JP2012241735A - Rubber roll, die, and manufacturing method of die - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rubber roll capable of appropriately hold powder materials on the surface and reducing stress on powder materials, a die suitable for forming a roughened surface of rubber elastic part such as a rubber roll, and a manufacturing method appropriate to manufacturing the die.SOLUTION: A rubber roll 1 contains a rubber elastic part 2 having the surface roughened by mold transferring. The rubber elastic part 2 comprises a lot of first projections 21 projecting from a surface and a lot of second projections 22 projecting from the first projections 21 and a surface therearound. A diameter of the second projection 22 is smaller than that of the first projection 21. The height of the second projection 22 is smaller than that of the first projection 21. A die 4 is laminated on a die base material 5 and formed of a first plating layer 51 containing a lot of first hole parts 511 in the surface and a second plating layer 52 laminated along the first hole parts 511 of the first plating layer 51 and a surface therearound and containing a lot of second hole parts 522 in the surface. A diameter of the second hole part 522 is smaller than that of the first hole part 511. A depth of the second hole part 522 is shallower than that of the first hole part 511.

Description

本発明は、ゴムロール、型および型の製造方法に関する。   The present invention relates to a rubber roll, a mold, and a method for manufacturing the mold.

従来、様々な分野においてゴムロールが用いられている。ゴムロールを利用する技術の一つとして、粗面化したゴムロール表面に粉体を保持し、ロールの回転によって保持した粉体を搬送する技術が知られている。具体的には、例えば、電子写真方式を採用する複写機、プリンター等の画像形成装置では、現像のためにゴムロールが用いられている。上記現像は、カートリッジ内のトナーをゴムロールによって感光ドラムまで保持・搬送し、感光ドラム表面に形成された静電潜像にトナーを付着させて可視像とすることにより行われる。   Conventionally, rubber rolls are used in various fields. As one of techniques using a rubber roll, a technique is known in which powder is held on a roughened rubber roll surface and the held powder is conveyed by rotation of the roll. Specifically, for example, in an image forming apparatus such as a copying machine or a printer that employs an electrophotographic system, a rubber roll is used for development. The development is performed by holding and transporting the toner in the cartridge to the photosensitive drum by a rubber roll, and attaching the toner to the electrostatic latent image formed on the surface of the photosensitive drum to form a visible image.

ゴムロール表面を粗面化する技術としては、特許文献1等に知られるように、ゴムロールのゴム弾性層表面に、粗さ形成用粒子としての樹脂粒子を分散した樹脂塗膜を形成し、樹脂粒子による凸部とこの凸部間の凹部とによって表面凹凸を形成する技術がある。また、特許文献2等に知られるように、多数のピットを形成しためっき層等により粗面化した型面を、ゴム弾性層表面に転写することによって表面凹凸を形成する技術もある。   As a technique for roughening the surface of a rubber roll, as known in Patent Document 1, etc., a resin coating film in which resin particles as roughness forming particles are dispersed is formed on the surface of a rubber elastic layer of a rubber roll. There is a technique for forming surface irregularities by the convex portions by and the concave portions between the convex portions. Further, as known in Patent Document 2 and the like, there is a technique for forming surface irregularities by transferring a mold surface roughened by a plating layer or the like on which a large number of pits are formed to the surface of a rubber elastic layer.

特開2009−75497号公報JP 2009-75497 A 特開2006−184608号公報JP 2006-184608 A

しかしながら、従来技術は以下の点で改善の余地がある。すなわち、表面が粗面化されたゴムロールでは、ロール表面の凹部に粉体が保持される。また、ロール表面の凸部にはブレード部材等の他部材が当接することが多い。   However, the conventional technology has room for improvement in the following points. That is, in the rubber roll whose surface is roughened, the powder is held in the recesses on the roll surface. In addition, other members such as a blade member often come into contact with the convex portion of the roll surface.

ここで、粗さ形成用粒子により表面が粗面化されたゴムロールは、凸部先端において、樹脂塗膜が他部材との擦れによって削られやすい。その結果、使用が重なって凸部が低くなるとともに凹部の隙間が減少し、粉体の保持力が低下する。場合によっては、粗さ形成用粒子が脱落し、表面凹凸が損なわれて粉体の保持力が大きく低下することもある。粉体の保持力が低下すると、ゴムロールの回転移動による粉体の搬送性が低下する。また、凹部表面は比較的硬い樹脂からなる。そのため、この凹部表面と他部材との間に挟まれた粉体はストレスを受けやすい。さらに、粗さ形成用粒子の添加量が増えると塗膜硬度が上昇し、粉体にストレスを与えやすくなる。   Here, in the rubber roll whose surface is roughened by the roughness forming particles, the resin coating film is easily scraped off by rubbing with other members at the tip of the convex portion. As a result, the use overlaps and the convex portion is lowered, the gap between the concave portions is reduced, and the holding power of the powder is lowered. In some cases, the roughness-forming particles fall off, the surface irregularities are impaired, and the powder holding power may be greatly reduced. When the holding power of the powder is reduced, the transportability of the powder due to the rotational movement of the rubber roll is reduced. The concave surface is made of a relatively hard resin. Therefore, the powder sandwiched between the surface of the recess and the other member is susceptible to stress. Furthermore, when the amount of addition of the roughness forming particles increases, the coating film hardness increases, and it becomes easy to give stress to the powder.

一方、型転写により表面が粗面化されたゴムロールは、粉体の保持力を確保するため比較的大きな凸部が形成される。そのため、凹部の隙間は大きくなり、凹部に保持された粉体と凹部表面とが面接触しやすくなる。さらに、上記凸部は柔軟なゴム弾性を有しているため、凸部に他部材が圧接されると凸部は圧縮変形し、凹部の隙間が面方向に拡がる。凹部の隙間が面方向に拡がると、凹部に保持された粉体と凹部表面との接触面積が増加する。それ故、凹部表面と他部材との間に挟まれた粉体はストレスを受けやすくなる。このような問題は、ロール表面の凸部とブレード部材とを摺擦することによってトナーを摩擦帯電させる現像用ゴムロールで特に生じやすい。トナーに対するストレスが大きくなると、ブレード部材へトナーが固着する不具合などが誘発される。   On the other hand, a rubber roll whose surface has been roughened by mold transfer has a relatively large convex portion in order to ensure the holding power of the powder. For this reason, the gap between the recesses becomes large, and the powder held in the recess and the surface of the recess are easily brought into surface contact. Furthermore, since the said convex part has flexible rubber elasticity, when another member is press-contacted to a convex part, a convex part will compress-deform and the clearance gap of a recessed part will expand in a surface direction. When the gap between the recesses expands in the surface direction, the contact area between the powder held in the recess and the surface of the recess increases. Therefore, the powder sandwiched between the concave surface and the other member is easily subjected to stress. Such a problem is particularly likely to occur in the developing rubber roll that frictionally charges the toner by rubbing the convex portions on the roll surface and the blade member. When the stress on the toner increases, a problem such as a problem that the toner adheres to the blade member is induced.

本発明は、上記問題に鑑みてなされてものであり、表面に粉体を適切に保持でき、かつ、粉体に対するストレスを低減可能なゴムロールを提供することにある。また、上記ゴムロール等におけるゴム弾性部の粗面形成に適した型を提供することにある。また、上記型の製造に適した製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a rubber roll capable of appropriately holding powder on the surface and reducing stress on the powder. Moreover, it is providing the type | mold suitable for the rough surface formation of the rubber elastic part in the said rubber roll. Moreover, it is providing the manufacturing method suitable for manufacture of the said type | mold.

第1の発明は、型転写により表面が粗面化されたゴム弾性部を有するゴムロールであって、上記ゴム弾性部は、その表面から外方に突出する多数の第1突出部と、該第1突出部およびその周囲の表面から外方に突出する多数の第2突出部とを有し、上記第2突出部の径は上記第1突出部の径よりも小さく、上記第2突出部の高さは上記第1突出部の高さよりも低いことを特徴とするゴムロールにある(請求項1)。   A first invention is a rubber roll having a rubber elastic portion whose surface is roughened by mold transfer, wherein the rubber elastic portion includes a plurality of first protrusions protruding outward from the surface, And a plurality of second projecting portions projecting outward from the surrounding surface, and the diameter of the second projecting portion is smaller than the diameter of the first projecting portion. The rubber roll is characterized in that the height is lower than the height of the first protrusion (claim 1).

第2の発明は、型基材部と、該型基材部上に積層され、内方に窪んだ多数の第1穴部を表面に有する第1めっき層と、該第1めっき層の上記第1穴部およびその周囲の表面に沿って積層され、内方に窪んだ多数の第2穴部を表面に有する第2めっき層とを有し、上記第2穴部の径は上記第1穴部の径よりも小さく、上記第2穴部の深さは上記第1穴部の深さよりも浅いことを特徴とする型にある(請求項6)。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a mold base part, a first plating layer laminated on the mold base part and having a number of first holes recessed inward on the surface, and the first plating layer described above. A second plated layer having a plurality of second hole portions which are laminated along the surface of the first hole portion and its surroundings and recessed inward, and the diameter of the second hole portion is the first hole portion. The mold is characterized in that it is smaller than the diameter of the hole, and the depth of the second hole is shallower than the depth of the first hole (Claim 6).

第3の発明は、型基材部上に、内方に窪んだ多数の第1穴部を表面に有する第1めっき層を形成する第1工程と、上記第1めっき層の上記第1穴部およびその周囲の表面に沿って、内方に窪んだ多数の第2穴部を表面に有する第2めっき層を形成する第2工程とを有し、上記第2穴部の径を上記第1穴部の径よりも小さく、上記第2穴部の深さを上記第1穴部の深さよりも浅く調整することを特徴とする型の製造方法にある(請求項8)。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a first step of forming a first plating layer having a plurality of indented first holes on the surface of the mold base portion, and the first holes of the first plating layer. And a second step of forming a second plating layer having a plurality of indented second hole portions on the surface along the surface of the portion and the periphery thereof, and the diameter of the second hole portion is The mold manufacturing method is characterized in that it is smaller than the diameter of one hole and the depth of the second hole is adjusted to be shallower than the depth of the first hole (Claim 8).

上記構成を有するゴムロールによれば、ゴム弾性部の表面に接した粉体は、第1突出部と第1突出部との間の隙間に導かれて保持される。そのため、ゴムロールを回転させれば、上記隙間に保持された粉体を適量搬送することができる。また、第1突出部およびその周囲の表面には第1突出部よりも小さな第2突出部が多数形成されている。そのため、上記隙間に保持された粉体と隙間表面とが面接触し難く、両者の接触面積を小さくすることができる。また、第1突出部はゴム弾性を有しているので、この第1突出部にブレード部材等の他部材が圧接されると、第1突出部が圧縮変形して上記隙間が面方向に拡がることになる。しかしながら、このような場合でも、上記隙間に存在する第2突出部により、粉体と隙間表面との接触面積の増加が抑制される。それ故、上記隙間表面と他部材との間に挟まれる粉体に与えるストレスを低減させることができる。   According to the rubber roll having the above configuration, the powder in contact with the surface of the rubber elastic portion is guided and held in the gap between the first protruding portion and the first protruding portion. Therefore, if the rubber roll is rotated, an appropriate amount of the powder held in the gap can be conveyed. In addition, a large number of second protrusions smaller than the first protrusions are formed on the first protrusion and the surrounding surface. Therefore, it is difficult for the powder held in the gap and the gap surface to come into surface contact, and the contact area between them can be reduced. Further, since the first protrusion has rubber elasticity, when another member such as a blade member is pressed against the first protrusion, the first protrusion is compressively deformed and the gap is expanded in the surface direction. It will be. However, even in such a case, an increase in the contact area between the powder and the surface of the gap is suppressed by the second protrusions present in the gap. Therefore, stress applied to the powder sandwiched between the gap surface and the other member can be reduced.

上記第1の発明によれば、表面に粉体を適切に保持でき、かつ、粉体に対するストレスを低減可能なゴムロールを提供することができる。   According to the first aspect of the invention, it is possible to provide a rubber roll that can appropriately hold the powder on the surface and can reduce stress on the powder.

したがって、上記ゴムロールを例えば、電子写真方式を採用する画像形成装置に組み込まれる現像用ゴムロールとして用いた場合には、適正なトナー搬送量を与えることができる。また、トナーに対するストレスを低減することができるので、現像用ゴムロールに当接するブレード部材へのトナー固着を抑制することができる。そのため、画像形成装置の高耐久化に寄与することができる。   Therefore, when the rubber roll is used as, for example, a developing rubber roll incorporated in an image forming apparatus employing an electrophotographic system, an appropriate toner conveyance amount can be provided. In addition, since the stress on the toner can be reduced, toner adhesion to the blade member in contact with the developing rubber roll can be suppressed. Therefore, it can contribute to high durability of the image forming apparatus.

また、上記構成を有する型によれば、第2めっき層の表面には、第1めっき層の表面が有する第1穴部に対応した穴部が多数形成されている。また、この第1穴部に対応する穴部およびその周囲の表面を含む第2めっき層の表面全体には、第1穴部に対応する穴部よりも小さな第2穴部が多数形成されている。したがって、この粗面状態を有する型面をゴム弾性部の表面に転写することにより、表面から外方に突出する多数の第1突出部と、第1突出部およびその周囲の表面から外方に突出する多数の第2突出部とを有し、第2突出部の径は第1突出部の径よりも小さく、第2突出部の高さは第1突出部の高さよりも低い粗面を有するゴム弾性部が得られる。   In addition, according to the mold having the above configuration, a large number of hole portions corresponding to the first hole portions of the surface of the first plating layer are formed on the surface of the second plating layer. In addition, a large number of second holes smaller than the hole corresponding to the first hole are formed on the entire surface of the second plating layer including the hole corresponding to the first hole and the surrounding surface. Yes. Therefore, by transferring the rough mold surface to the surface of the rubber elastic portion, a large number of first protrusions protruding outward from the surface, and the first protrusions and their surrounding surfaces outward. A plurality of projecting second projecting portions, the diameter of the second projecting portion is smaller than the diameter of the first projecting portion, and the height of the second projecting portion is lower than the height of the first projecting portion. The rubber elastic part which has is obtained.

したがって、上記第2の発明によれば、上記ゴムロール等におけるゴム弾性部の粗面形成に適した型を提供することができる。   Therefore, according to the said 2nd invention, the type | mold suitable for the rough surface formation of the rubber elastic part in the said rubber roll etc. can be provided.

また、上記構成を有する型の製造方法によれば、第1工程、第2工程を経ることにより、上記構成を有する型を製造することができる。   Moreover, according to the manufacturing method of the type | mold which has the said structure, the type | mold which has the said structure can be manufactured through a 1st process and a 2nd process.

したがって、第3の発明によれば、上記型の製造に適した製造方法を提供することができる。   Therefore, according to 3rd invention, the manufacturing method suitable for manufacture of the said type | mold can be provided.

実施例に係るゴムロールを模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the rubber roll which concerns on an Example. 図1のA−A断面を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the AA cross section of FIG. 1 typically. 図2のB位置におけるゴム弾性部の表面を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the surface of the rubber elastic part in the B position of FIG. 図3のゴム弾性部のC−C断面を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the CC cross section of the rubber elastic part of FIG. (a)は図4の第1突出部を拡大して模式的に示す説明図であり、(b)は図4の第2突出部を拡大して模式的に示す説明図である。(A) is explanatory drawing which expands and shows typically the 1st protrusion part of FIG. 4, (b) is explanatory drawing which expands and schematically shows the 2nd protrusion part of FIG. 実施例に係る型の製造方法における、第1工程(1A)を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the 1st process (1A) in the manufacturing method of the type | mold which concerns on an Example. 実施例に係る型の製造方法における、第1工程(1B)を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the 1st process (1B) in the manufacturing method of the type | mold which concerns on an Example. 実施例に係る型の製造方法における、第2工程(2)を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the 2nd process (2) in the manufacturing method of the type | mold which concerns on an Example. (a)は図8(b)における第1めっき層の第1穴部を拡大して模式的に示す説明図であり、(b)は図8(a)における第2めっき層の第2穴部を拡大して模式的に示す説明図である。(A) is explanatory drawing which expands and shows typically the 1st hole part of the 1st plating layer in FIG.8 (b), (b) is the 2nd hole of the 2nd plating layer in Fig.8 (a). It is explanatory drawing which expands and shows a part typically. 試料1の型における、第1めっき層の表面観察写真である。2 is a surface observation photograph of a first plating layer in a sample 1 mold. 試料1の型における、第2めっき層の表面観察写真である。4 is a surface observation photograph of a second plating layer in a sample 1 mold. 試料2の型における、第1めっき層および第2めっき層の断面観察写真である。4 is a cross-sectional observation photograph of the first plating layer and the second plating layer in the sample 2 mold. 試料1の現像用ゴムロールにおける、ゴム弾性部の表面観察写真である。2 is a surface observation photograph of a rubber elastic part in a developing rubber roll of Sample 1. FIG. 試料12の現像用ゴムロールにおける、ゴム弾性部の表面観察写真である。4 is a surface observation photograph of a rubber elastic part in a developing rubber roll of Sample 12. FIG.

上記ゴムロールについて説明する。上記ゴムロールは、型転写により表面が粗面化されたゴム弾性部を有している。ゴム弾性部の表面は、ゴム弾性部を型成形する際に、成形型表面の粗面状態が転写されて粗面化されていてもよいし、一旦ゴム弾性部を成形した後に、成形型ではない型表面の粗面状態が転写されて粗面化されていてもよい。ゴム弾性部の表面を簡単に粗面化できるなどの観点から、好ましくは前者であるとよい。   The rubber roll will be described. The rubber roll has a rubber elastic portion whose surface is roughened by mold transfer. When the rubber elastic portion is molded, the surface of the rubber elastic portion may be roughened by transferring the rough state of the surface of the mold, or after forming the rubber elastic portion, The rough surface state of the mold surface which is not present may be transferred and roughened. From the viewpoint of easily roughening the surface of the rubber elastic portion, the former is preferable.

