resistance than the first metal plating layer. Further, by forming the second metal plating layer thicker than the first metal plating layer, there is an advantage that heat is easily generated by electromagnetic induction heating. In addition, since it becomes contact | adherence of plating layers between a 1st metal plating layer and a 2nd metal plating layer, favorable adhesiveness is securable. Therefore, if the adhesion between the base layer and the first metal plating layer is ensured, the second metal plating layer hardly peels from the base layer.

第2金属めっき層は、第1金属めっき層上に積層されている。具体的には、第2金属めっき層は、第1金属めっき層の外周面に沿って形成することができる。第2金属めっき層は、1層または2層以上から構成することができる。第2金属めっき層が複数層から構成されている場合、各層は、電解金属めっき、無電解金属めっきのいずれから形成されていてもよい。また、各層は、同じ金属から形成されていてもよいし、異なる金属から形成されていてもよい。また、各層の厚みも適宜配分することができる。   The second metal plating layer is laminated on the first metal plating layer. Specifically, the second metal plating layer can be formed along the outer peripheral surface of the first metal plating layer. The second metal plating layer can be composed of one layer or two or more layers. When the second metal plating layer is composed of a plurality of layers, each layer may be formed from either electrolytic metal plating or electroless metal plating. Each layer may be formed from the same metal or may be formed from different metals. Moreover, the thickness of each layer can also be distributed appropriately.

第2金属めっき層を形成する金属としては、例えば、Cu、Ni、Ag、Au、Sn、Znおよびこれらの合金などを例示することができる。第2金属めっき層を形成する金属としては、具体的には、例えば、電磁誘導加熱による昇温性が良好である等の観点から、Cu、Ni、Ag、およびこれらの合金から選択される1種または2種以上とすることができる。(請求項7)。特に好ましくは、CuおよびCu合金であるとよい。電磁誘導加熱による昇温性、加熱部材の柔軟性向上、経済性に優れるなどの利点があるからである。   Examples of the metal that forms the second metal plating layer include Cu, Ni, Ag, Au, Sn, Zn, and alloys thereof. Specifically, the metal forming the second metal plating layer is selected from Cu, Ni, Ag, and alloys thereof from the viewpoint of good temperature rise by electromagnetic induction heating, for example. It can be a seed or two or more. (Claim 7). Particularly preferred are Cu and Cu alloys. This is because there are advantages such as high temperature rise by electromagnetic induction heating, improved flexibility of the heating member, and excellent economy.

第2金属めっき層の厚みは、上記発熱層としての機能を確保しやすくするなどの観点から、好ましくは3μm以上とすることができる。第2金属めっき層の厚みは、より好ましくは5μm以上、さらに好ましくは10μm以上とすることができる。一方、第2金属めっき層の厚みは、柔軟性、短時間での発熱性、層形成時間の短縮などの観点から、好ましくは30μm以下とすることができる。第2金属めっき層の厚みは、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは15μm以下とすることができる。   The thickness of the second metal plating layer is preferably 3 μm or more from the viewpoint of easily ensuring the function as the heat generating layer. The thickness of the second metal plating layer is more preferably 5 μm or more, and even more preferably 10 μm or more. On the other hand, the thickness of the second metal plating layer is preferably 30 μm or less from the viewpoints of flexibility, heat generation in a short time, shortening of the layer formation time, and the like. The thickness of the second metal plating layer is more preferably 20 μm or less, and even more preferably 15 μm or less.

上記加熱部材は、第2金属めっき層上に、さらにゴム弾性層を積層することができる。また、上記加熱部材は、第1金属めっき層上に、さらにゴム弾性層を積層することもできる。ゴム弾性層は、具体的には、各種のゴムを含むゴム組成物より形成することができる。このようなゴム弾性層は、加熱部材を他部材と圧接した状態で用いる場合に、均一な加圧を行うことが可能となるため有用である。 The heating element is on the second metal plating layer, Ru can be further laminated rubber elastic layer. Further, the heating member, the first metal plating layer, Ru can also further laminating a rubber elastic layer. Specifically, the rubber elastic layer can be formed from a rubber composition containing various rubbers. Such a rubber elastic layer is useful because it enables uniform pressurization when the heating member is used in pressure contact with another member.

ゴム弾性層に用いられるゴムとしては、例えば、シリコーンゴム、フッ素ゴムなどを例示することができる。これらは1種または2種以上併用することができる。   Examples of the rubber used for the rubber elastic layer include silicone rubber and fluororubber. These can be used alone or in combination of two or more.

ゴム弾性層は、ゴム以外にも、熱伝導性粒子等の熱伝導材料、導電剤、難燃剤、滑剤、可塑剤、軟化剤、充填剤、架橋剤、架橋助剤、老化防止剤などの添加剤を1種または2種以上含むことができる。なお、上記熱伝導材料としては、例えば、酸化マグネシウム、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、グラファイト、カーボンブラック、結晶性シリカ、炭化ケイ素、水酸化アルミニウムなどを例示することができる。   In addition to rubber, the rubber elastic layer can be added with heat conductive materials such as heat conductive particles, conductive agents, flame retardants, lubricants, plasticizers, softeners, fillers, crosslinking agents, crosslinking aids, anti-aging agents, etc. One or more agents can be included. Examples of the heat conducting material include magnesium oxide, alumina, boron nitride, aluminum nitride, graphite, carbon black, crystalline silica, silicon carbide, and aluminum hydroxide.

ゴム弾性層の厚みは、加熱部材表面への柔軟性の付与、被加熱体や他部材との接地性向上などの観点から、好ましくは100μm以上、より好ましくは150μm以上、さらに好ましくは200μm以上とすることができる。一方、ゴム弾性層の厚みは、薄膜化によるIH昇温性の向上、熱伝導性の向上などの観点から、好ましくは500μm以下、より好ましくは400μm以下、さらに好ましくは300μm以下とすることができる。   The thickness of the rubber elastic layer is preferably 100 μm or more, more preferably 150 μm or more, and even more preferably 200 μm or more, from the viewpoint of imparting flexibility to the surface of the heating member and improving the ground contact with the object to be heated and other members. can do. On the other hand, the thickness of the rubber elastic layer is preferably 500 μm or less, more preferably 400 μm or less, and even more preferably 300 μm or less, from the viewpoints of improving the IH temperature rising property and thermal conductivity by thinning. .

ゴム弾性層の熱伝導率は、例えば、0.3W/m・K以上とすることができる。ゴム弾性層による熱損失を少なくし、被加熱体の加熱を効率良く行うことができるからである。ゴム弾性層の熱伝導率は、好ましくは0.5W/m・K以上とすることができる。ゴム弾性層の熱伝導率は高いほど良いが、柔軟性、コスト等の観点から、例えば、3W/m・K以下とすることができる。なお、ゴム弾性層の熱伝導率は、熱伝導率測定装置[英弘精機(株)製、「HC−110」]等により測定することができる。   The thermal conductivity of the rubber elastic layer can be, for example, 0.3 W / m · K or more. This is because heat loss due to the rubber elastic layer can be reduced and the object to be heated can be efficiently heated. The thermal conductivity of the rubber elastic layer can be preferably 0.5 W / m · K or more. The higher the thermal conductivity of the rubber elastic layer, the better. However, from the viewpoint of flexibility, cost, etc., it can be, for example, 3 W / m · K or less. The thermal conductivity of the rubber elastic layer can be measured with a thermal conductivity measuring device (“HC-110” manufactured by Eihiro Seiki Co., Ltd.) or the like.

