JP5889868B2 - ブロックコポリマーを整列させるための表面処理 - Google Patents
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Description
本発明は、第1のコポリマー上に堆積させたブロックコポリマーの物理的フィーチャーの配向の制御のための表面処理剤(PXST)としての架橋置換ポリスチレンコポリマーを合成及び利用するための方法に関する。そのような方法は、ナノインプリントリソグラフィ用のテンプレートの生産を含む半導体産業における複数の応用を含む多くの用途を有する。
適切に構造化されたブロックコポリマー(BC)は、100nm未満であるフィーチャーを有する規則的パターンに自己集合し[非特許文献1]、マイクロエレクトロニクス、太陽電池及び膜などのナノ製作技術用途に活用することができる。基材表面に対して垂直に整列した六方充填円柱は、これらの応用におけるより有用なナノ構造の1つである。アルキルクロロシランを用いた表面処理[非特許文献2、非特許文献3]、化学パターニング[非特許文献4、非特許文献5、非特許文献6]及びポリマー「ブラシ」[非特許文献7、非特許文献8、非特許文献9、非特許文献10]を含む、この配向を可能にする複数の表面処理技術が報告されてきた。しかし、フィーチャーのサイズ及び配向の制御はまだ欠けている。必要なことは、フィーチャーの配向の必要な制御における大きいプロセス許容範囲を与える方法である。
本発明は、第1のコポリマー上に堆積させたブロックコポリマーの物理的フィーチャーの配向の制御のための表面処理剤(PXST)としてのランダム架橋置換ポリスチレンコポリマーを合成及び利用するための方法に関する。そのような方法は、ナノインプリントリソグラフィ用のテンプレートの生産を含む半導体産業における複数の応用を含む多くの用途を有する。これらの材料から広範囲の表面エネルギーを得ることができ、結果から、垂直配向に関する広いプロセス許容範囲を得るためにPXSTがブロックコポリマー(BC)における同じ2つのモノマーから構成されている必要がないことがわかる。
(項目1)
a.i)第1のモノマー及び第2のモノマーを含む架橋性ポリマー、ii)前記第1のモノマー及び前記第2のモノマーと化学的に異なる、第3のモノマー及び第4のモノマーを含むブロックコポリマーを準備するステップと;
b.表面を前記架橋性ポリマーでコーティングして第1のフィルムを作製するステップと;
c.架橋性ポリマーが架橋されるような条件下で前記第1のフィルムを処理するステップと;
d.前記第1のフィルムを前記ブロックコポリマーでコーティングして第2のフィルムを作製するステップと;
e.ナノ構造が生ずるような条件下で前記第2のフィルムを処理するステップとを含み、
前記ナノ構造の形状が前記第1のフィルムの化学的性質により制御される、方法。
(項目2)
前記ナノ構造が円柱状の構造を含み、前記円柱状の構造が前記第1のフィルムの面に対して実質的に垂直に整列している、項目1に記載の方法。
(項目3)
ステップb)の前記コーティングがスピンコーティングを含む、項目1に記載の方法。
(項目4)
前記第1のフィルムの厚さが10から30nmの間である、項目3に記載の方法。
(項目5)
前記第1のフィルムの厚さが15から20nmの間である、項目4に記載の方法。
(項目6)
前記架橋性ポリマーが前記第1又は第2のモノマー上のアジド基を含む、項目1に記載の方法。
(項目7)
ステップc)における前記第1のフィルムの前記処理が加熱を含む、項目6に記載の方法。
(項目8)
前記第3のモノマーがスチレンであり、前記ブロックコポリマーがポリスチレンを含む、項目1に記載の方法。
(項目9)
前記ブロックコポリマーがポリスチレン−ブロック−ポリ(メチルメタクリレート)コポリマーである、項目8に記載の方法。
(項目10)
ステップd)における前記第1のフィルムの前記コーティングがスピンコーティングを含む、項目1に記載の方法。
(項目11)
前記第2のフィルムの厚さが10から100nmの間である、項目10に記載の方法。