上記ゴム弾性部は、その表面から外方に突出する多数の第1突出部と、この第1突出部およびその周囲の表面から外方に突出する多数の第2突出部とを有しており、同一のゴム素材により一体に形成されている。すなわち、第1突出部は、ゴム弾性部の表面から外方向に向かって多数突出している。そして、第2突出部は、第1突出部の表面のみならず、第1突出部と第1突出部との間にあるゴム弾性部の表面、つまり、第1突出部が形成されていないゴム弾性部の表面からも外方向に向かって多数突出している。このように上記ゴム弾性部は、第1突出部が多数突出する表面を有しており、この表面全体から第2突出部が多数突出している。なお、ゴム弾性部の表面の第1突出部および第2突出部は、粗さ形成用粒子によって表面から突出するものではない。また、ゴム弾性部表面の第1突出部および第2突出部は、以下に説明するゴム弾性部の表面観察やゴム弾性部の周方向断面の断面観察から確認することができる。   The rubber elastic portion has a number of first protrusions protruding outward from the surface, and a number of second protrusions protruding outward from the first protrusion and its surrounding surface. , Which are integrally formed of the same rubber material. That is, a large number of first projecting portions project outward from the surface of the rubber elastic portion. And the 2nd projection part is not only the surface of the 1st projection part but the surface of the rubber elastic part between the 1st projection part and the 1st projection part, ie, the rubber in which the 1st projection part is not formed A large number of protrusions project outward from the surface of the elastic portion. Thus, the rubber elastic portion has a surface on which a large number of first protrusions protrude, and a large number of second protrusions protrude from the entire surface. In addition, the 1st protrusion part and 2nd protrusion part on the surface of a rubber elastic part do not protrude from the surface by the particle | grains for roughness formation. Moreover, the 1st protrusion part and 2nd protrusion part of a rubber elastic part surface can be confirmed from the surface observation of the rubber elastic part demonstrated below, or the cross-sectional observation of the circumferential direction cross section of a rubber elastic part.

上記ゴム弾性部において、第2突出部の径は第1突出部の径よりも小さい。「第1突出部の径」は、第1突出部の基端部における第1突出部の直径または円相当直径である。「第2突出部の径」は、第2突出部の基端部における直径または円相当直径である。なお、「円相当直径」は、各突出部の基端部の輪郭が略円形ではなく、いびつな形をしている場合に適用する概念であり、各突出部の基端部の輪郭の内側の面積と同じ面積を有する円の直径である。   In the rubber elastic portion, the diameter of the second protrusion is smaller than the diameter of the first protrusion. The “diameter of the first protrusion” is the diameter or equivalent circle diameter of the first protrusion at the base end of the first protrusion. The “diameter of the second protrusion” is the diameter or equivalent circle diameter at the base end of the second protrusion. The “equivalent circle diameter” is a concept applied when the outline of the base end part of each protrusion is not substantially circular but has an irregular shape, and is inside the outline of the base end part of each protrusion. The diameter of a circle having the same area as.

上記ゴム弾性部において、「第2突出部の径<第1突出部の径」を満たすことは、次のようにして確認することができる。先ず、上記ゴムロールにおけるゴム弾性部の軸方向中央部について、ゴム弾性部表面を表面観察する。そして、ゴム弾性部の表面に第1突出部および第2突出部が存在することを確認する。次に、第1突出部の径と第2突出部の径とを比較する。上記比較観察により明らかに「第2突出部の径<第1突出部の径」を満たすと認められる場合にはそれでもって足りる。判別がつき難い場合や、具体的な値を求める場合には、ゴム弾性部表面の周方向3箇所(中心角120°間隔)を表面観察する。そして、1箇所につき3点、すなわち、合計9点、代表的な各突出部を選んでそれぞれの径を測定し、得られた測定値の相加平均を各突出部の径とする。これにより、具体的な値を比較し、「第2突出部の径<第1突出部の径」を満たすことを確認することができる。なお、上記観察および測定には、デジタルマイクロスコープ((株)ナカデン・インターナショナル製「MX−1200E」等)を用いることができる。   In the rubber elastic portion, it can be confirmed as follows that “diameter of the second protrusion portion <diameter of the first protrusion portion” is satisfied. First, the surface of the rubber elastic portion is observed on the central portion in the axial direction of the rubber elastic portion in the rubber roll. And it confirms that the 1st protrusion part and the 2nd protrusion part exist in the surface of a rubber elastic part. Next, the diameter of the first protrusion and the diameter of the second protrusion are compared. If it is clearly determined by the above comparative observation that “the diameter of the second protruding portion <the diameter of the first protruding portion” is satisfied, it is sufficient. When it is difficult to determine or when a specific value is obtained, the surface of the rubber elastic portion surface is observed at three locations in the circumferential direction (center angle 120 ° intervals). Then, three points at one place, that is, a total of nine points, each representative protrusion is selected, each diameter is measured, and an arithmetic average of the obtained measured values is set as the diameter of each protrusion. Thus, specific values can be compared to confirm that “diameter of second protrusion <diameter of first protrusion” is satisfied. A digital microscope (such as “MX-1200E” manufactured by Nakaden International Co., Ltd.) can be used for the observation and measurement.

上記ゴム弾性部において、第2突出部の高さは第1突出部の高さよりも低い。「第1突出部の高さ」は、第1突出部の基端部から先端部までの距離である。「第2突出部の高さ」は、第2突出部の基端部から先端部までの距離である。   In the rubber elastic portion, the height of the second protrusion is lower than the height of the first protrusion. The “height of the first protrusion” is a distance from the base end to the tip of the first protrusion. The “height of the second protrusion” is a distance from the base end to the tip of the second protrusion.

上記ゴム弾性部において、「第2突出部の高さ<第1突出部の高さ」を満たすことは、次のようにして確認することができる。先ず、上記ゴムロールにおけるゴム弾性部の軸方向中央部を周方向に切断する。次に、切断したゴム弾性部表面を断面観察する。そして、ゴム弾性部の表面に第1突出部および第2突出部が存在することを確認する。次に、第2突出部の高さと第1突出部の高さとを比較する。上記比較観察により明らかに「第2突出部の高さ<第1突出部の高さ」を満たすと認められる場合にはそれでもって足りる。判別がつき難い場合や、具体的な値を求める場合には、切断したゴム弾性部表面の周方向3箇所(中心角120°間隔)を断面観察する。そして、1箇所につき3点、すなわち、合計9点、代表的な各突出部を選んでそれぞれの高さを測定し、得られた測定値の相加平均を各突出部の高さとする。これにより、具体的な値を比較し、「第2突出部の高さ<第1突出部の高さ」を満たすことを確認することができる。なお、上記観察および測定には、上述したデジタルマイクロスコープを用いることができる。また、上記断面観察に代えて、上記表面観察によって各突出部の高さを計測することができる場合もある。   In the rubber elastic part, it can be confirmed as follows that “the height of the second protrusion <the height of the first protrusion” is satisfied. First, the axial center part of the rubber elastic part in the rubber roll is cut in the circumferential direction. Next, the section of the cut rubber elastic portion surface is observed. And it confirms that the 1st protrusion part and the 2nd protrusion part exist in the surface of a rubber elastic part. Next, the height of the second protrusion and the height of the first protrusion are compared. If it is clearly determined by the above comparative observation that “the height of the second protruding portion <the height of the first protruding portion” is satisfied, it is sufficient. When it is difficult to discriminate or when a specific value is obtained, a cross-sectional observation is performed on three portions (center angle 120 ° intervals) in the circumferential direction on the surface of the cut rubber elastic portion. Then, three points at one place, that is, a total of nine points, each of the representative protrusions is selected, the respective heights are measured, and the arithmetic average of the obtained measured values is set as the height of each protrusion. Thereby, specific values can be compared to confirm that “the height of the second protrusions <the height of the first protrusions” is satisfied. Note that the above-described digital microscope can be used for the observation and measurement. Moreover, it may replace with the said cross-sectional observation and the height of each protrusion part can be measured by the said surface observation.

上記ゴムロールにおいて、第2突出部の表面は、略球面の一部を含むことが好ましい(請求項2)。   In the rubber roll, it is preferable that the surface of the second protrusion includes a part of a substantially spherical surface.

上記「略球面」とは、完全な球面だけでなく、実質的に球面とみなせる曲面状も含む意味である。また、上記「一部を含む」とは、第2突出部の表面が略球面の部分を切り取った面を少なくとも有していることを意味する。第2突出部の表面形状は、上述したゴム弾性部の表面観察やゴム弾性部の周方向断面の断面観察から確認することができる。このような略球面の一部を含む表面を有する第2突出部は、放電加工により粗面化した型面の転写によっては形成することができない。例えば、略球状粒子の表面の一部を写し取った穴部を有するめっき層を備えた型の転写などによって好適に形成することができる。   The “substantially spherical surface” means not only a perfect spherical surface but also a curved surface that can be regarded as a substantially spherical surface. In addition, the above “including part” means that the surface of the second protrusion has at least a surface obtained by cutting out a substantially spherical portion. The surface shape of the second protrusion can be confirmed from the surface observation of the rubber elastic portion and the cross-sectional observation of the circumferential cross section of the rubber elastic portion. Such a second protrusion having a surface including a part of a substantially spherical surface cannot be formed by transfer of a mold surface roughened by electric discharge machining. For example, it can be suitably formed by transfer of a mold provided with a plating layer having a hole portion obtained by copying a part of the surface of the substantially spherical particle.

上記第2突出部の表面が略球面の一部を含む場合には、ゴム弾性部表面と粉体とを点接触させやすくなり、第1突出部と第1突出部との間の隙間に保持された粉体と隙間表面との接触面積をいっそう小さくすることができる。また、第1突出部が圧縮変形して上記隙間が面方向に拡がった場合でも、粉体と隙間表面との接触面積の増加が効果的に抑制される。それ故、上記隙間表面と他部材との間に挟まれる粉体に与えるストレスをいっそう低減させやすくなる。   When the surface of the second protrusion includes a part of a substantially spherical surface, it is easy to make point contact between the surface of the rubber elastic portion and the powder, and is held in the gap between the first protrusion and the first protrusion. The contact area between the formed powder and the surface of the gap can be further reduced. Further, even when the first protrusion is compressively deformed and the gap is expanded in the surface direction, an increase in the contact area between the powder and the gap surface is effectively suppressed. Therefore, the stress applied to the powder sandwiched between the gap surface and the other member can be further reduced.

したがって、このゴムロールは、粉体搬送用として好適である。具体的には、例えば、電子写真方式を採用する画像形成装置に組み込まれ、ゴム弾性部表面とブレード部材とが長期にわたって摺擦される現像用ゴムロールなどとして好適である。粉体としてトナーが用いられる現像用ゴムロールに適用した場合には、適切なトナー搬送量を確保できる上、トナーに与えるストレスを長期にわたって低減しやすく、ブレード部材へのトナーの固着を長期にわたって抑制しやすいからである。それ故、画像形成装置の高耐久化に寄与しやすい。   Therefore, this rubber roll is suitable for powder conveyance. Specifically, for example, it is suitable as a developing rubber roll that is incorporated in an image forming apparatus that employs an electrophotographic system and in which the surface of the rubber elastic portion and the blade member are rubbed over a long period of time. When applied to a developing rubber roll that uses toner as a powder, it is possible to secure an appropriate toner conveyance amount, and to easily reduce the stress applied to the toner over a long period of time, and to prevent the toner from sticking to the blade member over a long period of time. It is easy. Therefore, it is easy to contribute to high durability of the image forming apparatus.

上記ゴムロールにおいて、(1)第1突出部は第1突出部の高さよりも第1突出部の径の方が大きい、および/または、(2)第1突出部の表面は略球面の一部を含むことが好ましい(請求項3)。   In the rubber roll, (1) the diameter of the first protrusion is larger than the height of the first protrusion, and / or (2) the surface of the first protrusion is a part of a substantially spherical surface. (Claim 3).

上記(1)を満たす場合、第1突出部の形状としては、例えば、第1突出部の高さ方向に沿って切断したときの断面が略台形状(但し、上底<下底を満たす)などの形状を例示することができる。上記(1)の関係を満たす第1突出部は、例えば、めっき反応により生じる気泡の表面の一部を写し取った穴部を有するめっき層を備えた型の転写などによって好適に形成することができる。なお、上記(2)を満たす場合については、上述した第2突出部の表面が略球面の一部を含む場合に準ずるため説明は省略する。また、上記(1)、(2)を満たすことは、上述したゴム弾性部の表面観察や断面観察から確認することができる。   When satisfying the above (1), as the shape of the first projecting portion, for example, the cross section when cut along the height direction of the first projecting portion is substantially trapezoidal (however, the upper base <the lower base is satisfied) And the like. The first protrusion satisfying the relationship (1) can be suitably formed by, for example, transfer of a mold provided with a plating layer having a hole portion obtained by copying a part of the surface of a bubble generated by the plating reaction. . In addition, about the case where said (2) is satisfy | filled, since it applies to the case where the surface of the 2nd protrusion part mentioned above contains a part of substantially spherical surface, description is abbreviate | omitted. Moreover, satisfying the above (1) and (2) can be confirmed from surface observation and cross-sectional observation of the rubber elastic portion described above.

上記(1)を満たす場合には、粉体の保持力が過度に大きくならないので、第1突出部と第1突出部との間の隙間の底部に粉体が保持されたままとなり難く、粉体の搬送性に優れる。特に、粉体がトナーである場合には、上記隙間の底部にトナーが固着し難いので、安定したトナー搬送、均一なトナー搬送に寄与しやすくなる。また、上記(2)を満たす場合には、第1突出部とブレード部材等の他部材との接触を均一にしやすくなるので、ロール長手方向にわたって、粉体に対するストレス低減効果を均一にしやすくなる。   When the above (1) is satisfied, the powder holding force does not increase excessively, so that it is difficult for the powder to remain held at the bottom of the gap between the first protrusion and the first protrusion. Excellent body transportability. In particular, when the powder is toner, it is difficult for the toner to adhere to the bottom of the gap, so that it is easy to contribute to stable toner conveyance and uniform toner conveyance. Moreover, when satisfy | filling said (2), since it becomes easy to make uniform contact with other members, such as a 1st protrusion part and a blade member, it becomes easy to make the stress reduction effect with respect to a powder uniform in a roll longitudinal direction.

上記ゴムロールは、電子写真方式を採用する複写機、プリンター、ファクシミリ、これらの複合機等の画像形成装置に組み込まれる現像用ゴムロール、帯電用ゴムロール、転写用ゴムロール、定着用ゴムロール等として好適に用いることができる。また、この場合、上記画像形成装置に用いられるトナー粒子の平均粒子径は、好ましくは、3〜15μm、より好ましくは、5〜10μmであるとよい。なお、上記トナーの平均粒子径は、日機装(株)製、粒子径・粒度分布測定装置「ナノトラックUPA」等により測定することができる。   The rubber roll is preferably used as a developing rubber roll, a charging rubber roll, a transfer rubber roll, a fixing rubber roll or the like incorporated in an image forming apparatus such as a copying machine, printer, facsimile, or composite machine employing an electrophotographic system. Can do. In this case, the average particle diameter of the toner particles used in the image forming apparatus is preferably 3 to 15 μm, more preferably 5 to 10 μm. The average particle size of the toner can be measured by a particle size / particle size distribution measuring device “Nanotrack UPA” manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

ここで、上記ゴム弾性部の第1突出部の径をφ[μm]、第2突出部の径をφ[μm]とする。この場合、φの下限値は、適正な粉体保持力、粉体搬送性を確保するなどの観点から、好ましくは30μm、より好ましくは35μm、さらに好ましくは40μmであるとよい。φの上限値は、過度な粉体保持力、粉体の搬送過剰を防ぐなどの観点から、好ましくは80μm、より好ましくは75μm、さらに好ましくは70μmであるとよい。また、φの下限値は、粉体との接触面積の低減効果を確実に得るなどの観点から、好ましくは1μm、より好ましくは1.5μm、さらに好ましくは2μmであるとよい。φの上限値は、隙間空間を適切に確保し、粉体に対するストレスを低減しやすくするなどの観点から、好ましくは10μm、より好ましくは9.5μm、さらに好ましくは9μmであるとよい。 Here, the diameter of the first protrusion of the rubber elastic part is φ 1 [μm], and the diameter of the second protrusion is φ 2 [μm]. In this case, the lower limit value of φ 1 is preferably 30 μm, more preferably 35 μm, and even more preferably 40 μm from the viewpoint of ensuring appropriate powder holding force and powder transportability. The upper limit of φ 1 is preferably 80 μm, more preferably 75 μm, and even more preferably 70 μm from the viewpoints of excessive powder holding force and prevention of excessive powder conveyance. Further, the lower limit value of φ 2 is preferably 1 μm, more preferably 1.5 μm, and even more preferably 2 μm from the viewpoint of surely obtaining the effect of reducing the contact area with the powder. The upper limit value of φ 2 is preferably 10 μm, more preferably 9.5 μm, and even more preferably 9 μm, from the viewpoint of appropriately securing a gap space and facilitating reduction of stress on the powder.

