JP5900292B2 - イミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法 - Google Patents
イミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5900292B2 JP5900292B2 JP2012244056A JP2012244056A JP5900292B2 JP 5900292 B2 JP5900292 B2 JP 5900292B2 JP 2012244056 A JP2012244056 A JP 2012244056A JP 2012244056 A JP2012244056 A JP 2012244056A JP 5900292 B2 JP5900292 B2 JP 5900292B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- derivative
- compound represented
- nitrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- JSYGRUBHOCKMGQ-UHFFFAOYSA-N dichloramine Chemical class ClNCl JSYGRUBHOCKMGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 150000004841 phenylimidazoles Chemical class 0.000 title claims description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 102
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 48
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical group ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 claims description 22
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 105
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- ODUCDPQEXGNKDN-UHFFFAOYSA-N nitroxyl Chemical compound O=N ODUCDPQEXGNKDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- -1 nitrogen-containing heterocyclic compound Chemical class 0.000 description 11
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 8
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 8
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 8
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 6
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- 150000002463 imidates Chemical class 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 1-phenylimidazole Chemical compound C1=NC=CN1C1=CC=CC=C1 SEULWJSKCVACTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZSAMHOCTRNOIZ-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(aminomethyl)-6-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]oxy-N-phenylaniline Chemical compound NCC1=CC(=NC(=C1)C(F)(F)F)OC=1C=C(NC2=CC=CC=C2)C=CC=1 MZSAMHOCTRNOIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SAHIZENKTPRYSN-UHFFFAOYSA-N [2-[3-(phenoxymethyl)phenoxy]-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound O(C1=CC=CC=C1)CC=1C=C(OC2=NC(=CC(=C2)CN)C(F)(F)F)C=CC=1 SAHIZENKTPRYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKKPYMXANSSQCA-UHFFFAOYSA-N [3-[4-(aminomethyl)-6-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]oxyphenyl]-(3-pyrazol-1-ylazetidin-1-yl)methanone Chemical compound N1(N=CC=C1)C1CN(C1)C(=O)C1=CC(=CC=C1)OC1=NC(=CC(=C1)CN)C(F)(F)F YKKPYMXANSSQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 2
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000001935 tetracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C12)* 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005106 triarylsilyl group Chemical group 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIAQMFOKAXHPNH-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 OIAQMFOKAXHPNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 XJKSTNDFUHDPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical group C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUYJZFJRIXLNBQ-UHFFFAOYSA-N CC(C)c1cccc(C(C)C)c1NC(c1ccccc1)=O Chemical compound CC(C)c1cccc(C(C)C)c1NC(c1ccccc1)=O QUYJZFJRIXLNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003935 benzaldehydes Chemical class 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000005578 