JP5847832B2 - Substrate plating jig - Google Patents
Substrate plating jig Download PDFInfo
- Publication number
- JP5847832B2 JP5847832B2 JP2013539447A JP2013539447A JP5847832B2 JP 5847832 B2 JP5847832 B2 JP 5847832B2 JP 2013539447 A JP2013539447 A JP 2013539447A JP 2013539447 A JP2013539447 A JP 2013539447A JP 5847832 B2 JP5847832 B2 JP 5847832B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- holding member
- seal packing
- plated
- annular seal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 54
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 45
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims description 48
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 28
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 25
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000639 Spring steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/001—Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/004—Sealing devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/005—Contacting devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/12—Semiconductors
- C25D7/123—Semiconductors first coated with a seed layer or a conductive layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
本発明は基板の電解めっきを行う際に基板を保持するためのめっき治具に関する。 The present invention relates to a plating jig for holding a substrate when electrolytic plating of the substrate is performed.
半導体ウエハ、ガラス板、セラミック板等の基板に電解めっきを行う場合、基板を保持するめっき治具は、基板を保持した状態で、基板の導電膜に通電ピンが接触するように構成されている。そして該めっき治具に基板を保持した状態で、めっき液槽の電解めっき液中に基板を治具ごと浸漬し、通電ピンから電流を流して電解めっきを行うようになっている。 When electrolytic plating is performed on a substrate such as a semiconductor wafer, a glass plate, or a ceramic plate, the plating jig that holds the substrate is configured such that the conductive pin contacts the conductive film of the substrate while holding the substrate. . Then, with the substrate held on the plating jig, the substrate is immersed in the electrolytic plating solution in the plating solution tank together with the jig, and current is supplied from the energizing pins to perform the electrolytic plating.
しかしながら、従来のめっき治具では通電ピンがめっき液中に露出してるため、通電ピンにもめっきが析出してしまい、めっき効率が悪く、また、通電ピンの交換に時間がかかるものであった。 However, since the current-carrying pins are exposed in the plating solution in the conventional plating jig, plating is also deposited on the current-carrying pins, the plating efficiency is poor, and it takes time to replace the current-carrying pins. .
これまで、めっき液中に通電ピンが露出しないような技術としては、例えば、半導体ウエハのめっき面以外にめっき液が流入しないように半導体ウエハをシールするシール部材を設け、シールされた半導体ウエハのめっき液と接触しない面に陰極接点を設けたものが報告されている(特許文献1)。 Up to now, as a technique for preventing the energizing pins from being exposed in the plating solution, for example, a sealing member for sealing the semiconductor wafer is provided so that the plating solution does not flow outside the plating surface of the semiconductor wafer. The thing which provided the cathode contact in the surface which does not contact a plating solution is reported (patent document 1).
また、本発明者らもシールパッキン内部に、通電ピンに替えて側面がコ字状の通電部材を設け、これを半導体ウエハ面に露出する導電膜と外部電極に通電する部材を跨ぐように接触させる半導体ウエハのメッキ治具を報告している(特許文献2)。 The present inventors also provided a current-carrying member with a U-shaped side surface instead of the current-carrying pin inside the seal packing, and this contacts the conductive film exposed on the semiconductor wafer surface and the member that conducts electricity to the external electrode. A semiconductor wafer plating jig is reported (Patent Document 2).
しかしながら、これらの技術では通電ピンや通電部材がめっき液中に露出することは抑えられるものの、通電ピンや通電部材が確実に半導体ウエハへ接触して通電する構成となっていなかったり、通電ピンや通電部材のサイズが小さいため交換にも時間がかかり、また、シールパッキンの交換にも時間がかかるという問題があった。 However, although these techniques can prevent the current-carrying pins and current-carrying members from being exposed to the plating solution, the current-carrying pins and current-carrying members are not configured to reliably contact the semiconductor wafer to conduct electricity, Since the size of the current-carrying member is small, it takes time to replace it, and there is a problem that it takes time to replace the seal packing.