第1突出部の径φに対する第2突出部の径φの比であるφ/φは、適正な粉体搬送性と粉体に対するストレス低減を確保するなどの観点から、その下限値が、好ましくは0.01、より好ましくは0.04、さらに好ましくは0.07であるとよい。一方、φ/φの上限値は、好ましくは0.3、より好ましくは0.27、さらに好ましくは0.24であるとよい。 Φ 2 / φ 1 , which is the ratio of the diameter φ 2 of the second protrusion to the diameter φ 1 of the first protrusion, is a lower limit from the viewpoint of ensuring appropriate powder transportability and reducing stress on the powder. The value is preferably 0.01, more preferably 0.04, and even more preferably 0.07. On the other hand, the upper limit of φ 2 / φ 1 is preferably 0.3, more preferably 0.27, and even more preferably 0.24.

また、上記ゴム弾性部の第1突出部の高さをh[μm]、第2突出部の高さをh[μm]とする。この場合、hの下限値は、適正な粉体保持力、粉体搬送性を確保するなどの観点から、好ましくは5μm、より好ましくは6μm、さらに好ましくは7μmであるとよい。hの上限値は、過度な粉体保持力、粉体の搬送過剰を防ぐなどの観点から、好ましくは25μm、より好ましくは24μm、さらに好ましくは23μmであるとよい。また、hの下限値は、粉体との接触面積の低減効果を確実に得るなどの観点から、好ましくは1μm、より好ましくは1.5μm、さらに好ましくは2μmであるとよい。hの上限値は、隙間空間を適切に確保し、粉体に対するストレスを低減しやすくするなどの観点から、好ましくは8μm、より好ましくは7μm、さらに好ましくは6μmであるとよい。 The height of the first protrusion of the rubber elastic part is h 1 [μm], and the height of the second protrusion is h 2 [μm]. In this case, the lower limit of h 1 is preferably 5 μm, more preferably 6 μm, and even more preferably 7 μm, from the viewpoint of ensuring appropriate powder holding force and powder transportability. The upper limit value of h 1 is preferably 25 μm, more preferably 24 μm, and even more preferably 23 μm from the viewpoints of excessive powder holding power and prevention of excessive powder conveyance. Further, the lower limit value of h 2 is preferably 1 μm, more preferably 1.5 μm, and even more preferably 2 μm from the viewpoint of reliably obtaining the effect of reducing the contact area with the powder. The upper limit value of h 2 is preferably 8 μm, more preferably 7 μm, and even more preferably 6 μm from the viewpoint of appropriately securing a gap space and facilitating reduction of stress on the powder.

第1突出部の高さhに対する第2突出部の高さhの比であるh/hは、適正な粉体搬送性と粉体に対するストレス低減を確保するなどの観点から、その下限値が、好ましくは0.04、より好ましくは0.14、さらに好ましくは0.24であるとよい。一方、h/hの上限値は、好ましくは1.6、より好ましくは1.5、さらに好ましくは1.4であるとよい。 H 2 / h 1 , which is the ratio of the height h 2 of the second protrusion to the height h 1 of the first protrusion, is from the viewpoint of ensuring appropriate powder transportability and reducing stress on the powder. The lower limit is preferably 0.04, more preferably 0.14, and even more preferably 0.24. On the other hand, the upper limit of h 2 / h 1 is preferably 1.6, more preferably 1.5, and even more preferably 1.4.

また、上記ゴム弾性部の第1突出部の面積率をAp[%]、第2突出部の面積率をAp[%]とする。具体的には、上記Ap、Apは、ゴム弾性部の表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化したときの第1突出部の面積率、第2突出部の面積率である。上記Apの値が小さくなると、ゴム弾性部の表面における第1突出部の密度が小さくなり、第1突出部と第1突出部との間の隙間が大きくなる。一方、上記Apの値が大きくなると、ゴム弾性部の表面における第1突出部の密度が大きくなり、第1突出部と第1突出部との間の隙間が小さくなる。したがって、上記Apの値は、上記隙間に保持される粉体の量と主に関係がある。また、ゴムロールは周方向にゴム弾性部を回転させて使用される。そのため、上記Apの値は、上記隙間に保持される粉体をロールの回転により搬送する搬送能力とも関係がある。 Further, the area ratio of the first protrusions of the rubber elastic part is Ap 1 [%], and the area ratio of the second protrusions is Ap 2 [%]. Specifically, Ap 1 and Ap 2 are the area ratio of the first protrusion and the area ratio of the second protrusion when the captured image of the surface of the rubber elastic portion is binarized using a discriminant analysis method. is there. When the value of Ap 1 is decreased, the density of the first protrusions on the surface of the rubber elastic portion is decreased, and the gap between the first protrusion and the first protrusion is increased. On the other hand, when the value of Ap 1 increases, the density of the first protrusions on the surface of the rubber elastic part increases, and the gap between the first protrusions and the first protrusions decreases. Therefore, the value of Ap 1 is mainly related to the amount of powder held in the gap. The rubber roll is used by rotating the rubber elastic portion in the circumferential direction. For this reason, the value of Ap 1 is also related to the conveyance capability of conveying the powder held in the gap by the rotation of the roll.

他方、上記Apの値が小さくなると、第1突出部およびその周囲を含むゴム弾性部の表面における第2突出部の密度が小さくなり、第2突出部と第2突出部との間の隙間が大きくなる。一方、上記Apの値が大きくなると、第1突出部およびその周囲を含むゴム弾性部の表面における第2突出部の密度が大きくなり、第2突出部と第2突出部との間の隙間が小さくなる。そして、第2突出部は、第1突出部よりも径や高さが小さい。したがって、上記Apの値は、上記隙間に保持される粉体と隙間表面との接触面積と主に関係がある。 On the other hand, when the value of Ap 2 is decreased, the density of the second protrusions on the surface of the rubber elastic part including the first protrusions and the periphery thereof decreases, and the gap between the second protrusions and the second protrusions. Becomes larger. On the other hand, when the value of Ap 2 increases, the density of the second protrusions on the surface of the rubber elastic part including the first protrusions and the periphery thereof increases, and the gap between the second protrusions and the second protrusions. Becomes smaller. And a 2nd protrusion part has a diameter and height smaller than a 1st protrusion part. Therefore, the value of Ap 2 is mainly related to the contact area between the powder held in the gap and the gap surface.

上記Ap、Apは、次のようにして測定することができる。すなわち、上記ゴムロールにおけるゴム弾性部の軸方向中央部について、ゴム弾性部表面の周方向の任意の1箇所を画像撮影する。具体的には、上述したデジタルマイクロスコープを用い、ゴム弾性部の表面の任意の1箇所における0.5mm×0.4mmの領域を1280×1024dpiの解像度にて画像として取り込む。この際、画像上における1ドットの大きさは、対象とする突出部(第1突出部または第2突出部)の径の1/15以下となるように設定する。次いで、得られた撮影画像を二値化しやすいようにモノクロ変換する。次いで、照度ムラを平滑化するために、モノクロ変換後の画像から平滑フィルタによってノイズを除去する。次いで、ノイズを除去した画像を、画像処理ソフト(ナノシステム(株)製「NanoHunter NS2K−Pro/Lt」等)を用いて、判別分析法により二値化処理する。次いで、上記二値化した画像を白黒反転し、対象とする突出部に対応する白色部分の内部に発生している黒色のノイズを白色で穴埋め処理した後、白色部分の面積を計測する。これにより対象とする突出部(第1突出部または第2突出部)の面積率(ApまたはAp)を求めることができる。 The Ap 1 and Ap 2 can be measured as follows. That is, an image is taken at an arbitrary position in the circumferential direction of the surface of the rubber elastic portion at the central portion in the axial direction of the rubber elastic portion in the rubber roll. Specifically, using the above-described digital microscope, an area of 0.5 mm × 0.4 mm at any one position on the surface of the rubber elastic portion is captured as an image with a resolution of 1280 × 1024 dpi. At this time, the size of one dot on the image is set to be 1/15 or less of the diameter of the target protrusion (first protrusion or second protrusion). Next, monochrome conversion is performed so that the obtained captured image can be easily binarized. Next, in order to smooth the illuminance unevenness, noise is removed from the image after monochrome conversion by a smoothing filter. Next, the image from which noise has been removed is binarized by discriminant analysis using image processing software (such as “NanoHunter NS2K-Pro / Lt” manufactured by Nanosystem Corporation). Next, the binarized image is inverted in black and white, and black noise generated inside the white portion corresponding to the target protrusion is filled with white, and then the area of the white portion is measured. As a result, the area ratio (Ap 1 or Ap 2 ) of the target protrusion (first protrusion or second protrusion) can be obtained.

第1突出部の面積率Apの下限値は、適正な粉体保持力、粉体搬送性を確保するなどの観点から、好ましくは30%、より好ましくは35%、さらに好ましくは40%であるとよい。Apの上限値は、過度な粉体保持力、粉体の搬送過剰を防ぐなどの観点から、好ましくは70%、より好ましくは65%、さらに好ましくは60%であるとよい。また、第2突出部の面積率Apの下限値は、粉体との接触面積の低減効果を確実に得るなどの観点から、好ましくは30%、より好ましくは35%、さらに好ましくは40%であるとよい。Apの上限値は、隙間空間を適切に確保し、粉体に対するストレスを低減しやすくするなどの観点から、好ましくは78.5%、より好ましくは73%、さらに好ましくは68%であるとよい。 The lower limit value of the area ratio Ap 1 of the first protrusion is preferably 30%, more preferably 35%, and still more preferably 40% from the viewpoint of ensuring appropriate powder holding force and powder transportability. There should be. The upper limit of Ap 1 is preferably 70%, more preferably 65%, and even more preferably 60%, from the viewpoint of preventing excessive powder holding force and excessive conveyance of the powder. The lower limit of the area ratio Ap 2 of the second protrusion, from the viewpoint of obtaining reliably the effect of reducing the contact area with the powder, preferably 30%, more preferably 35%, more preferably 40% It is good to be. The upper limit of Ap 2 is preferably 78.5%, more preferably 73%, and still more preferably 68%, from the viewpoint of appropriately securing a gap space and facilitating reduction of stress on the powder. Good.

上記ゴムロールにおいて、第1突出部は、30μm≦φ≦80μm、5μm≦h≦25μm、30%≦Ap≦70%を満たし、第2突出部は、1μm≦φ≦10μm、1μm≦h、30%≦Ap≦78.5%を満たすことが好ましい(請求項4)。 In the rubber roll, the first protrusion satisfies 30 μm ≦ φ 1 ≦ 80 μm, 5 μm ≦ h 1 ≦ 25 μm, 30% ≦ A p 1 ≦ 70%, and the second protrusion includes 1 μm ≦ φ 2 ≦ 10 μm, 1 μm ≦ h 2 , 30% ≦ Ap 2 ≦ 78.5% is preferably satisfied (Claim 4).

この場合には、平均粒子径が1〜15μm程度のトナー等の粉体の保持力、搬送性、粉体に対するストレスの低減効果のバランスに優れる。そのため、このゴムロールは、例えば、電子写真方式を採用する画像形成装置に組み込まれ、ゴム弾性部表面とブレード部材とが長期にわたって摺擦される現像用ゴムロールなどとして好適である。   In this case, it is excellent in the balance of the holding power of powder such as toner having an average particle diameter of about 1 to 15 μm, transportability, and the effect of reducing stress on the powder. Therefore, this rubber roll is suitable, for example, as a developing rubber roll that is incorporated in an image forming apparatus that employs an electrophotographic system and in which the surface of the rubber elastic portion and the blade member are rubbed over a long period of time.

上記ゴムロールにおいて、ゴム弾性部の表面は、ゴム弾性部の表面に接する粉体等の物体との離型性を高めるために、離型性が付与されていることが好ましい。離型性の付与方法としては、例えば、ゴム弾性部の表面を紫外線照射や表面改質剤等により表面改質する方法などを例示することができる。また、第1突出部および第2突出部による凹凸状態を損なわない程度の厚みでゴム弾性部表面にウレタン樹脂等の樹脂、導電剤等を含む塗膜からなる表層を離型層として積層(被覆)する方法などを例示することができる。上記表層の厚みとしては、好ましくは、10μm以下、より好ましくは、5μm以下である。   In the rubber roll, it is preferable that the surface of the rubber elastic portion is given releasability in order to improve releasability from an object such as powder that is in contact with the surface of the rubber elastic portion. Examples of the method for imparting releasability include a method of modifying the surface of the rubber elastic portion with ultraviolet irradiation or a surface modifier. In addition, a surface layer made of a coating film containing a resin such as urethane resin or a conductive agent is laminated on the surface of the rubber elastic portion with a thickness that does not impair the unevenness caused by the first and second protrusions (coating) ) And the like. The thickness of the surface layer is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less.

上記表面改質による場合には、ゴム弾性部表面における第1突出部および第2突出部による凹凸状態をほとんど損なうことなく離型性を付与することができる。そのため、第1突出部および第2突出部の密度バラツキを抑制しやすくなる。したがって、このゴムロールを上記画像形成装置の現像用ゴムロールとして用いた場合には、均一なトナー搬送量を確保できるとともにブレード部材へのトナーの固着も抑制しやすくなり、また、濃度バラツキも抑制される。そのため、きめの細かい画像を得やすくなる。一方、上記表層による場合には、ゴム弾性層の表面に比較的簡単かつ低コストで離型性を付与することができる。   In the case of the above surface modification, it is possible to impart releasability without substantially impairing the unevenness caused by the first protrusion and the second protrusion on the surface of the rubber elastic part. Therefore, it becomes easy to suppress the density variation of the first protrusion and the second protrusion. Therefore, when this rubber roll is used as the developing rubber roll of the image forming apparatus, it is possible to secure a uniform toner conveyance amount, and to easily prevent the toner from sticking to the blade member, and to suppress density variation. . Therefore, it becomes easy to obtain a fine image. On the other hand, in the case of using the surface layer, it is possible to impart releasability to the surface of the rubber elastic layer at a relatively simple and low cost.

上記ゴムロールにおいて、ゴム弾性部は、長軸体の外周に沿って略円柱状に形成することができる。また、上記ゴムロールは、略円柱状に形成したゴム弾性部の両端部の各端面から短軸体を突出させて設けることもできる。上記軸体は、ステンレス、アルミニウムなどの金属(合金含む)やプラスチックの中実体、中空体から構成することができる。   In the rubber roll, the rubber elastic portion can be formed in a substantially cylindrical shape along the outer periphery of the long shaft body. Further, the rubber roll can be provided by projecting a short shaft from each end face of both end portions of a rubber elastic portion formed in a substantially cylindrical shape. The shaft body can be made of a metal (including an alloy) such as stainless steel or aluminum, a solid body of plastic, or a hollow body.

上記ゴムロールにおいて、ゴム弾性部は1または2以上のゴム弾性層から構成することができる。ゴム弾性部を構成するゴム材料としては、例えば、シリコーンゴム、ウレタンゴム、ブタジエンゴム、ヒドリンゴム、ニトリルゴムなどを例示することができる。ゴム弾性部の耐ヘタリ性に優れるなどの観点から、シリコーンゴム、ウレタンゴムを好適に用いることができる。シリコーンゴムは、温度変化や湿度変化などの環境変化に対して体積変化を生じ難く、環境変化によるゴム弾性部の外径変動が小さい利点も有するため、特に好適である。   In the rubber roll, the rubber elastic portion can be composed of one or two or more rubber elastic layers. Examples of the rubber material constituting the rubber elastic part include silicone rubber, urethane rubber, butadiene rubber, hydrin rubber, and nitrile rubber. Silicone rubber and urethane rubber can be suitably used from the viewpoint of excellent resistance to elasticity of the rubber elastic portion. Silicone rubber is particularly suitable because it is less likely to cause a volume change with respect to an environmental change such as a temperature change or a humidity change, and has an advantage that the outer diameter fluctuation of the rubber elastic portion due to the environmental change is small.

上記ゴムロールにおいて、上記ゴム弾性部は、導電性を有していることが好ましい(請求項5)。   In the rubber roll, it is preferable that the rubber elastic portion has conductivity.

この場合、上記画像形成装置の現像用ゴムロールとして好適に用いることができる。ゴム弾性部への導電性付与は、ゴム弾性部中に、カーボンブラック等の電子導電剤、第4級アンモニウム塩等のイオン性導電剤、イオン液体などの導電剤を1または2以上含有させることにより好適に行うことができる。なお、その他にも、必要に応じて、充填剤、増量剤、補強材、加工助剤、硬化剤、加硫促進剤、架橋剤、架橋助剤、酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、顔料、シリコーンオイル、助剤、界面活性剤などの各種添加剤を1または2以上適宜添加することもできる。   In this case, it can be suitably used as a developing rubber roll of the image forming apparatus. For imparting conductivity to the rubber elastic part, the rubber elastic part contains one or more electronic conductive agents such as carbon black, ionic conductive agents such as quaternary ammonium salts, and conductive agents such as ionic liquids. It can carry out more suitably. In addition, if necessary, a filler, an extender, a reinforcing material, a processing aid, a curing agent, a vulcanization accelerator, a crosslinking agent, a crosslinking aid, an antioxidant, a plasticizer, an ultraviolet absorber, One or two or more various additives such as pigments, silicone oils, auxiliaries, and surfactants can be appropriately added.

上記ゴムロールにおいて、ゴム弾性部の厚みは、0.1〜10mmの範囲内にあることが好ましい。より好ましくは、1〜5mmの範囲内である。   In the rubber roll, the thickness of the rubber elastic part is preferably in the range of 0.1 to 10 mm. More preferably, it exists in the range of 1-5 mm.

