JP5833117B2 - 外装パネルのための干渉色を有するガラス基板 - Google Patents
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Description
− 主に積重ねの光学的特性に貢献する機能性被覆、
− 機能性被覆の化学的及び/又は機械的保護を供給することを別として、光キャビティの構築を可能にする、一般に透明誘電体材料から作られた保護被覆、
− 被覆の積重ねの不透明性又は準不透明性を与える少なくとも一つのエナメル又はペイント被覆、但しエナメル又はペイント被覆は、ガラスシートに対して、被覆の積重ねの上に付着される。
− エナメル又はペイントの成分と積重ねを構成する被覆の間の化学反応のような適合性の問題、
− 被覆の積重ねへの直接のペイントの適用又はエナメル化の追加工程の使用は、前記被覆の積重ねの引掻きの危険を増加する、
− エナメルの使用はこのエナメルのベーキングの問題を起こし、この特に傷つけられやすい工程は、エナメル被覆の多孔性の問題(それはその剥離を起こしうる)、又はファサード外装パネルもしくはスパンドレルのためのガラス基板の最終製造時に得られる色の再現性の問題を起こしうる、
− 不透明化被覆として使用されるエナメル又はペイントは、知覚される色に対する重要な貢献をなし、この貢献は、それが望ましい色を生じうる機能性被覆及び保護被覆の積重ねの構造の数をかなり減少するようなものである、
− 望ましい色を得るのに役立つエナメルの選択が制限される。
− 誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し第一透明被覆の光学的厚さは、少なくとも5.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも20.0nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも70.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも110.0nm又はそれより大きく、多くとも258.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも190.0nm又はそれより小さく、より好ましくは多くとも180.0nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも150.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも120.0nm又はそれより小さい。好ましくは、光学的厚さは、5.0nmから、好ましくは10.0nmから、より好ましくは20.0nmから258.0nmまで、好ましくは50.0nmから190.0nmまで、より好ましくは70.0nmから180.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから150.0nmまで、好ましくは110.0nmから120.0nmまでの値の範囲内にある。
− 半透明機能性被覆、但し半透明機能性被覆の幾何学的厚さは、少なくとも0.1nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも0.3nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも0.5nm又はそれより大きく、多くとも50.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも25.0nm又はそれより小さく、好ましくは幾何学的厚さは、0.1nmから、好ましくは0.3nmから50.0nmまで、好ましくは0.5nmから25.0nmまでの値の範囲内にあり、前記半透明機能性被覆は10%〜70%の吸光度を有する。
− 誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し第二透明被覆の光学的厚さは、少なくとも20.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも150.0nm又はそれより大きく、好ましくは170.0nm又はそれより大きく、多くとも300.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも250.0nm又はそれより小さく、より好ましくは多くとも210.0nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さく、好ましくは光学的厚さは、20.0nmから、好ましくは30.0nmから、より好ましくは100.0nmから300.0nmまで、より好ましくは150.0nmから250.0nmまで、最も好ましくは170.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にある。
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える被覆、但し不透明性又は準不透明性を与える前記被覆の幾何学的厚さは、少なくとも30.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは、多くとも1000.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の幾何学的厚さは、30.0nmから1000.0nmまで、好ましくは50.0nmから1000.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、不透明性又は準不透明性を与える前記被覆は、少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含む。
− エナメル又はペイントの成分と被覆の積重ねを構成する被覆の間の化学反応のような適合性の問題、
− 被覆の積重ねへの直接のペイントの適用又はエナメル化の追加工程の使用は、前記被覆の積重ねの引掻きの危険を増加する、
− エナメルの使用は以下の問題を起こす:
− このエナメルのベーキング、この特に傷つきやすい工程はエナメル被覆の多孔性の問題を起こし、それはその剥離を起こしうる、
− 不透明化被覆として使用されるエナメル又はペイントは、知覚される色に対する重要な貢献をなし、この貢献は、それが望ましい色を生じうる機能性被覆及び保護被覆の積重ねの構造の数をかなり減少するようなものである。
− 誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し第一透明被覆の光学的厚さは、少なくとも5.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも20.0nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも70.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも110.0nm又はそれより大きく、多くとも258.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも190.0nm又はそれより小さく、より好ましくは多くとも180.0nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも150.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも120.0nm又はそれより小さい。好ましくは、光学的厚さは、5.0nmから、好ましくは10.0nmから、より好ましくは20.0nmから258.0nmまで、好ましくは50.0nmから190.0nmまで、より好ましくは70.0nmから180.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから150.0nmまで、好ましくは110.0nmから120.0nmまでの値の範囲内にある。
− 半透明金属製機能性被覆、但し金属製被覆の色減衰厚さは、少なくとも0.3nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも0.9nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも1.5nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも3.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも6.5nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも9.5nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも28.0nm又はそれより小さく、より好ましくは多くとも25.2nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも18.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも15.0nm又はそれより小さい。好ましくは、色減衰厚さは、0.3nmから、好ましくは0.9nmから、より好ましくは1.5nmから、最も好ましくは3.0nmから30.0nmまで、好ましくは0.3nmから28.0nmまで、より好ましくは0.3nmから25.2nmまで、最も好ましくは6.5nmから18.0nmまで、好ましくは9.5nmから15.0nmまでの値の範囲内にあり、色減衰厚さは、金属製機能性被覆の幾何学的厚さと、前記被覆を構成する金属の550nmにおける屈折率の複素数部分kとを掛けた積に等しく、金属がステンレス鋼であるとき、幾何学的厚さに相当する金属製被覆の色減衰厚さは、少なくとも0.1nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも0.3nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも0.5nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも2.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも3.0nm又はそれより大きく、多くとも10.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも8.4nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも5.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも4.0nm又はそれより小さい。好ましくは、ステンレス鋼被覆の幾何学的厚さは、0.1nmから、好ましくは0.3nmから、より好ましくは0.5nmから10.0nmまで、より好ましくは0.1nmから8.4nmまで、最も好ましくは2.0nmから5.0nmまで、有利には3.0nmから4.0nmまでの値の範囲内にある。