従って本発明は、半導体ウエハ、ガラス板、セラミック板等の基板のめっきにおいて通電ピンや通電部材がめっき液中に露出しないと共に、確実に基板へ通電でき、しかも、通電ピンや通電部材、シールパッキンの交換も容易なめっき治具を提供することを課題とするものである。 Therefore, the present invention does not expose the current-carrying pins and current-carrying members to the plating solution in plating a substrate such as a semiconductor wafer, a glass plate, and a ceramic plate, and can reliably energize the substrate. It is an object to provide a plating jig that can be easily replaced.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、板状の第1保持部材と、内周部および外周部を有する環状のシールパッキンが設けられると共に環状のシールパッキンの中心側に開口が形成されている第2保持部材とを具備し、第1保持部材と第2保持部材の間に被めっき基板を介在させ挟み込み保持することにより、前記環状のシールパッキンの内周部および外周部の先端がそれぞれ被めっき基板の被めっき面および第1保持部材に密接し、かつ被めっき基板の端が環状のシールパッキンの内周部と外周部の間で保持され、被めっき基板の被めっき面が前記開口に露出するように構成された基板めっき治具において、これに用いられる環状のシールパッキンの内部に、特殊な形状の通電部材を設けることにより、被めっき基板のめっきにおいて通電部材がめっき液中に露出しないと共に、確実に被めっき基板へ通電でき、しかも、シールパッキンの交換も容易なことを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have provided a plate-shaped first holding member, an annular seal packing having an inner peripheral portion and an outer peripheral portion, and the center of the annular seal packing. A second holding member having an opening formed on the side, and sandwiching and holding the substrate to be plated between the first holding member and the second holding member, thereby holding the inner peripheral portion of the annular seal packing And the tip of the outer peripheral portion is in close contact with the surface to be plated and the first holding member of the substrate to be plated, and the end of the substrate to be plated is held between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the annular seal packing, In the substrate plating jig configured so that the surface to be plated is exposed in the opening, a substrate to be plated is provided by providing a specially shaped energizing member inside the annular seal packing used for the substrate plating jig. With current-carrying member is not exposed to the plating solution in the plating, can be reliably energized be plated substrate, moreover, replacement of the seal packing also found that easy, and accomplished the present invention.
すなわち本発明は、板状の第1保持部材と、内周部および外周部を有する環状のシールパッキンが設けられると共に環状のシールパッキンの中心側に開口が形成されている第2保持部材とを具備し、第1保持部材と第2保持部材の間に被めっき基板を介在させ挟み込み保持することにより、前記環状のシールパッキンの内周部および外周部の先端がそれぞれ被めっき基板の被めっき面および第1保持部材に密接し、かつ被めっき基板の端が環状のシールパッキンの内周部と外周部の間で保持され、被めっき基板の被めっき面が前記開口に露出するように構成された基板めっき治具であって、
環状のシールパッキンの内部に複数の突出接点を有する環状の第1通電部材を設け、第1保持部材と第2保持部材の間に被めっき基板を介在させ挟み込み保持することにより、被めっき基板の被めっき面と突出接点が環状のシールパッキンの内部で接触することを特徴とする基板めっき治具である。That is, the present invention includes a plate-like first holding member and a second holding member provided with an annular seal packing having an inner peripheral portion and an outer peripheral portion and having an opening formed at the center side of the annular seal packing. And having the substrate to be plated interposed and held between the first holding member and the second holding member so that the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the annular seal packing are respectively plated surfaces of the substrate to be plated. The end of the substrate to be plated is held between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the annular seal packing, and the surface to be plated of the substrate to be plated is exposed to the opening. A substrate plating jig,
An annular first energization member having a plurality of protruding contacts is provided inside the annular seal packing, and the substrate to be plated is sandwiched and held between the first holding member and the second holding member, thereby The substrate plating jig is characterized in that a surface to be plated and a protruding contact are in contact with each other inside an annular seal packing.