(項目12)
前記第2のフィルムの厚さが20から70nmの間である、項目11に記載の方法。
(項目13)
ステップe)の前記処理が加熱を含む、項目1に記載の方法。
(項目14)
第1のポリマーフィルム上にコーティングされた第2のポリマーフィルムを含む組成物であって、前記第1のポリマーフィルムは第1のモノ マー及び第2のモノマーを含み、前記第2のポリマーフィルムは第3のモノマー及び第4のモノマーを含み、前記第3のモノマー及び前記第4のモノマーは前記第1のモノマー及び前記第2のモノマーと化学的に異なる、組成物。
(項目15)
前記第2のフィルムがナノ構造を含み、前記構造が前記第1のフィルムの化学的性質により制御される、項目14に記載の組成物。
(項目16)
前記ナノ構造が円柱状のナノ構造を含み、前記円柱状のナノ構造が前記第1のフィルムの面に対して実質的に垂直に整列している、項目15に記載の組成物。
(項目17)
前記第2のフィルムがポリスチレン−ブロック−ポリ(メチルメタクリレート)コポリマーを含む、項目14に記載の組成物。
(項目18)
前記第1のポリマーフィルムが表面上にコーティングされている、項目14に記載の組成物。
(項目19)
前記第1のポリマーフィルムが架橋されている、項目14に記載の組成物。
(項目20)
前記第1のフィルムの厚さが10から30nmの間である、項目14に記載の組成物。
(項目21)
前記第1のフィルムの厚さが15から20nmの間である、項目20に記載の組成物。
(項目22)
前記第2のフィルムの厚さが10から100nmの間である、項目14に記載の組成物。
(項目23)
前記第2のフィルムの厚さが20から70nmの間である、項目22に記載の組成物。
本発明の特徴及び利点のより完全な理解のために、添付図とともに本発明の詳細な説明についてこれから述べる。
本発明の理解を助けるために、いくつかの用語を以下で定義する。本明細書で定義する用語は、本発明に関連性のある分野の当業者により一般的に理解されている意味を有する。「a」、「an」及び「the」などの語は、単数の実体のみを意味するものでなく、そのクラスの具体的な例を説明に用いることができる一般的なクラスを含む。本明細書における術語は、本発明の特定の実施形態を記述するために用いるが、それらの使用は、特許請求の範囲において概要を示す以外は、本発明の範囲を定めるものではない。
PXSTの表面エネルギー
BC用の非慣例的なモノマーを用いる我々の努力の途上で、我々は、BCの配向に対する表面エネルギーの効果に関心をもつようになった。ポリマー3(図3)の15nmより厚いフィルムをスピンコートし、加熱してアジド官能基により架橋し、十分にすすいで非架橋材料を除去した。これらのフィルムの表面エネルギーは、水、グリセロール及びジヨードメタンの接触角の角度測定によって得た。数回の測定をウェーハ全体にわたって行ったところ、誤差は、一貫して+/−2ダイン/cmであった。図4にこれらのデータを示すが、置換基がフィルムの表面エネルギーに影響することがわかる。さらに、PS及びPMMAの非架橋ホモポリマーフィルム並びにピラニア(piranha)で洗浄したウェーハの表面エネルギーを測定したところ、これらの値は文献[2、13]と一致している。
本発明が特定のブロックポリマーに限定されることは意図されない。しかし、本発明を説明するために、様々なコポリマーの例を記載する。1つの実施形態において、本発明は、ポリスチレン含有ブロックコポリマー「PS−b−PMMA」の合成に関する。PS−b−PMMAは、標準的シュレンクライン技術によりアニオン的に合成した(図1)[11、12]。1H−NMRにより、得られたポリマーが、0.27の体積分率に相当する31モル%のPMMAであることが示された[17]。これは、円柱状の形態の範囲内にある[1]。PSアリコートのMnは45.8kDaで、PDIは1.18であり、総分子量は65.6kDaで、PDIは1.18であった。図2にPSアリコート及びPS−b−PMMAのGPCクロマトグラムを示す。
材料