chrysene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005583 coronene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthene Chemical group C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQQSUOJIMKJQHS-UHFFFAOYSA-N pentaphene Chemical group C1=CC=C2C=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=CC3=CC2=C1 JQQSUOJIMKJQHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical group C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001388 picenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=C3C4=CC=C5C=CC=CC5=C4C=CC3=C21)* 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- LNKHTYQPVMAJSF-UHFFFAOYSA-N pyranthrene Chemical group C1=C2C3=CC=CC=C3C=C(C=C3)C2=C2C3=CC3=C(C=CC=C4)C4=CC4=CC=C1C2=C34 LNKHTYQPVMAJSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005420 sulfonamido group Chemical group S(=O)(=O)(N*)* 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
本発明は、有機合成化合物の中間体及び有機エレクトロルミネッセンス用材料として有用なイミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法に関する。
フェニルイミダゾール誘導体の合成法として、イミノクロライド誘導体を経由する方法（例えば、特許文献１及び２参照）、ベンズアルデヒド誘導体、オキサルアルデヒド及びアニリン誘導体を用いる方法（例えば、特許文献３参照）、イミダゾリン誘導体を経由し過マンガン酸カリウム（例えば、特許文献４参照）で酸化する方法が知られている。
これらのうち、イミノクロライド誘導体を経由する方法は、危険有害性を有する試薬を使用せず、収率も比較的高いことから量産適正に優れている。
しかしながら、フェニルイミダゾール誘導体のフェニル基のオルト位に嵩高い基を置換した場合に、上記のイミノクロライド誘導体を経由する方法で合成すると、反応性が低下することや、イミノクロライド誘導体以外の副生成物が大量に生成すること等により、収率が大幅に低下することが判明した。
これらのうち、イミノクロライド誘導体を経由する方法は、危険有害性を有する試薬を使用せず、収率も比較的高いことから量産適正に優れている。
しかしながら、フェニルイミダゾール誘導体のフェニル基のオルト位に嵩高い基を置換した場合に、上記のイミノクロライド誘導体を経由する方法で合成すると、反応性が低下することや、イミノクロライド誘導体以外の副生成物が大量に生成すること等により、収率が大幅に低下することが判明した。
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、安全性が高く、高収率で得ることができるイミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法を提供することにある。
本発明者等は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、下記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤と、含窒素反応補助剤の存在下で、反応させ、続いて下記一般式（３）で表される化合物と反応させることによって、フェニル基のオルト位に嵩高い基を置換した下記一般式（４）で表されるフェニルイミダゾール誘導体を、安全性が高く、高収率で得ることができることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
１．下記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤とを、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン又はジメチルホルムアミドのいずれかから選択される含窒素反応補助剤の存在下で、反応させ、下記一般式（２）で表されるイミノクロライド誘導体を製造するイミノクロライド誘導体の製造方法であって、
前記クロル化剤が、オキシ塩化リンであり、
前記含窒素反応補助剤の量が、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．１〜０．５倍の範囲内であることを特徴とするイミノクロライド誘導体の製造方法。
［式中、Ｒ１及びＲ２は、炭素数３以上の分岐アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ３は、置換基を表す。Ｒ４は、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基を表す。ｎは、０〜３の整数を表す。］
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
１．下記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤とを、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン又はジメチルホルムアミドのいずれかから選択される含窒素反応補助剤の存在下で、反応させ、下記一般式（２）で表されるイミノクロライド誘導体を製造するイミノクロライド誘導体の製造方法であって、
前記クロル化剤が、オキシ塩化リンであり、
前記含窒素反応補助剤の量が、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．１〜０．５倍の範囲内であることを特徴とするイミノクロライド誘導体の製造方法。
２．前記含窒素反応補助剤の量が、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．２〜０．５倍の範囲内であることを特徴とする第１項に記載のイミノクロライド誘導体の製造方法。
３．下記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤とを、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン又はジメチルホルムアミドのいずれかから選択される含窒素反応補助剤の存在下で反応させて、下記一般式（２）で表されるイミノクロライド誘導体を製造し、続いて下記一般式（３）で表される化合物と反応させて、下記一般式（４）で表されるフェニルイミダゾール誘導体を製造するフェニルイミダゾール誘導体の製造方法であって、
前記含窒素反応補助剤の量が、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．１〜０．５倍の範囲内であることを特徴とするフェニルイミダゾール誘導体の製造方法。