本発明の基板めっき治具を用いれば半導体ウエハ、ガラス板、セラミック板等の基板のめっきにおいて通電部材がめっき液中に露出しないと共に、確実に基板へ通電でき、しかも、シールパッキンの交換も容易である。 When the substrate plating jig of the present invention is used, the current-carrying member is not exposed to the plating solution in the plating of a substrate such as a semiconductor wafer, a glass plate, or a ceramic plate, and the substrate can be reliably energized, and the seal packing can be easily replaced. It is.
以下、本発明の一態様を示す図面と共に、本発明の説明を続ける。 Hereinafter, the description of the present invention will be continued with the drawings showing one embodiment of the present invention.
図1は、円形の半導体ウエハを保持するための基板めっき治具全体を示す斜視図である。図中、1は基板めっき治具、2は第1保持部材、3は第2保持部材、4は環状のシールパッキン、5は複数の突出接点を有する環状の第1通電部材、6は開口、7は第2通電部材、8は基板台、9は半導体ウエハ、10は取っ手、11はヒンジ機構をそれぞれ示す。 FIG. 1 is a perspective view showing an entire substrate plating jig for holding a circular semiconductor wafer. In the figure, 1 is a substrate plating jig, 2 is a first holding member, 3 is a second holding member, 4 is an annular seal packing, 5 is an annular first energizing member having a plurality of protruding contacts, 6 is an opening, 7 is a second energizing member, 8 is a substrate base, 9 is a semiconductor wafer, 10 is a handle, and 11 is a hinge mechanism.
第1保持部材2の上面には、半導体ウエハ9と略同形状の基板台8が設けられている。この基板台8の高さは特に限定されないが、環状のシールパッキン4の内部に複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5等の部品が収納できるスペースを設けるだけの高さが必要である。また、第1保持部材2の上面には、外部電極と通電する第2通電部材7が設けられる。この第2通電部材7は、第1保持部材2と第2保持部材3の間に半導体ウエハ9を介在させ挟み込み保持することにより、環状シールパッキン4の内部で複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5と接触し、通電する位置に設ける。また、この第2通電部材7は、第1保持部材2に埋設や裏面から引き込んだ導電部材(図示せず)と接続することにより通電される。
On the upper surface of the
上記第2通電部材7の形状は、複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5と接触しやすい形状であれば、特に限定されないが、例えば、板バネ、コイルバネ等の形状が挙げられる。また、上記接触をより確実なものとするために、複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5に第2通電部材7が接触する位置に対応して第3通電部材(図示せず)を設けることが好ましい。この場合の第2通電部材7と第3通電部材の接触方法としては特に限定されないが、例えば、コンセント型の通電部材を利用した滑り接触が好ましい。
Although the shape of the said 2nd
なお、上記では外部電極と通電する第2通電部材7が第1保持部材2に設けられ、複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5と接触することにより通電しているが、基本的に複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5への外部電極からの通電は、第1保持部材2と第2保持部材3の間に半導体ウエハ9を介在させ挟み込み保持する際に環状のシールパッキン4によるシール性を妨げないような方法であれば特に限定されない。このような方法としては、上記の他にも、第1保持部材2に外部電極と通電する第4通電部材(図示せず)を設け、これを複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5に直接配線接続して通電させる方法等が挙げられる。ここで用いられる第4通電部材としては、柔軟な導電部材(図示せず)で形成され、第1保持部材2と第2保持部材3の間に半導体ウエハ9を介在させ挟み込み保持する際に、屈曲または伸縮して環状のシールパッキン4の内部に収まるようなものが好ましい。また、第4通電部材の長さを短くできることから、第4通電部材と第2通電部材7および複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5との接続は、それぞれのヒンジ機構11の近傍で行うことが好ましい。
In the above description, the second energizing