− 誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し第二透明被覆の光学的厚さは、少なくとも20.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも150.0nm又はそれより大きく、好ましくは170.0nm又はそれより大きく、多くとも300.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも250.0nm又はそれより小さく、より好ましくは多くとも210.0nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは光学的厚さは、20.0nmから、好ましくは30.0nmから、より好ましくは100.0nmから300.0nmまで、より好ましくは150.0nmから250.0nmまで、最も好ましくは170.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にある。
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える被覆、但し不透明性又は準不透明性を与える前記被覆の幾何学的厚さは、少なくとも30.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも150.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは、多くとも1000.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の幾何学的厚さは、30.0nmから1000.0nmまで、好ましくは50.0nmから1000.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、不透明性又は準不透明性を与える前記被覆は、少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含む。
SiO2 60−75 MgO 0−10
Na2O 10−20 K2O 0−10
CaO 0−16 BaO 0−2
但し、BaO+CaO+MgO 10−20
及びNa2O+K2O 10−20
− ケイ素、炭素、クロム、ニッケル、アルミニウム、銅、モリブデン、亜鉛、スズ、コバルト、バナジウム、イットリウム、ジルコニウム、タンタル又はこれらの化合物の少なくとも二種の合金もしくは混合物、例えばニッケルクロム(NiCr)又はNiCrAlY、ステンレス銅から選択される化学化合物、好ましくは化学化合物は炭素、クロム、ニッケル、アルミニウムから選択される、
− ケイ素、アルミニウム、チタン、スズ、亜鉛、ジルコニウムの酸化物、これらの元素の少なくとも二種の混合酸化物から選択され、好ましくはチタン、スズ、ケイ素、これらの元素の少なくとも二種の混合酸化物から選択される酸化物、但し酸化物又は混合酸化物は任意選択的にアルミニウム、ホウ素、イットリウムをドープされる、
− アルミニウム、ケイ素の窒化物、アルミニウムとケイ素の混合窒化物、好ましくは窒化ケイ素から選択される窒化物、但し、窒化物又は混合窒化物は任意選択的にアルミニウム、ホウ素、イットリウムでドープされる、
− ケイ素、アルミニウムの酸窒化物、アルミニウムとケイ素の混合酸窒化物から選択される酸窒化物、但し、酸窒化物又は混合酸窒化物は任意選択的にアルミニウム、ホウ素、イットリウムでドープされる。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nmより大きく、好ましくは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも15.0nm又はそれより大きく、接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは多くとも50.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも30.0nm又はそれより小さい。好ましくは、接着性を改良する被覆の厚さは少なくとも0.0nmより大きく、多くとも50.0nm又はそれより小さく、好ましくは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、多くとも50.0nm又はそれより小さく、より好ましくは少なくとも15.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さい、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し第一透明被覆の幾何学的厚さは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも25.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも35.0nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも55.0nm又はそれより大きく、第一透明被覆の幾何学的厚さは多くとも129.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも95.0nm又はそれより小さく、より好ましくは多くとも90.0nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも75.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも60.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の厚さは10.0nm〜129.0nm、好ましくは25.0nm〜95.0nm、好ましくは35.0nm〜90.0nm、最も好ましくは50.0nm〜75.0nm、有利には55.0nm〜60.0nmである。
− 半透明金属製機能性被覆、但し前記被覆の色減衰厚さは少なくとも0.3nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも0.9nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも1.5nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも3.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも6.5nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも9.5nm又はそれより大きく、色減衰厚さは多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも28.0nm又はそれより小さく、より好ましくは多くとも25.2nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも18.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも15.0nm又はそれより小さい。好ましくは、色減衰厚さは、0.3nmから、好ましくは0.9nmから、より好ましくは1.5nmから、最も好ましくは3.0nmから30.0nmまで、好ましくは0.3nmから28.0nmまで、より好ましくは0.3nmから25.2nmまで、最も好ましくは6.5nmから18.0nmまで、好ましくは9.5nmから15.0nmまでの範囲内にあり、色減衰厚さは、金属製機能性被覆の幾何学的厚さと、前記被覆を構成する金属の550nmにおける屈折率の複素数部分kとを掛けた積に等しく、金属がステンレス鋼であるとき、金属製被覆の色減衰厚さは、少なくとも0.1nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも0.3nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも0.5nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも2.0nm又はそれより大きく、有利には、少なくとも2.0nm又はそれより大きい幾何学的厚さに相当し、幾何学的厚さは多くとも10.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも8.4nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも5.0nm又はそれより小さく、有利には多くとも40.0nm又はそれより小さい。好ましくは、ステンレス鋼の金属製機能性被覆の幾何学的厚さは、0.1nmから、好ましくは0.3nmから、より好ましくは0.5nmから10.0nmまで、より好ましくは0.1nmから8.4nmまで、最も好ましくは2.0nmから5.0nmまで、有利には3.0nmから4.0nmまでの値の範囲内にある。
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し第二透明被覆の幾何学的厚さは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも75.0nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも85.0nm又はそれより大きく、第二透明被覆の幾何学的厚さは多くとも150.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも125.0nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも100.0nm又はそれより小さい。好ましくは、第二透明被覆の幾何学的厚さは多くとも150.0nm又はそれより小さく、好ましくは105.0nm又はそれより小さく、第二透明被覆は、10.0nmから150.0nmまで、好ましくは50.0nmから150.0nmまで、より好ましくは75.0nmから125.0nmまで、最も好ましくは85.0nmから100.0nmまでの値の範囲内にある。
− ステンレス鋼から作られた少なくとも一つの層、好ましくは第一層を含む積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは多くとも1000.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の幾何学的厚さは、30.0nmから1000.0nmまで、より好ましくは50.0nmから1000.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にある。
− 窒化ケイ素に基づく誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し第一透明被覆の幾何学的厚さは10.0nm〜120.0nmである、
− チタンから作られた金属製機能性被覆、但し第一金属製機能性被覆の幾何学的厚さは1.0nmから10.0nmまで、好ましくは1.0nmから5.0nmまでの値の範囲内にある、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し第二透明被覆の幾何学的厚さは、20.0nmから120.0nmまでの値の範囲内にある。