全ての試薬は、Sigma−Aldrich Chemical Co.から購入し、特に断らない限り、さらに精製せずに用いた。THFは、JT Bakerから購入した。100mmケイ素ウェーハは、Silicon Quest Internationalから購入した。
全ての1H及び13C NMRスペクトルは、Varian Unity Plus 400MHz機器に記録した。すべての化学シフトは、内部標準として残留プロトン化溶媒(CDCl3、1H 7.26ppm及び13C 77.0ppm)を用いてTMSから低磁場方向にppmで報告する。分子量及び多分散性データは、Agilent 1100 Series Isopump及びオートサンプラー並びにポリスチレン標準を対照とした3I−series混床高MWカラム付きViscotek Model 302 TETRA検出器プラットフォームを用いて測定した。ポリマー溶液は、スピンコーティングの前に0.20μmPTFEフィルターでろ過した。フィルムは、Brewer CEE 100CBスピンコーター及びホットプレートでスピンコートし、焼成した。フィルムの厚さは、70°の入射角を用い、382〜984nmの波長を用いてJ.A.Woollam Co.,Inc.VB400 VASEエリプソメーターにより測定した。接触角は、Rame−Hart,inc.NRL C.A.角度計(Model#100−00)により測定した。Kendro製のHeraeus Vacutherm Type VT 6060Pを用いてフィルムを減圧下で熱でアニーリングした。42N/mの力定数を有するNCHR Pointprobe(登録商標)非接触モードチップ付きのDigital Instruments Dimension 3100原子間力顕微鏡を用いてAFM画像を収集した。
ポリ(スチレン−b−メチルメタクリレート)(PS−b−PMMA(1))の合成
PS−b−PMMAは、以前に報告されたように標準的シュレンクライン技術[11]によりAr雰囲気下、−78℃でTHF中でのスチレンとメチルメタクリレートとの連続アニオン重合により合成した。開始剤は、sec−BuLiであった。MMAを適切に開始させるためにジフェニルエチレンを用い、MMAの成長中の副反応を抑制するためにLiClを加えた[12]。
P(SR)−r−P(SBnAz)(3)
Hawkerら[9]から採用した手順において、25kDaの理論的MWを得るのに十分なAIBNを用いて置換スチレン(20mmol)とビニルベンジルクロリド(0.62mmol)を還流THF(20mL)中で48時間ラジカル共重合させた。ポリマー2が0℃のMeOH中で沈殿したならば、ろ過し、真空乾燥し、置換スチレンとビニルベンジルクロリドとのモル比を1H−NMRにより測定した。この比及びGPCにより測定したMnを考慮に入れて、ポリマー2(1.0g)及びアジ化ナトリウム(3当量/BnCl)をDMF(20mL)に溶解させ、室温(rt)で一夜撹拌した。ポリマーをMeOH中で沈殿させ、ろ過し、THF(10mL)に再溶解させ、H2O(1mL)とともに撹拌して未反応の塩を除去した。最後に、ポリマーを0℃のMeOH中での沈殿により単離し、ろ過し、真空乾燥して白色粉末3を得た。これらの2つのステップにわたる一般的な収率は50%;IR(KBr)2100cm−1であった。完全な特徴づけを表1に示す。
PXSTによる表面処理
IPA及びアセトンですすいだウェーハ上にトルエン中1.0重量%溶液からP(SR)−r−P(SBnAz)のフィルムを3770rpmで30秒間スピンコートした。ウェーハを直ちに250℃で5分間焼成してフィルムを架橋した。次いで、ウェーハをトルエン中に2分間浸し、ブロー乾燥し、再び2分間浸し、ブロー乾燥した。エリプソメトリにより測定した一般的なフィルム厚さは、15〜20nmであった。
角度測定による表面エネルギーの測定
接触角は、H2O、ジヨードメタン及びグリセロールを用いて測定し、ヤング−デュプレ式(式1)及び酸塩基表面エネルギーモデル(式2)により解析した[18]。