一方、第2保持部材3の上面には、環状のシールパッキン4と、環状のシールパッキン4の中心側に半導体ウエハ9より若干小さい内径の開口6が設けられている。また、この環状のシールパッキン4の内部には、複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5が設けられている。更に、第2保持部材3には環状のシールパッキン4を簡易的に固定できるよう溝や段差を設けてもよい。
On the other hand, on the upper surface of the
上記環状のシールパッキン4は内周部および外周部を有するものであれば特に限定されないが、略C字状、略J字状、略U字状、略コ字状等のものが好ましく、その中でも内周部よりも外周部の縁が高い略コ字状のものが好ましい。
The
環状のシールパッキン4の内部には、複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5が設けられる。図2に、複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5の全体図を示し、図3は複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5のA−A’断面図を示す。
An annular
この複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5は、環状のシールパッキン4の内部に収まる大きさであり、環状の通電部材5aと突出接点5bとからなる。突出接点5bは、例えば、略台形状、略四角状、略三角状、略棒状等で、環状のシールパッキン4や開口6の中心方向に向かって角度θで複数個、環状の通電部材5aに設けられる。突出接点5bの形状の別の例を図4〜6に示す。突出接点5bは環状の通電部材5aと別々に形成され、それらを溶接等により結合させたものでもよいが、交換の容易さ等から、環状の通電部材5aと突出接点5bを板状の素材からプレス等により一体に形成されたものが好ましい。突出接点5bの個数は、半導体ウエハの大きさ等によっても異なるので一概に言えないが、好ましくは6個以上である。突出接点5bが環状の通電部材5aに設けられる角度θは15〜45°、好ましくは30°である。通電部材5aおよび突出接点5bの素材は通電する素材であれば特に限定されないが、例えば、リン青銅やステンレスバネ鋼等の硬さと弾性力がある素材が挙げられる。このような複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5を用いることにより、第1保持部材2と第2保持部材3の間に半導体ウエハ9を介在させ挟み込み保持した際に、半導体ウエハ9への通電が確実となる。また、このような複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5を用い、これを環状のシールパッキン4の内部に設けることにより、第1保持部材2と第2保持部材3の間に半導体ウエハ9を介在させ挟み込み保持する際に環状のシールパッキン4を均等な圧力で押さえておくことができ、シールパッキンの変形を小さくすることができる。その結果、シールパッキンによるシール性が向上し、通電部分へのめっき液の進入を抑えることができる。
The annular
なお、環状のシールパッキン4の内部に複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5を固定するには、両面テープや、接着剤等の化学的な固定手段を用いてもよいし、ネジ止め等の物理的な固定手段を用いてもよい。ネジ止め等の物理的な固定手段であれば環状シールパッキン4や複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5の交換が容易となる。
In order to fix the annular
上記第1保持部材2と第2保持部材3の間に半導体ウエハ9を介在させ挟み込み保持するには、例えば、第1保持部材2と第2保持部材3にヒンジ機構11を設けて、ヒンジ機構11を設けた反対側の端をクランプ、コの字型の器具(何れも図示せず)等で固定すればよい。また、第1保持部材2と第2保持部材3の固定には特許第3629396号のクランパを利用してもよい。
In order to sandwich and hold the
図7は、第2保持部材3を第1保持部材2の上に重ねた場合の第1保持部材2、第2保持部材3、環状のシールパッキン4、複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5、第2通電部材7、基板台8、半導体ウエハ9、導電部材12の位置関係を示す図である。第2保持部材3を第1保持部材2に重ねることにより、環状のシールパッキン4の内周部4aおよび外周部4bの先端が、それぞれ半導体ウエハ9の被めっき面および第1保持部材2と密接し、シールされる。また、半導体ウエハ9の端は環状のシールパッキン4の内周部4aと外周部4bの間で保持され、半導体ウエハ9の被めっき面と複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5が環状シールパッキン4の内部で接触する。更に、導電部材12により外部電極と通電する第2通電部材7が複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5と接触して通電する。これにより環状のシールパッキン4の内部がシールされ、複数の突出接点を有する環状の第1通電部材5や外部電極と通電する第2通電部材7がめっき液に露出しない。
FIG. 7 shows the first holding
以上説明した基板めっき治具を用いて電解めっきを行えば、通電部材がめっき液中に露出しないと共に、確実に基板へ通電でき、しかも、シールパッキンの交換も容易である。 When electrolytic plating is performed using the substrate plating jig described above, the current-carrying member is not exposed to the plating solution, the substrate can be reliably energized, and the seal packing can be easily replaced.