− チタンの少なくとも一つの第一層を含む積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは多くとも1000,0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の幾何学的厚さは、30.0nmから100.0nmまで、好ましくは50.0nmから1000.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にある。
− 酸窒化ケイ素に基づく誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し第一透明被覆の幾何学的厚さは10.0nm〜120.0nmである、
− チタンから作られた金属製機能性被覆、但し第一金属製機能性被覆の幾何学的厚さは1.0nmから10.0nmまで、好ましくは1.0nmから5.0nmまでの値の範囲内にある、
− 酸窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し第二透明被覆の幾何学的厚さは、20.0nmから120.0nmまでの値の範囲内にある。
− チタンの少なくとも一つの第一層を含む積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは多くとも1000,0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の幾何学的厚さは、30.0nmから100.0nmまで、好ましくは50.0nmから1000.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にある。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する幾何学的厚さは少なくとも0.0nmより大きく、多くとも50.0nm又はそれより小さい。
− 窒化ケイ素に基づく誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し第一透明被覆の幾何学的厚さは10.0nm〜120.0nmである、
− チタンから作られた金属製機能性被覆、但し第一金属製機能性被覆の幾何学的厚さは1.0nmから10.0nmまで、好ましくは1.0nmから5.0nmまでの値の範囲内にある、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し第二透明被覆の幾何学的厚さは、20.0nmから120.0nmまでの値の範囲内にある。
− チタンの少なくとも一つの第一層を含む積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは多くとも1000,0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の幾何学的厚さは、30.0nmから1000.0nmまで、好ましくは50.0nmから1000.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にある。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する幾何学的厚さは少なくとも0.0nmより大きく、多くとも50.0nm又はそれより小さい。
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し第一透明被覆の幾何学的厚さは10.0nm又はそれより大きく、多くとも129.0nm又はそれより小さい、
− ステンレス鋼から作られた半透明金属製機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは1.0nmから10.0nmまでの値の範囲内にある、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し第二透明被覆の幾何学的厚さは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、多くとも150.0nm又はそれより小さい、
− チタンの少なくとも一つの第一層を含む積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは多くとも1000,0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の幾何学的厚さは、30.0nmから1000.0nmまで、好ましくは50.0nmから1000.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にある。
− 誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し第一透明層の幾何学的厚さは10.0nm〜120.0nmであり、前記第一被覆は異なる化学組成を有する少なくとも二つの層を含み、ガラス基板から第一層は、「接着性を改良する被覆」とも称される酸化ケイ素を含み、第二層は、酸窒化ケイ素又は「厳密に言うと誘電体材料から作られた第一透明被覆」を含む、
− チタンから作られた金属製機能性被覆、但し第一金属製機能性被覆の幾何学的厚さは1.0nmから10.0nmまで、好ましくは1.0nmから5.0nmまでの値の範囲内にある、
− 酸窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し第二透明被覆の幾何学的厚さは、20.0nmから120.0nmまでの値の範囲内にある。
− チタンの少なくとも一つの第一層を含む積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは多くとも1000,0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の幾何学的厚さは、30.0nmから1000.0nmまで、好ましくは50.0nmから1000.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にある。
である。
式中、L* atv,αは、強化前の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標L* vを表わす、
L* tv,αは、強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標L* v,αを表わす、α
a* atv,αは、強化前の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標a* v,αを表わす、
a* tv,αは、強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標a* v,αを表わす、
b* atv,αは、強化前の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標b* v,αを表わす、
b* tv,αは、強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標b* v,αを表わす。
である。
式中、L* t,v,α,tps1,t°1及びL* t,v,α,tps2,t°2はそれぞれ、温度t°1及び時間tps1で、並びに温度t°2及び時間tps2での強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標L* v,αを表わす、
a* t,v,α,tps1,t°1及びa* t,v,α,tps2,t°2はそれぞれ、温度t°1及び時間tps1で、並びに温度t°2及び時間tps2での強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標a* t,v,αを表わす、
b* t,v,α,tps1,t°1及びb* t,v,α,tps2,t°2はそれぞれ、温度t°1及び時間tps1で、並びに温度t°2及び時間tps2での強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標b* t,v,αを表わす。
においてΔE* fav,αが6.0より小さく、好ましくは4.0より小さく、より好ましくは2.0より小さいことを意味する:
式中、ΔL* fav,αは、強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域の色座標L* av,αと、積層板ガラスに相当する視野領域の色座標L* fv,αとの差を表わす、
Δa* av,α v,αは、強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域の色座標a* av,αと、積層板ガラスに相当する視野領域の色座標a* fv,αとの差を表わす、
Δb* fav,αは、強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域の色座標b* av,αと、積層板ガラスに相当する視野領域の色座標b* fv,αとの差を表わす。
− 窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物、酸化亜鉛、亜鉛−スズの混合酸化物(窒化物が好ましい)から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第一透明被覆、但しそれらの組成は、基板の強化時に半透明機能性被覆の光学特性のわずかな変化を起こし、前記被覆は60.0nm〜135.0nmの光学的厚さを有する、
− チタン、クロム、ステンレス鋼、パラジウム、窒化チタンから選択された少なくとも一つの化合物に基づいた金属製半透明機能性被覆、但しステンレス鋼がその機械的及び化学的安定性のために好ましく、前記被覆の幾何学的厚さは0.5nmから7.0nmまでの値の範囲内にある、
− 窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物、酸化亜鉛、亜鉛−スズの混合酸化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し窒化物が好ましく、それらの組成は、基板の強化又はそれらの付着時に半透明機能性被覆の光学的特性のわずかな変化を起こし、前記被覆は80.0nm〜210.0nmの光学的厚さを有する、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは約200.0nmであり、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含み、好ましくは前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属を含み、好ましくは前記金属はクロム、チタン、ステンレス鋼、ニッケル−クロム合金から選択される。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは114.4nmから122.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約118.4nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは3.0nmから3.8nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約3.4nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは183.0nmから204.8nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約194.0nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 前記基板は、スパンドレルとして使用するために好適な強化可能な基板であり、タイプStopray Vision−50Tの積層板ガラスと同じ色特性を有する。