JP5838820B2 - 二核ルテニウム錯体色素、当該色素を有する光電変換素子及び光化学電池 - Google Patents
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Description
又、
によって解決される。
で示される単核ルテニウム錯体は新規化合物である。
なお、実施例中の略称は以下の通りである。
phen;1,10−フェナントロリン
cod;1,5−シクロオクタジエン
dtBubpy;4,4’−ジ−ターシャリーブチル−2,2’−ビピリジン
H2dcbpy;2,2’−ビピリジン−4,4’−ジカルボン酸
BiBzImH2;2,2’−ビスベンズイミダゾール
MTBiBzImH2;5,5’−ビス(5−メチルチオフェン−2−イル)−2,2’−ビスベンズイミダゾール
BisBiTbpy;4,4’−ジ([2,2’−ビチオフェン]−5−イル)−2,2’−ビピリジン
BisBzTbpy;4,4’−ビス(ベンゾ(b)チオフェン)−2−イル)−2,2’−ビピリジン
(4,4’−ジ([2,2’−ビチオフェン]−5−イル)−2,2’−ビピリジン(BisBiTbpy)の合成)
アルゴン雰囲気下、100mL三口フラスコに5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−2,2‘−ビチオフェン(3.917g,13.40mmol)、4,4’−ジブロモ−2,2‘−ビピリジン(2.002g,6.376mmol)、炭酸カリウム(7.023g,50.81mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド50mLを加えて脱気した。その後、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.736g,0.637mmol)を加え、脱気した。その後、100℃で6.5時間反応させた。放冷後、反応液を濾過し、濾物をN,N−ジメチルホルムアミド、水、メタノールで洗浄し、真空乾燥させ、BisBiTbpy2.854gを得た。
アルゴン雰囲気下、500mL三口フラスコに4−ブロモ−1,2−ジアミノベンゼン(1.821g,9.733mmol)、5−メチルチオフェンボロン酸(1.605g,11.30mmol)、炭酸カリウム(19.50g,141.1mmol)、トルエン250mLを加え、脱気した。その後、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.285g,0.247mmol)を加え、脱気した。その後、85℃で25.5時間反応させた。放冷後、反応液を濾過し、濾液を減圧濃縮、真空乾燥した。300mLナスフラスコに乾燥物、酢酸エチル135mLを加え、攪拌しながら、5mol/L塩酸水溶液を滴下し、沈殿を生成させた。沈殿物を濾取し、酢酸エチルで洗浄後、真空乾燥させた。乾燥物を酢酸エチル50mL、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液20mLで溶媒分画を行い、酢酸エチル層を減圧濃縮、真空乾燥させ、4−(5−メチルチオフェン−2−イル)−1,2−ジアミノベンゼン1.060gを得た。
アルゴン雰囲気下、100mL二口フラスコに4−(5−メチルチオフェン−2−イル)−1,2−ジアミノベンゼン(0.535g,2.618mmol)、2,2,2−トリクロロアセトイミド酸メチル(0.245g,1.387mmol)、エタノール25mLを加えて脱気した。その後、28時間還流させた。放冷後、反応液を濾過し、濾物をエタノールで洗浄し、真空乾燥させ、MTBiBzImH20.262gを得た。
アルゴン雰囲気下、100mLの三口フラスコにジクロロ−p−シメンルテニウムダイマー(0.100g,0.163mmol)、BisBiTbpy(0.158g,0.326mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド50mLを加えて脱気した。その後、60℃で4時間反応させた。
反応液を放冷後、H2dcbpy(0.08g,0.328mmol)を加え、再び脱気した後、140℃で9時間反応させた。反応液を放冷後、1mol/L水酸化ナトリウムを0.660mL、[Ru(phen)2(BiBzIm)](0.262g,0.295mmol)を加え、170℃で4時間反応させた。