ゴム弾性層の表面は、表面処理により表面改質することができる。具体的には、ゴム弾性層表面を表面処理液にて表面処理することにより、ゴム弾性層の表面にF原子および/またはCl原子等を導入することができる。また、ゴム弾性層表面に紫外線照射処理等の光照射処理を施すことにより、ゴム弾性層表面を内部よりも硬くする(摩擦係数を低下させる)ことができる。   The surface of the rubber elastic layer can be modified by surface treatment. Specifically, F atoms and / or Cl atoms can be introduced into the surface of the rubber elastic layer by surface-treating the surface of the rubber elastic layer with a surface treatment liquid. Further, by applying a light irradiation process such as an ultraviolet irradiation process to the surface of the rubber elastic layer, the surface of the rubber elastic layer can be harder than the inside (reducing the friction coefficient).

これらの場合には、ゴム弾性層表面に付着した物質が離れやすくなり、離型性を付与することができる。具体的には、例えば、画像形成装置の定着部材として用いた場合に、ゴム弾性層表面に付着したトナーが離れやすくなり、トナー離型性を付与することができる。   In these cases, the substance attached to the surface of the rubber elastic layer can be easily separated, and release properties can be imparted. Specifically, for example, when used as a fixing member of an image forming apparatus, toner attached to the surface of the rubber elastic layer is easily separated, and toner releasability can be imparted.

また、上記のようなゴム弾性層表面の表面改質ではなく、ゴム弾性層上に離型層等の機能性の表層をさらに積層することもできる。この場合も離型性等の表面機能を付与することができる。表層の積層については、加熱部材の生産性、コストなどを考慮して適宜選択することができる。   Further, instead of the surface modification of the rubber elastic layer surface as described above, a functional surface layer such as a release layer can be further laminated on the rubber elastic layer. Also in this case, surface functions such as releasability can be imparted. The surface layer can be appropriately selected in consideration of the productivity and cost of the heating member.

表層に用いられる主材料としては、例えば、離型性付与等のため、ポリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルコキビニルエーテル共重合体(PFA)等のフッ素系樹脂、フッ素ゴムなどを例示することができる。これらは1種または2種以上併用することができる。また、表層中には、難燃剤、充填剤、架橋剤、架橋助剤、滑剤、可塑剤、軟化剤、酸化防止剤などの添加剤が1種または2種以上含まれていてもよい。   Examples of the main material used for the surface layer include fluorine resins such as polyfluoroethylene, polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene-perfluoroalkoxy vinyl ether copolymer (PFA), and the like for imparting release properties. A rubber etc. can be illustrated. These can be used alone or in combination of two or more. The surface layer may contain one or more additives such as a flame retardant, a filler, a cross-linking agent, a cross-linking aid, a lubricant, a plasticizer, a softener, and an antioxidant.

表層の厚みは、耐久性などの観点から、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上とすることができる。一方、表層の厚みは、下層との追従性、熱伝導性向上、コストなどの観点から、好ましくは80μm以下、より好ましくは50μm以下とすることができる。   The thickness of the surface layer is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more from the viewpoint of durability and the like. On the other hand, the thickness of the surface layer is preferably 80 μm or less, more preferably 50 μm or less, from the viewpoint of followability with the lower layer, improvement in thermal conductivity, cost, and the like.

上記加熱部材は、その用途が特に限定されるものではなく、種々の被加熱体を加熱するために用いることができる。上記加熱部材の金属めっき層を、電磁誘導加熱によって発熱する発熱層とした場合には、IH昇温性に優れるので、被加熱体を必要なときに速やかに加熱することができる。そのため、上記加熱部材を用いた装置の省エネ化を促進しやすくなる。   The application of the heating member is not particularly limited, and can be used to heat various objects to be heated. When the metal plating layer of the heating member is a heat generation layer that generates heat by electromagnetic induction heating, it is excellent in IH temperature rise, so that the object to be heated can be heated quickly when necessary. Therefore, it becomes easy to promote energy saving of the apparatus using the heating member.

上記加熱部材は、具体的には、例えば、電子写真方式の画像形成装置における定着部材として用いることができる。この際、上記金属めっき層は、電磁誘導加熱によって発熱する発熱層とすることができる。この場合には、発熱層の密着性に優れ、剥離等が生じ難いため、加熱部材の耐久性に優れる。そのため、加圧ロール等と圧接させた状態で使用した場合でも、長期にわたって良好な画像を形成することができる。 Specifically, the heating member can be used as, for example, a fixing member in an electrophotographic image forming apparatus. In this case, the metal plating layer, Ru can be a heat generating layer which generates heat by electromagnetic induction heating. In this case, since the heat generating layer has excellent adhesion and is unlikely to peel off, the heating member is excellent in durability. Therefore, a good image can be formed over a long period of time even when used in a state of being pressed against a pressure roll or the like.

上記画像形成装置としては、例えば、電子写真方式を採用する複写機、プリンター、ファクシミリ、複合機、POD(Print On Demand)装置等を例示することができる。   Examples of the image forming apparatus include a copying machine, a printer, a facsimile machine, a multifunction machine, a POD (Print On Demand) apparatus, etc. that employ an electrophotographic system.

上記加熱部材の製造方法は、例えば、基層用ポリマーより形成された基層表面に、バインダーポリマーと触媒担持担体とを含むめっき下地層形成用材料を層状に塗工する工程と、形成された塗工層表面のバインダーポリマーを除去し、触媒担持担体を露出させてめっき下地層を形成する工程と、形成されためっき下地層表面に無電解金属めっきを施し、第1金属めっき層を形成する工程とを有することができる。さらに、必要に応じて、第1金属めっき層上に電解金属めっきまたは無電解金属めっきを施し、第2金属めっき層を形成する工程を追加することができる。   The heating member manufacturing method includes, for example, a step of applying a layer of a plating base layer forming material containing a binder polymer and a catalyst-supporting carrier to a surface of a base layer formed from the base layer polymer, and the formed coating Removing the binder polymer on the surface of the layer, exposing the catalyst-supporting carrier to form a plating base layer, applying electroless metal plating to the surface of the formed plating base layer, and forming a first metal plating layer; Can have. Furthermore, if necessary, a step of performing electrolytic metal plating or electroless metal plating on the first metal plating layer to form a second metal plating layer can be added.

上記加熱部材の製造方法によれば、上記構成の加熱部材を得ることができる。さらに、その製造時に煩雑なめっき前処理工程を行う必要がない。そのため、製造ラインの小型化に寄与することが可能となり、製造性にも優れている。   According to the manufacturing method of the heating member, the heating member having the above configuration can be obtained. Furthermore, it is not necessary to perform a complicated plating pretreatment process during the production. Therefore, it is possible to contribute to the downsizing of the production line, and the productivity is excellent.