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは109.4nmから116.6nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約114.2nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは3.4nmから4.2nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約3.8nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは172.2nmから190.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約181.4nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 前記基板は、スパンドレルとして使用するために好適な強化可能な基板であり、タイプStopray Vision−60Tの積層板ガラスと同じ色特性を有する。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは113.6nmから124.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約118.8nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは3.2nmから4.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約3.6nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは166.2nmから180.2nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約173.2nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 前記基板は、スパンドレルとして使用するために好適な強化可能な基板であり、タイプPlanibel Energy NTの積層板ガラスと同じ色特性を有する。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは107.3nmから117.8nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約112.8nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは2.9nmから3.7nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約3.3nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは171.6nmから197.6nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約184.6nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 前記基板は、スパンドレルとして使用するために好適な強化可能な基板であり、タイプStopray Galaxyの積層板ガラスと同じ色特性を有する。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは42.8nmから48.3nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約45.6nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは4.2nmから5.6nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約5.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは92.0nmから296.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約94.3nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 前記基板は、スパンドレルとして使用するために好適な強化可能な基板であり、タイプStopray UltraVision−50の積層板ガラスと同じ色特性を有する。
− 窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物、酸化亜鉛、亜鉛−スズの混合酸化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し窒化物が好ましく、それらの組成は、基板の強化時に半透明機能性被覆の光学特性のわずかな変化を起こし、前記被覆の光学的厚さは50.0nm〜90.0nmの光学的厚さを有する、
− 金属及び窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた、好ましくはチタン、クロム、ステンレス鋼、パラジウム、窒化チタンから選択された少なくとも一つの化合物に基づいた半透明機能性被覆、但しステンレス鋼がその機械的及び化学的安定性のために好ましく、前記被覆の幾何学的厚さは0.1nmから3.0nmまでの値の範囲内にある、
− 窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物、酸化亜鉛、亜鉛−スズの混合酸化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し窒化物が好ましく、それらの組成は、基板の強化又はそれらの付着時に半透明機能性被覆の光学的特性のわずかな変化を起こし、前記被覆は100.0nm〜170.0nmの光学的厚さを有する、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは約200.0nmであり、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含み、好ましくは前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属を含み、好ましくは前記金属はクロム、チタン、ステンレス鋼、ニッケル−クロム合金から選択される。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは65.8nmから89.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約77.4nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは0.1nmから1.3nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約0.7nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、前記被覆の光学的厚さは114.6nmから151.8nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約133.2nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 前記基板は、スパンドレルとして使用するために好適な強化可能な基板であり、タイプStopray Vision−36Tの積層板ガラスと同じ色特性を有する。
− 窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物、酸化亜鉛、亜鉛−スズの混合酸化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し窒化物が好ましく、それらの組成は、基板の強化時に半透明機能性被覆の光学特性のわずかな変化を起こし、前記被覆は110.0nm〜190.0nmの光学的厚さを有する、
− 金属及び窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた、好ましくはチタン、クロム、ステンレス鋼、パラジウム、窒化チタンから選択された少なくとも一つの化合物に基づいた半透明機能性被覆、但しステンレス鋼がその機械的及び化学的安定性のために好ましく、前記被覆の幾何学的厚さは2.0nmから12.0nmまでの値の範囲内にある、
− 窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物、酸化亜鉛、亜鉛−スズの混合酸化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し窒化物が好ましく、それらの組成は、基板の強化又はそれらの付着時に半透明機能性被覆の光学的特性のわずかな変化を起こし、前記被覆は30.0nm〜80.0nmの光学的厚さを有する、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは約200.0nmであり、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含み、好ましくは前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属を含み、好ましくは前記金属はクロム、チタン、ステンレス鋼、ニッケル−クロム合金から選択される。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは130.6nmから153.8nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約142.4nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは2.8nmから8.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約5.6nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、前記被覆の光学的厚さは23.2nmから69.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約46.2nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 前記基板は、スパンドレルとして使用するために好適な強化可能な基板であり、タイプStopray Neoの積層板ガラスと同じ色特性を有する。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し、接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは108.0nmから130.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約119.0nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは1.0nmから6.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約2.5nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、前記被覆の光学的厚さは185.0nmから225.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約205.0nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 前記基板は、スパンドレルとして使用するために好適な強化可能な基板であり、タイプStopray Neoの積層板ガラスと同じ色特性を有する。