本発明の基板めっき治具は、半導体の製造に利用できる。 The substrate plating jig of the present invention can be used for manufacturing semiconductors.
1 … … 基板めっき治具
2 … … 第1保持部材
3 … … 第2保持部材
4 … … 環状のシールパッキン
4a … … 内周部
4b … … 外周部
5 … … 複数の突出接点を有する環状の第1通電部材
5a … … 環状の通電部材
5b … … 突出接点
6 … … 開口
7 … … 第2通電部材
8 … … 基板台
9 … … 半導体ウエハ
10 … … 取っ手
11 … … ヒンジ機構
12 … … 導電部材DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記第1保持部材に外部電極と通電する柔軟な導電部材で形成された第4通電部材を設け、前記環状のシールパッキンの内部に複数の突出接点を有する環状の第1通電部材を設け、前記第4通電部材は前記第1通電部材に直接配線接続して通電させ、第1保持部材と第2保持部材の間に被めっき基板を介在させ挟み込み保持することにより、被めっき基板の被めっき面と突出接点が環状のシールパッキンの内部で接触することを特徴とする基板めっき治具。 A plate-like first holding member; and a second holding member provided with an annular seal packing having an inner peripheral portion and an outer peripheral portion and having an opening formed at the center side of the annular seal packing, By sandwiching and holding the substrate to be plated between the holding member and the second holding member, the inner peripheral part and the outer peripheral part of the annular seal packing are respectively the surface to be plated and the first holding member of the substrate to be plated. The substrate plating jig is configured so that the end of the substrate to be plated is held between the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the annular seal packing, and the surface to be plated of the substrate to be plated is exposed to the opening. Because
Said fourth current-carrying member provided which is formed by a flexible conductive member in electrical communication with the external electrode to the first holding member is provided with a first energizing member annular having a plurality of projecting contact points inside the annular seal packing, wherein The fourth energizing member is directly connected to the first energizing member by wiring and energized, and the substrate to be plated is sandwiched and held between the first holding member and the second holding member, whereby the surface to be plated of the substrate to be plated And a protruding contact contact inside the annular seal packing.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2011/074032 WO2013057802A1 (en) | 2011-10-19 | 2011-10-19 | Substrate electroplating jig |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013057802A1 JPWO2013057802A1 (en) | 2015-04-02 |
JP5847832B2 true JP5847832B2 (en) | 2016-01-27 |
Family
ID=48140479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013539447A Expired - Fee Related JP5847832B2 (en) | 2011-10-19 | 2011-10-19 | Substrate plating jig |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140251798A1 (en) |
JP (1) | JP5847832B2 (en) |
CN (1) | CN103874790A (en) |
WO (1) | WO2013057802A1 (en) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9464362B2 (en) * | 2012-07-18 | 2016-10-11 | Deca Technologies Inc. | Magnetically sealed wafer plating jig system and method |
JP6210298B2 (en) * | 2013-11-26 | 2017-10-11 | 大森ハンガー工業株式会社 | Plating substrate holder |
JP6508935B2 (en) * | 2014-02-28 | 2019-05-08 | 株式会社荏原製作所 | Substrate holder, plating apparatus and plating method |
JP6545585B2 (en) * | 2014-10-16 | 2019-07-17 | 株式会社荏原製作所 | Substrate holder and plating apparatus |
CN105350059A (en) * | 2015-11-28 | 2016-02-24 | 石家庄海科电子科技有限公司 | Clamp and method for single surface electroplating of substrates |