上記加熱部材の製造方法について、より具体的に説明する。基層が筒状である場合、基層形成用材料(塗料)を、円筒状または円柱状の金型の外周面に塗工し、乾燥させる。必要に応じて、熱処理することができる。塗工方法としては、例えば、ディップコート法、ディスペンサーコート法(ノズルコート法)、ロールコート法、リングコート法などを例示することができる。一方、基層がロール状である場合、基層形成用材料(混練物)を、ロール成形金型内に注入して熱処理する。あるいは、基層形成用材料(混練物)を押出成形することもできる。このように、基層の形状等を考慮し、基層用ポリマーより形成された基層を準備する。   The manufacturing method of the heating member will be described more specifically. When the base layer is cylindrical, the base layer forming material (paint) is applied to the outer peripheral surface of a cylindrical or columnar mold and dried. If necessary, heat treatment can be performed. Examples of the coating method include a dip coating method, a dispenser coating method (nozzle coating method), a roll coating method, and a ring coating method. On the other hand, when the base layer is in the form of a roll, the base layer forming material (kneaded material) is injected into a roll mold and heat-treated. Alternatively, the base layer forming material (kneaded material) can be extruded. Thus, the base layer formed from the base layer polymer is prepared in consideration of the shape of the base layer and the like.

そして、バインダーポリマーと触媒担持担体とを含むめっき下地層形成用材料(塗料)を、基層の外周面に塗工し、乾燥させる。必要に応じて熱処理することができる。めっき下地層形成用材料(塗料)は、例えば、バインダーポリマーと触媒担持担体と他の添加剤(必要に応じて)とを、適当な有機溶剤に分散、混合すること等により調製することができる。この際、触媒担持担体は、例えば、触媒金属の前駆体(触媒金属を含む有機化合物等)を担体表面に付与した後、上記前駆体中の触媒金属源を還元して金属化させることにより得ることができる。また、塗工方法には、上述した方法を適用することができる。具体的には、層形成が容易である等の観点から、塗工方法としてディップコート法を選択することができる。   Then, a plating base layer forming material (paint) containing a binder polymer and a catalyst-carrying carrier is applied to the outer peripheral surface of the base layer and dried. Heat treatment can be performed as necessary. The plating base layer forming material (paint) can be prepared, for example, by dispersing and mixing a binder polymer, a catalyst carrier, and other additives (if necessary) in an appropriate organic solvent. . At this time, the catalyst-supported support is obtained, for example, by applying a catalyst metal precursor (such as an organic compound containing a catalyst metal) to the support surface and then reducing and metallizing the catalyst metal source in the precursor. be able to. Moreover, the method mentioned above is applicable to the coating method. Specifically, a dip coating method can be selected as a coating method from the viewpoint of easy layer formation.

次いで、形成された塗工層表面におけるバインダーポリマーを除去し、触媒担持担体を露出させる。これによりめっき下地層を形成することができる。バインダーポリマーの除去は、バインダーポリマーを各種溶媒により溶解させることが可能である場合には、適当な溶媒を用いてバインダーポリマーを選択的に溶解させる(エッチングする)ことにより行うことができる。他にも、ブラスト処理、研磨処理等の除去手段を用いることも可能である。   Next, the binder polymer on the surface of the formed coating layer is removed to expose the catalyst support. Thereby, a plating underlayer can be formed. When the binder polymer can be dissolved by various solvents, the binder polymer can be removed by selectively dissolving (etching) the binder polymer using an appropriate solvent. In addition, it is possible to use removing means such as blasting and polishing.

めっき下地層を形成した後は、めっき下地層上に、従来公知の方法を用いて無電解金属めっきを施すことにより、第1金属めっき層を形成することができる。さらに、必要に応じて、第1金属めっき層上に、従来公知の方法を用いて電解金属めっきを施すことにより、第2金属めっき層を形成することができる。あるいは、第1金属めっき層上に、従来公知の方法を用いて無電解金属めっきを施すことにより、第2金属めっき層を形成することができる。さらに、上記加熱部材の製造方法は、必要に応じて、第1金属めっき層表面、あるいは、第2金属めっき層表面に、ゴム弾性層を形成する工程を追加することができる。また、必要に応じて、ゴム弾性層表面に、表層を形成する工程を追加することもできる。   After forming the plating base layer, the first metal plating layer can be formed on the plating base layer by performing electroless metal plating using a conventionally known method. Furthermore, a 2nd metal plating layer can be formed by performing electrolytic metal plating on a 1st metal plating layer using a conventionally well-known method as needed. Alternatively, the second metal plating layer can be formed by performing electroless metal plating on the first metal plating layer using a conventionally known method. Furthermore, the manufacturing method of the said heating member can add the process of forming a rubber elastic layer on the 1st metal plating layer surface or the 2nd metal plating layer surface as needed. Moreover, the process of forming a surface layer can also be added to the rubber elastic layer surface as needed.

なお、上記バインダーポリマーとして、例えば、N−メトキシメチル化ナイロン樹脂等の水溶性を有するものを用いた場合には、無電解金属めっきを施したときに、無電解金属めっき液の含浸性に優れる。そのため、上記バインダーポリマーの除去を省略することが可能となる。この場合、めっき下地層は、バインダーポリマー中に触媒担持担体が分散されてなり、かつ、第1金属めっき層側に、無電解金属めっき液の含浸により析出した無電解金属めっきを含む含浸層を有している。そのため、この含浸層中に含まれる無電解金属めっきと含浸層の外側にある第1金属めっき層とが結合している。また、含浸層中の無電解金属めっきによるアンカー効果等も期待される。その結果、基層と金属めっき層との密着性を向上させることができる。   In addition, when what has water solubility, such as N-methoxymethylated nylon resin, is used as said binder polymer, when electroless metal plating is performed, it is excellent in the impregnation property of an electroless metal plating solution. . Therefore, removal of the binder polymer can be omitted. In this case, the plating underlayer includes an impregnation layer containing electroless metal plating formed by impregnating an electroless metal plating solution on the first metal plating layer side, in which a catalyst-supporting carrier is dispersed in a binder polymer. Have. Therefore, the electroless metal plating contained in the impregnation layer and the first metal plating layer outside the impregnation layer are combined. In addition, an anchor effect by electroless metal plating in the impregnated layer is also expected. As a result, the adhesion between the base layer and the metal plating layer can be improved.

実施例に係る加熱部材について、図面を用いて具体的に説明する。
(実施例1)
図1〜図3に示すように、実施例1の加熱部材1は、基層用ポリマーより形成された基層2と、基層2上に積層されためっき下地層3と、めっき下地層3上に積層され、無電解金属めっきより形成された第1金属めっき層4とを有している。本例では、第1金属めっき層4上に、さらに、電解金属めっきまたは無電解金属めっきより形成された第2金属めっき層5が積層されており、また、第2金属めっき層5上に、さらに、ゴム弾性層6が積層されている例を示している。
The heating member according to the embodiment will be specifically described with reference to the drawings.
(Example 1)
As shown in FIGS. 1 to 3, the heating member 1 of Example 1 includes a base layer 2 formed of a base layer polymer, a plating base layer 3 stacked on the base layer 2, and a layer on the plating base layer 3. And a first metal plating layer 4 formed by electroless metal plating. In this example, a second metal plating layer 5 formed by electrolytic metal plating or electroless metal plating is further laminated on the first metal plating layer 4, and on the second metal plating layer 5, Furthermore, the example in which the rubber elastic layer 6 is laminated | stacked is shown.

上記加熱部材1において、基層2は筒状に形成されている。したがって、加熱部材1は、筒状の基層2の外周面に沿って、めっき下地層3、第1金属めっき層4、第2金属めっき層5、ゴム弾性層6がこの順に積層されている。   In the heating member 1, the base layer 2 is formed in a cylindrical shape. Therefore, in the heating member 1, the plating base layer 3, the first metal plating layer 4, the second metal plating layer 5, and the rubber elastic layer 6 are laminated in this order along the outer peripheral surface of the cylindrical base layer 2.