［式中、Ｒ１及びＲ２は、炭素数３以上の分岐アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｒ３は、置換基を表す。Ｒ４は、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基を表す。Ｒ５は、水素原子又は置換基を表す。Ｒ６は、アルキル基を表す。ｎは０〜３の整数を表す。］
前記含窒素反応補助剤の量が、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．１〜０．５倍の範囲内であることを特徴とするフェニルイミダゾール誘導体の製造方法。
本発明の上記手段により、フェニル基のオルト位に嵩高い基を置換したフェニルイミダゾール誘導体を、安全性が高く、高収率で得ることができるイミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法を提供することができる。
本発明のイミノクロライド誘導体の製造方法は、上記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤とを、含窒素反応補助剤の存在下で、反応させ、上記一般式（２）で表されるイミノクロライド誘導体を製造することを特徴とする。この特徴は、請求項１〜請求項６までの請求項に係る発明に共通又は対応する技術的特徴である。
本発明のフェニルイミダゾール誘導体の製造方法は、上記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤を含窒素反応補助剤の存在下で反応させて、上記一般式（２）で表されるイミノクロライド誘導体を製造し、続いて上記一般式（３）で表される化合物と反応させて、上記一般式（４）で表されるフェニルイミダゾール誘導体を製造することが好ましい。
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記含窒素反応補助剤として、含窒素複素環化合物、特にピリジン又はピコリンを使用することが好ましく、またトリエチルアミン又はジメチルホルムアミドを使用することも好ましい。
また、前記含窒素反応補助剤は、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．２〜１．０倍の範囲内であることが、副生成物の生成を抑制する効果が大きい点で好ましい。
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載されている数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記含窒素反応補助剤として、含窒素複素環化合物、特にピリジン又はピコリンを使用することが好ましく、またトリエチルアミン又はジメチルホルムアミドを使用することも好ましい。
また、前記含窒素反応補助剤は、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．２〜１．０倍の範囲内であることが、副生成物の生成を抑制する効果が大きい点で好ましい。
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載されている数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
［本発明のイミノクロライド誘導体及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法］
本発明のイミノクロライド誘導体の製造方法は、下記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤とを、含窒素反応補助剤の存在下で反応させて、下記一般式（２）で表されるイミノクロライド誘導体を製造する。
また、本発明のフェニルイミダゾール誘導体の製造方法は、前記イミノクロライド誘導体を製造した後、下記一般式（３）で表される化合物と反応させて、下記一般式（４）で表されるフェニルイミダゾール誘導体を製造する。
本発明のイミノクロライド誘導体の製造方法は、下記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤とを、含窒素反応補助剤の存在下で反応させて、下記一般式（２）で表されるイミノクロライド誘導体を製造する。
また、本発明のフェニルイミダゾール誘導体の製造方法は、前記イミノクロライド誘導体を製造した後、下記一般式（３）で表される化合物と反応させて、下記一般式（４）で表されるフェニルイミダゾール誘導体を製造する。
一般式（１）、一般式（２）及び一般式（４）において、Ｒ１及びＲ２で表される炭素数３以上の分岐アルキル基として、例えば、iso-プロピル基、sec-ブチル基、iso-ブチル基、t-ブチル基、neo-ペンチル基、2-エチルヘキシル基、t-オクチル基等の各基が挙げられる。
一般式（１）、一般式（２）及び一般式（４）において、Ｒ１及びＲ２で表されるシクロアルキル基として例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。これらのうちで好ましいものはiso-プロピル基である。
一般式（１）、一般式（２）及び一般式（４）において、Ｒ１及びＲ２で表されるシクロアルキル基として例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。これらのうちで好ましいものはiso-プロピル基である。
一般式（１）、一般式（２）及び一般式（４）において、Ｒ３で表される置換基として例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、複素環、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、イミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシ基、トリアルキルシリル基、トリアリールシリル基等の各基が挙げられる。
Ｒ３が複数ある場合、それぞれ同じ置換基であっても異なる置換基であってもよい。
また、隣接する基同士で環を形成してもよい。
Ｒ３が複数ある場合、それぞれ同じ置換基であっても異なる置換基であってもよい。
また、隣接する基同士で環を形成してもよい。
一般式（１）、一般式（２）及び一般式（４）において、Ｒ４で表される芳香族炭化水素環基として例えば、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、ｏ−テルフェニル環、ｍ−テルフェニル環、ｐ−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等の各基が挙げられる。
一般式（１）、一般式（２）及び一般式（４）において、Ｒ４で表される芳香族複素環基として例えば、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環等の各基が挙げられる。
一般式（１）、一般式（２）及び一般式（４）において、Ｒ４で表される芳香族複素環基として例えば、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環等の各基が挙げられる。
一般式（３）において、Ｒ５で表される置換基としては、Ｒ３で表される置換基と同様の基を表す。
一般式（３）において、Ｒ６で表されるアルキル基として例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基等が挙げられる。
一般式（３）において、Ｒ６で表されるアルキル基として例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基等が挙げられる。
