JP2002047033A - 熱処理可能な熱線遮蔽ガラス - Google Patents

熱処理可能な熱線遮蔽ガラス

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JP2002047033A JP2000232908A JP2000232908A JP2002047033A JP 2002047033 A JP2002047033 A JP 2002047033A JP 2000232908 A JP2000232908 A JP 2000232908A JP 2000232908 A JP2000232908 A JP 2000232908A JP 2002047033 A JP2002047033 A JP 2002047033A
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heat
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transparent
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Masaji Onishi
正司 大西
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Central Glass Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 曲げ及び/又は強化等の熱処理を行っても、
色調、外観の変化が小さく、さらに耐湿性能が劣化しな
い熱線遮蔽ガラスを得ること。 【解決手段】 透明ガラス基板表面に、透明金属酸化物
或いは透明窒化物よりなる下部誘電体層/Ag層/A
l、Ti、NiCrの内の少なくとも1種よりなる金属
バリヤー層/ZnAlxy層(x=0.5〜2.5、y
=3.5〜4.5)/透明金属酸化物或いは透明窒化物
よりなる上部誘電体層が順次積層された熱線遮蔽膜を被
覆すること。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、住宅やオフィス等
の建築用はもちろん車両用等の窓ガラス、さらには船舶
用や航空機用の窓ガラス等各種の窓ガラスとして有用な
熱処理可能な熱線遮蔽ガラスに関する。
【0002】
【従来技術】最近、例えばオフィスや住宅等において、
断熱性、保温性、遮熱等に優れた熱線遮蔽ガラスが寒冷
地を中心に用いられている。この寒冷地の住宅等の窓ガ
ラスに用いられている熱線遮蔽ガラスは高い可視光透過
率を持ち、日射エネルギーの内でも温熱効果の高い波長
1μm程度までの赤外線は透過するが、室内の暖房機器
から放射される波長2〜4μmの赤外線から、室温程度
の物体から放射される10〜20μm程度の長い波長の
赤外線に対しては反射率が高い。そのため、このガラス
を用いると、外部からの日射エネルギーは室内に取り入
れつつ、室内から室外に放射される熱線を遮蔽すること
ができるので、冬季の室内環境が快適になり、暖房負荷
も軽減される。また、それらの熱線遮蔽ガラスは、ガラ
スの温度を約550〜650℃で4〜10分程度保持す
ることにより、種々の形状に曲げ加工したり、或いは割
れ防止のために強化加工をする場合がある。
【0003】従来、熱加工ができる熱線遮蔽ガラスとし
ては、例えば、特許第2509925号公報にはAg層
上にAl、Ti、Zn,Taから選択した付加金属層、
反射防止金属酸化物層を被覆してなる湾曲及び/又は強
化銀被覆ガラス基体およびその製造方法、特許第259
8476号公報には銀層の上下にNiを主成分とする金
属層を設けた熱放射に対する高い反射性を有する窓ガラ
スを製造する方法および窓ガラス、特開平8−3369
23号公報には赤外反射性金属フィルムの上下にTi、
Zr、Cr、Zn/Snよりなる金属プライマー層を設
けた高透過率、低輻射率の耐熱性窓またはウインドシー
ルドおよびその製造方法等が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
許第2509925号、特許第2598476号、特開
平8−336923号の発明は、Ag層等の上下に形成
するバリヤー層を厚めに成膜し、Ag層の代わりにこの
バリヤー層が熱により酸化されることにより性能を維持
することを目的として成膜されたものであるが、加熱処
理されたガラスはバリヤー層が酸化されて無くなる事に
より大気中に放置すると大気中に含まれる水分によりA
gが酸化され易く変色やピンホールの原因となり、保管
期間や保管方法(耐湿倉庫)が制限されるなどの問題が
あった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、従来のこれら
の課題に鑑み種々検討した結果、熱加工した熱線遮蔽ガ
ラスの耐湿性を長期に保持するために機械的強度が非常
に高く、且つ高熱にも非常に安定である透明なZnAl
xy結晶層をAg層の上部に設けることにより、熱加工
処理してもAg層の酸化がなく、格段に耐湿性を向上す
ることができることを見出した。
【0006】すなわち、本発明の熱処理可能な熱線遮蔽
ガラスは、透明ガラス基板表面に、透明金属酸化物或い
は透明窒化物よりなる下部誘電体層/Ag層/Al、T
i、NiCrの内の少なくとも1種よりなる金属バリヤ
ー層/ZnAlxy層(x=0.5〜2.5、y=3.