得られた反応液を濾過し、濾液を減圧濃縮、真空乾燥させ、ODSカラムクロマトグラフィーで精製後、減圧濃縮し、真空乾燥した。精製物をメタノール30mL、0.03mLの0.5mol/Lヘキサフルオロリン酸水溶液で溶解させ、pH2のヘキサフルオロリン酸水溶液30mLで沈殿を生成させた。沈殿物を濾過し、濾物をpH2のヘキサフルオロリン酸水溶液で洗浄後、真空乾燥させ、二核ルテニウム錯体色素(1a)0.059gを得た。
この二核ルテニウム錯体色素の代表構造であるプロトンが解離していない構造を式(1a)に示す。当該錯体色素は、カルボキシル基の1又は複数のプロトンが解離しているものもある。又、5−メチルチオフェン−2−イル基の位置による異性体もある。
([Ru(dtBubpy)2Cl2]の合成)
1000mLの三口フラスコに[Ru(cod)Cl2]n(2.999g,10.70mmol)、dtBubpy(5.755g,21.44mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド300mLを加えて脱気した。その後、2.45GHzのマイクロ波照射下にて攪拌しながら34分間還流させた。反応液を放冷後、濾過し、濾液を減圧濃縮、真空乾燥後、乾燥物にN,N−ジメチルホルムアミド20mL、ジエチルエーテル250mLを加え、室温下で30分間攪拌させた。攪拌させた懸濁液を濾過し、濾物をジエチルエーテル、水で洗浄し、真空乾燥させ、[Ru(dtBubpy)2Cl27.027gを得た。
アルゴン雰囲気下、100mLの三口フラスコに[Ru(dtBubpy)2Cl2(0.351g,0.495mmol)、MTBiBzImH2(0.254g,0.595mmol)及びエチレングリコール21mLを加えて脱気した。その後、2.45GHzのマイクロ波照射下にて攪拌しながら14分間還流させた。反応液を放冷後、エタノールを10mL,水を12mLを加え、濾過した。濾液に1.3mol/Lヘキサフルオロリン酸アンモニウム水溶液を1.5mL加え、沈殿を生成させた。沈殿物を濾過し、濾物を真空乾燥させ、[Ru(dtBubpy)2(MTBiBzImH2)](PF6)20.590gを得た。
アルゴン雰囲気下、300mLの三口フラスコにジクロロ−p−シメンルテニウムダイマー(0.124g,0.203mmol)、BisBiTbpy(0.197g,0.406mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド62mLを加えて脱気した。その後、60℃で4。5時間反応させた。反応液を放冷後、H2dcbpy(0.101g,0.411mmol)を加え、再び脱気した後、140℃で9時間反応させた。反応液を放冷後、1mol/L水酸化ナトリウムを1.420mL、[Ru(dtBubpy)2(MTBiBzImH2)](PF6)2(0.375g,0.277mmol)を加え、170℃で11時間反応させた。得られた反応液を濾過し、濾液を減圧濃縮し、ODSカラムクロマトグラフィーで精製後、減圧濃縮、真空乾燥後、メタノール100mL、1mLの0.5mol/Lヘキサフルオロリン酸水溶液で溶解させ、pH2のヘキサフルオロリン酸水溶液100mLで沈殿を生成させた。沈殿物を濾過し、濾物をpH2のヘキサフルオロリン酸水溶液で洗浄後、真空乾燥させ、二核ルテニウム錯体色素(1b)0.312gを得た。
この二核ルテニウム錯体色素の代表構造であるプロトンが解離していない構造を式(1b)に示す。当該錯体色素は、カルボキシル基の1又は複数のプロトンが解離しているものもある。又、5−メチルチオフェン−2−イル基の位置による異性体もある。
(BisBzTbpyの合成)
アルゴン雰囲気下、200mL三口フラスコにベンゾ[b]チオフェン−2−イルボロン酸(2.417g,13.58mmol、4,4’−ジブロモ−2,2‘−ビピリジン(2.004g,6.383mmol)、炭酸カリウム(7.005g,50.68mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド50mLを加えて脱気した。その後、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.725g,0.627mmol)を加え、脱気した。その後、100℃で23.5時間反応させた。放冷後、反応液を濾過し、濾物をN,N−ジメチルホルムアミド、水、メタノールで洗浄し、真空乾燥させ、BisBzTbpy1.622gを得た。