本例において、基層2を形成する基層用ポリマーは、具体的には、ポリアミドイミド樹脂である。基層2の筒径は、約40mm程度、基層2の厚みは、約80μm程度である。基層2の筒軸方向の長さは、約350mm程度である。また、めっき下地層3の厚みは、約10μm程度である。また、第1金属めっき層4は、具体的には、無電解ニッケルめっきより形成されており、その厚みは、約0.3μm程度である。また、第2金属めっき層5は、具体的には、電解銅めっきまたは無電解銅めっきより形成されており、その厚みは、約10μm程度である。また、ゴム弾性層は、熱伝導性を有するシリコーン系のゴム組成物より形成されており、その厚みは、約200μm程度である。   In this example, the base layer polymer forming the base layer 2 is specifically a polyamideimide resin. The base layer 2 has a cylinder diameter of about 40 mm, and the base layer 2 has a thickness of about 80 μm. The length of the base layer 2 in the cylinder axis direction is about 350 mm. The thickness of the plating base layer 3 is about 10 μm. Moreover, the 1st metal plating layer 4 is specifically formed by electroless nickel plating, and the thickness is about 0.3 micrometer. The second metal plating layer 5 is specifically formed by electrolytic copper plating or electroless copper plating, and the thickness thereof is about 10 μm. The rubber elastic layer is formed from a silicone rubber composition having thermal conductivity, and the thickness thereof is about 200 μm.

ここで、めっき下地層3は、図3に詳細に示すように、バインダーポリマー31中に、担体321表面に触媒金属322を担持する触媒担持担体32が分散されてなる。そして、めっき下地層3における第1金属めっき層4側の表面に、触媒担持担体32が露出した部分を有している。本例では、バインダーポリマー31は、具体的には、ポリアミドイミド樹脂であり、上述した基層用ポリマーと同種の樹脂である。また、触媒担持担体32における担体321は、具体的には、炭素系材料の一つであるカーボンブラックであり、触媒担持担体32における触媒金属322は、具体的には、Pdである。また、触媒担持担体32は、担体321表面が露出した露出部分と、触媒金属322が担持された担持部分とが混在している。   Here, as shown in detail in FIG. 3, the plating underlayer 3 is formed by dispersing a catalyst-supporting carrier 32 that supports a catalyst metal 322 on the surface of the carrier 321 in a binder polymer 31. The surface of the plating base layer 3 on the first metal plating layer 4 side has a portion where the catalyst carrier 32 is exposed. In this example, the binder polymer 31 is specifically a polyamide-imide resin, and is the same type of resin as the above-described base layer polymer. Further, the carrier 321 in the catalyst carrier 32 is specifically carbon black which is one of carbon-based materials, and the catalyst metal 322 in the catalyst carrier 32 is specifically Pd. The catalyst-supporting carrier 32 includes an exposed portion where the surface of the carrier 321 is exposed and a supporting portion where the catalyst metal 322 is supported.

本例の加熱部材1は、具体的には、帯電像を用いる電子写真方式の画像形成装置に組み込まれ、定着部材(定着ベルト)として用いられる。つまり、本例の加熱部材1は、被加熱体である、用紙に転写された未定着のトナーを加熱するためのものである。   Specifically, the heating member 1 of this example is incorporated in an electrophotographic image forming apparatus using a charged image and used as a fixing member (fixing belt). That is, the heating member 1 of this example is for heating the unfixed toner transferred to the paper, which is a heated object.

本例の加熱部材1は、具体的には、画像形成装置の定着部において、例えば、加熱部材1に対向するように配置された加圧ロールに圧接させ、加圧ロールに従動して回動するように構成することができる。この場合、加熱部材1の表面と加圧ロールとの表面とを圧接させた状態に保持することによりニップ部を形成することができる。そして、このニップ部に未定着のトナー像を保持した用紙を通過させ、加熱部材による熱および圧力によって未定着のトナー像を溶融させて用紙に定着させることができる。   Specifically, the heating member 1 of this example is brought into pressure contact with, for example, a pressure roll disposed so as to face the heating member 1 in the fixing unit of the image forming apparatus, and is rotated by following the pressure roll. Can be configured to. In this case, the nip portion can be formed by holding the surface of the heating member 1 and the surface of the pressure roll in pressure contact with each other. Then, a sheet holding an unfixed toner image can be passed through the nip portion, and the unfixed toner image can be melted and fixed on the sheet by heat and pressure from the heating member.

なお、加熱部材1の発熱は、例えば、次のようにすることができる。画像形成装置の定着部において、加熱部材1の外周表面と隙間を設けて設置した磁場発生ユニットのIHコイルに所定の周波数の交流電流を印加する。これにより、IHコイルの周囲に交流磁界が発生する。交流磁界が、加熱部材1の第1金属めっき層4、第2金属めっき層5を横切る際に、電磁誘導作用によってその交流磁界の変化を妨げる磁界を発生するように誘導電流(渦電流)が生じる。誘導電流が加熱部材1の第1金属めっき層4、第2金属めっき層5を流れることによって、これらの層の抵抗値に比例した電力によるジュール熱が発生し、第1金属めっき層4、第2金属めっき層5が発熱する。これにより、加熱部材1を発熱させることができる。   In addition, the heat_generation | fever of the heating member 1 can be performed as follows, for example. In the fixing unit of the image forming apparatus, an alternating current having a predetermined frequency is applied to the IH coil of the magnetic field generation unit installed with a gap from the outer peripheral surface of the heating member 1. As a result, an alternating magnetic field is generated around the IH coil. When the AC magnetic field crosses the first metal plating layer 4 and the second metal plating layer 5 of the heating member 1, an induced current (eddy current) is generated so as to generate a magnetic field that hinders the change of the AC magnetic field due to electromagnetic induction action. Arise. When the induced current flows through the first metal plating layer 4 and the second metal plating layer 5 of the heating member 1, Joule heat is generated due to electric power proportional to the resistance value of these layers. The two metal plating layer 5 generates heat. Thereby, the heating member 1 can generate heat.

(実施例2)
実施例2の加熱部材1は、図4に示すように、第2金属めっき層5を有していない点で、実施例1の加熱部材1と相違している。したがって、実施例2の加熱部材1は、第1金属めっき層4とゴム弾性層6とが接している。その他は、実施例1と同様の構成を有している。但し、第1金属めっき層4の厚みは、約10〜15μm程度である。
(Example 2)
The heating member 1 of Example 2 is different from the heating member 1 of Example 1 in that the second metal plating layer 5 is not provided as shown in FIG. Therefore, in the heating member 1 of Example 2, the first metal plating layer 4 and the rubber elastic layer 6 are in contact with each other. The rest of the configuration is the same as that of the first embodiment. However, the thickness of the first metal plating layer 4 is about 10 to 15 μm.

以下、異なる積層構造を有する加熱部材1の試料を複数作製し、各種評価を行った。その実験例について説明する。   Hereinafter, a plurality of samples of the heating member 1 having different laminated structures were prepared and subjected to various evaluations. An experimental example will be described.