5〜4.5)/透明金属酸化物或いは透明窒化物よりな
る上部誘電体層が順次積層された熱線遮蔽膜が被覆され
てなることを特徴とする。
【0007】また、本発明の熱処理可能な熱線遮蔽ガラ
スは、熱線遮蔽ガラスが550〜650℃の温度で曲げ
及び/又は強化のための熱加工処理が施されてなること
を特徴とする。
【0008】さらに、本発明の熱処理可能な熱線遮蔽ガ
ラスは、熱線遮蔽膜が下部誘電体層の膜厚が8〜70n
m,Ag層の膜厚が8〜25nm、金属バリヤー層の膜
厚が2〜5nm、ZnAlxy層の膜厚が5〜30n
m、上部誘電体層の膜厚が10〜70nm、膜の総厚が
200nm以下からなることを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の態様】本発明の熱線遮蔽ガラスは、透明
ガラス基板表面に、透明金属酸化物或いは透明窒化物よ
りなる下部誘電体層/Ag層/Al、Ti、NiCrの
内の少なくとも1種よりなる金属バリヤー層/ZnAl
xy層(x=0.5〜2.5、y=3.5〜4.5)/
透明金属酸化物或いは透明窒化物よりなる上部誘電体層
が順次積層された熱線遮蔽膜が被覆されてなることを特
徴とする。
【0010】前記の透明金属酸化物或いは透明窒化物よ
りなる上部或いは下部誘電体層としては、Zn、Sn、
Ti、Si等より選択された1種以上の透明酸化物、或
いはSi、Al等より選択された1種以上の透明窒化物
を用いることができる。下部誘電体層は、ガラス中の成
分であるアルカリ成分が膜中に移行するのを防ぐアルカ
リバリヤー層としての作用を有し、上部誘電体層は、機
械的、化学的な保護膜としての作用を有する。これらの
膜厚は最低5nm程度が好ましいが、これら誘電体層は
光学干渉膜としての作用も有し、また窓ガラスとしての
可視光線透過率を55%以上とする為には、下部誘電体
層は8nm以上、上部誘電体層は10nm以上とするこ
とが好ましい。
【0011】また、下部誘電体層のアルカリバリヤー作
用、或いは上部誘電体層の保護膜作用の性能としては、
膜厚が厚くなるほどそれらの性能は向上するが、熱線遮
蔽膜のトータル膜厚が余り厚くなると、膜を上面にして
凹側に1000R程度に曲げた場合に膜割れが生じる事
から考慮し、下部誘電体層の上限膜厚は70nm以下、
上部誘電体層の上限膜厚は70nm以下とすることが好
ましい。なお、熱線遮蔽膜のトータル膜厚が余り厚くな
ると、前述のように膜を上面にして凹側に曲げた場合に
膜割れが生じるので、熱線遮蔽膜の総厚は200nm以
下とすることが好ましい。
【0012】下部及び上部誘電体層としての酸化物層と
しては、酸化錫層よりなる非晶質の被膜が、化学的にも
機械的にも強く、且つ非晶質のルーズな構造のためガラ
スとの密着力も強く、内部応力も発生しにくいので、ガ
ラス基板の直上に被覆することが望ましい。しかし、該
酸化錫層は特にAgとの密着力が劣り、酸化錫層/Ag
層界面での剥離が起こり易く、また酸化錫はそのイオン
化傾向から分かるように酸素との結合が弱く、被膜内の
酸素の化学的ポテンシャルが高いため、Ag層に酸素が
拡散しやすく電気抵抗が上り高電磁波遮蔽を達成し難い
ので、該酸化錫層はAg層と接触させないことが好まし
い。なお、酸化錫層には化学的、機械的特性を向上し、
またガラスとの密着力も強くする非晶質の被膜成分とし
ての元素が含まれても良い。
【0013】また、誘電体層としての酸化亜鉛層は、A
g層との密着力が高く、また酸素との高い結合力によっ
て層内の酸素のポテンシャルが低いため、Ag層内に酸
素が拡散しにくいので、Ag層直下の層は酸化亜鉛層が
望ましい。なお、酸化亜鉛層にはAg層との密着力を低
下せず、Ag層内に酸素が拡散しにくくするような被膜
の成分としての公知の元素が含まれても良い。また、A
g層に接触する酸化物層中の酸素の化学ポテンシャルは