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆は100.0nm〜165.0nmの光学的厚さを有する、
− 金属又は窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づく、好ましくはチタン、クロム、ステンレス鋼、パラジウム、窒化チタンから選択された少なくとも一つの化合物に基づく半透明機能性被覆、但しステンレス鋼がその機械的及び化学的安定性のために好ましく、前記被覆の幾何学的厚さは0.5nm〜20.0nmの値の範囲内にある、
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し窒化物は、それらの付着が半透明機能性被覆の光学的特性の変化をほとんど起こさないために好ましく、前記被覆は235.0nm〜315.0nmの光学的厚さを有する、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは約200.0nmであり、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含み、好ましくは前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属を含み、好ましくは前記金属はクロム、チタン、ステンレス鋼、ニッケル−クロム合金から選択される。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し、接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは120.3nmから146.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約134.2nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは1.5nmから2.5nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約1.9nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、前記被覆の光学的厚さは250.8nmから294.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約272.6nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 任意選択的に強化された基板は、戸内又は戸外用途のための装飾用外装パネルとして使用するために好適であり、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側上で反射で10°でD65光源に従って測定すると、57≦L*≦71、−2.7≦a*≦1.3、−4.8≦b*≦1.2、特にL*=64、a*=−0.7、b*=−1.8のようなC.I.E.L.A.B系の色特性L*,a*,b*を有し、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側で反射で2°でD65光源に従って測定すると、27.6%〜37.6%、特に32.6%に等しい反射率を有し、前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している。表現「前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している」は、0°〜55°のあらゆる観察角度に対して6又はそれより小さい色座標についての変動ΔE*を意味する。
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆は100.0nm〜160.0nmの光学的厚さを有する、
− 金属又は窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づく、好ましくはチタン、クロム、ステンレス鋼、パラジウム、窒化チタンから選択された少なくとも一つの化合物に基づく半透明機能性被覆、但しステンレス鋼がその機械的及び化学的安定性のために好ましく、前記被覆の幾何学的厚さは1.0nm〜20.0nmの値の範囲内である、
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し窒化物は、それらの付着が半透明機能性被覆の光学的特性の変化をほとんど起こさないために好ましく、前記被覆は200.0nm〜270.0nmの光学的厚さを有する、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは約200.0nmであり、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含み、好ましくは前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属を含み、好ましくは前記金属はクロム、チタン、ステンレス鋼、ニッケル−クロム合金から選択される。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは116.0nmから142.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約129.0nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは2.8nmから4.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約3.6nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、前記被覆の光学的厚さは218.4nmから246.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約232.4nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 任意選択的に強化された基板は、戸内又は戸外用途のための装飾用外装パネルとして使用するために好適であり、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側上で反射で10°でD65光源に従って測定すると、52≦L*≦66、−4.9≦a*≦−0.9、−15.8≦b*≦−9.8、特にL*=59、a*=−2.9、b*=−12.8のようなC.I.E.L.A.B系の色特性L*,a*,b*を有し、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側で反射で2°でD65光源に従って測定すると、21.4%〜31.4%、特に26.4%に等しい反射率を有し、前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している。表現「前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している」は、0°〜55°のあらゆる観察角度に対して6又はそれより小さい色座標についての変動ΔE*を意味する。
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆は40.0nm〜90.0nmの光学的厚さを有する、
− 金属又は窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づく、好ましくはチタン、銀、窒化銀から選択された少なくとも一つの化合物に基づく半透明機能性被覆、但し前記窒化銀は任意選択的に亜窒化物であり、窒化又は亜窒化銀が任意選択的に好ましく、前記被覆の幾何学的厚さは2.0nm〜20.0nmの値の範囲内である、
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し窒化物は、それらの付着が半透明機能性被覆の光学的特性の変化をほとんど起こさないために好ましく、前記被覆は135.0nm〜215.0nmの光学的厚さを有する、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは約200.0nmであり、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含み、好ましくは前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属を含み、好ましくは前記金属はクロム、チタン、ステンレス鋼、ニッケル−クロム合金から選択される。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し、接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは31.8nmから101.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約66.4nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは4.2nmから6.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約5.4nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、前記被覆の光学的厚さは162.8nmから195.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約181.6nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 任意選択的に強化された基板は、戸内又は戸外用途のための装飾用外装パネルとして使用するために好適であり、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側上で反射で10°でD65光源に従って測定すると、38.5≦L*≦52.5、−5.1≦a*≦−1.1、−32≦b*≦−26、特にL*=45.5、a*=−3.1、b*=−29のようなC.I.E.L.A.B系の色特性L*,a*,b*を有し、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側で反射で2°でD65光源に従って測定すると、9%〜19%、特に14%に等しい反射率を有し、前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している。表現「前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している」は、0°〜55°のあらゆる観察角度に対して10又はそれより小さい色座標についての変動ΔE*を意味する。