(実験例)
<各種材料の準備>
−基層形成用材料の調製−
基層用ポリマーとしてのポリアミドイミドワニス[日立化成工業(株)製、「HPC−5011−29」]を、固形分濃度が16質量%となるようにN−メチルピロリドン(NMP)にて希釈し、基層形成用材料を調製した。
(Experimental example)
<Preparation of various materials>
-Preparation of base layer forming material-
Polyamideimide varnish [HPC-5011-29] manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. as a base layer polymer was diluted with N-methylpyrrolidone (NMP) so that the solid content concentration was 16% by mass, A base layer forming material was prepared.

−触媒担持担体の作製−
担体として、炭素系材料であるカーボンブラック[キャンカーブ社製、「サーマックスN990」]30gを準備した。このカーボンブラックを、60質量%の硝酸水溶液に50℃で10分間浸漬させた。これにより、カーボンブラック表面をエッチング処理した。次いで、これをろ過、水洗後、アミノカルボン酸系界面活性剤[奥野製薬工業(株)製、「コンディライザーSP」]に50℃で10分間浸漬させた。これにより、カーボンブラック表面の表面調整を行った。次いで、これをろ過、水洗後、Pd−Sn錯体コロイド溶液[奥野製薬工業(株)製、「OPC−80キャタリスト」]に25℃で10分間浸漬させた。これにより、カーボンブラック表面にPd−Sn錯体を吸着させた。次いで、これをろ過、水洗後、10質量%の塩酸水溶液に25℃で10分間浸漬させた。これにより、カーボンブラック表面に金属Pdを生成させた。次いで、これをろ過、水洗、乾燥することにより、粉末状のPd担持カーボンを得た。
-Preparation of catalyst-supported carrier-
As a carrier, 30 g of carbon black [manufactured by Cancarb, “Thermax N990”] as a carbon-based material was prepared. This carbon black was immersed in a 60% by mass nitric acid aqueous solution at 50 ° C. for 10 minutes. Thereby, the carbon black surface was etched. Next, this was filtered and washed with water, and then immersed in an aminocarboxylic acid surfactant (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., “Condizer SP”) at 50 ° C. for 10 minutes. Thereby, the surface adjustment of the carbon black surface was performed. Next, this was filtered and washed with water, and then immersed in a Pd—Sn complex colloidal solution [Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., “OPC-80 Catalyst”] at 25 ° C. for 10 minutes. Thereby, the Pd—Sn complex was adsorbed on the carbon black surface. Subsequently, after filtering and washing with water, it was immersed in a 10% by mass hydrochloric acid aqueous solution at 25 ° C. for 10 minutes. This produced metal Pd on the surface of carbon black. Next, this was filtered, washed with water, and dried to obtain powdered Pd-supported carbon.

図6および図7に、得られたPd担持カーボンの電子走査型顕微鏡写真示を示す。これらの写真から分かるように、Pd担持カーボンは、炭素系材料の担体であるカーボンブラックの表面に、触媒金属としてPd粒子を担持していることがわかる。また、Pd担持カーボンにおいて、Pd粒子はカーボンブラックの表面に点在しており、カーボンブラック表面が露出している(むき出しになっている)ことがわかる。つまり、Pd担持カーボン表面には、担体であるカーボン表面が露出した露出部分と、触媒金属であるPd粒子が担持された担持部分とが混在している。   6 and 7 show electron scanning micrographs of the obtained Pd-supported carbon. As can be seen from these photographs, it can be seen that the Pd-supported carbon supports Pd particles as a catalyst metal on the surface of carbon black, which is a carrier of the carbon-based material. Moreover, in Pd carrying | support carbon, Pd particle | grains are scattered on the surface of carbon black, and it turns out that the carbon black surface is exposed (exposed). In other words, the exposed portion where the carbon surface as the carrier is exposed and the supporting portion where the Pd particles as the catalyst metal are supported are mixed on the Pd-supported carbon surface.

−めっき下地層形成用材料の調製−
バインダーポリマーとしてのポリアミドイミドワニス[日立化成工業(株)製、「HPC−5011−29」]100質量部と、上記Pd担持カーボン100質量部とを、固形分濃度が9質量%となるように有機溶剤としてのN−メチルピロリドン(NMP)に分散、混合し、めっき下地層形成用材料を調製した。
−Preparation of plating underlayer forming material−
Polyamideimide varnish [HPC-5011-29, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.] as a binder polymer and 100 parts by mass of the Pd-supported carbon so that the solid content concentration is 9% by mass. Dispersed and mixed in N-methylpyrrolidone (NMP) as an organic solvent to prepare a plating underlayer forming material.

−ゴム弾性層形成用材料の調製−
熱伝導性を有するシリコーンゴム[信越化学工業(株)製、「X34−2720」]をプラネタリーミキサーにて混練し、その後、固形分濃度が60質量%となるようにトルエンにて溶解することにより、ゴム弾性層形成用材料を調製した。
-Preparation of rubber elastic layer forming material-
A silicone rubber having thermal conductivity [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., “X34-2720”] is kneaded with a planetary mixer, and then dissolved in toluene so that the solid content concentration becomes 60% by mass. Thus, a rubber elastic layer forming material was prepared.

−電解銅めっき液の調製−
硫酸銅70g/L、硫酸200g/L、光沢剤[奥野製薬工業(株)製、「トップルチナLS」]5ml/L、35%塩酸0.125ml/Lを混合して、電解銅めっき液を調製した。
-Preparation of electrolytic copper plating solution-
Mixing copper sulfate 70 g / L, sulfuric acid 200 g / L, brightener [Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., “Top Lucina LS”] 5 ml / L, 35% hydrochloric acid 0.125 ml / L to prepare an electrolytic copper plating solution did.

<試料1の加熱部材の作製>
直径40mm、軸方向長さ450mmであるアルミニウム製の円柱状金型表面に、ディップコート法により上記基層形成用材料を塗工し、230℃で60分間乾燥させた。なお、上記塗工時の引上速度は100mm/秒とした。これにより、上記金型の外周面上に、ポリアミドイミド樹脂より筒状に形成された基層(厚み80μm)を作製した。
<Preparation of heating member of sample 1>
The base layer-forming material was applied to the surface of an aluminum cylindrical mold having a diameter of 40 mm and an axial length of 450 mm by a dip coating method and dried at 230 ° C. for 60 minutes. The pulling speed at the time of coating was 100 mm / second. Thereby, a base layer (thickness 80 μm) formed in a cylindrical shape from the polyamideimide resin was produced on the outer peripheral surface of the mold.

次いで、上記基層の表面に、ディップコート法により上記めっき下地層形成用材料を塗工し、200℃で30分間乾燥させた。なお、上記塗工時の引上速度は100mm/秒とした。これにより、上記基層の外周面に沿って、めっき下地層(厚み10μm)を形成した。   Next, the plating base layer forming material was applied to the surface of the base layer by a dip coating method and dried at 200 ° C. for 30 minutes. The pulling speed at the time of coating was 100 mm / second. As a result, a plating underlayer (thickness: 10 μm) was formed along the outer peripheral surface of the base layer.

次いで、上記めっき下地層の表面を、200g/LのNaOH水溶液にて40℃で10分間エッチング処理した。これにより、めっき下地層表面のポリアミドイミド樹脂を溶かすとともに、めっき下地層表面にPd担持カーボンを露出させた。   Next, the surface of the plating base layer was etched with a 200 g / L NaOH aqueous solution at 40 ° C. for 10 minutes. As a result, the polyamideimide resin on the surface of the plating base layer was dissolved, and the Pd-supported carbon was exposed on the surface of the plating base layer.