できる限り低く保つことが肝要で、酸化亜鉛成膜時の雰
囲気は酸素と共にできるだけ多くのアルゴンを添加する
のが望ましい。望ましいアルゴンの添加率は設備によっ
て異なるが、概ね10〜30%が好ましい。この値は酸
素雰囲気から徐々にアルゴンを添加していき、ターゲッ
トにかかる電圧が急に上がるか、電流が急に下がる現象
を観測し、そこからアルゴンを若干減らすことで決めら
れる。また、酸化亜鉛層は緻密で大気中の腐食性ガスの
拡散を防ぐ効果があり、また太陽光線に含まれる紫外線
を吸収する働きがあるが化学的耐久性が低いため、上部
誘電体層に酸化亜鉛層を用いる場合には、さらにその上
層に非晶質酸化物である酸化錫層を設けることが望まし
い。
【0014】Ag層は熱線を反射する層であるが、あま
り膜厚が厚過ぎると透過率が低下するので、8〜25n
mが好ましい。なお、Ag層は、Agを主成分としAg
に5%以下のNi、Zr、Cr、Pd、Ruの内の少な
くとも1種以上の元素を含んでいても差し支えない。
【0015】金属バリヤー層としては、Ti、Al、N
iCrの内の少なくとも1種以上の金属を用いることが
出来、その膜厚としては2〜5nmが好ましい。この金
属バリヤー層は、Ag層の直上に金属バリヤー層を成膜
した直後は全厚が金属層であるが、次いで、例えば該金
属層の上層に誘電体層の金属酸化物を成膜する時、酸化
性雰囲気(例えば酸素80%、アルゴン20%)で成膜
するため、該金属層の上層部の一部が酸化物に変換され
る。この上層部が酸化された酸化物層と残った金属層を
含めて金属バリヤー層と呼ぶ。すなわち、金属バリヤー
層の膜厚とは、最初に金属層を成膜した時の膜厚を示
す。
【0016】金属バリヤー層の作用は、該金属バリヤー
層の上部のZnAlxy層を成膜する際に、その酸化性
雰囲気の影響が下部のAg層に及ばないように成膜中の
Ag層を保護するものである。さらに、成膜後に大気中
の水分が膜中に入りこみAgを酸化させるのを防ぎ、A
g層の耐湿性を向上する作用も併せて有している。この
金属バリヤー層としては、前記のTi、Al、NiCr
の金属がその上部のZnAlxy層と相性がよく、加熱
処理時の膜の膨張率の差が小さく内部応力等が発生しに
くく膜が割れなくなる。その内、特にTiは、最も好ま
しい金属である。この金属バリヤー層の膜厚は、厚いほ
ど強い効果が長続きすることは当然であるが、厚すぎる
と可視光線透過率を下げてしまう。しかし、次に酸化物
を成膜する際、該金属バリヤー層の一部は酸化されるの
で、その酸化前の最初の金属層の厚みは2〜5nmとす
ることが好ましく、より好ましくは1.6〜3.0nm
程度が良い。なお、金属バリヤー層は、場合によっては
Ag層の下部に0〜3nmの範囲の膜厚で設けてもよ
い。
【0017】金属バリヤー層の上部にはZnAlxy
を設けることが必要であり、その膜厚は5〜30nmと
することが好ましい。このZnAlxy層は、スピネル
構造を有し、球状の最密構造である緻密な面心立方格子
の立方晶形の結晶を多量に含んでおり密度が高く、機械
的強度或いは高熱にも非常に安定である。また、緻密で
あるので、熱処理時の酸素の侵入を防ぐことが出来、前
記Ag層、金属バリヤー層を酸素より保護することが出
来る。このZnAlxy膜は、該バリヤー層が加熱によ
り酸化されるのを防止する働きがあり、加熱処理後もバ
リヤ−層をAgの保護膜として残す事ができる。従って
加熱処理後も耐湿性を維持する事ができる。また、加熱
時の外観品質についてもバリヤー層の割れをZnAlx
yが防ぐ事から良化する事ができる。ZnAlxOny
膜の性能の点から、膜中にスピネル構造をとるZnAl
24が多い程この酸化を防止する効果が高くなり、x=
0.5〜2.5、y=3.5〜4.5の範囲が好まし
い。
【0018】前記はAg層が1層の場合を述べたが、透