アルゴン雰囲気下、300mLの三口フラスコにジクロロ−p−シメンルテニウムダイマー(0.124g,0.203mmol)、BisBzTbpy(0.707g,0.406mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド60mLを加えて脱気した。その後、100℃で3時間反応させた。
反応液を放冷後、H2dcbpy(0.100g,0.412mmol)を加え、再び脱気した後、140℃で9時間反応させた。反応液を放冷後、1mol/L水酸化ナトリウムを1.42mL、[Ru(phen)2(BiBzIm)](0.192g,0.277mmol)を加え、170℃で4。5時間反応させた。
得られた反応液を濾過し、濾物をN,N−ジメチルホルムアミドで洗浄後、真空乾燥させた。乾燥させた試料をODSカラムクロマトグラフィーで精製後、減圧濃縮、真空乾燥後、50mLメタノール、0.5mLの0.5mol/Lヘキサフルオロリン酸水溶液で溶解させ、pH2のヘキサフルオロリン酸水溶液50mLで沈殿させた。沈殿物を濾過し、濾物をpH2のヘキサフルオロリン酸水溶液で洗浄後、真空乾燥させ、二核ルテニウム錯体色素(1c)0.055gを得た。
この二核ルテニウム錯体色素の代表構造であるプロトンが解離していない構造を式(1c)に示す。当該錯体色素は、カルボキシル基の1又は複数のプロトンが解離しているものもある。
アルゴン雰囲気下、100mLの三口フラスコにジクロロ−p−シメンルテニウムダイマー(0.100g,0.163mmol)、BisBiTbpy(0.158g,0.326mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド50mLを加えて脱気した。その後、60℃で4時間反応させた。
反応液を放冷後、H2dcbpy(0.080g,0.328mmol)を加え、再び脱気した後、140℃で9時間反応させた。反応液を放冷後、1mol/L水酸化ナトリウムを0.660mL、[Ru(phen)2(BiBzIm)](0.206g,0.297mmol)を加え、170℃で4時間反応させた。
得られた反応液を濾過し、濾物をN,N−ジメチルホルムアミドで洗浄後、真空乾燥させた。乾燥させた試料をODSカラムクロマトグラフィーで精製後、減圧濃縮、真空乾燥後、70mLメタノール、0.7mLの0.5mol/Lヘキサフルオロリン酸水溶液で溶解させ、pH2のヘキサフルオロリン酸水溶液100mLで沈殿させた。沈殿物を濾過し、濾物をpH2のヘキサフルオロリン酸水溶液で洗浄後、真空乾燥させ、二核ルテニウム錯体色素(1d)0.049gを得た。
この二核ルテニウム錯体色素の代表構造であるプロトンが解離していない構造を式(1d)に示す。当該錯体色素は、カルボキシル基の1又は複数のプロトンが解離しているものもある。
既存の方法で二核ルテニウム錯体色素(3)を合成した。
実施例3−1(多孔質チタニア電極の作製)
触媒化成製のチタニアペーストPST−18NRを透明層に、PST−400Cを拡散層に用い、旭硝子株式会社製透明導電性ガラス電極上にスクリーン印刷機を用いて塗布した。得られた膜を25℃、60%の雰囲気下で5分間エージングし、このエージングした膜を450℃で30分間焼成した。冷却した膜に対し、同じ作業を所定の厚みになるまで繰り返し、16mm2の多孔質チタニア電極を作製した。
二核ルテニウム錯体色素の0.2mmol/l色素溶液(溶媒:2−プロパノール)に多孔質チタニア電極を30℃で所定の時間浸漬し、乾燥して色素吸着多孔質チタニア電極を得た。
以上のようにして得られた色素吸着多孔質チタニア電極と白金板(対極)を重ね合わせた。次に、電解質溶液(ガンマ−ブチロラクトンに1−メチル−3−プロピルイミダゾリウムアイオダイド、ヨウ素、及びテトラブチルアンモニウムテトラシアノボレート、をそれぞれ0.6mol/l、0.05mol/l、0.5mol/l、となるように溶解したもの)を両電極の隙間に毛細管現象を利用して染み込ませることにより光化学電池を作製した。
実施例3−4(光化学電池の評価)
得られた光化学電池の光電変換効率に含まれる電流密度を英弘精機株式会社製のソーラーシュミレーターを用い、100mW/cm2の擬似太陽光を照射し測定した。
二核ルテニウム錯体色素(1a);11.78
二核ルテニウム錯体色素(1b);13.01
二核ルテニウム錯体色素(1c);13.82
二核ルテニウム錯体色素(1d);13.91
二核ルテニウム錯体色素(3);11.27
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