次いで、上記めっき下地層が形成された基層を、無電解ニッケルめっき液[奥野製薬工業(株)製、「TMP化学ニッケルHRT」]に40℃で5分間浸漬し、上記めっき下地層の外周面に沿って無電解ニッケルめっきよりなる第1金属めっき層(厚み0.3μm)を形成した。   Next, the base layer on which the plating base layer is formed is immersed in an electroless nickel plating solution [Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., “TMP Chemical Nickel HRT”] at 40 ° C. for 5 minutes, and the outer peripheral surface of the plating base layer The 1st metal plating layer (thickness 0.3 micrometer) which consists of electroless nickel plating was formed along these.

次いで、上記第1金属めっき層の表面に、上記電解銅めっき液を用いて、電流密度2.5A/dm、温度25℃にて20分間電解銅めっきを行い、上記第1金属めっき層の外周面に沿って電解銅めっきよりなる第2金属めっき層(厚み10μm)を形成した。 Next, electrolytic copper plating is performed on the surface of the first metal plating layer using the electrolytic copper plating solution at a current density of 2.5 A / dm 2 and a temperature of 25 ° C. for 20 minutes. A second metal plating layer (thickness 10 μm) made of electrolytic copper plating was formed along the outer peripheral surface.

次いで、上記第2金属めっき層の表面に、ディップコート法により上記ゴム弾性層形成用材料を塗工し、130℃で30分間熱処理した。なお、上記塗工時の引上速度は100mm/秒とした。これにより、上記第2金属めっき層の外周面に沿って、ゴム弾性層(厚み200μm)を形成した。   Next, the rubber elastic layer forming material was applied to the surface of the second metal plating layer by dip coating, and heat-treated at 130 ° C. for 30 minutes. The pulling speed at the time of coating was 100 mm / second. Thereby, a rubber elastic layer (thickness: 200 μm) was formed along the outer peripheral surface of the second metal plating layer.

以上により、試料1の加熱部材を作製した。   Thus, a heating member of Sample 1 was produced.

<試料2の加熱部材の作製>
試料1の加熱部材の作製と同様にして、基層、めっき下地層、第1金属めっき層を形成した。
<Preparation of heating member of sample 2>
The base layer, the plating underlayer, and the first metal plating layer were formed in the same manner as the preparation of the heating member of Sample 1.

次いで、上記第1金属めっき層までを形成した基層を、無電解銅めっき液[奥野製薬工業(株)製、「OPCカッパーNCA」]に60℃で80分間浸漬し、上記第1金属めっき層の外周面に沿って無電解銅めっきよりなる第2金属めっき層(厚み10μm)を形成した。   Next, the base layer formed up to the first metal plating layer is immersed in an electroless copper plating solution [Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., “OPC Copper NCA”] at 60 ° C. for 80 minutes, and the first metal plating layer A second metal plating layer (thickness: 10 μm) made of electroless copper plating was formed along the outer peripheral surface of the electrode.

以降は、試料1の加熱部材の作製と同様にして、上記第2金属めっき層上に、ゴム弾性層を積層した。以上により、試料2の加熱部材を作製した。   Thereafter, a rubber elastic layer was laminated on the second metal plating layer in the same manner as in the preparation of the heating member of Sample 1. Thus, a heating member of Sample 2 was produced.

<試料3の加熱部材の作製>
試料1の加熱部材の作製と同様にして、基層を作製した。次いで、この基層の表面を、200g/LのNaOH水溶液にて40℃で10分間エッチング処理した。
<Preparation of heating member of sample 3>
A base layer was prepared in the same manner as the preparation of the heating member of Sample 1. Next, the surface of the base layer was etched with a 200 g / L NaOH aqueous solution at 40 ° C. for 10 minutes.

次いで、この基層を、Pd触媒付与剤[奥野製薬工業(株)製、「OPC−50インデューサー」]に40℃で5分間浸漬させた。これにより、基層表面にPdイオンを付与した。次いで、この基層を、活性化剤[奥野製薬工業(株)製、「OPC−150クリスター」]に25℃で5分間浸漬させた。これにより、基層表面に金属Pdを生成させた。   Next, this base layer was immersed in a Pd catalyst-imparting agent [Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., “OPC-50 inducer”] at 40 ° C. for 5 minutes. This gave Pd ions to the surface of the base layer. Next, this base layer was immersed in an activator [Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., “OPC-150 Cryster”] at 25 ° C. for 5 minutes. This produced metal Pd on the surface of the base layer.

以降は、試料1の加熱部材の作製と同様にして、上記基層上に、無電解ニッケルめっきよりなる第1金属めっき層、電解銅めっきよりなる第2金属めっき層、ゴム弾性層を順に積層した。以上により、試料3の加熱部材を作製した。   Thereafter, in the same manner as the preparation of the heating member of Sample 1, a first metal plating layer made of electroless nickel plating, a second metal plating layer made of electrolytic copper plating, and a rubber elastic layer were sequentially laminated on the base layer. . Thus, a heating member of Sample 3 was produced.

<密着性評価>
上記各試料の作製において、第2金属めっき層までを形成した後の試料から、密着性評価のための試験片(大きさ10mm×100mm)を採取した。次いで、この試験片を用い、引張速度50mm/分の条件で180°ピール強度の測定を行った。これによりめっき下地層と金属めっき層との間の密着性を評価した。
<Adhesion evaluation>
In the preparation of each sample, a test piece (size 10 mm × 100 mm) for adhesion evaluation was collected from the sample after forming up to the second metal plating layer. Next, using this test piece, 180 ° peel strength was measured under the condition of a tensile speed of 50 mm / min. This evaluated the adhesiveness between a plating base layer and a metal plating layer.

この結果、試料1の加熱部材は、上記180°ピール強度が10.5N/cmであった。試料2の加熱部材は、上記180°ピール強度が9.8N/cmであった。試料3の加熱部材は、上記180°ピール強度が5.2N/cmであった。   As a result, the heating member of Sample 1 had a 180 ° peel strength of 10.5 N / cm. The heating member of Sample 2 had a 180 ° peel strength of 9.8 N / cm. The heating member of Sample 3 had a 180 ° peel strength of 5.2 N / cm.

<耐久性評価>
市販のフルカラー複合機[コニカミノルタ社製、「bizhub C652DS」]に搭載されている定着ユニットを回転ユニットとして用い、この回転ユニットに上記作製した試料の加熱部材を取り付けた。次いで、図5に示すように、試料の加熱部材1の外周にIHコイル11を近接させて設置した。なお、図5中、加熱部材1の積層構造は省略されている。次いで、駆動用モーター21を回転駆動させることにより駆動系22を介して加圧ロール12を回転させ、加圧ロール12に圧接された試料の加熱部材1を連れまわりにより矢印Y方向に回転させた(回転数300rpm)。また、1.25kWにてIHコイル11を作動させ、回転する試料の加熱部材1を電磁誘導加熱により昇温させた。そして、試料の加熱部材1の外周に配置した非接触温度計20[(株)キーエンス製、「FT−H10」]を用いて、試料表面の表面温度が100℃に到達するまでの初期の昇温時間を測定した。
<Durability evaluation>
A fixing unit mounted on a commercially available full-color multifunction peripheral [manufactured by Konica Minolta, “bizhub C652DS”] was used as a rotating unit, and the heating member for the sample prepared above was attached to the rotating unit. Next, as shown in FIG. 5, the IH coil 11 was placed close to the outer periphery of the sample heating member 1. In FIG. 5, the laminated structure of the heating member 1 is omitted. Next, by rotating the drive motor 21, the pressure roll 12 is rotated through the drive system 22, and the sample heating member 1 pressed against the pressure roll 12 is rotated in the direction of the arrow Y by the rotation. (Rotation speed 300 rpm). Further, the IH coil 11 was operated at 1.25 kW, and the temperature of the rotating sample heating member 1 was increased by electromagnetic induction heating. Then, using a non-contact thermometer 20 [manufactured by Keyence Co., Ltd., “FT-H10”] arranged on the outer periphery of the heating member 1 of the sample, the initial rise until the surface temperature of the sample surface reaches 100 ° C. The warm time was measured.