上記の基は、いずれもさらに置換基によって置換されていてもよく置換基として例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、複素環、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、イミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシ基、トリアルキルシリル基、トリアリールシリル基等の各基が挙げられる。
上記一般式（１）及び（４）において、ｎは、０〜３の整数を表す。
以下に、本発明の一般式（１）で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されものではない。
＜一般式（１）で表される化合物例＞
＜一般式（１）で表される化合物例＞
以下に、本発明の一般式（２）で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されものではない。
＜一般式（２）で表される化合物例＞
＜一般式（２）で表される化合物例＞
以下に、本発明の一般式（３）で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されものではない。
＜一般式（３）で表される化合物例＞
＜一般式（３）で表される化合物例＞
以下に、本発明の一般式（４）で表される化合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されものではない。
＜一般式（４）で表される化合物＞
＜一般式（４）で表される化合物＞
＜含窒素反応補助剤＞
本発明で用いられる含窒素反応補助剤としては、例えば、脂肪族アミン（トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等）、芳香族アミン（ジメチルアニリン、ジエチルアニリン等）、含窒素複素環（ピリジン、ピコリン、ルチジン、ピリミジン、ピラジン等）、アミド化合物（ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）等）が挙げられる。これらのうちで好ましいものは、含窒素複素環であり、特にピリジン又はピコリンを使用することが好ましく、またトリエチルアミン又はジメチルホルムアミドを使用することも好ましい。
本発明で用いられる含窒素反応補助剤としては、例えば、脂肪族アミン（トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）等）、芳香族アミン（ジメチルアニリン、ジエチルアニリン等）、含窒素複素環（ピリジン、ピコリン、ルチジン、ピリミジン、ピラジン等）、アミド化合物（ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）等）が挙げられる。これらのうちで好ましいものは、含窒素複素環であり、特にピリジン又はピコリンを使用することが好ましく、またトリエチルアミン又はジメチルホルムアミドを使用することも好ましい。
本発明で用いられる含窒素反応補助剤は、一般式（１）の化合物に対してモル比で０．２〜１．０倍の範囲内で添加することが好ましく、特に好ましくは、０．３〜０．５倍の範囲内である。０．２〜１．０倍の範囲内とすることによって、イミドクロライド誘導体以外の副生成物の生成を抑制する効果が大きくなる。
＜クロル化剤＞
本発明で用いられるクロル化剤としては、例えば、塩化チオニル、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン、オキサリルクロライド等が挙げられる。これらのうちで好ましいものは、オキシ塩化リンである。
本発明で用いられるクロル化剤としては、例えば、塩化チオニル、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン、オキサリルクロライド等が挙げられる。これらのうちで好ましいものは、オキシ塩化リンである。
＜製造方法＞
イミノクロライド誘導体は、一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤と、溶媒とを投入し、還流を行うことによって製造することができる。
フェニルイミダゾール誘導体は、イミノクロライド誘導体を製造した後、一般式（３）で表される化合物と、反応させ、減圧濃縮した後、溶媒を投入し、還流を行うことによって製造することができる。
溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
イミノクロライド誘導体は、一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤と、溶媒とを投入し、還流を行うことによって製造することができる。
フェニルイミダゾール誘導体は、イミノクロライド誘導体を製造した後、一般式（３）で表される化合物と、反応させ、減圧濃縮した後、溶媒を投入し、還流を行うことによって製造することができる。
溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［実施例１］
＜イミノエーテル（１）の合成＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−３を１．０ｇ（０．００３５４ｍｏｌ)、トルエンを１０ｍｌ、クロル化剤としてオキシ塩化リンを０．６０ｇ（×１．１ｍｏｌ）投入し、４時間還流を行った後、反応液の一部をメタールに加え、不安定なイミノクロライド誘導体からイミノエーテル（１）を合成した。その後、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）でイミノエーテル（１）の反応率を測定した。測定結果を表１及び図１に示した。
なお、上記で記載した、かっこ内の（×１．１ｍｏｌ）とは、一般式（１）で表される化合物に対する添加比率を表す。以下に記載のものも同様である。
ＨＰＬＣの測定条件は、以下の通りである。
カラム：GL Sciences Inc. Inertsil ODS-3 ５μｍ φ４．６ｍｍ×２５０ｍｍ
展開溶媒：Ｈ２Ｏ/アセトニトリル １０／９０ ｖｏｌ／ｖｏｌ、１％酢酸
オーブン温度：４０℃
検出波長：２５４ｎｍ
流速：１ｍｌ／ｍｉｎ
［実施例１］
＜イミノエーテル（１）の合成＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−３を１．０ｇ（０．００３５４ｍｏｌ)、トルエンを１０ｍｌ、クロル化剤としてオキシ塩化リンを０．６０ｇ（×１．１ｍｏｌ）投入し、４時間還流を行った後、反応液の一部をメタールに加え、不安定なイミノクロライド誘導体からイミノエーテル（１）を合成した。その後、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）でイミノエーテル（１）の反応率を測定した。測定結果を表１及び図１に示した。
なお、上記で記載した、かっこ内の（×１．１ｍｏｌ）とは、一般式（１）で表される化合物に対する添加比率を表す。以下に記載のものも同様である。
ＨＰＬＣの測定条件は、以下の通りである。
カラム：GL Sciences Inc. Inertsil ODS-3 ５μｍ φ４．６ｍｍ×２５０ｍｍ
展開溶媒：Ｈ２Ｏ/アセトニトリル １０／９０ ｖｏｌ／ｖｏｌ、１％酢酸
オーブン温度：４０℃
検出波長：２５４ｎｍ
流速：１ｍｌ／ｍｉｎ
＜イミノエーテル（２）の合成＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−３を１．０ｇ（０．００３５４ｍｏｌ）、トルエンを１０ｍｌ、クロル化剤としてオキシ塩化リンを０．６０ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてＤＭＦを例示化合物１−３に対して、０．１倍のモル比となるように投入し、４時間還流を行った後、反応液の一部をメタールに加え、不安定なイミノクロライド誘導体（例示化合物２−３）からイミノエーテル（２）を合成した。その後、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で上記と同様にしてイミノエーテル（２）の反応率を測定した。測定結果を表１及び図１に示した。