次に、上記型について説明する。上記型は、上記ゴムロール等のゴム弾性部の表面に粗面を形成するのに好適なものである。上記型において、型基材部は、例えば、S55C、SACM645等の鋼材、A5056等のアルミニウム材(合金含む)などの金属材料やプラスチック材料などから構成することができる。   Next, the mold will be described. The mold is suitable for forming a rough surface on the surface of a rubber elastic part such as the rubber roll. In the above mold, the mold base portion can be made of a metal material such as a steel material such as S55C or SACM645, an aluminum material (including an alloy) such as A5056, a plastic material, or the like.

上記型において、第1めっき層は型基材部上に積層されておればよい。型基材部と第1めっき層とは必ずしも接している必要はなく、型基材部と第1めっき層との間には、下地めっき層等のめっき層が1または2以上積層されていてもよい。   In the mold described above, the first plating layer may be laminated on the mold base part. The mold base part and the first plating layer are not necessarily in contact with each other, and one or more plating layers such as a base plating layer are laminated between the mold base part and the first plating layer. Also good.

上記型において、型基材部上に直接あるいは他のめっき層を介して積層される第1めっき層は、内方(型基材部側)に窪んだ多数の第1穴部を表面に有している。また、第1めっき層の第1穴部およびその周囲の表面に沿って積層される第2めっき層は、内方(型基材部側)に窪んだ多数の第2穴部を表面に有している。つまり、第2めっき層は、第1穴部が形成されていない第1めっき層の表面のみならず、第1穴部の穴内の表面にも積層されている。したがって、第2めっき層の第2穴部は、第1めっき層上における第1穴部が形成されていない部分上のみならず、第1穴部の穴内上にも存在している。   In the above mold, the first plating layer laminated directly on the mold base portion or through another plating layer has a number of first hole portions recessed inward (on the mold base portion side) on the surface. doing. In addition, the second plating layer laminated along the first hole portion of the first plating layer and the surrounding surface has a number of second hole portions recessed inward (on the mold base portion side) on the surface. doing. That is, the second plating layer is laminated not only on the surface of the first plating layer where the first hole is not formed, but also on the surface in the hole of the first hole. Therefore, the second hole portion of the second plating layer exists not only on the portion where the first hole portion is not formed on the first plating layer but also on the inside of the hole of the first hole portion.

上記型において、第2穴部の径は第1穴部の径よりも小さく、第2穴部の深さは第1穴部の深さよりも浅い。「第1穴部の径」は、第1穴部の開口部の直径または円相当直径である。「第2穴部の径」は、第2穴部の開口部の直径または円相当直径である。「円相当直径」は、各穴部の開口部の輪郭が略円形ではなく、いびつな形をしている場合に適用する概念であり、各穴部の開口部の輪郭の内側の面積と同じ面積を有する円の直径である。また、「第1穴部の深さ」は、第1穴部の開口部から底部までの距離である。「第2穴部の深さ」は、第2穴部の開口部から底部までの距離である。第1穴部と第2穴部との位置関係、各穴部の径および深さの関係は、以下に説明する型の表面観察、断面観察から確認することができる。   In the above mold, the diameter of the second hole is smaller than the diameter of the first hole, and the depth of the second hole is shallower than the depth of the first hole. The “diameter of the first hole” is the diameter of the opening of the first hole or the equivalent circle diameter. The “diameter of the second hole” is the diameter or equivalent circle diameter of the opening of the second hole. "Equivalent circle diameter" is a concept applied when the contour of the opening of each hole is not substantially circular, but has an irregular shape, and is the same as the area inside the contour of the opening of each hole The diameter of a circle having an area. The “depth of the first hole” is the distance from the opening of the first hole to the bottom. The “depth of the second hole” is a distance from the opening of the second hole to the bottom. The positional relationship between the first hole portion and the second hole portion, and the relationship between the diameter and depth of each hole portion can be confirmed from surface observation and cross-sectional observation of the mold described below.

すなわち、先ず、型を切断するなどして、型基材部上に互いに接する下層めっきおよび上層めっきがあることを確認する。次いで、表面観察により、上層めっき表面に大径穴部が多数見られること、この大径穴部の中およびその周囲に、大径穴部よりも小さな径の小径穴部が多数見られることを確認する。次いで、表面観察、断面観察により、下層めっきの表面に上記大径穴部に対応して穴部が形成されており、この対応する穴部内およびその穴部の周囲の表面に沿って上層めっきが形成されていることを確認する。また、上層めっきの表面には上記小径穴部だけが直接形成されていることを確認する。これら観察により、上記下層めっきが第1穴部を有する第1めっき層に対応し、上記上層めっきが第2穴部を有する第2めっき層に対応していることを確認することができる。また、第1穴部と第2穴部との位置関係も確認することができる。さらに、第1穴部および第2穴部の径や深さも比較することができる。上記比較観察により明らかに「第2穴部の径<第1穴部の径」を満たすと認められる場合にはそれでもって足りる。判別がつき難い場合や、具体的な値を求める場合には、型表面の任意の3箇所について上記観察を行う。そして、1箇所につき3点、すなわち、合計9点、代表的な各穴部を選んでそれぞれの径、深さを測定し、得られた測定値の相加平均を各穴部の径、深さとする。これにより、具体的な値を比較し、「第2穴部の径<第1穴部の径」、「第2穴部の深さ<第1穴部の深さ」を満たすことを確認することができる。なお、上記観察および測定には、上述したデジタルマイクロスコープを用いることができる。また、後述のように、上記型基材部が略円柱状の空間を有し、この空間の内壁上に上記第1めっき層および上記第2めっき層が形成されている場合には、上記空間の軸方向中央部における内壁表面の周方向3箇所(中心角120°間隔)について上記観察や測定を行えばよい。   That is, first, it is confirmed that there is a lower layer plating and an upper layer plating that are in contact with each other on the mold base part by cutting the mold. Next, by surface observation, a large number of large-diameter holes can be seen on the upper plating surface, and a large number of small-diameter holes smaller in diameter than the large-diameter holes can be seen in and around the large-diameter holes. Check. Next, through surface observation and cross-sectional observation, holes are formed on the surface of the lower layer plating corresponding to the large-diameter hole, and upper layer plating is performed along the surface in the corresponding hole and around the hole. Confirm that it is formed. Further, it is confirmed that only the small-diameter hole is directly formed on the surface of the upper plating. From these observations, it can be confirmed that the lower layer plating corresponds to the first plating layer having the first hole, and the upper layer plating corresponds to the second plating layer having the second hole. Moreover, the positional relationship between the first hole and the second hole can also be confirmed. Furthermore, the diameter and depth of the first hole and the second hole can also be compared. If it is clearly determined by the above comparative observation that “the diameter of the second hole portion <the diameter of the first hole portion” is satisfied, it is sufficient. When it is difficult to discriminate or when a specific value is obtained, the above observation is performed at any three locations on the mold surface. Then, 3 points for each place, that is, a total of 9 points, each representative hole was selected, the diameter and depth were measured, and the arithmetic mean of the measured values obtained was calculated as the diameter and depth of each hole. Say it. Thus, specific values are compared, and it is confirmed that “the diameter of the second hole <the diameter of the first hole” and “the depth of the second hole <the depth of the first hole” are satisfied. be able to. Note that the above-described digital microscope can be used for the observation and measurement. Further, as will be described later, when the mold base portion has a substantially cylindrical space, and the first plating layer and the second plating layer are formed on the inner wall of the space, the space What is necessary is just to perform the said observation and measurement about the three circumferential directions (center angle 120 degree space | interval) of the inner wall surface in the axial direction center part.

上記型において、第2穴部の表面は、略球面の一部を含むことが好ましい。上記「略球面」とは、完全な球面だけでなく、実質的に球面とみなせる曲面状も含む意味である。また、上記「一部を含む」とは、第2穴部の表面が略球面の部分を切り取った面を少なくとも有していることを意味する。第2穴部の表面形状は、上述した型の表面観察や断面観察から確認することができる。このような略球面の一部を含む表面を有する第2穴部は、放電加工により形成することは困難である。例えば、略球状粒子の表面の一部を第2めっき層の表面に写し取ることなどによって好適に形成することができる。   In the above mold, the surface of the second hole part preferably includes a part of a substantially spherical surface. The “substantially spherical surface” means not only a perfect spherical surface but also a curved surface that can be regarded as a substantially spherical surface. In addition, the above “including part” means that the surface of the second hole portion has at least a surface obtained by cutting out a substantially spherical portion. The surface shape of the second hole can be confirmed from surface observation and cross-sectional observation of the mold described above. The second hole portion having a surface including a part of such a substantially spherical surface is difficult to form by electric discharge machining. For example, it can be suitably formed by copying a part of the surface of the substantially spherical particle onto the surface of the second plating layer.

上記第2穴部の表面が略球面の一部を含む場合には、転写により得られるゴム弾性部の第2突出部を、略球面の一部を含む表面を有する第2突出部とすることができる。   When the surface of the second hole includes a part of a substantially spherical surface, the second protrusion of the rubber elastic part obtained by the transfer is a second protrusion having a surface including a part of the substantially spherical surface. Can do.

上記型において、<1>第1穴部は第1穴部の深さよりも第1穴部の径の方が大きい、および/または、<2>第1穴部の表面は略球面の一部を含むことが好ましい。   In the above mold, <1> the diameter of the first hole is larger than the depth of the first hole, and / or <2> the surface of the first hole is a part of a substantially spherical surface. It is preferable to contain.

上記<1>を満たす場合、第1穴部の形状としては、例えば、第1穴部の深さ方向に沿って切断したときの断面が略台形状(但し、下底<上底を満たす)などの形状を例示することができる。上記<1>の関係を満たす第1穴部は、例えば、めっき反応により生じる気泡の表面の一部を第1めっき層の表面に写し取ることなどによって好適に形成することができる。なお、上記<2>を満たす場合については、上述した第2穴部の表面が略球面の一部を含む場合に準ずるため説明は省略する。また、上記<1>、<2>を満たすことは、上述した型の表面観察や断面観察から確認することができる。   When satisfying the above <1>, as the shape of the first hole portion, for example, the cross section when cut along the depth direction of the first hole portion is substantially trapezoidal (however, the lower base <the upper base is satisfied) And the like. The first hole satisfying the relationship <1> can be preferably formed by copying a part of the surface of the bubble generated by the plating reaction on the surface of the first plating layer, for example. In addition, since the case where the above <2> is satisfied is the same as the case where the surface of the second hole portion includes a part of a substantially spherical surface, description thereof is omitted. Moreover, satisfying the above <1> and <2> can be confirmed from surface observation and cross-sectional observation of the mold described above.

上記<1>を満たす場合には、転写により得られるゴム弾性部の第1突出部を、第1突出部の高さよりも第1突出部の径の方が大きい形状とすることができる。また、上記<2>を満たす場合には、転写により得られるゴム弾性部の第1突出部を、略球面の一部を含む表面を有する第1突出部とすることができる。   When satisfying the above <1>, the first protruding portion of the rubber elastic portion obtained by the transfer can be shaped so that the diameter of the first protruding portion is larger than the height of the first protruding portion. Moreover, when satisfy | filling said <2>, the 1st protrusion part of the rubber elastic part obtained by transcription | transfer can be made into the 1st protrusion part which has the surface containing a part of substantially spherical surface.

ここで、上記第1めっき層の第1穴部の径をΦ[μm]、第2めっき層の第2穴部の径をΦ[μm]とする。この場合、Φの下限値は、転写により得られるゴム弾性部の適正な粉体保持力、粉体搬送性を確保するなどの観点から、好ましくは40μm、より好ましくは45μm、さらに好ましくは50μmであるとよい。Φの上限値は、転写により得られるゴム弾性部の過度な粉体保持力、粉体の搬送過剰を防ぐなどの観点から、好ましくは90μm、より好ましくは85μm、さらに好ましくは80μmであるとよい。また、Φの下限値は、転写により得られるゴム弾性部の粉体との接触面積の低減効果を確実に得るなどの観点から、好ましくは1μm、より好ましくは1.5μm、さらに好ましくは2μmであるとよい。Φの上限値は、転写により得られるゴム弾性部において上記隙間空間を適切に確保し、粉体に対するストレスを低減しやすくするなどの観点から、好ましくは10μm、より好ましくは9.5μm、さらに好ましくは9μmであるとよい。 Here, the diameter of the first hole of the first plating layer is Φ 1 [μm], and the diameter of the second hole of the second plating layer is Φ 2 [μm]. In this case, the lower limit value of Φ 1 is preferably 40 μm, more preferably 45 μm, and even more preferably 50 μm, from the viewpoint of ensuring an appropriate powder holding force and powder transportability of the rubber elastic portion obtained by transfer. It is good to be. The upper limit of Φ 1 is preferably 90 μm, more preferably 85 μm, and even more preferably 80 μm, from the viewpoint of preventing excessive powder holding force of the rubber elastic part obtained by transfer and preventing excessive conveyance of the powder. Good. In addition, the lower limit value of Φ 2 is preferably 1 μm, more preferably 1.5 μm, and further preferably 2 μm from the viewpoint of surely obtaining the effect of reducing the contact area with the powder of the rubber elastic part obtained by transfer. It is good to be. The upper limit value of Φ 2 is preferably 10 μm, more preferably 9.5 μm, from the viewpoint of appropriately securing the above gap space in the rubber elastic portion obtained by transfer and facilitating reduction of stress on the powder. Preferably, it is 9 μm.

第1穴部の径Φに対する第2穴部の径Φの比であるΦ/Φは、転写により得られるゴム弾性体において適正な粉体搬送性と粉体に対するストレス低減を確保するなどの観点から、その下限値が、好ましくは0.01、より好ましくは0.04、さらに好ましくは0.07であるとよい。一方、Φ/Φの上限値は、好ましくは0.3、より好ましくは0.27、さらに好ましくは0.04であるとよい。 Φ 2 / Φ 1 , which is the ratio of the diameter Φ 2 of the second hole to the diameter Φ 1 of the first hole, ensures proper powder transportability and reduced stress on the powder in the rubber elastic body obtained by transfer. The lower limit is preferably 0.01, more preferably 0.04, and even more preferably 0.07 from the viewpoint of, for example. On the other hand, the upper limit of Φ 2 / Φ 1 is preferably 0.3, more preferably 0.27, and even more preferably 0.04.

また、上記第1めっき層の第1穴部の深さをd[μm]、第2めっき層の第2穴部の深さをd[μm]とする。この場合、dの下限値は、転写により得られるゴム弾性部の適正な粉体保持力、粉体搬送性を確保するなどの観点から、好ましくは5μm、より好ましくは6μm、さらに好ましく7μmであるとよい。dの上限値は、転写により得られるゴム弾性部の過度な粉体保持力、粉体の搬送過剰を防ぐなどの観点から、好ましくは25μm、より好ましくは24μm、さらに好ましく23μmであるとよい。また、dの下限値は、転写により得られるゴム弾性部の粉体との接触面積の低減効果を確実に得るなどの観点から、好ましくは1μm、より好ましくは1.5μm、さらに好ましく2μmであるとよい。dの上限値は、転写により得られるゴム弾性部において上記隙間空間を適切に確保し、粉体に対するストレスを低減しやすくするなどの観点から、好ましくは8μm、より好ましくは7μm、さらに好ましくは6μmであるとよい。 Further, the depth of the first hole of the first plating layer is d 1 [μm], and the depth of the second hole of the second plating layer is d 2 [μm]. In this case, the lower limit of d 1 is preferably 5 μm, more preferably 6 μm, and even more preferably 7 μm, from the viewpoint of ensuring an appropriate powder holding force and powder transportability of the rubber elastic part obtained by transfer. There should be. The upper limit of d 1 is preferably 25 μm, more preferably 24 μm, and even more preferably 23 μm, from the viewpoint of preventing excessive powder holding force of the rubber elastic portion obtained by transfer and preventing excessive conveyance of powder. . Further, the lower limit of d 2 is preferably 1 μm, more preferably 1.5 μm, and further preferably 2 μm from the viewpoint of surely obtaining an effect of reducing the contact area with the powder of the rubber elastic part obtained by transfer. There should be. The upper limit value of d 2 is preferably 8 μm, more preferably 7 μm, and still more preferably from the viewpoint of appropriately securing the gap space in the rubber elastic portion obtained by transfer and facilitating reduction of stress on the powder. It is good that it is 6 μm.

第1穴部の深さdに対する第2穴部の深さdの比であるd/dは、転写により得られるゴム弾性体において適正な粉体搬送性と粉体に対するストレス低減を確保するなどの観点から、その下限値が、好ましくは0.04、より好ましくは0.14、さらに好ましくは0.24であるとよい。一方、d/dの上限値は、好ましくは1.6、より好ましくは1.5、さらに好ましくは1.4であるとよい。 D 2 / d 1 , which is a ratio of the depth d 2 of the second hole to the depth d 1 of the first hole, is an appropriate powder transportability and a reduction in stress on the powder in the rubber elastic body obtained by the transfer. From the standpoint of ensuring, the lower limit is preferably 0.04, more preferably 0.14, and even more preferably 0.24. On the other hand, the upper limit value of d 2 / d 1 is preferably 1.6, more preferably 1.5, and still more preferably 1.4.