明金属酸化物或いは透明窒化物よりなる下部誘電体層/
Ag層/Al、Ti、NiCrの内の1種以上よりなる
金属バリヤー層/ZnAlxy層/透明金属酸化物或い
は透明窒化物よりなる上部誘電体層の上部に、さらにA
g層/Al、Ti、NiCrの内の1種以上よりなる金
属バリヤー層/ZnAlxy層/透明金属酸化物或いは
透明窒化物よりなる誘電体層を積層しAg層を2層以上
に設けることもできる。なお、熱線遮蔽膜の膜厚は、全
体で200nm以下とすることが好ましい。
【0019】本発明の透明基板としては、汎用の普通板
ガラス、所謂フロート板ガラスなどであり、クリアをは
じめグリ−ン、ブロンズ等各種着色ガラスや各種機能性
ガラス、強化ガラスやそれに類するガラス、合せガラス
のほか複層ガラス等、さらに平板あるいは曲げ板等各種
板ガラス製品として使用できることは言うまでもない。
また、ガラスの組成は、ソーダ石灰ガラス、アルミノシ
リケートガラス等であるが、これらに限定されないこと
は、言うまでもない。
【0020】前記、熱線遮蔽ガラスの光学特性として
は、熱処理前における可視光線透過率が55〜85%、
膜面及びガラス面反射率が4〜30%であることが好ま
しい。また、加熱処理前後の可視光線透過率変化ΔT<
5.0%、加熱処理全後の可視光線反射率変化ΔR<
5.0%、加熱処理全後の可視光線反射率色調変化ΔE
<5.0%であることが好ましい。
【0021】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。なお、成膜はDCマグネトロンスパッタリング法に
より行った。但し、本発明は、係る実施例に限定される
ものではない。なお、下記の表1、表2に示す熱線遮蔽
ガラスの評価は以下の方法により行った。(1)可視光
線透過率;分光光度計(型式U−4000 日立製)に
より測定 (2)放射率;赤外分光光度計(型式270−30 日
立製)により測定 (2)シート抵抗;4探針プローブ抵抗計(エプソン社
製)により測定 (3)耐湿性;30℃−湿度90%の環境試験機(タバ
イエタック製)中に2週間暴露した後、膜面に発生した
ピンホールの有無を評価し、ピンホールの発生がなけれ
ば合格(○)とした (4)色調変化;色彩色差計CR−200(ミノルタ
製)により、熱処理による色調変化△E=(△L*2+△
*2+△b*21/2を求め、△E が5以下の場合
を合格(○)とした (5)外観検査;目視により膜面に発生したピンホール
及び色調ムラを評価し、これらの欠陥がないものを合格
(○)とした。
【0022】(実施例1〜3) 〔成膜〕大きさが1000mm×580mm×約3mm
(厚さ)のフロートガラス基板の表面上に、スパッタ装
置を用いて下記のように熱線遮蔽膜を成膜した。該スパ
ッタ装置は、BOC製のマグネトロンスパッタリングカ
ソードを用い、電源はDC電源を用いた。なお、成膜前
のチャンバー内のベース圧は10-4Pa以下とすること
が安定性の点から好ましい。
【0023】酸化物(SnO2、ZnO、ZnAl
xy)は、酸素95%,Ar5%のプロセスガス組成で
真空度が4.0〜6.0×10-1Paの範囲になる様に
圧力制御を行い、金属ターゲット(Sn、Zn、ZnA
l)は20〜60kwの電力一定となる様に電力制御を
行い成膜を行った。なお、得られたZnAlxy層は、
ZnAl24の結晶を含む膜であった。また、金属層
(Ag、Ti、Zn)は、Ar100%のプロススガス
中で真空度が1.0〜4.0×10−1Paの範囲にな
る様に圧力制御を行い、金属ターゲット(Ag、Ti、
Zn)に20〜60kwの電力を一定となる様に電流制
御を行い成膜した。膜厚は、カソード下を通過するガラ
スの通過速度を変化させて所定の膜厚を得、目標とする
膜構成の順に順次成膜を実施した。また、必要に応じて