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−３を１．０ｇ（０．００３５４ｍｏｌ）、トルエンを１０ｍｌ、クロル化剤としてオキシ塩化リンを０．６０ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてＤＭＦを例示化合物１−３に対して、０．１倍のモル比となるように投入し、４時間還流を行った後、反応液の一部をメタールに加え、不安定なイミノクロライド誘導体（例示化合物２−３）からイミノエーテル（２）を合成した。その後、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で上記と同様にしてイミノエーテル（２）の反応率を測定した。測定結果を表１及び図１に示した。
なお、例示化合物２−３のイミノクロライド誘導体は、以下のスキームによって合成される。
＜イミノエーテル（３）〜（５）の合成＞
イミノエーテル（２）の合成において、含窒素反応補助剤としてＤＭＦの添加量を表１に示すモル比に変更した以外は同様にしてイミノエーテル（３）〜（５）を合成した。その後、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で上記と同様にしてイミノエーテル（３）〜（５）の反応率を測定した。測定結果を表１及び図１に示した。
イミノエーテル（２）の合成において、含窒素反応補助剤としてＤＭＦの添加量を表１に示すモル比に変更した以外は同様にしてイミノエーテル（３）〜（５）を合成した。その後、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で上記と同様にしてイミノエーテル（３）〜（５）の反応率を測定した。測定結果を表１及び図１に示した。
表１及び図１の結果に示されるように、ＤＭＦを添加しないで合成したイミノエーテル（１）の場合、約６０％の副生物が生成するのに対して、ＤＭＦを０．２倍モル以上添加して合成したイミノエーテル（３）〜（５）の場合、副生成物が大幅に低減し、イミノエーテルの反応率が大きく向上することが認められる。
［実施例２］
＜例示化合物４−３の合成：比較例＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−３を１０．０ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。その後、減圧蒸留によりトルエンを５０ｍｌ除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え、水浴で冷却した。含窒素反応補助剤としてトリエチルアミンを１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて一般式（３）で表される化合物として例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。
次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに1時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−３を得た。得られた例示化合物４−３の収量は２．６２ｇ、収率は２４．３％であった。
なお、上記で記載した、かっこ内の（×１０ｖｏｌ）とは、一般式（１）で表される化合物に対する容積比率を表す。以下に記載のものも同様である
＜例示化合物４−３の合成：比較例＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−３を１０．０ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。その後、減圧蒸留によりトルエンを５０ｍｌ除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え、水浴で冷却した。含窒素反応補助剤としてトリエチルアミンを１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて一般式（３）で表される化合物として例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。
次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに1時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−３を得た。得られた例示化合物４−３の収量は２．６２ｇ、収率は２４．３％であった。
なお、上記で記載した、かっこ内の（×１０ｖｏｌ）とは、一般式（１）で表される化合物に対する容積比率を表す。以下に記載のものも同様である
＜例示化合物４−３の合成：本発明＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−３を１０．０ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてピリジンを０．８０ｇ（×０．３０ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え水浴で冷却した。トリエチルアミンを１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに1時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−３を得た。得られた例示化合物４−３の収量は８．４９ｇ、収率は７８．６％であった。
また、得られた例示化合物の1H-NMRを測定した。ケミカルシフトは、
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ=7.46 (t, 1H), 7.43-7.38 (m, 2H), 7.31 (d, 1H), 7.26 (s, 2H), 7.23-7.15 (m, 3H), 6.94 (d, 1H), 2.55-2.35 (m, 2H), 1.10 (d, 6H), 0.85 (d, 6H).
であり、例示化合物４−３が合成できていることを確認した。
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−３を１０．０ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてピリジンを０．８０ｇ（×０．３０ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え水浴で冷却した。トリエチルアミンを１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに1時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−３を得た。得られた例示化合物４−３の収量は８．４９ｇ、収率は７８．６％であった。
また、得られた例示化合物の1H-NMRを測定した。ケミカルシフトは、
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ=7.46 (t, 1H), 7.43-7.38 (m, 2H), 7.31 (d, 1H), 7.26 (s, 2H), 7.23-7.15 (m, 3H), 6.94 (d, 1H), 2.55-2.35 (m, 2H), 1.10 (d, 6H), 0.85 (d, 6H).
であり、例示化合物４−３が合成できていることを確認した。
なお、例示化合物４−３のフェニルイミダゾール誘導体は、以下のスキームによって合成される。
以上の結果に示されるように、含窒素反応補助剤であるピリジンを添加した場合は、ピリジンを添加しない場合に比べて、例示化合物４−３を高収率で合成できることが認められる。
［実施例３］
＜例示化合物４−４の合成：比較例＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−４を１２．８ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）を投入し、４時間還を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミンを１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、1時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−４を得た。得られた例示化合物４−４の収量は３．２６ｇ、収率は２４．０％であった。
＜例示化合物４−４の合成：比較例＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−４を１２．８ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）を投入し、４時間還を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミンを１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、1時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−４を得た。得られた例示化合物４−４の収量は３．２６ｇ、収率は２４．０％であった。
＜例示化合物４−４の合成：本発明＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−４を１２．８ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてトリエチルアミンを１．０７ｇ （×０．３０ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し１時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−４を得た。得られた例示化合物４−４の収量は９．７２ｇ、収率は７１．６％であった。
また、得られた例示化合物の1H-NMRを測定した。ケミカルシフトは、
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ=7.41-7.37 (m, 2H), 7.35 (s, 2H), 7.30 (d, 1H), 7.24-7.20 (m, 3H), 6.94 (d, 1H), 2.50-2.37 (m, 2H), 1.10 (d, 6H), 0.86 (d, 6H).
であり、例示化合物４−４が合成できていることを確認した。
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−４を１２．８ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてトリエチルアミンを１．０７ｇ （×０．３０ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し１時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−４を得た。得られた例示化合物４−４の収量は９．７２ｇ、収率は７１．６％であった。
また、得られた例示化合物の1H-NMRを測定した。ケミカルシフトは、
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ=7.41-7.37 (m, 2H), 7.35 (s, 2H), 7.30 (d, 1H), 7.24-7.20 (m, 3H), 6.94 (d, 1H), 2.50-2.37 (m, 2H), 1.10 (d, 6H), 0.86 (d, 6H).
であり、例示化合物４−４が合成できていることを確認した。
なお、例示化合物４−４のフェニルイミダゾール誘導体は、以下のスキームによって合成される。
以上の結果に示されるように、含窒素反応補助剤であるトリエチルアミンを添加した場合は、トリエチルアミンを添加しない場合に比べて、例示化合物４−４を高収率で合成できることが認められる。
［実施例４］
＜例示化合物４−５の合成：比較例＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−５を１２．７ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−１を１１．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−５を得た。得られた例示化合物４−５の収量は３．５４ｇ、収率は２６．３％であった。
＜例示化合物４−５の合成：比較例＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−５を１２．７ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去し、アセトニトリル５０ｍｌを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−１を１１．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−５を得た。得られた例示化合物４−５の収量は３．５４ｇ、収率は２６．３％であった。
＜例示化合物４−５の合成：本発明＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−５を１２．７ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてＤＭＦを０．７８ｇ（×０．３０ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去しアセトニトリル50mlを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−１を１１．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−５を得た。得られた例示化合物４−５の収量は９．８２ｇ、収率は７３．０％であった。
また、得られた例示化合物の1H-NMRを測定した。ケミカルシフトは、
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ=7.66 (dd, 2H), 7.53-7.46 (m, 4H), 7.46 (s, 2H), 7.41 (t, 1H), 7.34 (d, 1H), 7.23-7.18 (m, 3H), 6.96 (d, 1H), 2.60-2.48 (m, 2H), 1.17 (d, 6H), 0.93 (d, 6H).
であり、例示化合物４−４が合成できていることを確認した。
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−５を１２．７ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてＤＭＦを０．７８ｇ（×０．３０ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去しアセトニトリル50mlを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−１を１１．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−５を得た。得られた例示化合物４−５の収量は９．８２ｇ、収率は７３．０％であった。
また、得られた例示化合物の1H-NMRを測定した。ケミカルシフトは、
1H-NMR (400MHz, CDCl3): δ=7.66 (dd, 2H), 7.53-7.46 (m, 4H), 7.46 (s, 2H), 7.41 (t, 1H), 7.34 (d, 1H), 7.23-7.18 (m, 3H), 6.96 (d, 1H), 2.60-2.48 (m, 2H), 1.17 (d, 6H), 0.93 (d, 6H).