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆は8.0nm〜60.0nmの光学的厚さを有する、
− 金属又は窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づく、好ましくはチタン、クロム、ステンレス鋼、パラジウム、窒化チタンから選択された少なくとも一つの化合物に基づく半透明機能性被覆、但しステンレス鋼がその機械的及び化学的安定性のために好ましく、前記被覆の幾何学的厚さは2.0nm〜10.0nmの値の範囲内である、
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し窒化物は、それらの付着が半透明機能性被覆の光学的特性の変化をほとんど起こさないために好ましく、前記被覆は130.0nm〜220.0nmの光学的厚さを有する、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは約200.0nmであり、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含み、好ましくは前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属を含み、好ましくは前記金属はクロム、チタン、ステンレス鋼、ニッケル−クロム合金から選択される。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し、接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは2.8nmから26.0nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約14.4nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは3.3nmから4.9nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約4.1nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、前記被覆の光学的厚さは160.0nmから195.8nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約178.0nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 任意選択的に強化された基板は、戸内又は戸外用途のための装飾用外装パネルとして使用するために好適であり、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側上で反射で10°でD65光源に従って測定すると、41.0≦L*≦55.0、−5.3≦a*≦−1.3、−34.0≦b*≦−26.0、特にL*=48.0、a*=−3.3、b*=−30.0のようなC.I.E.L.A.B系の色特性L*,a*,b*を有し、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側で反射で2°でD65光源に従って測定すると、11.0%〜21.0%、特に16.0%に等しい反射率を有し、前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している。表現「前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している」は、0°〜55°のあらゆる観察角度に対して10又はそれより小さい色座標についての変動ΔE*を意味する。
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆は80.0nm〜200.0nmの光学的厚さを有し、半透明機能性被覆が酸化されたステンレス鋼に基づくとき、誘電体材料から作られた第一透明被覆の光学的厚さは90nm〜150nmである、
− 金属、窒化物、酸化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づく、好ましくは銅、任意選択的に酸化されたステンレス鋼、Fe2O3及び/又はFe3O4の形の酸化鉄、窒化チタン、任意選択的に酸化されたステンレス鋼及び窒化チタンから選択された少なくとも一つの化合物に基づく半透明機能性被覆、但し酸化されたステンレス鋼がそれらの機械的及び化学的安定性のために好ましく、前記被覆の幾何学的厚さは0.5〜50.0nmの値の範囲内であり、半透明機能性被覆が酸化されたステンレス鋼に基づくとき、前記被覆の幾何学的厚さが10.0nm〜40.0nmである、
− 亜鉛、ケイ素、チタン、スズ、アルミニウムから選択された少なくとも一つの元素の酸化物、これらの元素の少なくとも二つの混合酸化物、好ましくは亜鉛−スズの混合酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム−ケイ素の混合窒化物から選択された少なくとも一つの化合物に基づいた誘電体材料から作られた第二透明被覆、但し窒化物は、それらの付着が半透明機能性被覆の光学的特性の変化をほとんど起こさないために好ましく、半透明機能性被覆が銅又は窒化チタンに基づくとき、前記第二透明被覆は100.0nm〜300.0nmの光学的厚さを有し、半透明機能性被覆が酸化されたステンレス鋼、Fe2O3及び/又はFe3O4の形の酸化鉄に基づくとき、第二透明被覆の光学的厚さは150.0nm〜245.0nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nm〜200.0nmの値の範囲内にあり、より好ましくは約200.0nmであり、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含み、好ましくは前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属を含み、好ましくは前記金属はクロム、チタン、ステンレス鋼、ニッケル−クロム合金から選択される。
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、好ましくは約15.0nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆、但し前記被覆の光学的厚さは102.8nmから132.4nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約122.6nmである、
− ステンレス鋼から作られた半透明機能性被覆、但し前記被覆の幾何学的厚さは23.8nmから35.8nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約29.8nmである、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆、前記被覆の光学的厚さは120.5nmから232.1nmまでの値の範囲内にあり、好ましくは約193.6nmである、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にあり、より好ましくは200.0nmより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆はステンレス鋼から作られる、
− 任意選択的に強化された基板は、戸内又は戸外用途のための装飾用外装パネルとして使用するために好適であり、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側上で反射で10°でD65光源に従って測定すると、61.0≦L*≦75.0、2.5≦a*≦6.5、2.0≦b*≦8.0、特にL*=68.0、a*=4.5、b*=5.0のようなC.I.E.L.A.B系の色特性L*,a*,b*を有し、UltraScanタイプの装置によってガラスシートの覆われていない面の側で反射で2°でD65光源に従って測定すると、33.0%〜43.0%、特に38.0%に等しい反射率を有し、前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している。表現「前記基板の色座標は観察角度から相対的に独立している」は、0°〜55°のあらゆる観察角度に対して6又はそれより小さい色座標についての変動ΔE*を意味する。
− 磁界援用真空陰極スパッタリング技術による第一透明誘電体被覆のガラスシート上の付着、但し第一透明被覆の光学的厚さは少なくとも5.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも20.0nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも70nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも110.0nm又はそれより大きく、かつ多くとも258.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも190.0nm又はそれより小さく、より好ましくは多くとも180.0nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも150.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも120.0nm又はそれより小さく、好ましくは光学的厚さは5.0nmから、好ましくは10.0nmから、より好ましくは20.0nmから258.0nmまで、好ましくは50.0nmから190.0nmまで、より好ましくは70.0nmから180.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから150.0nmまで、好ましくは110.0nmから120.0nmまでである、
− 磁界援用真空陰極スパッタリング技術による半透明機能性被覆の付着、但し半透明機能性被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.1nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも0.3nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも0.5nm又はそれより大きく、かつ多くとも50.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも25.0nm又はそれより小さく、好ましくは、幾何学的厚さは0.1nmから、好ましくは0.3nmから50.0nmまで、好ましくは0.5nmから25.0nmまでの値の範囲内にあり、前記半透明機能性被覆は10%〜70%の吸光度を有する、