ターゲット表面をArガスでクリニングを行った。な
お、実施例1乃至3の熱線遮蔽膜の膜構成(膜組成、膜
厚(nm))、及び熱加工前の特性(可視光線透過率
(%)、放射率、シート抵抗値(Ω/□))を表1に示
す。
【0024】〔熱処理〕上記で得られた熱線遮蔽ガラス
をステンレス製のキャリヤーに膜面を上にして載置し、
大気中650℃に保持されたマッフル炉に入れる。その
後10分間保持(通常曲げ処理条件)した後、ガラスサ
ンプルをキャリヤーごと炉外へ取り出し、大気中−室温
(25℃)で除冷を行った。なお、成膜後の熱線遮蔽ガ
ラスは、前記の曲げ処理できる温度条件で熱処理を行っ
たが、光学値を測定するために、平坦なステンレス製キ
ャリヤー上にガラスサンプルを載置し、曲げ加工は行な
わなかったまた、熱処理後の特性(可視光線透過率
(%)、放射率、シート抵抗値(Ω/□、色調変化、外
観品質、耐湿性))を表2に示す。評価の結果、熱処理
後の熱線遮蔽ガラスの可視光線透過率、放射率、抵抗
値、色調変化、外観品質、耐湿性何れも問題なく全て合
格であった。
【0025】
【表1】
【0026】
【表2】
【0027】(比較例1〜4)金属ターゲット(Zn、
Ag、Ti、Al)を用い、実施例と同様の方法により
表1に示す膜組成になるように成膜を行い、次いで実施
例と同様の方法で熱処理を行った。比較例1は、一般的
な熱線遮蔽膜組成を有する熱線遮蔽ガラスであるが、評
価の結果、表2に示す通り熱処理により色調や外観品質
が変化してしまい不合格となり、また耐湿性もピンホー
ルが発生し不合格となり、強化処理が不可能であった。
また、比較例2、3、4は、Ti又はAlを金属バリヤ
ー層に用いた熱線遮蔽膜であり、熱処理が可能とされる
膜構成の熱線遮蔽ガラスであるが、評価の結果、比較例
2は比較例1と同様に熱処理後の色調変化、外観品質、
耐湿性が全て不合格であり、比較例3,4は、熱処理後
の色調変化及び外観品質は変化がなく良好であったが、
耐湿性が劣り不合格であった。
【0028】
【発明の効果】本発明は、ガラス基板表面に熱線遮蔽膜
を成膜した熱線遮蔽ガラスを強化及び/又は曲げ等の加
工のための熱処理を行っても、熱線遮蔽膜に用いたAg
層が酸化されることがないので、該ガラスを大気中に放
置しても大気中に含まれる水分によりAgが酸化され変
色やピンホールが発生せず、保管期間や保管方法(耐湿
倉庫)が制限されるなどの問題がない、曲げ/強化等の
熱処理に優れた熱線遮蔽ガラスを有する。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明ガラス基板表面に、透明金属酸化物或
    いは透明窒化物よりなる下部誘電体層/Ag層/Al、
    Ti、NiCrの内の少なくとも1種よりなる金属バリ
    ヤー層/ZnAlxy層(x=0.5〜2.5、y=
    3.5〜4.5)/透明金属酸化物或いは透明窒化物よ
    りなる上部誘電体層が順次積層された熱線遮蔽膜が被覆
    されてなることを特徴とする熱処理可能な熱線遮蔽ガラ
    ス。
  2. 【請求項2】熱線遮蔽ガラスは、550〜650℃の温
    度で曲げ及び/又は強化のための熱加工処理が施されて
    なることを特徴とする請求項1記載の熱処理可能な熱線
    遮蔽ガラス。
  3. 【請求項3】熱線遮蔽膜は、下部誘電体層の膜厚が8〜
    70nm,Ag層の膜厚が8〜25nm、金属バリヤー
    層の膜厚が2〜5nm、ZnAlxy層の膜厚が5〜3
    0nm、上部誘電体層の膜厚が10〜70nm、膜の総
    厚が200nm以下からなることを特徴とする請求項1
    又は2記載の熱処理可能な熱線遮蔽ガラス。
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