次に、図5に示すように、試料の加熱部材1と加圧ロール12とのニップ部Nに、A4の印刷用紙Sを100,000枚通紙させる耐久試験を行った。この際、加圧ロール12による加圧力は、4kgfとした。この耐久試験の後、再度上記と同様にして耐久後の昇温時間の測定を行った。耐久試験中に金属めっき層が剥離、破壊した場合、電磁誘導加熱による誘導電流の発生が抑制され、昇温性能が悪化する。そこで、以下の式にて算出される昇温性能変化率が10%以内であった場合を、耐久性に優れると判断した。一方、上記昇温性能変化率が10%を上回った時点を、試料の加熱部材の寿命と判断した。
昇温性能変化率=(T2−T1の絶対値)/T1×100
但し、T1:耐久試験前の昇温時間、T2:耐久試験後の昇温時間
Next, as shown in FIG. 5, an endurance test was conducted in which 100,000 sheets of A4 printing paper S were passed through the nip N between the heating member 1 of the sample and the pressure roll 12. At this time, the pressure applied by the pressure roll 12 was 4 kgf. After this durability test, the temperature rise time after durability was measured again in the same manner as described above. When the metal plating layer peels or breaks during the durability test, generation of induction current due to electromagnetic induction heating is suppressed, and the temperature rise performance deteriorates. Therefore, when the rate of change in temperature rise performance calculated by the following equation was within 10%, it was determined that the durability was excellent. On the other hand, the time when the rate of change in temperature rise performance exceeded 10% was judged as the life of the heating member of the sample.
Temperature rise performance change rate = (T2-T1 absolute value) / T1 × 100
However, T1: Temperature rise time before the durability test, T2: Temperature rise time after the durability test

この結果、試料1および試料2の加熱部材は、100,000枚の通紙後も昇温性能変化率が10%以内であり、ほとんど変化がなかった。一方、試料3の加熱部材は、約70,000枚の通紙後に昇温性能変化率が10%を超えた。   As a result, the heating member of sample 1 and sample 2 had a temperature rise performance change rate within 10% even after passing 100,000 sheets, and there was almost no change. On the other hand, the heating member of Sample 3 had a temperature rise performance change rate of more than 10% after passing about 70,000 sheets.

上記密着性評価および耐久性評価の結果から、次のことが分かる。
すなわち、試料3の加熱部材は、めっき前処理を行うことにより基材表面に付与したPdを核として無電解ニッケルめっきを析出させ、形成した無電解ニッケルめっきよりなる第1金属めっき層を電極として電解銅めっきを施し、第2金属めっき層を形成している。そのため、基層と第1金属めっき層との密着性が悪い。また、その結果、加熱部材の使用時に、基層から金属めっき層が剥離し、比較的早期に電磁誘導加熱による昇温性が低下した。つまり、試料3の加熱部材は、耐久性に劣るといえる。また、試料3の加熱部材は、基層に対して各種めっき処理を行う前に、煩雑なめっき前処理工程を行う必要がある。そのため、膨大な製造ラインが必要になるという欠点があるといえる。
From the results of the adhesion evaluation and the durability evaluation, the following can be understood.
In other words, the heating member of Sample 3 is a pre-plating treatment, in which electroless nickel plating is deposited using Pd applied to the substrate surface as a nucleus, and the formed first metal plating layer made of electroless nickel plating is used as an electrode. Electrolytic copper plating is applied to form a second metal plating layer. Therefore, the adhesion between the base layer and the first metal plating layer is poor. As a result, when the heating member was used, the metal plating layer was peeled off from the base layer, and the temperature rise due to electromagnetic induction heating was reduced relatively early. That is, it can be said that the heating member of the sample 3 is inferior in durability. Moreover, the heating member of the sample 3 needs to perform a complicated plating pretreatment process before performing various plating treatments on the base layer. Therefore, it can be said that there is a drawback that a huge production line is required.

これに対し、試料1および試料2の加熱部材は、基層と金属めっき層との密着性に優れており、優れた耐久性を有していることが確認された。これは、以下の理由によるものである。   On the other hand, it was confirmed that the heating members of Sample 1 and Sample 2 were excellent in adhesion between the base layer and the metal plating layer and had excellent durability. This is due to the following reason.

試料1および試料2の加熱部材において、めっき下地層は、カーボンブラック表面にPd粒子を担持するPd担持カーボンがバインダーポリマー中に分散されてなる。そのため、基層とめっき下地層との間は、基層用ポリマーとバインダーポリマー、つまり、ポリマー同士の密着になる。それ故、基層とめっき下地層との間の密着性を向上させることができる。   In the heating members of Sample 1 and Sample 2, the plating underlayer is formed by dispersing Pd-supporting carbon supporting Pd particles on the surface of carbon black in a binder polymer. Therefore, the base layer polymer and the binder polymer, that is, the polymers are in close contact with each other between the base layer and the plating base layer. Therefore, the adhesion between the base layer and the plating base layer can be improved.

また、試料1および試料2の加熱部材において、めっき下地層は、第1金属めっき層側の表面にPd担持カーボンが露出した部分を有している。そして、第1金属めっき層のめっき形成時には、めっき下地層の表面に露出するPd担持カーボンのPdを核として無電解ニッケルめっきが析出するため、Pdと無電解ニッケルめっきとの間は金属結合により結合される。また、めっき下地層の表面に露出したPd担持カーボンのうち、表面に露出していない部分は、バインダーポリマーであるポリアミドイミド樹脂に固定されている。それ故、めっき下地層と第1金属めっき層との間における密着性が向上する。また、第1金属めっき層と第2金属めっき層との間は、めっき層同士であるので、良好な密着性を有している。   Further, in the heating members of Sample 1 and Sample 2, the plating underlayer has a portion where the Pd-supporting carbon is exposed on the surface on the first metal plating layer side. When the first metal plating layer is formed, the electroless nickel plating is deposited with the Pd-supporting carbon Pd exposed on the surface of the plating base layer as a nucleus, so that a metal bond is formed between the Pd and the electroless nickel plating. Combined. Moreover, the part which is not exposed to the surface among Pd carrying | support carbon exposed on the surface of the plating base layer is being fixed to the polyamide imide resin which is a binder polymer. Therefore, the adhesion between the plating base layer and the first metal plating layer is improved. Moreover, since it is plating layers between a 1st metal plating layer and a 2nd metal plating layer, it has favorable adhesiveness.

よって、試料1および試料2の加熱部材は、基層と金属めっき層との密着性に優れており、優れた耐久性を発揮することができた。   Therefore, the heating members of Sample 1 and Sample 2 were excellent in adhesion between the base layer and the metal plating layer, and could exhibit excellent durability.