また、第1穴部の面積率をBp[%]、第2穴部の面積率をBp[%]とする。具体的には、上記Bp、Bpは、第2めっき層の表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化したときの第1穴部の面積率、第2穴部の面積率である。上記Bpの値が小さくなると、第1穴部の密度が小さくなり、第1穴部と第1穴部との間の隙間が大きくなる。一方、上記Bpの値が大きくなると、第1穴部の密度が大きくなり、第1穴部と第1穴部との間の隙間が小さくなる。したがって、上記Bpの値は、転写により得られるゴム弾性部表面における第1突出部と第1突出部との間の隙間に保持される粉体の量と主に関係がある。 Further, the area ratio of the first hole portion is Bp 1 [%], and the area ratio of the second hole portion is Bp 2 [%]. Specifically, Bp 1 and Bp 2 are the area ratio of the first hole and the area ratio of the second hole when the captured image of the surface of the second plating layer is binarized using a discriminant analysis method. It is. When the value of Bp 1 is decreased, the density of the first hole portion is decreased, and the gap between the first hole portion and the first hole portion is increased. On the other hand, when the value of Bp 1 is increased, the density of the first hole portion is increased, and the gap between the first hole portion and the first hole portion is decreased. Therefore, the value of Bp 1 is mainly related to the amount of powder held in the gap between the first protrusion and the first protrusion on the rubber elastic portion surface obtained by transfer.

他方、上記Bpの値が小さくなると、第2穴部の密度が小さくなり、第2穴部と第2穴部との間の隙間が大きくなる。一方、上記Bpの値が大きくなると、第2穴部の密度が大きくなり、第2穴部と第2穴部との間の隙間が小さくなる。したがって、上記Bpの値は、転写により得られるゴム弾性部表面における第1突出部と第1突出部との間の隙間に保持される粉体と隙間表面との接触面積と主に関係がある。 On the other hand, when the value of Bp 2 is decreased, the density of the second hole portion is decreased, and the gap between the second hole portion and the second hole portion is increased. On the other hand, when the value of Bp 2 is increased, the density of the second hole portion is increased and the gap between the second hole portion and the second hole portion is decreased. Therefore, the value of Bp 2 is mainly related to the contact area between the powder held in the gap between the first protrusion and the first protrusion on the rubber elastic portion surface obtained by transfer and the surface of the gap. is there.

上記Bp、Bpは、次のようにして測定することができる。すなわち、上記型の第2めっき層表面の任意の1箇所を画像撮影する。具体的には、上述したデジタルマイクロスコープを用い、上記第2めっき層の表面の任意の1箇所における0.5mm×0.4mmの領域を1280×1024dpiの解像度にて画像として取り込む。この際、画像上における1ドットの大きさは、対象とする穴部(第1穴部または第2穴部)の径の1/15以下となるように設定する。次いで、得られた撮影画像を二値化しやすいようにモノクロ変換する。次いで、照度ムラを平滑化するために、平滑フィルタによりモノクロ変換後の画像からノイズを除去する。次いで、ノイズを除去した画像を、画像処理ソフト(ナノシステム(株)製「NanoHunter NS2K−Pro/Lt」等)を用いて、判別分析法により二値化処理する。次いで、上記二値化した画像を白黒反転し、対象とする穴部に対応する白色部分の内部に発生している黒色のノイズを白色で穴埋め処理した後、白色部分の面積を計測する。これにより対象とする穴部(第1穴部または第2穴部)の面積率(BpまたはBp)を求めることができる。 The Bp 1 and Bp 2 can be measured as follows. That is, an image is taken at an arbitrary position on the surface of the second plating layer of the above type. Specifically, using the above-described digital microscope, an area of 0.5 mm × 0.4 mm at an arbitrary position on the surface of the second plating layer is captured as an image with a resolution of 1280 × 1024 dpi. At this time, the size of one dot on the image is set to be 1/15 or less of the diameter of the target hole (first hole or second hole). Next, monochrome conversion is performed so that the obtained captured image can be easily binarized. Next, in order to smooth the illuminance unevenness, noise is removed from the image after monochrome conversion by a smoothing filter. Next, the image from which noise has been removed is binarized by discriminant analysis using image processing software (such as “NanoHunter NS2K-Pro / Lt” manufactured by Nanosystem Corporation). Next, the binarized image is inverted in black and white, and black noise generated inside the white portion corresponding to the target hole is filled with white, and then the area of the white portion is measured. Thereby, the area ratio (Bp 1 or Bp 2 ) of the target hole (first hole or second hole) can be obtained.

上記第1穴部の面積率Bpの下限値は、転写により得られるゴム弾性部の適正な粉体保持力、粉体搬送性を確保するなどの観点から、好ましくは30%、より好ましくは35%、さらに好ましくは40%であるとよい。Bpの上限値は、転写により得られるゴム弾性部の過度な粉体保持力、粉体の搬送過剰を防ぐなどの観点から、好ましくは70%、より好ましくは65%、さらに好ましくは60%であるとよい。また、上記第2穴部の面積率Bpの下限値は、転写により得られるゴム弾性部の粉体との接触面積の低減効果を確実に得るなどの観点から、好ましくは30%、より好ましくは35%、さらに好ましくは40%であるとよい。Bpの上限値は、転写により得られるゴム弾性部において上記隙間空間を適切に確保し、粉体に対するストレスを低減しやすくするなどの観点から、好ましくは78.5%、より好ましくは73%、さらに好ましくは68%であるとよい。 The lower limit value of the area ratio Bp 1 of the first hole is preferably 30%, more preferably from the viewpoint of ensuring an appropriate powder holding force and powder transportability of the rubber elastic part obtained by transfer. It is good that it is 35%, more preferably 40%. The upper limit of Bp 1 is preferably 70%, more preferably 65%, and still more preferably 60%, from the viewpoint of preventing excessive powder holding force of the rubber elastic portion obtained by transfer and preventing excessive conveyance of the powder. It is good to be. Also, the second hole portion lower limit of the area ratio Bp 2 of, from the viewpoint of obtaining reliably the effect of reducing the contact area between the rubber elastic portion of the powder obtained by transcription, preferably 30%, more preferably Is 35%, more preferably 40%. The upper limit value of Bp 2 is preferably 78.5%, more preferably 73%, from the viewpoint of appropriately securing the above gap space in the rubber elastic portion obtained by transfer and facilitating reduction of stress on the powder. More preferably, it is 68%.

上記型において、第1穴部は、40μm≦Φ≦90μm、5μm≦d≦25μm、30%≦Bp≦70%を満たし、上記第2穴部は、1μm≦Φ≦10μm、1μm≦d、30%≦Bp≦78.5%を満たすことが好ましい。 In the above mold, the first hole satisfies 40 μm ≦ Φ 1 ≦ 90 μm, 5 μm ≦ d 1 ≦ 25 μm, 30% ≦ Bp 1 ≦ 70%, and the second hole includes 1 μm ≦ Φ 2 ≦ 10 μm, 1 μm ≦ d 2 , 30% ≦ Bp 2 ≦ 78.5% is preferably satisfied.

この場合には、転写により得られるゴム弾性部表面において、第1突出部が、30μm≦φ≦80μm、5μm≦h≦25μm、30%≦Ap≦70%を満たし、第2突出部が、1μm≦φ≦10μm、1μm≦h、30%≦Ap≦78.5%を満たしやすくなる。 In this case, on the surface of the rubber elastic portion obtained by transfer, the first protrusion satisfies 30 μm ≦ φ 1 ≦ 80 μm, 5 μm ≦ h 1 ≦ 25 μm, 30% ≦ Ap 1 ≦ 70%, and the second protrusion However, 1 μm ≦ φ 2 ≦ 10 μm, 1 μm ≦ h 2 , 30% ≦ Ap 2 ≦ 78.5% are easily satisfied.

上記型において、第1めっき層および第2めっき層が形成される型基材部上の面は、平面、曲面のいずれの形状であってもよい。好ましくは、上記型において、型基材部は略円柱状の空間を有し、この空間の内壁上に第1めっき層および第2めっき層が形成されているとよい(請求項7)。   In the above mold, the surface on the mold base portion on which the first plating layer and the second plating layer are formed may be either a flat surface or a curved surface. Preferably, in the above mold, the mold base portion has a substantially cylindrical space, and the first plating layer and the second plating layer may be formed on the inner wall of the space.

この場合には、上記ゴムロールのゴム弾性部の型成形に適し、ゴム弾性部の型成形時に、上記略円柱状の空間の内壁面が有する粗面を上記ゴム弾性部の表面に容易に転写することができる。   In this case, it is suitable for molding of the rubber elastic part of the rubber roll, and the rough surface of the inner wall surface of the substantially cylindrical space is easily transferred to the surface of the rubber elastic part when the rubber elastic part is molded. be able to.

上記型は、第2めっき層の表面に沿って離型層が積層されていることが好ましい。離型層としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)樹脂粒子等のフッ素系樹脂粒子などを分散させためっき層などを例示することができる。この場合には、ゴム弾性部の形成材料に含まれるゴム材料等との離型性に優れる。そのため、型表面の粗面形状をゴム弾性部の表面に精度よく転写しやすくなる。   The mold preferably has a release layer laminated along the surface of the second plating layer. Examples of the release layer include a plating layer in which fluorine resin particles such as polytetrafluoroethylene (PTFE) resin particles are dispersed. In this case, it is excellent in releasability from a rubber material or the like included in the rubber elastic portion forming material. Therefore, it becomes easy to accurately transfer the rough surface shape of the mold surface to the surface of the rubber elastic portion.

なお、上記めっきは、無電解めっき、電解めっきのいずれでもよいが、好ましくは、ニッケル、コバルト、銅、錫、パラジウム、これらの合金等による無電解めっきであるとよい。上記めっきは、各穴部の形成容易性、耐食性、コスト等の観点から、ニッケル、ニッケル合金による無電解めっきが好ましい。   The plating may be either electroless plating or electrolytic plating, but is preferably electroless plating with nickel, cobalt, copper, tin, palladium, alloys thereof, or the like. The plating is preferably electroless plating with nickel or a nickel alloy from the viewpoint of easy formation of each hole, corrosion resistance, cost, and the like.

次に、上記型の製造方法について説明する。上記型の製造方法は、上記型を好適に製造することができる方法である。なお、上記型の製造方法における各工程の型基材部、第1めっき層、第2めっき層については上記型の説明と同様であるので説明は省略する。   Next, a method for manufacturing the mold will be described. The method for manufacturing the mold is a method by which the mold can be preferably manufactured. In addition, since it is the same as that of description of the said mold | type about the mold base part of each process in the manufacturing method of the said mold | type, the 1st plating layer and the 2nd plating layer, description is abbreviate | omitted.

上記型の製造方法において、上記第1工程は、(1A)めっき反応により生じる気泡の表面の一部をめっき層の表面に写し取ることにより、第1穴部を有する第1めっき層を形成する方法、あるいは、(1B)第1略球状粒子の表面の一部を、めっき層の表面に写し取ることにより、第1穴部を有する第1めっき層を形成する方法を含み、第2工程は、(2)第2略球状粒子の表面の一部をめっき層の表面に写し取ることにより、第2穴部を有する第2めっき層を形成する方法を含むことが好ましい(請求項9)。   In the mold manufacturing method, the first step includes (1A) a method of forming a first plating layer having a first hole portion by copying a part of the surface of bubbles generated by a plating reaction onto the surface of the plating layer. Or (1B) including a method of forming a first plating layer having a first hole by copying a part of the surface of the first substantially spherical particle onto the surface of the plating layer, and the second step includes ( 2) It is preferable to include a method of forming a second plating layer having a second hole by copying a part of the surface of the second substantially spherical particle onto the surface of the plating layer.

上記第1工程(1A)の場合には、型転写により得られるゴム弾性部の第1突出部の形状を、第1突出部の高さよりも第1突出部の径の方を大きくすることが可能な型を得ることができる。また、上記第1工程(1B)の場合には、転写により得られるゴム弾性部の第1突出部を、略球面の一部を含む表面を有する第1突出部とすることが可能な型を得ることができる。また、上記第2工程(2)の場合には、転写により得られるゴム弾性部の第2突出部を、略球面の一部を含む表面を有する第2突出部とすることが可能な型を得ることができる。   In the case of the first step (1A), the shape of the first protruding portion of the rubber elastic portion obtained by mold transfer may be larger in the diameter of the first protruding portion than the height of the first protruding portion. Possible molds can be obtained. Moreover, in the case of the said 1st process (1B), the type | mold which can make the 1st protrusion part of the rubber elastic part obtained by transcription | transfer into the 1st protrusion part which has the surface containing a part of a substantially spherical surface. Can be obtained. In the case of the second step (2), a mold capable of making the second protruding portion of the rubber elastic portion obtained by the transfer into a second protruding portion having a surface including a part of a substantially spherical surface. Can be obtained.

上記第1工程(1A)の方法としては、具体的には、次の方法を好適に例示することができる。   As the method of the first step (1A), specifically, the following method can be suitably exemplified.

すなわち、めっき金属となる金属イオンと、めっき反応により生じる水素ガス等の気泡を吸着させるための微粒子とを少なくとも含むめっき浴を用いて、型基材部の表面に無電解めっきを行い、意図的にめっき欠陥であるピットが多数表面に形成されためっき層を形成する。このピットは、めっき反応時に生じる水素ガス等の気泡が、めっき中に共析した微粒子の凝集部に吸着し、この気泡の吸着した部分でさらなるめっきの析出が阻害されて形成されたものである。この方法によれば、気泡の表面の一部を写し取って形成した第1穴部を多数表面に有する第1めっき層を形成することができる。第1穴部は、単独の気泡および/または連なった気泡の表面の一部を写し取った曲面を有していてもよい。なお、この方法により形成した第1めっき層の第1穴部の底部には、微粒子の凝集部を確認することができる。   That is, using a plating bath containing at least metal ions to be plated metal and fine particles for adsorbing bubbles such as hydrogen gas generated by the plating reaction, electroless plating is performed on the surface of the mold base part, A plating layer having a large number of pits, which are plating defects, is formed on the surface. These pits are formed by bubbles generated during the plating reaction, such as hydrogen gas, adsorbed on the agglomerated part of the fine particles that co-deposited during plating, and further plating deposition was inhibited at the part where the bubbles were adsorbed. . According to this method, it is possible to form the first plating layer having a large number of first holes formed on the surface by copying a part of the surface of the bubble. The first hole may have a curved surface obtained by copying a part of the surface of a single bubble and / or a continuous bubble. In addition, the aggregation part of microparticles | fine-particles can be confirmed in the bottom part of the 1st hole part of the 1st plating layer formed by this method.

上記微粒子としては、平均粒子径が0.5〜5μm程度の炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、窒化ホウ素などからなる微粒子を例示することができる。好ましくは、気泡の吸着性に優れるなどの観点から、PTFE微粒子であるとよい。上記微粒子の量は、2〜10g/L程度とすることができる。また、上記めっき浴中には、気泡の吸着を促進し、第1穴部をより簡単に形成できるなどの観点から、カチオン性界面活性剤および/または両性界面活性剤を1種または2種以上添加することが好ましい。上記カチオン性界面活性剤としては、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、エチレンオキサイド付加型アンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩型のものなどを例示することができる。上記両性界面活性剤としては、例えば、ラウリルベタイン、アミドプロピルベタイン、ジメチルアルキルベタイン等のベタイン型のものなどを例示することができる。上記カチオン性界面活性剤および/または両性界面活性剤の量は、0.01〜0.5g/L程度とすることができる。なお、上記めっき浴中には、他にも、還元剤(次亜リン酸、ジメチルアミンボラン、ヒドラジン等、めっき浴の安定性の観点からは次亜リン酸)、錯化剤(クエン酸、リンゴ酸、EDTA等)、pH緩衝剤(乳酸、酢酸、コハク酸等)などを1種または2種以上添加することができる。   Examples of the fine particles include fine particles made of silicon carbide, aluminum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, polytetrafluoroethylene (PTFE), boron nitride and the like having an average particle diameter of about 0.5 to 5 μm. The PTFE fine particles are preferable from the viewpoint of excellent bubble adsorbability. The amount of the fine particles can be about 2 to 10 g / L. Further, in the plating bath, one or two or more cationic surfactants and / or amphoteric surfactants are used from the viewpoint of facilitating the adsorption of bubbles and forming the first hole portion more easily. It is preferable to add. Examples of the cationic surfactant include quaternary ammonium salt types such as lauryltrimethylammonium chloride and ethylene oxide addition type ammonium chloride. Examples of the amphoteric surfactant include betaine types such as lauryl betaine, amidopropyl betaine, and dimethylalkylbetaine. The amount of the cationic surfactant and / or amphoteric surfactant can be about 0.01 to 0.5 g / L. In addition, in the plating bath, there are other reducing agents (hypophosphorous acid, dimethylamine borane, hydrazine, etc., hypophosphorous acid from the viewpoint of the stability of the plating bath), complexing agents (citric acid, Malic acid, EDTA, etc.), pH buffering agents (lactic acid, acetic acid, succinic acid, etc.) and the like can be added alone or in combination.

また、上記第1工程(1B)の方法としては、具体的には、次の方法を好適に例示することができる。   Further, as the method of the first step (1B), specifically, the following method can be suitably exemplified.