JP6747859B2 (en) * | 2016-05-09 | 2020-08-26 | 株式会社荏原製作所 | Substrate holder and plating apparatus using the same |
JP7122235B2 (en) * | 2018-11-26 | 2022-08-19 | 上村工業株式会社 | holding jig |
CN110528041A (en) * | 2019-08-13 | 2019-12-03 | 广州兴森快捷电路科技有限公司 | For the electroplating processing method of wafer, wafer and wiring board |
CN110629274A (en) * | 2019-08-29 | 2019-12-31 | 昆山东威科技股份有限公司 | Clamping mechanism and electroplating device |
CN215925114U (en) * | 2021-01-30 | 2022-03-01 | 厦门海辰新能源科技有限公司 | Conductive clamp and film coating machine |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2704796B2 (en) * | 1991-04-22 | 1998-01-26 | 株式会社東芝 | Jig for plating semiconductor wafers |
JPH11200096A (en) * | 1997-11-06 | 1999-07-27 | Ebara Corp | Plating jig for wafer |
JP4037504B2 (en) * | 1998-01-09 | 2008-01-23 | 株式会社荏原製作所 | Semiconductor wafer plating jig |
US7022211B2 (en) * | 2000-01-31 | 2006-04-04 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
CN100370578C (en) * | 2002-06-21 | 2008-02-20 | 株式会社荏原制作所 | Substrate holder and plating apparatus |
-
2011
- 2011-10-19 CN CN201180074160.5A patent/CN103874790A/en active Pending
- 2011-10-19 JP JP2013539447A patent/JP5847832B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-10-19 US US14/351,802 patent/US20140251798A1/en not_active Abandoned
- 2011-10-19 WO PCT/JP2011/074032 patent/WO2013057802A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20140251798A1 (en) | 2014-09-11 |
JPWO2013057802A1 (en) | 2015-04-02 |
WO2013057802A1 (en) | 2013-04-25 |
CN103874790A (en) | 2014-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5847832B2 (en) | Substrate plating jig | |
JP5997291B2 (en) | Substrate plating jig | |
US10432074B2 (en) | Vibrator unit and vibration generator | |
JP2007265945A (en) | Lamination cell accumulation type battery and battery module | |
JP4867877B2 (en) | Surface-emitting light fixture | |
US10113246B2 (en) | Substrate holder, plating apparatus, and plating method | |
JP2006050693A (en) | Actuator for auto-focusing | |
JPH11200096A (en) | Plating jig for wafer | |
US10431782B2 (en) | Battery pack | |
JP2008187756A (en) | Actuator case and ultrasonic motor | |
US9024514B2 (en) | Light-emitting module having connection member to press for direct electrical contact | |
CN107210104B (en) | Cylindrical battery with external PTC element | |
JP2014038809A (en) | Luminaire | |
JP2011216420A (en) | Electrochemical cell and circuit board | |
JP2007087858A (en) | Terminal unit of laminated fuel cell | |
JP2018063244A (en) | Wrist watch having magnetic clamp device | |
US10770697B2 (en) | Battery cell, battery module, and method for producing the same | |
JP5576848B2 (en) | Jig for holding plate member | |
WO2021049145A1 (en) | Substrate holder, substrate plating device equipped therewith, and electrical contact | |
KR100838532B1 (en) | Aging jig device for capacitor | |
US20120306294A1 (en) | Voice coil motor | |
KR20090123128A (en) | Wafer zig for plating apparatus | |
KR20160035855A (en) | Connector pad | |
JP2020076666A (en) | Probe pin and inspection jig | |
JP5835142B2 (en) | LED module fixture |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150414 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150521 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151125 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5847832 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |