JP5894021B2 - 噴霧液滴の電荷量測定方法、電荷量測定装置及びそれらを用いた噴霧液滴の電荷量制御装置 - Google Patents
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- 噴射ノズルから噴射された液滴が運ぶ電荷量を測定する電荷量測定方法であって、
金属製噴射ノズルと該ノズルに洗浄液を供給する配管との接続部に絶縁材料で形成した絶縁ジョイントを介在させ、前記ノズルと接地との間に電気配線を張り渡し、該配線途中に電流計を取り付けてその電流値から液滴が運ぶ単位時間当たりの電荷量を測定する電荷量測定方法。 - 噴射ノズルから噴射された液滴が運ぶ電荷量を測定する電荷量測定装置であって、
金属製噴射ノズルと、該ノズルと該ノズルに洗浄液を供給する配管との間に接続した絶縁材料で形成した絶縁ジョイントと、前記ノズルと接地との間に張り渡した電気配線と、該配線途中に取り付けた電流計とからなり、該電流計の電流値から液滴が運ぶ単位時間当たりの電荷量を測定する電荷量測定装置。 - 噴射ノズルから噴射された液滴が運ぶ電荷量を制御する噴霧液滴の電荷量制御装置であって、
金属製噴射ノズルと、該ノズルと該ノズルに洗浄液を供給する配管との間に接続した絶縁材料で形成した絶縁ジョイントと、前記ノズルと接地との間に張り渡した電気配線と、該配線途中に取り付けた電流計と、前記配管の途中に取り付けられて前記洗浄液に炭酸ガスを溶解させる炭酸ガス溶解装置とからなり、
前記電流計の電流値により前記炭酸ガス溶解装置に供給する炭酸ガスの量を制御することを特徴とする噴霧液滴の電荷量制御装置。
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JPH0324300Y2 (ja) * | 1987-07-24 | 1991-05-27 | ||
GB9409167D0 (en) * | 1994-05-09 | 1994-06-29 | Ici Plc | Spraying devices |
JP3654246B2 (ja) * | 2002-01-08 | 2005-06-02 | 株式会社日立製作所 | 質量分析計 |
JP4435580B2 (ja) * | 2004-01-07 | 2010-03-17 | 旭サナック株式会社 | 加圧水噴射装置及びそれを用いた基板洗浄装置 |
JP2007317821A (ja) * | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2008141049A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Sharp Corp | 洗浄装置および洗浄方法 |
JP2008153322A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 二流体ノズル、基板処理装置および基板処理方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN109444562A (zh) * | 2018-11-01 | 2019-03-08 | 华北电力大学(保定) | 一种用于测量沙粒荷电量的测量系统 |
CN109444562B (zh) * | 2018-11-01 | 2021-03-16 | 华北电力大学(保定) | 一种用于测量沙粒荷电量的测量系统及方法 |
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