すなわち、めっき金属となる金属イオンと、第1略球状粒子とを少なくとも含むめっき浴を用いて、型基材部の表面に無電解めっきを行い、多数の第1略球状粒子を含有するめっき層を形成する。ここで、上記めっき層の形成は、めっき層を表面から観察したときに、析出しためっきによって第1略球状粒子が完全に見えなくなってしまうようなめっきを行うのではなく、表面から第1略球状粒子の一部が見える状態までのめっきを行う。上記めっき層の形成は、適切な深さの穴部を得るなどの観点から、第1略球状粒子の平均粒子径の1/3〜1/2程度がめっき層の表面から露出した状態となるようにめっきを行うことが好ましい。その後、めっき層に保持されている第1略球状粒子を選択的に除去する。上記除去は、第1略球状粒子の材質などを考慮して行うことができる。例えば、第1略球状粒子の材質が樹脂やゴム等の有機材料であれば、その有機材料を溶解可能な適当な溶剤(アセトン、MEK、トルエン、NMP等)で溶解すればよい。また、熱処理により焼失させることも可能である。上記方法によれば、第1略球状粒子の表面の一部を写し取って形成した第1穴部を多数表面に有する第1めっき層を形成することができる。   That is, a plating layer containing a large number of first substantially spherical particles by performing electroless plating on the surface of the mold base portion using a plating bath containing at least metal ions to be plated metal and first substantially spherical particles. Form. Here, the formation of the plating layer is not performed such that when the plating layer is observed from the surface, the first substantially spherical particles are completely invisible due to the deposited plating. Plating until a part of the spherical particles is visible. The formation of the plating layer is in a state in which about 1/3 to 1/2 of the average particle diameter of the first substantially spherical particles is exposed from the surface of the plating layer from the viewpoint of obtaining a hole having an appropriate depth. Plating is preferably performed as described above. Then, the 1st substantially spherical particle currently hold | maintained at the plating layer is selectively removed. The removal can be performed in consideration of the material of the first substantially spherical particles. For example, if the material of the first substantially spherical particles is an organic material such as resin or rubber, the organic material may be dissolved in an appropriate solvent (acetone, MEK, toluene, NMP, etc.). It can also be burned off by heat treatment. According to the above method, it is possible to form a first plating layer having a large number of first holes formed on the surface by copying a part of the surface of the first substantially spherical particle.

上記第1略球状粒子としては、平均粒子径が30〜80μm程度のアクリル、スチレン、ウレタン、ナイロン、シリコーン、セルロース等の有機粒子などを例示することができる。好ましくは、溶剤による除去容易性、めっき浴への分散性に優れるなどの観点から、アクリル粒子、スチレン粒子であるとよい。上記第1略球状粒子の量は、1〜100g/L程度とすることができる。なお、上記めっき浴中には、第1略球状粒子の分散性を高めるなどの観点から、上述したカチオン性界面活性剤および/または両性界面活性剤を0.01〜10g/L程度の範囲で1種または2種以上添加することが好ましい。他にも、上述した還元剤、錯化剤、pH緩衝剤などを1種または2種以上添加することができる。   Examples of the first substantially spherical particles include organic particles such as acrylic, styrene, urethane, nylon, silicone, and cellulose having an average particle diameter of about 30 to 80 μm. Acrylic particles and styrene particles are preferable from the viewpoints of easy removal by a solvent and excellent dispersibility in a plating bath. The amount of the first substantially spherical particles can be about 1 to 100 g / L. In addition, in the said plating bath, from a viewpoint of improving the dispersibility of the 1st substantially spherical particle, the cationic surfactant and / or amphoteric surfactant mentioned above are in the range of about 0.01 to 10 g / L. It is preferable to add 1 type, or 2 or more types. In addition, one or more of the above-described reducing agents, complexing agents, pH buffering agents, and the like can be added.

また、上記第2工程(2)の方法としては、具体的には、上述した第1工程(1b)の方法と同様にして行うことができる。但し、この場合には、上記第1略球状粒子に代えて平均粒子径が1〜10μm程度の第2略球状粒子(材質は同様)を用いる。   In addition, the method of the second step (2) can be specifically performed in the same manner as the method of the first step (1b) described above. However, in this case, instead of the first substantially spherical particles, second substantially spherical particles (the material is the same) having an average particle diameter of about 1 to 10 μm are used.

本発明の実施例に係るゴムロール、型、型の製造方法につき、図面を用いて具体的に説明する。
先ず、本例のゴムロールの概略構成を図1〜図5を用いて説明する。図1、図2に示すように、ゴムロール1は、電子写真方式を採用する画像形成装置に組み込まれる現像用ゴムロールである。ゴムロール1は、後述する本例の型4による型転写により表面が粗面化されたゴム弾性部2を有している。ゴム弾性部2は、中実円柱状の長軸体3の外周に沿って層状に形成されている。ゴム弾性部2は、導電性のシリコーンゴムから構成されており、厚みは4mmとした。なお、ゴム弾性部2の表面には、不飽和炭素−炭素二重結合が存在している。
A rubber roll, a mold, and a method for manufacturing the mold according to an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
First, a schematic configuration of the rubber roll of this example will be described with reference to FIGS. As shown in FIGS. 1 and 2, the rubber roll 1 is a developing rubber roll incorporated in an image forming apparatus employing an electrophotographic system. The rubber roll 1 has a rubber elastic portion 2 whose surface is roughened by mold transfer by a mold 4 of this example described later. The rubber elastic portion 2 is formed in layers along the outer periphery of the solid cylindrical long shaft 3. The rubber elastic portion 2 is made of conductive silicone rubber and has a thickness of 4 mm. Note that an unsaturated carbon-carbon double bond exists on the surface of the rubber elastic portion 2.

図3〜図5に示すように、ゴム弾性部2は、多数の第1突出部21、第2突出部22を有している。第1突出部21は、ゴム弾性部2の表面から外方に突出している。第2突出部22は、第1突出部21およびその周囲のゴム弾性部2表面から外方に突出している。第2突出部22の径φは、第1突出部21の径φよりも小さく、第2突出部22の高さhは、第1突出部21の高さhよりも低く形成されている。第2突出部22の表面は、略球面の一部を含んでいる。本例では、第2突出部22は、略半球状に突出形成されている。 As shown in FIGS. 3 to 5, the rubber elastic portion 2 has a large number of first protruding portions 21 and second protruding portions 22. The first projecting portion 21 projects outward from the surface of the rubber elastic portion 2. The 2nd protrusion part 22 protrudes outward from the 1st protrusion part 21 and the rubber elastic part 2 surface of the circumference | surroundings. The diameter φ 2 of the second protrusion 22 is smaller than the diameter φ 1 of the first protrusion 21, and the height h 2 of the second protrusion 22 is lower than the height h 2 of the first protrusion 21. Has been. The surface of the second protrusion 22 includes a part of a substantially spherical surface. In the present example, the second projecting portion 22 is formed to project in a substantially hemispherical shape.

なお、以下では、後述するように、型面の粗面状態を種々変更した型4を作製し、これら型4の型面を転写することにより、上述した方法により測定される第1突出部21の径φ、高さh、面積率Ap、第2突出部22の径φ、高さh、面積率Apを種々変更したゴムロール試料を作製した。また、図1〜図5は、ゴム弾性部2の表面に表層を被覆していない例を示しているが、離型性を付与するために表層を形成した試料も作製した。表層を形成しない場合には、ゴム弾性部2の表面を表面改質して離型性を付与した。 In the following, as will be described later, first protrusions 21 measured by the above-described method are prepared by producing molds 4 with various changes in the rough state of the mold surfaces and transferring the mold surfaces of these molds 4. Rubber roll samples were prepared in which the diameter φ 1 , height h 1 , area ratio Ap 1 , and diameter φ 2 , height h 2 , and area ratio Ap 2 of the second protrusion 22 were variously changed. Moreover, although FIGS. 1-5 has shown the example which does not coat | cover the surface layer on the surface of the rubber elastic part 2, the sample which formed the surface layer in order to provide mold release property was also produced. When the surface layer was not formed, the surface of the rubber elastic portion 2 was surface-modified to provide releasability.

次に、本例の型の概略構成を図8、図9を用いて説明する。図8(b)に示すように、型4は、型基材部5と第1めっき層51と第2めっき層52とを有している。第1めっき層51は、型基材部5上に下地めっき層(不図示)を介して積層され、内方に窪んだ多数の第1穴部511を表面に有している。第2めっき層52は、第1めっき層51の上記第1穴部511およびその周囲の表面に沿って積層され、内方に窪んだ多数の第2穴部522を表面に有している。図9に示すように、第2穴部522の径Φは、第1穴部511の径Φよりも小さく、第2穴部522の深さdは、第1穴部511の深さdよりも浅く形成されている。第2穴部522の表面は、略球面の一部を含んでいる。本例では、第2穴部522は、略半球状に窪んで形成されている。 Next, the schematic configuration of the mold of this example will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 8B, the mold 4 includes a mold base portion 5, a first plating layer 51, and a second plating layer 52. The 1st plating layer 51 is laminated | stacked through the base | substrate plating layer (not shown) on the type | mold base material part 5, and has the many 1st hole parts 511 dented inward on the surface. The second plating layer 52 is laminated along the first hole 511 of the first plating layer 51 and the surface around it, and has a number of second holes 522 that are recessed inward. As shown in FIG. 9, the diameter Φ 2 of the second hole 522 is smaller than the diameter Φ 1 of the first hole 511, and the depth d 2 of the second hole 522 is the depth of the first hole 511. It is shallower than d 1 is. The surface of the second hole 522 includes a part of a substantially spherical surface. In this example, the second hole 522 is formed to be recessed in a substantially hemispherical shape.

ここで、上記めっき層51、52は、いずれも無電解ニッケルめっき層から構成した。また、図示はしないが、型基材部5は、ゴムロール1のゴム弾性部2を形成可能な略円柱状の中空空間を有している。そして、この空間の内壁上に第1めっき層51および第2めっき層52が形成されている。   Here, each of the plating layers 51 and 52 is composed of an electroless nickel plating layer. Although not shown, the mold base part 5 has a substantially cylindrical hollow space in which the rubber elastic part 2 of the rubber roll 1 can be formed. And the 1st plating layer 51 and the 2nd plating layer 52 are formed on the inner wall of this space.

なお、以下では、後述する表1に示すように、第1めっき層51および第2めっき層52の形成時のめっき条件を種々変更することにより、上述した方法により測定される第1穴部511の径Φ、深さd、面積率Bp、第2穴部522の径Φ、深さd、面積率Bpを種々変更した型試料を作製した。また、図8は、第2めっき層52の表面に他のめっき層が形成されていない例を示しているが、以下の試料の作製では、上述のゴム弾性部との離型性を向上させるため、第2めっき層52の表面の粗面状態を損なわないように、第2めっき層52の表面に離型めっき層(不図示)として、PTFE微粒子を分散させた無電解ニッケルめっき層を積層した。 In addition, below, as shown in Table 1 described later, the first hole portion 511 measured by the above-described method by variously changing the plating conditions at the time of forming the first plating layer 51 and the second plating layer 52. Mold samples were prepared in which the diameter Φ 1 , depth d 1 , area ratio Bp 1 , and diameter Φ 2 , depth d 2 , and area ratio Bp 2 of the second hole 522 were variously changed. FIG. 8 shows an example in which no other plating layer is formed on the surface of the second plating layer 52, but in the preparation of the following samples, the releasability from the rubber elastic portion described above is improved. Therefore, an electroless nickel plating layer in which PTFE fine particles are dispersed is laminated as a release plating layer (not shown) on the surface of the second plating layer 52 so that the rough surface state of the surface of the second plating layer 52 is not impaired. did.

次に、本例の型の製造方法の概略工程を図6〜図8を用いて説明する。図6に示すように、先ず、第1工程(1A)にて、型基材部5の略円柱状の中空空間の内壁上に、内方に窪んだ多数の第1穴部511を表面に有する第1めっき層51を形成した。本例では、具体的には、図6(a)に示すように、めっき51b中に共析したPTFE微粒子の凝集部512にめっき反応により生じる水素ガス513を吸着させ、その後、図6(b)に示すように、凝集部512から水素ガス513が離脱した跡として、めっき層51の表面に水素ガス513の表面の一部を写し取った。これにより、第1穴部511を有する第1めっき層51を形成した。   Next, schematic steps of the mold manufacturing method of this example will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 6, first, in the first step (1A), on the inner wall of the substantially cylindrical hollow space of the mold base part 5, a large number of first holes 511 that are recessed inward are formed on the surface. The 1st plating layer 51 which has was formed. Specifically, in this example, as shown in FIG. 6 (a), hydrogen gas 513 generated by the plating reaction is adsorbed on the agglomerated portion 512 of PTFE fine particles co-deposited in the plating 51b, and thereafter, FIG. As shown in FIG. 5, a part of the surface of the hydrogen gas 513 was copied on the surface of the plating layer 51 as a trace of the separation of the hydrogen gas 513 from the aggregation portion 512. Thereby, the 1st plating layer 51 which has the 1st hole 511 was formed.

なお、上記第1工程(1A)に代えて、図7に示すような、第1工程(1B)を採用することも可能である。この場合には、第1工程(1B)にて、第1略球状粒子の表面の一部をめっき層の表面に写し取ることにより、上記第1穴部を有する第1めっき層を形成する。具体的には、図7(a)に示すように、型基材部5の略円柱状の中空空間の内壁上に無電解めっきを行い、多数の第1略球状粒子(アクリル樹脂粒子)514を含有するめっき層51aを形成する。この際、第1略球状粒子514の平均粒子径の1/3〜1/2程度がめっき層51aの表面から露出した状態となるようにめっき条件を調整する。その後、図7(b)に示すように、めっき層51aに保持されている第1略球状粒子514を有機溶剤(アセトン等)により溶解し、選択的に除去する。このようにして、第1略球状粒子514の表面の一部をめっき層の表面に写し取ることにより、第1穴部511を有する第1めっき層51を形成することもできる。   Instead of the first step (1A), the first step (1B) as shown in FIG. 7 can be adopted. In this case, in the first step (1B), a part of the surface of the first substantially spherical particle is copied onto the surface of the plating layer, thereby forming the first plating layer having the first hole. Specifically, as shown in FIG. 7A, electroless plating is performed on the inner wall of the substantially cylindrical hollow space of the mold base portion 5 to obtain a large number of first substantially spherical particles (acrylic resin particles) 514. The plating layer 51a containing is formed. At this time, the plating conditions are adjusted so that about 1/3 to 1/2 of the average particle diameter of the first substantially spherical particles 514 is exposed from the surface of the plating layer 51a. Thereafter, as shown in FIG. 7B, the first substantially spherical particles 514 held in the plating layer 51a are dissolved in an organic solvent (acetone or the like) and selectively removed. Thus, the 1st plating layer 51 which has the 1st hole 511 can also be formed by copying a part of surface of the 1st substantially spherical particle 514 on the surface of a plating layer.

また、上記第1工程(1A)または(1B)の後、図8に示すように、第2工程にて、第1めっき層51の第1穴部511およびその周囲の表面に沿って、内方に窪んだ多数の第2穴部522を表面に有する第2めっき層52を形成した。本例では、具体的には、図8(a)に示すように、第1めっき層51上に無電解めっきを行い、第1めっき層51の第1穴部511およびその周囲の表面に沿って、多数の第2略球状粒子(アクリル樹脂粒子)524を含有するめっき層52aを形成した。この際、第2略球状粒子524の平均粒子径の1/3〜1/2程度がめっき層52aの表面から露出した状態となるようにめっき条件を調整した。その後、図8(b)に示すように、めっき層52aに保持されている第2略球状粒子524を有機溶剤(アセトン等)により溶解し、選択的に除去した。このようにして、第2略球状粒子524の表面の一部をめっき層の表面に写し取ることにより、第2穴部522を有する第2めっき層52を形成した。   In addition, after the first step (1A) or (1B), as shown in FIG. 8, in the second step, along the first hole 511 of the first plating layer 51 and the surrounding surface, A second plating layer 52 having a large number of second holes 522 that were recessed in the direction was formed. In this example, specifically, as shown in FIG. 8A, electroless plating is performed on the first plating layer 51, and along the first hole 511 of the first plating layer 51 and the surrounding surface. Thus, a plating layer 52a containing a large number of second substantially spherical particles (acrylic resin particles) 524 was formed. At this time, the plating conditions were adjusted so that about 1/3 to 1/2 of the average particle diameter of the second substantially spherical particles 524 was exposed from the surface of the plating layer 52a. Thereafter, as shown in FIG. 8B, the second substantially spherical particles 524 held in the plating layer 52a were dissolved in an organic solvent (acetone or the like) and selectively removed. In this way, a part of the surface of the second substantially spherical particle 524 was copied onto the surface of the plating layer, thereby forming the second plating layer 52 having the second hole portion 522.

以下、作製した試料に基づき、具体的に説明する。次の手順により、試料1の型、試料1の型の型面を転写したゴム弾性部を有する試料1の現像用ゴムロールを作製した。
(基本めっき浴の調製)
硫酸ニッケル6水和物を20g/L、次亜リン酸ナトリウム1水和物(還元剤)を25g/L、乳酸(錯化剤)を27g/L、プロピオン酸(錯化剤)2.5g/Lを配合して、pH4.8の基本めっき浴を調製した。
Hereinafter, specific description will be given based on the prepared sample. By the following procedure, a sample 1 developing rubber roll having a rubber elastic portion to which the mold surface of the sample 1 and the mold surface of the sample 1 were transferred was prepared.
(Preparation of basic plating bath)
Nickel sulfate hexahydrate 20 g / L, sodium hypophosphite monohydrate (reducing agent) 25 g / L, lactic acid (complexing agent) 27 g / L, propionic acid (complexing agent) 2.5 g / L was added to prepare a basic plating bath having a pH of 4.8.

(第1工程用めっき浴の調製)
カチオン性界面活性剤(ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド)0.1g/Lを用いて平均子粒径0.2μmのPTFE微粒子5g/Lを水中に分散させた分散液(1)を調製した。そして、この分散液(1)を上記基本めっき浴に添加し、第1工程用めっき浴とした。
(Preparation of plating bath for the first step)
A dispersion (1) was prepared by dispersing 5 g / L of PTFE fine particles having an average particle diameter of 0.2 μm in water using 0.1 g / L of a cationic surfactant (lauryltrimethylammonium chloride). And this dispersion liquid (1) was added to the said basic plating bath, and it was set as the plating bath for 1st processes.