− 磁界援用真空陰極スパッタリング技術による第二透明誘電体被覆の付着、但し第二透明被覆の光学的厚さは少なくとも20.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、最も好ましくは少なくとも150.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも170.0nm又はそれより大きく、かつ多くとも300nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも250.0nm又はそれより小さく、より好ましくは多くとも210.0nm又はそれより小さく、最も好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、光学的厚さは20.0nmから、好ましくは30.0nmから、より好ましくは100.0nmから300.0nmまで、より好ましくは150.0nmから250.0nmまで、最も好ましくは170.0nmから200.0nmまでの範囲内にある、
− 金属製被覆を付着するための磁界援用真空陰極スパッタリング技術による前記積重ねの金属の不透明性又は準不透明性を与える被覆の付着、但し不透明性又は準不透明性を与える前記被覆の幾何学的厚さは少なくとも30.0nm又はそれより大きく、好ましくは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、より好ましくは少なくとも100.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは多くとも1000.0nm又はそれより小さく、好ましくは多くとも200.0nm又はそれより小さい。好ましくは、前記被覆の幾何学的厚さは30.0nmから1000.0nmまで、好ましくは50.0nmから1000.0nmまで、最も好ましくは100.0nmから200.0nmまでの値の範囲内にある。
− 第一透明誘電体被覆(2)、
− 半透明機能性被覆(3)、
− 第二透明誘電体被覆(4)、
− 不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)。
− 第一透明誘電体被覆(2)、
− 半透明機能性被覆(3)、
− 第二透明誘電体被覆(4)、
− 不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)、
− 保護被覆(6)。
− 接着性を改良するための被覆(7)、
− 第一透明誘電体被覆(2)、
− 半透明機能性被覆(3)、
− 第二透明誘電体被覆(4)、
− 不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)、
− 保護被覆(6)。
− 第一透明誘電体被覆(2)、
− 半透明機能性被覆(3)、
− 第二透明誘電体被覆(4)、
− 不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)、
− 接着性層(60)を含む保護被覆(6)。
であり、式中、L* t,v,α,7min.,670℃,a* t,v,α,7min.,670℃,b* t,v,α,7min.,670℃は670℃の温度で7分の強化後の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の色座標L*,a*,b*を表わし、L* t,v,α,tps,t°,a* t,v,α,tps,t°,及びb* t,v,α,tps,t°はそれぞれt°の温度で時間tps時の外装パネルのための干渉色を有する同じガラス基板に対する強化処理後の色座標L*,a*,b*を表わす。
である。
式中、ΔL* i,αは、シミュレーションによって得られた外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域、及び測定された積層板ガラスに対応する視野領域の色座標L* i,α間の差を表わす。
Δa* i,αは、シミュレーションによって得られた外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域、及び測定された積層板ガラスに対応する視野領域の色座標a* i,α間の差を表わす。
Δb* i,αは、シミュレーションによって得られた外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域、及び測定された積層板ガラスに対応する視野領域の色座標b* i,α間の差を表わす。
である。
式中、ΔL* i,αは、シミュレーションによって得られた外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域、及び測定された積層板ガラスに対応する視野領域の色座標L* i,α間の差を表わす。
Δa* i,αは、シミュレーションによって得られた外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域、及び測定された積層板ガラスに対応する視野領域の色座標a* i,α間の差を表わす。
Δb* i,αは、シミュレーションによって得られた外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域、及び測定された積層板ガラスに対応する視野領域の色座標b* i,α間の差を表わす。
である。
式中、ΔL* i,αは、シミュレーションによって得られた外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域、及び測定された積層板ガラスに対応する視野領域の色座標L* i,α間の差を表わす。
Δa* i,αは、シミュレーションによって得られた外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域、及び測定された積層板ガラスに対応する視野領域の色座標a* i,α間の差を表わす。
Δb* i,αは、シミュレーションによって得られた外装パネルのための干渉色を有するガラス基板からなる不透明領域、及び測定された積層板ガラスに対応する視野領域の色座標b* i,α間の差を表わす。
CASS試験は、銅−酢酸溶液の存在下で加速塩霧腐食試験に例のものを供することによって耐腐食性の目安を得るのに役立つ。試験試料は、50℃のチャンバー内に置かれ、50g/lの塩化ナトリウム、0.26g/lの十分な氷酢酸を持つ無水塩化銅を含有する水溶液を噴射し、噴射した溶液のpHを3.1〜3.3に調整することによって形成された霧の作用に供される。この試験の詳細の全ては、国際標準規格ISO 9227−1990に記載されている。試料は、異なる時間間隔で塩霧の作用に供されることができ、その後、人工的に老化された試料の反射特性が新しく形成された試料の反射特性と比較されることができる。老化に対する試料の耐性の有用な目安を与えるために120時間の露出時間が見い出される。CASS試験は、100cm2タイルの面積を有しかつ新しく切断された縁を有する正方形試料について実施される。銅塩を含有する酢酸溶液に基づく霧への露出の120時間後、各タイルは顕微鏡検査に供される。腐食の主な目に見える証拠は、不透明又は準不透明を起こす被覆の暗色化、及び反射装飾パネルの周囲の前記被覆の剥離である。腐食のスケールは、試料の二つの対向する縁の各々の五つの均一に間隔をあけられた場所で観察され、十回の測定値の算術平均が計算される。試料の境界の最大腐食もまた、結果を得るために測定されることができ、それはミクロンで測定され、好ましくは最大腐食は300μ未満であり、好ましくは250μ未満である。良好な測定再現性を得るために、CASS試験は、十個の試料及び各試料の算術平均から計算された十個の試料の算術平均について実施されることができる。好ましくは、試料は、CASS試験後に白色斑点がdm2あたり五つより少なく、好ましくは白色斑点がdm2あたり一つより少ない。
水浴内及び湿ったチャンバー内での試験は、接着剤に対する耐性及び/又は接着剤との適合性を試験することを意図される。直径約5cmの接着剤の塊が10×10cmの試料の後に、即ち不透明性又は準不透明性を与える被覆の後に置かれる。接着剤の厚さは2mmであり、この厚さは2mm厚のスペーサを使用することによって得られる。水浴試験では、試料は、接着剤が付与された直後に水浴に置かれる。水浴中の水の温度は35℃に調整される。各接着剤のファミリーに対して別個の水浴が使用される。湿ったチャンバー試験では、試料は周囲温度及び周囲条件で接着剤の重合の10日後に湿ったチャンバー内に置かれる。湿ったチャンバーは40℃の温度に調整される。二つの試験は20日の持続期間を持つ。これらの試験の結果の評価は四つの見出しで分類される:
・許容できない:昼光で測定されるときに「曇り」の変化が観察される。
・許容可能の限界:拡散光で暗室で測定されるときに「曇り」の変化が観察される。
・許容可能:スポットライト下で暗室で測定されるときに「曇り」の変化が観察される。
・O.K.:「曇り」の変化が全く観察されない。
基板に対する被覆の積重ねの接着は、上記のAWRT試験を使用して測定される。
Claims (14)
- 被覆の積重ねによって一方の面上を覆われたガラスシート(1)を含む、外装パネルのための干渉色を有するガラス基板において、前記被覆の積重ねが、ガラスシート(1)から連続して少なくとも以下のものを含むことを特徴とするガラス基板:
− 誘電体材料から作られた第一透明被覆(2)、但し第一透明被覆(2)の光学的厚さは少なくとも5.0nm又はそれより大きく、多くとも258.0nm又はそれより小さい、
− 半透明機能性被覆(3)、但し半透明機能性被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.1nm又はそれより大きく、多くとも50.0nm又はそれより小さい、
− 誘電体材料から作られた第二透明被覆(4)、但し第二透明被覆(4)の光学的厚さは少なくとも20.0nm又はそれより大きく、多くとも300.0nm又はそれより小さい、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)の幾何学的厚さは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含み、
但し誘電体材料から作られた前記第一及び第二透明被覆(2,4)は、酸化ケイ素、少なくともケイ素及びアルミニウムの混合された酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム及びケイ素の混合された窒化物、酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、並びにケイ素及びアルミニウムの混合された酸窒化物から選択される材料によって構成された少なくとも一つの層を含み、
前記半透明機能性被覆は、チタン、タングステン、ニオブ、クロム、ニッケル、銅、タンタル、ジルコニウム、イットリウム、パラジウム、鉄、これらの金属の少なくとも二つの混合物又は合金、及びステンレス鋼から選択される金属によって構成された少なくとも一つの層を含み、
被覆の光学的厚さは、前記被覆の幾何学的厚さと前記被覆を構成する材料の550nmの波長における屈折率とを掛けることによって得られ、
半透明機能性被覆は、可視光の波長に対して半透明である機能性被覆であり、被覆が4mmの幾何学的厚さを有する透明シリカソーダ石灰フロートガラスのシートに適用されるとき、標準規格EN410に従って、CIE規格D65「昼光」光源に相当する光源でかつ2°の立体角で測定すると、吸光度が10%から70%の値の範囲内にあることを意味し、