であり、例示化合物４−４が合成できていることを確認した。
なお、例示化合物４−５のフェニルイミダゾール誘導体は、以下のスキームによって合成される。
以上の結果に示されるように、含窒素反応補助剤であるＤＭＦを添加した場合は、ＤＭＦを添加しない場合に比べて、例示化合物４−５を高収率で合成できることが認められる。
［実施例５］
＜例示化合物４−１２の合成：比較例＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−１２を１２．１ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去しアセトニトリル50mlを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−１２を得た。得られた例示化合物４−１２の収量は２．６９ｇ、収率は２１．０％であった。
＜例示化合物４−１２の合成：比較例＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−１２を１２．１ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去しアセトニトリル50mlを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−１２を得た。得られた例示化合物４−１２の収量は２．６９ｇ、収率は２１．０％であった。
＜例示化合物４−１２の合成：本発明＞
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−１２を１２．１ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてo-ピコリンを１．６５ｇ（×０．５０ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去しアセトニトリル50mlを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、井水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−１２を得た。得られた例示化合物４−１２の収量は９．７０ｇ、収率は７５．６％であった。
また、得られた例示化合物の1H-NMRを測定し、1H-NMRにより例示化合物４−１２が合成できていることを確認した。
一般式（１）で表される化合物として例示化合物１−１２を１２．１ｇ（０．０３５４ｍｏｌ）、トルエンを１００ｍｌ（×１０ｖｏｌ）、クロル化剤としてオキシ塩化リンを５．９７ｇ（×１．１ｍｏｌ）、含窒素反応補助剤としてo-ピコリンを１．６５ｇ（×０．５０ｍｏｌ）を投入し、４時間還流を行った。減圧蒸留によりトルエン５０ｍｌを除去しアセトニトリル50mlを加え水浴で冷却した。その後、トリエチルアミン１４．３ｇ（×４ｍｏｌ）、続いて例示化合物３−２を１４．２ｇ（×３ｍｏｌ）を滴下し1時間撹拌した。攪拌後の反応液を減圧濃縮し、酢酸エチル１００ｍｌを加え水洗し、酢酸エチル層を減圧濃縮した。次に、トルエン１００ｍｌ、リン酸９．０ｇを投入し、４時間還流を行った。その後、水浴で冷却し、炭酸ナトリウム１６．９ｇ、井水８０ｍｌの溶液を発泡に注意しながら滴下し、さらに、１時間撹拌した。不溶分を除去後、トルエン層を水洗し、減圧濃縮した。その後、ヘプタンにより再結晶を行い、例示化合物４−１２を得た。得られた例示化合物４−１２の収量は９．７０ｇ、収率は７５．６％であった。
また、得られた例示化合物の1H-NMRを測定し、1H-NMRにより例示化合物４−１２が合成できていることを確認した。
なお、例示化合物４−１２のフェニルイミダゾール誘導体は、以下のスキームによって合成される。
以上の結果に示されるように、含窒素反応補助剤であるo-ピコリンを添加した場合は、o-ピコリンを添加しない場合に比べて、例示化合物４−１２を高収率で合成できることが認められる。
また、その他の例示化合物も、上記の方法に準じて合成することができ、本発明のように含窒素反応補助剤の存在下で反応させることによって、一般式（４）で表されるフェニルイミダゾール誘導体を高収率で生成でき、また、副生成物の生成も抑制できることが認められる。
Claims (3)
- 下記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤とを、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン又はジメチルホルムアミドのいずれかから選択される含窒素反応補助剤の存在下で、反応させ、下記一般式（２）で表されるイミノクロライド誘導体を製造するイミノクロライド誘導体の製造方法であって、
前記クロル化剤が、オキシ塩化リンであり、
前記含窒素反応補助剤の量が、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．１〜０．５倍の範囲内であることを特徴とするイミノクロライド誘導体の製造方法。
- 前記含窒素反応補助剤の量が、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．２〜０．５倍の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のイミノクロライド誘導体の製造方法。
- 下記一般式（１）で表される化合物と、クロル化剤とを、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン又はジメチルホルムアミドのいずれかから選択される含窒素反応補助剤の存在下で反応させて、下記一般式（２）で表されるイミノクロライド誘導体を製造し、続いて下記一般式（３）で表される化合物と反応させて、下記一般式（４）で表されるフェニルイミダゾール誘導体を製造するフェニルイミダゾール誘導体の製造方法であって、
前記含窒素反応補助剤の量が、前記一般式（１）で表される化合物に対してモル比で０．１〜０．５倍の範囲内であることを特徴とするフェニルイミダゾール誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012244056A JP5900292B2 (ja) | 2012-11-06 | 2012-11-06 | イミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012244056A JP5900292B2 (ja) | 2012-11-06 | 2012-11-06 | イミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014091722A JP2014091722A (ja) | 2014-05-19 |
| JP5900292B2 true JP5900292B2 (ja) | 2016-04-06 |
Family