(第2工程用めっき浴の調製)
カチオン性界面活性剤(ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド)0.1g/Lを用いて平均子粒径10μmのアクリル粒子(根上工業(株)製、「アートパール GR−600」)12g/Lを水中に分散させた分散液(2)を調製した。そして、この分散液(2)を上記基本めっき浴に添加し、第2工程用めっき浴とした。
(Preparation of plating bath for the second step)
Disperse 12 g / L of acrylic particles (Negami Kogyo Co., Ltd., “Art Pearl GR-600”) having an average particle size of 10 μm in water using 0.1 g / L of a cationic surfactant (lauryltrimethylammonium chloride). A dispersion (2) was prepared. And this dispersion liquid (2) was added to the said basic plating bath, and it was set as the plating bath for 2nd processes.

(離型めっき層形成用めっき浴の調製)
カチオン性界面活性剤(ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド)0.2g/Lを用いて平均子粒径0.2μmのPTFE微粒子10g/Lを水中に分散させた分散液(3)を調製した。そして、この分散液(3)を上記基本めっき浴に添加し、離型めっき層形成用めっき浴とした。
(Preparation of plating bath for forming release plating layer)
A dispersion (3) was prepared by dispersing 10 g / L of PTFE fine particles having an average particle diameter of 0.2 μm in water using 0.2 g / L of a cationic surfactant (lauryltrimethylammonium chloride). And this dispersion liquid (3) was added to the said basic plating bath, and it was set as the plating bath for mold release plating layer formation.

(型の作製−第1工程)
内径16mmの略円柱状の中空空間が形成されたSACM645(アルミニウムクロムモリブデン鋼)製の型基材部を備えた型を準備した。そして、準備した型の中空空間の内壁面上に、下地無電解ニッケルめっき層(厚み10μm)を形成した。次いで、この下地無電解ニッケルめっき層が形成された中空空間の内壁面に、上記の第1工程用めっき浴を用いて、めっき液温度90℃、めっき時間60分の条件で無電解ニッケルめっきを行い、第1めっき層(厚み16μm)を形成した。
(Mold making-first step)
A mold having a mold base portion made of SACM645 (aluminum chromium molybdenum steel) in which a substantially cylindrical hollow space having an inner diameter of 16 mm was formed was prepared. And the foundation | substrate electroless nickel plating layer (thickness 10 micrometers) was formed on the inner wall surface of the hollow space of the prepared type | mold. Next, electroless nickel plating is performed on the inner wall surface of the hollow space where the base electroless nickel plating layer is formed using the above-described first step plating bath under the conditions of a plating solution temperature of 90 ° C. and a plating time of 60 minutes. The first plating layer (thickness 16 μm) was formed.

図10は、第1めっき層の表面観察写真である。図10は、上記中空空間の軸方向中央部における第1めっき層の表面を上述したデジタルマイクロスコープにより拡大観察したものであり、(a)は倍率200倍、(b)は倍率1000倍である。この図10からわかるように、第1めっき層の表面には、内方に窪んだピットによる穴部が多数形成されていることがわかる。上記ピットによる穴部は、めっき反応時に生じた水素ガス(気泡)がめっき中に共析したPTFE微粒子の凝集部に吸着し、この吸着した水素ガス(気泡)によってさらなるめっきの析出が阻害されて形成されたものであり、水素ガス(気泡)の下方表面が写し取られた跡である。また、図10によれば、単独の水素ガス(気泡)による穴部だけでなく、複数の水素ガス(気泡)が連なって形成された比較的大きな穴部も確認することができる。また、図10によれば、これら穴部は、その多数が、穴部の深さよりも穴部の径の方が大きいことがわかる。このようにして、型基材部の中空空間の内壁面上に、内方に窪んだ多数の第1穴部を表面に有する第1めっき層を形成した。   FIG. 10 is a surface observation photograph of the first plating layer. FIG. 10 is an enlarged view of the surface of the first plating layer in the axial center portion of the hollow space with the digital microscope described above, (a) is 200 times magnification and (b) is 1000 times magnification. . As can be seen from FIG. 10, the surface of the first plating layer has many holes formed by pits recessed inward. In the holes formed by the pits, hydrogen gas (bubbles) generated during the plating reaction is adsorbed to the agglomerated portion of PTFE fine particles co-deposited during the plating, and further deposition of the plating is inhibited by the adsorbed hydrogen gas (bubbles). It is formed and is a trace of the lower surface of hydrogen gas (bubbles) being copied. Further, according to FIG. 10, not only a hole portion formed by a single hydrogen gas (bubble) but also a relatively large hole portion formed by connecting a plurality of hydrogen gases (bubbles) can be confirmed. Further, according to FIG. 10, it can be seen that many of these holes have a larger diameter than the depth of the holes. Thus, the 1st plating layer which has many 1st hole parts indented inward on the inner wall surface of the hollow space of a type substrate part was formed.

(型の作製−第2工程)
次に、中空空間の内壁面上に積層された上記第1めっき層の表面に、上記の第2工程用めっき浴を用いて、めっき液温度90℃、めっき時間60分の条件で無電解ニッケルめっきを行った。次いで、形成されためっき層に取り込まれたアクリル粒子をアセトンにより選択的に溶解除去した。これにより、上記第1めっき層の表面に第2めっき層(厚み11μm)を形成した。
(Mold making-second step)
Next, the surface of the first plating layer laminated on the inner wall surface of the hollow space is electroless nickel using the second step plating bath at a plating solution temperature of 90 ° C. and a plating time of 60 minutes. Plating was performed. Next, the acrylic particles taken into the formed plating layer were selectively dissolved and removed with acetone. Thereby, the 2nd plating layer (thickness 11 micrometers) was formed in the surface of the said 1st plating layer.

図11は、第2めっき層の表面観察写真である。図11は、上記中空空間の軸方向中央部における第2めっき層の表面を上述したデジタルマイクロスコープにより拡大観察したものであり、(a)は倍率200倍、(b)は倍率1000倍である。この図11によれば、上層である第2めっき層の表面に大径穴部が多数見られること、この大径穴部の中およびその周囲に、大径穴部よりも小さな径の小径穴部が多数見られることがわかる。図12に、第1めっき層および第2めっき層の断面観察写真を示す。なお、図12は後述する試料2の型についてのものであるが、試料1の型も試料2の型と同様の傾向を示す断面を呈していた。上記断面観察結果によれば、第2めっき層の表面に見える大径穴部は、第1めっき層における第1穴部の中およびその第1穴部の周囲の表面に倣って第2めっき層が形成されたことによって、上記第1穴部の位置に対応して存在するものであることが確認された。また、第2めっき層の表面全体には、上記小径穴部だけが直接形成されていた。また、上記観察結果から、上記小径穴部の径は第1穴部の径より小さく、小径穴部の深さは第1穴部の深さよりも浅いことが明らかであり、小径穴部が第2穴部であるといえる。また、上記第2穴部は、上記溶解除去したアクリル粒子の主に下方表面が第2めっき層の表面に写し取られた跡であり、略半球状の窪みから形成されていた。つまり、第2穴部の表面は、上記アクリル粒子の表面形状に対応した略球面の一部を有していた。このようにして、第1めっき層の上記第1穴部およびその周囲の表面に沿って、内方に窪んだ多数の第2穴部を表面に有する第2めっき層を形成した。以上の工程を経ることにより、試料1の型を作製した。   FIG. 11 is a surface observation photograph of the second plating layer. FIG. 11 is an enlarged view of the surface of the second plating layer at the axially central portion of the hollow space with the above-mentioned digital microscope, (a) is 200 times magnification, and (b) is 1000 times magnification. . According to FIG. 11, a large number of large-diameter holes are found on the surface of the second plating layer, which is the upper layer, and a small-diameter hole having a smaller diameter than that of the large-diameter hole in and around the large-diameter hole. It can be seen that many parts are seen. FIG. 12 shows cross-sectional observation photographs of the first plating layer and the second plating layer. Note that FIG. 12 is for the type of sample 2 described later, but the type of sample 1 also had a cross section showing the same tendency as the type of sample 2. According to the cross-sectional observation result, the large-diameter hole portion visible on the surface of the second plating layer is the second plating layer following the surface in the first hole portion and the periphery of the first hole portion in the first plating layer. As a result, it was confirmed that it was present corresponding to the position of the first hole. Further, only the small-diameter hole portion was directly formed on the entire surface of the second plating layer. Further, from the observation results, it is clear that the diameter of the small-diameter hole is smaller than the diameter of the first hole, the depth of the small-diameter hole is shallower than the depth of the first hole, and the small-diameter hole is It can be said that there are two holes. Further, the second hole portion is a trace of the lower surface of the dissolved and removed acrylic particles mainly copied onto the surface of the second plating layer, and is formed from a substantially hemispherical depression. That is, the surface of the second hole portion had a part of a substantially spherical surface corresponding to the surface shape of the acrylic particles. Thus, the 2nd plating layer which has many 2nd hole parts indented inward along the surface of the 1st hole of the 1st plating layer and the circumference was formed. The mold of Sample 1 was manufactured through the above steps.

なお、試料1の型における第2めっき層の表面には、離型めっき層(厚み1μm)を形成した。上記離型めっき層は、ゴム材料との離型性を向上させるためのものであり、第2めっき層表面の粗面状態を損なわないように形成した。具体的には、上記離型めっき層の形成は、離型めっき層形成用めっき浴を用いて、めっき液温度90℃、めっき時間10分の条件で、第2めっき層の表面に無電解ニッケルめっきを行い、共析したPTFE微粒子を含むめっき層を形成することにより行った。   A release plating layer (thickness 1 μm) was formed on the surface of the second plating layer in the mold of Sample 1. The release plating layer is for improving the releasability with the rubber material, and was formed so as not to impair the rough surface state of the second plating layer surface. Specifically, the release plating layer is formed by using electroless nickel on the surface of the second plating layer using a release bath for forming a release plating layer at a plating solution temperature of 90 ° C. and a plating time of 10 minutes. Plating was performed by forming a plating layer containing eutectoid PTFE fine particles.

(現像用ゴムロールの作製)
試料1の型の中空空間内に、直径8mm、長さ274mmの鉄製で、かつ、表面にNiめっきが施された中実円柱状の長軸体を同軸にセットした。そして、上記中空空間と軸体との間の空間に、導電性シリコーンゴム(信越化学工業(株)製、「X−34−264A/B」、混合質量比30/70)を充填した後、この型を190℃で30分間加熱することにより、軸体の外周に沿って、C=C結合を表面に残した導電性のシリコーンゴムからなる略円柱状のゴム弾性部(軸方向の長さ(ロール面長)230mm、厚みは4mm)を形成した。
(Production of rubber roll for development)
In the hollow space of the sample 1 type, a solid cylindrical long shaft body made of iron having a diameter of 8 mm and a length of 274 mm and having a surface plated with Ni was set coaxially. Then, after filling the space between the hollow space and the shaft body with conductive silicone rubber (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., “X-34-264A / B”, mixing mass ratio 30/70), By heating this mold at 190 ° C. for 30 minutes, a substantially cylindrical rubber elastic portion (length in the axial direction) made of conductive silicone rubber leaving a C═C bond on the surface along the outer periphery of the shaft body. (Roll surface length) 230 mm, thickness 4 mm).

図13に、ゴム弾性部の表面観察写真を示す。図13は、上記ゴム弾性部の軸方向中央部における表面を上述したデジタルマイクロスコープにより拡大観察したものであり、倍率は1000倍である。図13によれば、試料1の型の粗面状態がゴム弾性部の表面に転写されていることが確認できる。つまり、ゴム弾性部は、その表面から外方に突出する多数の第1突出部(第1めっき層の第1穴部に対応)と、第1突出部およびその周囲の表面から外方に突出する多数の第2突出部(第2めっき層の第2穴部に対応)とを有しており、第2突出部の径は第1突出部の径よりも小さく、第2突出部の高さは第1突出部の高さよりも低いことが確認できる。また、第2突出部は、略半球状に形成されており、その表面は、略球面の一部を含んでいることがわかる。   FIG. 13 shows a surface observation photograph of the rubber elastic part. FIG. 13 is an enlarged view of the surface of the rubber elastic portion at the central portion in the axial direction with the digital microscope described above, and the magnification is 1000 times. According to FIG. 13, it can be confirmed that the rough surface state of the mold of the sample 1 is transferred to the surface of the rubber elastic portion. That is, the rubber elastic portion protrudes outward from a large number of first protrusions (corresponding to the first hole of the first plating layer) protruding outward from the surface, and the first protrusion and its surrounding surface. A plurality of second projecting portions (corresponding to the second hole portions of the second plating layer), and the diameter of the second projecting portion is smaller than the diameter of the first projecting portion, and the height of the second projecting portion is high. It can be confirmed that the height is lower than the height of the first protrusion. Moreover, it turns out that the 2nd protrusion part is formed in the substantially hemispherical shape, and the surface contains a part of substantially spherical surface.

また、別途、ウレタン樹脂(日本ポリウレタン(株)製、「ニッポラン5199」)100質量部に対してカーボンブラック(電気化学工業(株)製、「デンカブラックHS−100」)10質量をボールミルにて混練した後、MEK400質量部を加えて混合・撹拌することにより表層形成材料を調製した。   Separately, 10 masses of carbon black (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., “Denka Black HS-100”) is added to 100 parts by mass of urethane resin (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., “Nipporan 5199”) with a ball mill. After kneading, 400 parts by mass of MEK was added and mixed and stirred to prepare a surface layer forming material.

そして、上記ゴム弾性部の外周面に、上記表層形成材料をロールコート法により塗工し、170℃で60分間加熱することにより、表層(厚み5μm)を形成した。なお、この表層は、ゴム弾性部表面の粗面状態を損なわないような厚みに形成されており、トナーとの離型性を向上させるためのものである。以上により、試料1の型の型面を転写したゴム弾性部を有する試料1の現像用ゴムロールを得た。   And the said surface layer forming material was applied to the outer peripheral surface of the said rubber elastic part by the roll coat method, and the surface layer (5 micrometers in thickness) was formed by heating at 170 degreeC for 60 minute (s). This surface layer is formed to a thickness that does not impair the rough surface state of the rubber elastic portion, and is for improving the releasability from the toner. Thus, a developing rubber roll of Sample 1 having a rubber elastic portion to which the mold surface of the sample 1 was transferred was obtained.

(試料2〜10の型、および、試料2〜10の現像用ロール)
試料1の型の作製において、第1工程における第1めっき層のめっき条件、第2工程における第2めっき層のめっき条件を表1のように変更した以外は上記と同様にして、試料2〜10の型を作製した。
(Types of Samples 2 to 10 and Development Rolls of Samples 2 to 10)
Sample 2 was prepared in the same manner as above except that the plating conditions for the first plating layer in the first step and the plating conditions for the second plating layer in the second step were changed as shown in Table 1 in the production of the mold of Sample 1. Ten molds were produced.

また、別途、トリクロロイソシアヌル酸(東京化成工業(株)製)5質量部と、C=C結合を含有成分としてのシリコーンオイル(信越シリコーン(株)製、「X−22−174DX」)1質量部と、tert−ブチルアルコール80質量部と、酢酸エチル20質量部とを混合するにより、表面改質剤を調製した。   Separately, 5 parts by mass of trichloroisocyanuric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 1 part by mass of silicone oil (“X-22-174DX” manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) as a component containing a C═C bond A surface modifier was prepared by mixing 80 parts by weight of tert-butyl alcohol and 20 parts by weight of ethyl acetate.

また、試料1の現像用ゴムロールの作製において、試料2〜10の型を用いてゴム弾性部を形成した点、表2に示すように、表層の厚みを変更した点、さらに一部のものについては表層を形成する代わりに、上記表面改質剤を用いてゴム弾性部の表面を表面改質した点以外は上記と同様にして、試料2〜10の型の型面を転写したゴム弾性部を有する試料2〜10の現像用ゴムロールを作製した。なお、上記表面改質は、調製した表面改質剤中にゴム弾性部表面が浸かるように25℃で30秒間浸漬し、酢酸エチルでゴム弾性部表面を25℃で30秒間洗浄した後、100℃で10分間乾燥することにより行った。   Further, in the production of the developing rubber roll of Sample 1, the rubber elastic part was formed using the molds of Samples 2 to 10, the thickness of the surface layer was changed as shown in Table 2, and some of the other Is the same as above except that the surface of the rubber elastic part is surface-modified using the surface modifier instead of forming a surface layer, and the rubber elastic part obtained by transferring the mold surfaces of the samples 2 to 10 Development rubber rolls of Samples 2 to 10 having the above were prepared. The surface modification was performed by immersing the rubber elastic part surface in the prepared surface modifier at 25 ° C. for 30 seconds, washing the rubber elastic part surface with ethyl acetate at 25 ° C. for 30 seconds, and then adding 100 The drying was performed at 10 ° C. for 10 minutes.

(試料11の現像用ロール)
試料1の現像用ゴムロールの作製において、中空空間の内壁面に第1めっき層および第2めっき層が形成されていない型を用いて、軸体の外周にゴム弾性部を形成した。そして、このゴム弾性部の表面に、粗さ形成用粒子を含む表層形成材料をロールコート法により塗工し、粗さ形成用粒子により粗面化された表層を形成した。これにより粗さ形成用粒子によりゴム弾性部の表面が粗面化された試料11の現像用ゴムロールを作製した。
(Development roll of sample 11)
In the production of the developing rubber roll of Sample 1, a rubber elastic portion was formed on the outer periphery of the shaft using a mold in which the first plating layer and the second plating layer were not formed on the inner wall surface of the hollow space. And the surface layer forming material containing the particle | grains for roughness formation was apply | coated by the roll coat method on the surface of this rubber elastic part, and the surface layer roughened by the particle | grains for roughness formation was formed. Thus, a developing rubber roll of Sample 11 in which the surface of the rubber elastic portion was roughened by the roughness forming particles was produced.