清浄な表面処理済みウェーハを種々の速度及び濃度でトルエンからのPS−b−PMMAのフィルムでスピンコートして、エリプソメトリにより測定した20〜70nmのフィルムを得た。成型したとき、ウェーハ片を減圧下で170℃で12〜18時間アニーリングした。
Claims (20)
- a.i)第1のモノマー及び第2のモノマーを含む架橋性ポリマーであって、前記架橋性ポリマーが前記第1のモノマーまたは前記第2のモノマー上のアジド基を含む、架橋性ポリマー、ii)前記第1のモノマー及び前記第2のモノマーと化学的に異なる、第3のモノマー及び第4のモノマーを含むブロックコポリマーを準備するステップであって、ここで、前記第3のモノマーがスチレンであり、そして前記ブロックコポリマーがポリスチレンを含む、ステップと;
b.表面を前記架橋性ポリマーでコーティングして第1のフィルムを作製するステップと;
c.架橋性ポリマーが架橋されるような条件下で前記第1のフィルムを処理するステップと;
d.前記第1のフィルムを前記ブロックコポリマーでコーティングして第2のフィルムを作製するステップと;
e.ナノ構造が生ずるような条件下で前記第2のフィルムを処理するステップとを含み、
前記ナノ構造の形状が前記第1のフィルムの化学的性質により制御される、方法。 - 前記ナノ構造が円柱状の構造を含み、前記円柱状の構造が前記第1のフィルムの面に対して実質的に垂直に整列している、請求項1に記載の方法。
- ステップb)の前記コーティングがスピンコーティングを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1のフィルムの厚さが10から30nmの間である、請求項3に記載の方法。
- 前記第1のフィルムの厚さが15から20nmの間である、請求項4に記載の方法。
- ステップc)における前記第1のフィルムの前記処理が加熱を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーがポリスチレン−ブロック−ポリ(メチルメタクリレート)コポリマーである、請求項1に記載の方法。
- ステップd)における前記第1のフィルムの前記コーティングがスピンコーティングを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のフィルムの厚さが10から100nmの間である、請求項8に記載の方法。
- 前記第2のフィルムの厚さが20から70nmの間である、請求項9に記載の方法。
- ステップe)の前記処理が加熱を含む、請求項1に記載の方法。
- 第1のポリマーフィルム上にコーティングされた第2のポリマーフィルムを含む組成物であって、前記第1のポリマーフィルムは第1のモノマー及び第2のモノマーを含み、前記第1のモノマーまたは前記第2のモノマーはアジド基を有し、前記第2のポリマーフィルムは第3のモノマー及び第4のモノマーを含み、前記第3のモノマー及び前記第4のモノマーは前記第1のモノマー及び前記第2のモノマーと化学的に異なり、ここで、前記第2のフィルムがポリスチレン−ブロック−ポリ(メチルメタクリレート)コポリマーを含む、組成物。
- 前記第2のフィルムがナノ構造を含み、前記構造が前記第1のフィルムの化学的性質により制御される、請求項12に記載の組成物。
- 前記ナノ構造が円柱状のナノ構造を含み、前記円柱状のナノ構造が前記第1のフィルムの面に対して実質的に垂直に整列している、請求項13に記載の組成物。
- 前記第1のポリマーフィルムが表面上にコーティングされている、請求項12に記載の組成物。
- 前記第1のポリマーフィルムが架橋されている、請求項12に記載の組成物。
- 前記第1のフィルムの厚さが10から30nmの間である、請求項12に記載の組成物。
- 前記第1のフィルムの厚さが15から20nmの間である、請求項17に記載の組成物。
- 前記第2のフィルムの厚さが10から100nmの間である、請求項12に記載の組成物。
- 前記第2のフィルムの厚さが20から70nmの間である、請求項19に記載の組成物。
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