また、本例では、基層用ポリマーとバインダーポリマーとが、ともに同一のポリマーであるポリアミドイミド樹脂を使用している。この点も、基層とめっき下地層との間の密着性向上に有利に働いたものと考えられる。   Further, in this example, a polyamideimide resin in which the base layer polymer and the binder polymer are the same polymer is used. This point is also considered to have worked to improve the adhesion between the base layer and the plating base layer.

さらに、本例で用いたPd担持カーボンの表面は、カーボン表面が露出した露出部分と、Pd粒子が担持された担持部分とが混在している。カーボン表面は、バインダーポリマーであるポリアミドイミド樹脂との親和性が高い。そのため、Pd担持カーボンがバインダーポリマーにしっかりと保持され、めっき下地層と第1金属めっき層との間の密着性向上に有利に働いたものと考えられる。また、Pdと無電解ニッケルめっきとは、良好な金属結合を形成することができる。この点も、めっき下地層と第1金属めっき層との間の密着性向上に有利に働いたものと考えられる。   Furthermore, the surface of the Pd-supporting carbon used in this example includes an exposed portion where the carbon surface is exposed and a support portion where Pd particles are supported. The carbon surface has high affinity with the polyamide-imide resin that is a binder polymer. Therefore, it is considered that the Pd-supported carbon is firmly held by the binder polymer, which has been beneficial for improving the adhesion between the plating base layer and the first metal plating layer. Pd and electroless nickel plating can form a good metal bond. This point is also considered to have worked to improve the adhesion between the plating base layer and the first metal plating layer.

また、めっき下地層中にPd粒子を直接添加する場合に比べ、少ないPd使用量で金属めっき層の密着性を向上させることができる。また、加熱部材の低コスト化にも寄与することが可能である。   In addition, the adhesion of the metal plating layer can be improved with a small amount of Pd used compared to the case where Pd particles are directly added to the plating base layer. Moreover, it is possible to contribute to cost reduction of the heating member.

以上、本発明の実施例について詳細に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲内で種々の変更が可能である。例えば、上記実験例では、実施例1に従う試料を作製したが、実施例2に従って試料を作製した場合であっても同様の効果を得ることが可能である。   As mentioned above, although the Example of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said Example, A various change is possible within the range which does not impair the meaning of this invention. For example, in the above experimental example, the sample according to Example 1 was produced. However, even when the sample is produced according to Example 2, the same effect can be obtained.

1 加熱部材
2 基層
3 めっき下地層
31 バインダーポリマー
32 触媒担持担体
321 担体
322 触媒金属
4 第1金属めっき層
5 第2金属めっき層
6 ゴム弾性層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Heating member 2 Base layer 3 Plating underlayer 31 Binder polymer 32 Catalyst support carrier 321 Support 322 Catalyst metal 4 First metal plating layer 5 Second metal plating layer 6 Rubber elastic layer

Claims (10)

被加熱体を加熱するための加熱部材であって、
基層用ポリマーより形成された基層と、該基層上に積層されためっき下地層と、該めっき下地層上に積層され、無電解金属めっきより形成された第1金属めっき層とを有しており、
上記めっき下地層は、バインダーポリマー中に、担体表面に触媒金属を担持する触媒担持担体が分散されてなり、かつ、上記第1金属めっき層側の表面に上記触媒担持担体が露出した部分を有しており、
上記バインダーポリマーは、ポリアミドイミド樹脂、変性ポリアミドイミド樹脂およびこれら樹脂にポリシロキサン化合物がブレンドされたものから選択される1種または2種以上であることを特徴とする加熱部材。
A heating member for heating a heated object,
A base layer made of a polymer for the base layer, a plating base layer laminated on the base layer, and a first metal plating layer laminated on the plating base layer and formed by electroless metal plating; ,
The plating base layer has a portion in which a catalyst-supporting carrier supporting a catalyst metal is dispersed on the surface of the carrier in a binder polymer, and the catalyst-supporting carrier is exposed on the surface of the first metal plating layer. And
The binder polymer, a polyamide-imide resin, modified polyamide-imide resin and one or more der heating member, characterized in Rukoto polysiloxane compound in these resins is selected from those blends.
請求項1に記載の加熱部材であって、
上記担体は、炭素系材料、金属酸化物、およびシリカから選択される1種または2種以上であることを特徴とする加熱部材。
The heating member according to claim 1,
The heating member according to claim 1, wherein the carrier is one or more selected from a carbon-based material, a metal oxide, and silica.
請求項1または2に記載の加熱部材であって、
上記触媒金属は、Pd、Pt、Agおよびこれらの合金から選択される1種または2種以上であることを特徴とする加熱部材。
The heating member according to claim 1 or 2,
The heating member, wherein the catalyst metal is one or more selected from Pd, Pt, Ag, and alloys thereof.
請求項1〜3のいずれか1項に記載の加熱部材であって、
上記第1金属めっき層を形成する金属は、Cu、Ni、Ag、およびこれらの合金から選択される1種または2種以上であることを特徴とする加熱部材。
It is a heating member given in any 1 paragraph of Claims 1-3,
The heating member, wherein the metal forming the first metal plating layer is one or more selected from Cu, Ni, Ag, and alloys thereof.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の加熱部材であって、
上記基層用ポリマーおよび上記バインダーポリマーは、同種のポリマーを含むことを特徴とする加熱部材。
It is a heating member given in any 1 paragraph of Claims 1-4,
The heating member, wherein the base layer polymer and the binder polymer contain the same kind of polymer.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の加熱部材であって、
上記第1金属めっき層上に、さらに、電解金属めっきまたは無電解金属めっきより形成された第2金属めっき層が積層されていることを特徴とする加熱部材。
It is a heating member given in any 1 paragraph of Claims 1-5,
A heating member, wherein a second metal plating layer formed by electrolytic metal plating or electroless metal plating is further laminated on the first metal plating layer.
請求項6に記載の加熱部材であって、
上記第2金属めっき層を形成する金属は、Cu、Ni、Ag、およびこれらの合金から選択される1種または2種以上であることを特徴とする加熱部材。
The heating member according to claim 6,
The heating member, wherein the metal forming the second metal plating layer is one or more selected from Cu, Ni, Ag, and alloys thereof.
請求項6または7に記載の加熱部材であって、
上記第2金属めっき層上に、さらにゴム弾性層が積層されていることを特徴とする加熱部材。
The heating member according to claim 6 or 7,
A heating member, wherein a rubber elastic layer is further laminated on the second metal plating layer.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の加熱部材であって、
上記第1金属めっき層上に、さらにゴム弾性層が積層されていることを特徴とする加熱部材。
It is a heating member given in any 1 paragraph of Claims 1-5,
A heating member, wherein a rubber elastic layer is further laminated on the first metal plating layer.
請求項1〜9のいずれか1項に記載の加熱部材は、
電子写真方式の画像形成装置における定着部材として用いられ、上記金属めっき層は、電磁誘導加熱によって発熱する発熱層であることを特徴とする加熱部材。
The heating member according to any one of claims 1 to 9,
A heating member used as a fixing member in an electrophotographic image forming apparatus, wherein the metal plating layer is a heat generating layer that generates heat by electromagnetic induction heating.
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JP4745025B2 (en) * 2005-11-09 2011-08-10 株式会社東芝 Electronic circuit board manufacturing method
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