なお、上記粗さ形成用粒子含む表層形成材料は、ウレタン樹脂(日本ポリウレタン(株)製、「ニッポラン5199」)100質量部に対してカーボンブラック(電気化学工業(株)製、「デンカブラックHS−100」)10質量部、粗さ形成用粒子としてのアクリル樹脂粒子(総研化学(株)製、「MX−1500」、平均粒子径13μm)30質量部をボールミルにて混練した後、MEK400質量部を加えて混合・撹拌することにより調製した。   In addition, the surface layer forming material including the particles for forming the roughness is carbon black (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., “DENKA BLACK HS” with respect to 100 parts by mass of urethane resin (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., “Nipporan 5199”). -100 ") 10 parts by mass, 30 parts by mass of acrylic resin particles (Soken Chemical Co., Ltd.," MX-1500 ", average particle size 13 µm) as roughness forming particles were kneaded in a ball mill, and then 400 masses of MEK. Part was added and mixed and stirred.

(試料12の型、および、試料12の現像用ロール)
試料1の型の作製において、第2工程を行わず、中空空間の内壁面上に第1めっき層が形成されたままの状態の型を、試料12の型とした。また、試料1の現像用ロールの作製において、上記試料12の型を用いてゴム弾性部を形成した点、表2に示すように、表層の厚みを変更した点以外は上記と同様にして、試料12の型の型面を転写したゴム弾性部を有する試料12の現像用ゴムロールを作製した。図14に、試料12の現像用ゴムロールにおけるゴム弾性部の表面観察写真を示す。図14によれば、試料12の現像用ゴムロールにおけるゴム弾性部の表面には、第1突出部のみしかないことがわかる。
(Sample 12 mold and sample 12 developing roll)
In the production of the mold of the sample 1, the mold in which the first plating layer is formed on the inner wall surface of the hollow space without performing the second step was used as the mold of the sample 12. Further, in the production of the developing roll of Sample 1, the rubber elastic part was formed using the mold of Sample 12, and as shown in Table 2, except that the thickness of the surface layer was changed, the same as above, A developing rubber roll for Sample 12 having a rubber elastic portion to which the mold surface of Sample 12 was transferred was prepared. In FIG. 14, the surface observation photograph of the rubber elastic part in the developing rubber roll of Sample 12 is shown. As can be seen from FIG. 14, the surface of the rubber elastic portion of the developing rubber roll of Sample 12 has only the first protrusion.

(ゴム弾性部の粗面状態の測定)
作製した各現像用ゴムロールについて、上述した測定方法に基づいて各ゴム弾性部の粗面状態を測定した。具体的には、第1突出部の径φ、高さh、面積率Ap、第2突出部の径φ、高さh、面積率Apを測定した。その結果を表2に示す。
(Measurement of rough surface of rubber elastic part)
About each produced rubber roll for development, the rough surface state of each rubber elastic part was measured based on the measuring method mentioned above. Specifically, the diameter φ 1 , height h 1 , area ratio Ap 1 of the first protrusion, the diameter φ 2 , height h 2 , and area ratio Ap 2 of the second protrusion were measured. The results are shown in Table 2.

(トナー搬送量)
作製した各現像用ゴムロールについて、トナー搬送量を測定した。トナー搬送量の測定は、現像用ゴムロール上のある一定面積のトナーを、油圧ポンプにて吸引するノズルにより吸い取り、吸引前後のノズルの重量差を測定する方法により行った。用いたトナーの平均粒子径は、8μmである。なお、本例では、適切なトナー搬送量の目安を4〜6mg/cmの範囲とした。
(Toner transport amount)
The toner transport amount was measured for each of the developed rubber rolls for development. The toner transport amount was measured by a method in which toner of a certain area on the developing rubber roll was sucked by a nozzle sucked by a hydraulic pump and the weight difference between the nozzles before and after the suction was measured. The toner used has an average particle size of 8 μm. In this example, an appropriate toner conveyance amount is set in the range of 4 to 6 mg / cm 2 .

(トナー固着性)
作製した各現像用ゴムロールについて、トナー固着性を評価した。具体的には、各現像用ゴムロールを市販のカラーレーザープリンター(沖データ(株)製、「C5900」)に組み込み、28℃×80%RH環境下にて、シアン(トナーの平均粒子径は8μm)で画像出しを通紙1000枚、5000枚、30000枚(各A4サイズ)行い、耐久後の層形成用のブレード部材へのトナーの固着具合を調査した。固着箇所が1箇所未満の場合をA、固着箇所が2〜4箇所の場合をB、固着箇所が5〜9箇所の場合Cを、固着箇所が10箇所以上の場合Dとした。
(Toner adhesion)
The toner adhesion was evaluated for each of the developed rubber rolls for development. Specifically, each developing rubber roll was incorporated into a commercially available color laser printer (“C5900” manufactured by Oki Data Corporation) and cyan (toner average particle diameter is 8 μm) in an environment of 28 ° C. × 80% RH. ), 1000 sheets, 5000 sheets, and 30000 sheets (each A4 size) of the image were printed, and the degree of adhesion of the toner to the blade member for layer formation after the durability was investigated. The case where the number of fixing points was less than one was designated as A, the case where the number of fixing points was two to four, B, the case where the number of fixing points was five to nine, and the case D where the number of fixing points was 10 or more.

表1および表2によれば、以下のことがわかる。すなわち、試料11の現像用ゴムロールは、粗さ形成用粒子を分散した表層によりゴム弾性部の表面を粗面化している。そのため、表層硬度が高く、トナーがストレスを受け、ブレード部材にトナー固着が発生しやすかった。また、長期にわたって使用すると、上記トナー固着が発生しやすくなる傾向が見られた。また、トナー搬送量も低下した。長期使用によりトナー搬送量が低下するのは、度重なる使用によって粗さ形成用粒子による凸部の先端が削れてトナー保持力が低下したためである。   According to Tables 1 and 2, the following can be understood. That is, the developing rubber roll of Sample 11 has the surface of the rubber elastic portion roughened by the surface layer in which the roughness forming particles are dispersed. Therefore, the surface layer hardness is high, the toner is stressed, and the toner sticks easily to the blade member. Further, when used for a long time, the toner sticking tends to occur easily. Further, the toner conveyance amount also decreased. The reason why the toner conveyance amount decreases due to the long-term use is that the tip of the convex portion due to the roughness forming particles is scraped by repeated use and the toner holding power is reduced.

試料12の現像用ゴムロールは、ゴム弾性部の表面が第1突出部だけである。そのため、トナー搬送量に特に問題はなかったが、第1突出部と第1突出部の間の隙間とトナーとの接触面積が多くなる。そのため、トナーがストレスを受け、初期の状態からブレード部材にトナー固着が発生しやすかった。また、長期にわたって使用すると、上記トナー固着がさらに発生しやすくなる傾向が見られた。   In the developing rubber roll of Sample 12, the surface of the rubber elastic portion is only the first protruding portion. Therefore, there is no particular problem with the toner conveyance amount, but the contact area between the toner and the gap between the first protrusion and the first protrusion increases. For this reason, the toner is stressed, and toner sticking is likely to occur on the blade member from the initial state. Further, when used over a long period of time, there was a tendency that the toner sticking was more likely to occur.

一方、試料1〜7、9、10の現像用ロールは、型転写により表面が粗面化されているにもかかわらず、トナー保持力が高いことによって適切なトナー搬送量を得ることができており、かつ、トナーに対するストレスを低減できることによってブレード部材へのトナー固着も抑制できている。但し、試料8の現像用ゴムロールのように、ゴム弾性部の表面に表層を形成する場合、表層の厚みを厚くし過ぎると、ゴム弾性部の粗面が表層により埋まり、適切なトナー搬送量が得られなくなることがわかる。また、樹脂からなる表層の影響が大きくなり、トナーに対するストレスの低減効果も小さくなることがわかる。そのため、ゴム弾性部の表面に表層を形成する場合には、これらに留意すべきである。なお、本例の場合、表層が10μm以下であれば、特に問題がないことがわかる。   On the other hand, the developing rolls of Samples 1 to 7, 9, and 10 can obtain an appropriate toner conveyance amount due to the high toner holding power even though the surface is roughened by mold transfer. In addition, the toner adhesion to the blade member can be suppressed by reducing the stress on the toner. However, when the surface layer is formed on the surface of the rubber elastic portion like the developing rubber roll of Sample 8, if the surface layer is too thick, the rough surface of the rubber elastic portion is filled with the surface layer, and an appropriate toner conveyance amount is obtained. It turns out that it becomes impossible to obtain. It can also be seen that the effect of the surface layer made of resin is increased and the effect of reducing the stress on the toner is also reduced. Therefore, when forming a surface layer on the surface of a rubber elastic part, you should pay attention to these. In the case of this example, it is understood that there is no particular problem if the surface layer is 10 μm or less.

さらに、試料1〜6の現像用ロールは、ゴム弾性部表面において、第1突出部が、30μm≦φ≦80μm、5μm≦h≦25μm、30%≦Ap≦70%を満たし、第2突出部が、1μm≦φ≦10μm、1μm≦h、30%≦Ap≦78.5%を満たしている。そのため、適切なトナー保持力によるトナー搬送性、トナーに対するストレスの低減効果のバランスに優れる。また、長期にわたって上記効果が得られることがわかる。したがって、これらの現像用ゴムロールを組み込んだ電子写真方式を採用する各種の画像形成装置の耐久性向上に寄与することができるといえる。 Further, in the developing rolls of Samples 1 to 6, on the rubber elastic portion surface, the first protrusion satisfies 30 μm ≦ φ 1 ≦ 80 μm, 5 μm ≦ h 1 ≦ 25 μm, 30% ≦ Ap 1 ≦ 70%, 2 protrusions satisfy 1 μm ≦ φ 2 ≦ 10 μm, 1 μm ≦ h 2 , 30% ≦ Ap 2 ≦ 78.5%. Therefore, it is excellent in the balance between toner transportability by an appropriate toner holding force and the effect of reducing stress on the toner. Moreover, it turns out that the said effect is acquired over a long term. Therefore, it can be said that it can contribute to the improvement of durability of various image forming apparatuses adopting the electrophotographic system in which these developing rubber rolls are incorporated.

以上、本発明の実施例について詳細に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲内で種々の変更が可能である。   As mentioned above, although the Example of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said Example, A various change is possible within the range which does not impair the meaning of this invention.

1 ゴムロール
2 ゴム弾性部
21 第1突出部
22 第2突出部
3 長軸体
4 型
5 型基材部
51 第1めっき層
511 第1穴部
512 凝集部
513 水素ガス(気泡)
514 第1略球状粒子
52 第2めっき層
522 第2穴部
524 第2略球状粒子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rubber roll 2 Rubber elastic part 21 1st protrusion part 22 2nd protrusion part 3 Long axis body 4 type | mold 5 type | mold base material part 51 1st plating layer 511 1st hole part 512 Aggregation part 513 Hydrogen gas (bubble)
514 First substantially spherical particles 52 Second plating layer 522 Second hole portion 524 Second substantially spherical particles

Claims (9)

型転写により表面が粗面化されたゴム弾性部を有するゴムロールであって、
上記ゴム弾性部は、その表面から外方に突出する多数の第1突出部と、該第1突出部およびその周囲の表面から外方に突出する多数の第2突出部とを有し、
上記第2突出部の径は上記第1突出部の径よりも小さく、上記第2突出部の高さは上記第1突出部の高さよりも低いことを特徴とするゴムロール。
A rubber roll having a rubber elastic portion whose surface is roughened by mold transfer,
The rubber elastic portion has a number of first protrusions protruding outward from the surface thereof, and a number of second protrusions protruding outward from the first protrusion and its surrounding surface,
The diameter of the said 2nd protrusion part is smaller than the diameter of the said 1st protrusion part, and the height of the said 2nd protrusion part is lower than the height of the said 1st protrusion part, The rubber roll characterized by the above-mentioned.
請求項1に記載のゴムロールにおいて、
上記第2突出部の表面は、略球面の一部を含むことを特徴とするゴムロール。
In the rubber roll according to claim 1,
The rubber roll characterized in that the surface of the second protrusion includes a part of a substantially spherical surface.
請求項1または2に記載のゴムロールにおいて、
上記第1突出部は第1突出部の高さよりも第1突出部の径の方が大きい、および/または、上記第1突出部の表面は略球面の一部を含むことを特徴とするゴムロール。
In the rubber roll according to claim 1 or 2,
The first protrusion has a larger diameter than the first protrusion, and / or the surface of the first protrusion includes a part of a substantially spherical surface. .
請求項1〜3のいずれか1項に記載のゴムロールにおいて、
上記第1突出部は、30≦φ≦80、5≦h≦25、30≦Ap≦70(但し、φは上記第1突出部の径[μm]、hは上記第1突出部の高さ[μm]、Apは、上記ゴム弾性部の表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化したときの上記第1突出部の面積率[%])を満たし、
上記第2突出部は、1≦φ≦10、1≦h、30≦Ap≦78.5(但し、φは上記第2突出部の径[μm]、hは上記第2突出部の高さ[μm]、Apは、上記ゴム弾性部の表面の撮影画像を判別分析法を用いて二値化したときの上記第2突出部の面積率[%])を満たすことを特徴とするゴムロール。
In the rubber roll according to any one of claims 1 to 3,
The first protrusion is 30 ≦ φ 1 ≦ 80, 5 ≦ h 1 ≦ 25, 30 ≦ Ap 1 ≦ 70 (where φ 1 is the diameter [μm] of the first protrusion, and h 1 is the first The height [μm] of the protruding portion, Ap 1 satisfies the area ratio [%] of the first protruding portion when the photographed image of the surface of the rubber elastic portion is binarized using a discriminant analysis method,
The second protrusion is 1 ≦ φ 2 ≦ 10, 1 ≦ h 2 , 30 ≦ Ap 2 ≦ 78.5 (where φ 2 is the diameter [μm] of the second protrusion, and h 2 is the second The height [μm] and Ap 2 of the protrusion satisfy the area ratio [%] of the second protrusion when the photographed image of the surface of the rubber elastic portion is binarized using a discriminant analysis method. A rubber roll characterized by
請求項1〜4のいずれか1項に記載のゴムロールにおいて、
上記ゴム弾性部は、導電性を有することを特徴とするゴムロール。
In the rubber roll according to any one of claims 1 to 4,
The rubber elastic part is characterized in that the rubber elastic part has conductivity.
型基材部と、
該型基材部上に積層され、内方に窪んだ多数の第1穴部を表面に有する第1めっき層と、
該第1めっき層の上記第1穴部およびその周囲の表面に沿って積層され、内方に窪んだ多数の第2穴部を表面に有する第2めっき層とを有し、
上記第2穴部の径は上記第1穴部の径よりも小さく、上記第2穴部の深さは上記第1穴部の深さよりも浅いことを特徴とする型。
Mold base part,
A first plating layer laminated on the mold base and having a plurality of first holes recessed inward on the surface;
A second plating layer that is laminated along the first hole portion of the first plating layer and the surface around the first hole portion and has a plurality of second hole portions that are recessed inward;
The mold characterized in that the diameter of the second hole is smaller than the diameter of the first hole, and the depth of the second hole is shallower than the depth of the first hole.
請求項6に記載の型において、
上記型基材部は略円柱状の空間を有し、該空間の内壁上に上記第1めっき層および上記第2めっき層が形成されていることを特徴とする型。
The mold according to claim 6, wherein
The mold base part has a substantially cylindrical space, and the first plating layer and the second plating layer are formed on an inner wall of the space.
型基材部上に、内方に窪んだ多数の第1穴部を表面に有する第1めっき層を形成する第1工程と、
上記第1めっき層の上記第1穴部およびその周囲の表面に沿って、内方に窪んだ多数の第2穴部を表面に有する第2めっき層を形成する第2工程とを有し、
上記第2穴部の径を上記第1穴部の径よりも小さく、上記第2穴部の深さを上記第1穴部の深さよりも浅く調整することを特徴とする型の製造方法。
A first step of forming a first plating layer having a large number of indented first holes on the surface of the mold base portion;
A second step of forming a second plating layer having a plurality of indented second holes on the surface along the first hole of the first plating layer and the surrounding surface thereof; and
A mold manufacturing method, characterized in that a diameter of the second hole portion is smaller than a diameter of the first hole portion, and a depth of the second hole portion is adjusted to be shallower than a depth of the first hole portion.
請求項8に記載の型の製造方法において、
上記第1工程は、めっき反応により生じる気泡の表面の一部、あるいは、第1略球状粒子の表面の一部をめっき層の表面に写し取ることにより、上記第1穴部を有する第1めっき層を形成する方法を含み、
上記第2工程は、第2略球状粒子の表面の一部をめっき層の表面に写し取ることにより、上記第2穴部を有する第2めっき層を形成する方法を含むことを特徴とする型の製造方法。
In the manufacturing method of the type | mold of Claim 8,
In the first step, the first plating layer having the first hole is obtained by copying a part of the surface of the bubble generated by the plating reaction or the part of the surface of the first substantially spherical particle onto the surface of the plating layer. Including a method of forming
The second step includes a method of forming a second plating layer having the second hole portion by copying a part of the surface of the second substantially spherical particle onto the surface of the plating layer. Production method.
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