JP5901925B2 - 圧力制御装置 - Google Patents
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Description
図1は、実施形態に係る圧力制御装置を備えた半導体製造装置の構成を示す図である。半導体製造装置100は、プロセスチャンバCと、配管(上流側ガス配管)6Pと、圧力制御装置1と、配管(下流側ガス配管)6Qと、排気ポンプ30と、を備えている。本実施形態の圧力制御装置1は、所望のタイミングで、マイクロメータ40による配管内のガス圧力制御と、ソレノイドコイル3による配管内のガス圧力制御と、を切替える。圧力制御装置1は、例えば、配管内のガス圧力が所定値よりも低い場合には、マイクロメータ40によって配管内のガス圧力を制御し、配管内のガス圧力が所定値よりも高い場合には、ソレノイドコイルによって配管内のガス圧力を制御する。
Claims (5)
- 上流側ガス配管と下流側ガス配管との間のゲート開度を調整することによって前記上流側ガス配管内または前記下流側ガス配管内のガス圧力を調整するバルブと、
前記バルブに接続された軸部と、
前記軸部をソレノイド駆動によって軸方向に移動させることにより、前記軸部を介して前記バルブのゲート開度を調整するソレノイド部と、
前記軸部に着脱自在に取り付けられるとともに、前記軸部に取り付けられた場合には前記軸部をねじ機構によって軸方向に移動させることにより、前記軸部を介して前記バルブのゲート開度を調整するマイクロメータ部と、
前記上流側ガス配管内または前記下流側ガス配管内のガス圧力が所望のガス圧力となるよう、前記ソレノイド部および前記マイクロメータ部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記マイクロメータ部を用いて前記ガス圧力を制御する際には、前記マイクロメータ部を前記軸部に取り付けるとともに、前記ソレノイド部を用いて前記ガス圧力を制御する際には、前記マイクロメータ部を前記軸部から取り外し、
前記ゲート開度が所定値以下の場合に、前記マイクロメータ部によって前記バルブのゲート開度を調整させ、前記ゲート開度が前記所定値よりも大きい場合に、前記ソレノイド部によって前記バルブのゲート開度を調整させ、
前記マイクロメータ部は、2つの半円筒状部材を含んで構成され、前記マイクロメータ部が前記軸部に取り付けられる際には、前記軸部の外壁面が前記半円筒状部材の内壁面に嵌め合わされ、
前記半円筒状部材の内壁面には、めねじのねじ溝が設けられ、前記軸部の外壁面には、おねじのねじ溝が設けられていることを特徴とする圧力制御装置。 - 上流側ガス配管と下流側ガス配管との間のゲート開度を調整することによって前記上流側ガス配管内または前記下流側ガス配管内のガス圧力を調整するバルブと、
前記バルブに接続された軸部と、
前記軸部をソレノイド駆動によって軸方向に移動させることにより、前記軸部を介して前記バルブのゲート開度を調整するソレノイド部と、
前記軸部に着脱自在に取り付けられるとともに、前記軸部に取り付けられた場合には前記軸部をねじ機構によって軸方向に移動させることにより、前記軸部を介して前記バルブのゲート開度を調整するマイクロメータ部と、
前記上流側ガス配管内または前記下流側ガス配管内のガス圧力が所望のガス圧力となるよう、前記ソレノイド部および前記マイクロメータ部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記マイクロメータ部を用いて前記ガス圧力を制御する際には、前記マイクロメータ部を前記軸部に取り付けるとともに、前記ソレノイド部を用いて前記ガス圧力を制御する際には、前記マイクロメータ部を前記軸部から取り外すことを特徴とする圧力制御装置。 - 前記制御部は、
前記ゲート開度が所定値以下の場合に、前記マイクロメータ部によって前記バルブのゲート開度を調整させ、前記ゲート開度が前記所定値よりも大きい場合に、前記ソレノイド部によって前記バルブのゲート開度を調整させることを特徴とする請求項2に記載の圧力制御装置。 - 前記マイクロメータ部は、2つの半円筒状部材を含んで構成され、前記マイクロメータ部が前記軸部に取り付けられる際には、前記軸部の外壁面が前記半円筒状部材の内壁面に嵌め合わされることを特徴とする請求項2または3に記載の圧力制御装置。
- 前記半円筒状部材の内壁面には、めねじのねじ溝が設けられ、前記軸部の外壁面には、おねじのねじ溝が設けられていることを特徴とする請求項4に記載の圧力制御装置。
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