積重ねの不透明性又は準不透明性は、前記積重ねが4mm厚の透明シリカソーダ石灰フロートガラスに適用され、標準規格EN410に従ってCIE規格D65「昼光」光源に相当する光源でかつ2°の立体角で測定すると、光透過率が最大4%であることを意味する。 - 前記被覆の積重ねが、ガラスシート(1)から連続して少なくとも以下のものを含むことを特徴とする、請求項1に記載のガラス基板:
− 誘電体材料から作られた第一透明被覆(2)、但し第一透明被覆(2)の光学的厚さは少なくとも5.0nm又はそれより大きく、多くとも258.0nm又はそれより小さい、
− 半透明金属製機能性被覆(3)、但し半透明金属製機能性被覆の色減衰厚さは少なくとも0.3nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、色減衰厚さは、金属製機能性被覆の幾何学的厚さと前記被覆を構成する金属の550nmにおける屈折率の複素数部分kとを掛けた積に等しい、
− 誘電体材料から作られた第二透明被覆(4)、但し第二透明被覆の光学的厚さは少なくとも20.0nm又はそれより大きく、多くとも300.0nm又はそれより小さい、
− 前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)、但し前記不透明性又は準不透明性を与える被覆の幾何学的厚さは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、前記不透明性又は準不透明性を与える被覆は少なくとも一種の金属、少なくとも一種の半金属、少なくとも一種の窒化物又は少なくとも一種の炭化物を含む。 - 半透明機能性被覆(3)及び不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)が金属製被覆であることを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス基板。
- ガラスシート(1)が透明シリカソーダ石灰ガラスからなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガラス基板。
- ガラス基板が、積重ねの不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)の上に保護被覆(6)を含み、保護被覆(6)の幾何学的厚さが少なくとも5.0nm又はそれより大きいことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガラス基板。
- 保護被覆(6)の少なくとも一つの層を構成する材料が、炭素、クロム、ニッケル、アルミニウム、ステンレス鋼、ニッケル−クロム(NiCr)、NiCrAlY、酸化ケイ素、窒化ケイ素、及び酸窒化ケイ素から選択される化学化合物であることを特徴とする請求項5に記載のガラス基板。
- ガラス基板が、ガラスシートと誘電体材料から作られた第一透明被覆(2)の間に接着性を改良する被覆を含み、前記被覆が透明誘電体材料(7)から作られることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のガラス基板。
- 半透明機能性被覆(3)の少なくとも一つの層及び積重ねの不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)の少なくとも一つの層が同じ化学組成を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のガラス基板。
- ガラス基板が、ガラスシートから連続して少なくとも以下のものを含むことを特徴とする7又は8に記載のガラス基板:
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆(7)、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも50.0nm又はそれより小さい、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆(2)、但し第一透明被覆の幾何学的厚さは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、多くとも129.0nm又はそれより小さい、
− 半透明金属製機能性被覆(3)、但し半透明金属製機能性被覆(3)の色減衰厚さは少なくとも0.3nm又はそれより大きく、多くとも30.0nm又はそれより小さく、色減衰厚さは、機能性被覆の幾何学的厚さと前記被覆を構成する金属の550nmにおける屈折率の複素数部分kとを掛けた積に等しい、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆(4)、但し第二透明被覆(4)の幾何学的厚さは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、多くとも150.0nm又はそれより小さい、
− ステンレス鋼の少なくとも一つの層を含む不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆(5)、但し金属製被覆の幾何学的厚さは少なくとも50.0nm又はそれより大きい。 - ガラス基板が少なくとも以下のものを含むことを特徴とする請求項8に記載のガラス基板:
− 窒化ケイ素に基づく誘電体材料から作られた第一透明被覆(2)、但し第一透明被覆の幾何学的厚さは10.0nm〜120.0nmである、
− チタンから作られた半透明金属製機能性被覆(3)、但し半透明金属製機能性被覆の幾何学的厚さは1.0nm〜10.0nmの値の範囲内にある、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆(4)、但し第二透明被覆の幾何学的厚さは20.0nm〜120.0nmの値の範囲内にある、
− チタンの少なくとも一つの第一層を含む、積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆(5)、但し不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは少なくとも50.0nm又はそれより大きい。 - ガラス基板が、ガラスシート(1)から連続して少なくとも以下のものを含むことを特徴とする請求項9に記載のガラス基板:
− 酸窒化ケイ素から作られた接着性を改良する被覆(7)、但し接着性を改良する被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.0nm又はそれより大きく、多くとも50.0nm又はそれより小さい、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第一透明被覆(2)、但し第一透明被覆の幾何学的厚さは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、多くとも129.0nm又はそれより小さい、
− ステンレス鋼から作られた半透明金属製機能性被覆(3)、但し前記半透明金属製機能性被覆の幾何学的厚さは0,1nm〜10.0nmの値の範囲内にある、
− 窒化ケイ素の誘電体材料から作られた第二透明被覆(4)、但し第二透明被覆の幾何学的厚さは少なくとも10.0nm又はそれより大きく、多くとも150.0nm又はそれより小さい、
− ステンレス鋼の少なくとも一つの層を含む、積重ねの不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆(5)、但し金属製被覆の幾何学的厚さは少なくとも50.0nm又はそれより大きく、不透明性又は準不透明性を与える金属製被覆の幾何学的厚さは多くとも1000.0nm又はそれより小さい。 - 前記ガラス基板が強化可能であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載のガラス基板。
- 請求項1〜12のいずれかに記載の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板を製造するための方法において、以下の連続する工程を含むことを特徴とする方法:
− 磁界援用真空陰極スパッタリング技術による第一透明誘電体被覆(2)のガラスシート(1)上の付着、但し第一透明誘電体被覆(2)は、酸化ケイ素、少なくともケイ素及びアルミニウムの混合された酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム及びケイ素の混合された窒化物、酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、並びにケイ素及びアルミニウムの混合された酸窒化物から選択される材料によって構成された少なくとも一つの層を含み、第一透明誘電体被覆(2)の光学的厚さは少なくとも5.0nm又はそれより大きく、多くとも258.0nm又はそれより小さい、
− 磁界援用真空陰極スパッタリング技術による半透明機能性被覆(3)の付着、但し半透明機能性被覆(3)は、チタン、タングステン、ニオブ、クロム、ニッケル、銅、タンタル、ジルコニウム、イットリウム、パラジウム、鉄、これらの金属の少なくとも二つの混合物又は合金、及びステンレス鋼から選択される金属によって構成された少なくとも一つの層を含み、半透明機能性被覆の幾何学的厚さは少なくとも0.1nm又はそれより大きく、多くとも50.0nm又はそれより小さい、
− 磁界援用真空陰極スパッタリング技術による第二透明誘電体被覆(4)の付着、但し第二透明誘電体被覆(4)は、酸化ケイ素、少なくともケイ素及びアルミニウムの混合された酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、アルミニウム及びケイ素の混合された窒化物、酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、並びにケイ素及びアルミニウムの混合された酸窒化物から選択される材料によって構成された少なくとも一つの層を含み、第二透明誘電体被覆の光学的厚さは少なくとも20.0nm又はそれより大きく、多くとも300.0nm又はそれより小さい、
− 磁界援用真空陰極スパッタリング技術による前記積重ねの不透明性又は準不透明性を与える被覆(5)の付着、但し不透明性又は準不透明性を与える前記被覆(5)の幾何学的厚さは少なくとも50.0nm又はそれより大きい
但し、被覆の光学的厚さは、前記被覆の幾何学的厚さと前記被覆を構成する材料の550nmの波長における屈折率とを掛けることによって得られ、
半透明機能性被覆は、可視光の波長に対して半透明である機能性被覆であり、被覆が4mmの幾何学的厚さを有する透明シリカソーダ石灰フロートガラスのシートに適用されるとき、標準規格EN410に従って、CIE規格D65「昼光」光源に相当する光源でかつ2°の立体角で測定すると、吸光度が10%から70%の値の範囲内にあることを意味し、
積重ねの不透明性又は準不透明性は、前記積重ねが4mm厚の透明シリカソーダ石灰フロートガラスに適用され、標準規格EN410に従ってCIE規格D65「昼光」光源に相当する光源でかつ2°の立体角で測定すると、光透過率が最大4%であることを意味する。 - ファサード外装パネルとしての請求項1〜12のいずれかに記載の外装パネルのための干渉色を有するガラス基板の使用。
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