ID=50936065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012244056A Expired - Fee Related JP5900292B2 (ja) | 2012-11-06 | 2012-11-06 | イミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5900292B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4464505B2 (ja) * | 1999-12-14 | 2010-05-19 | 日本精化株式会社 | イミドイルクロライド類の製造方法 |
| KR100794282B1 (ko) * | 2003-10-10 | 2008-01-11 | 도요 가세이 고교 가부시키가이샤 | 1-아릴-5-(트리플루오로메틸)-1ｈ-테트라졸의 제조 방법 |
| US8586204B2 (en) * | 2007-12-28 | 2013-11-19 | Universal Display Corporation | Phosphorescent emitters and host materials with improved stability |
| JP2011121874A (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Canon Inc | 新規イリジウム錯体および有機発光素子および画像表示装置 |
| JP2012144455A (ja) * | 2011-01-07 | 2012-08-02 | Idemitsu Kosan Co Ltd | イミダゾール化合物の製造方法、およびイミダゾール化合物 |
| US8907031B2 (en) * | 2011-04-20 | 2014-12-09 | Chevron Phillips Chemical Company Lp | Imino carbene compounds and derivatives, and catalyst compositions made therefrom |
-
2012
- 2012-11-06 JP JP2012244056A patent/JP5900292B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014091722A (ja) | 2014-05-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101587296B1 (ko) | 2-아미노-5-시아노벤조산 유도체의 제조 방법 | |
| KR101609891B1 (ko) | 2-아미노-5-시아노벤조산 유도체의 제조 방법 | |
| WO2009096202A1 (ja) | ハロ多環芳香族化合物及びその製造方法 | |
| TWI765942B (zh) | 三環化合物之製備方法 | |
| Kudelko et al. | The reaction of optically active α-aminocarboxylic acid hydrazides with triethyl orthoesters | |
| JP2010235575A (ja) | 含窒素縮合複素環化合物の製造方法 | |
| AU2002250962B2 (en) | Process for the preparation of mesylates of piperazine derivatives | |
| JP2009522210A (ja) | ２，２’，６，６’−テトラオキサゾリンビフェニル配位子およびその調製方法 | |
| AU2002250962A1 (en) | Process for the preparation of mesylates of piperazine derivatives | |
| JP5008404B2 (ja) | メチレンジスルホネート化合物の製造方法 | |
| JP5900292B2 (ja) | イミノクロライド誘導体の製造方法及びフェニルイミダゾール誘導体の製造方法 | |
| JP5741091B2 (ja) | 含窒素縮合複素環化合物の製造方法 | |
| JP5114901B2 (ja) | 含窒素多環複素環化合物の製造方法 | |
| JP2009046408A (ja) | ジハロ多環芳香族化合物、ピロリル多環芳香族化合物、及びそれらの製造方法 | |
| BR112019009793A2 (pt) | 4-((6-(2-(2,4-difluorofenil)-1,1-difluoro-2-hidróxi-3-(5-mercapto-1h-1,2,4-triazol-1-il)propil)piridin-3-il)óxi)benzonitrila e processos de preparação | |
| JPWO2018025554A1 (ja) | 含窒素複素環化合物の製造方法 | |
| CN101323602A (zh) | 2-噁唑啉衍生物及其制备方法 | |
| JP2010120926A (ja) | 多環系ペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物及びその製造方法 | |
| Lim et al. | A metal-free and mild approach to 1, 3, 4-oxadiazol-2 (3 H)-ones via oxidative C–C bond cleavage using molecular oxygen | |
| JP4963970B2 (ja) | メチレンジスルホネート化合物の製造方法 | |
| JP2011148751A (ja) | 含窒素縮合複素環化合物の製造方法 | |
| JP5396997B2 (ja) | 含窒素縮合複素環化合物の製造方法 | |
| JP5505450B2 (ja) | 含窒素多環複素環化合物の製造方法 | |
| KR101590592B1 (ko) | 디피롤 케톤의 제조 방법 및 이에 의하여 제조된 디피롤 케톤 | |
| ES2352819T3 (es) | Procedimiento para la producción de un compuesto de anilina sustituido. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150316 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150729 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150818 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151019 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160209 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160222 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5900292 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |