JP5832909B2 - WIRING DEFECT DETECTION DEVICE HAVING INFRARED CAMERA AND ABNORMALITY DETECTING METHOD FOR DETECTING ABNORMALITY OF THE IR - Google Patents

WIRING DEFECT DETECTION DEVICE HAVING INFRARED CAMERA AND ABNORMALITY DETECTING METHOD FOR DETECTING ABNORMALITY OF THE IR Download PDF

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Description

本発明は、液晶パネルおよび太陽電池パネル等のパネルに形成された配線の欠陥検出に好適な、赤外カメラを具備する配線欠陥検出装置、および当該赤外カメラの異常を検知する異常検知方法に関する。   The present invention relates to a wiring defect detection device equipped with an infrared camera, suitable for detecting defects in wiring formed on panels such as liquid crystal panels and solar battery panels, and an abnormality detection method for detecting abnormality of the infrared camera. .

例えば液晶パネルの製造プロセスには、例えば、アレイ(TFT)工程、セル(液晶)工程、および、モジュール工程などがある。このうち、アレイ工程では、透明基板上に、ゲート電極、半導体膜、ソース・ドレイン電極、保護膜、および、透明電極が形成された後、アレイ欠陥検査が行なわれ、電極や配線等の短絡や断線等の欠陥の有無が検査される。   For example, the liquid crystal panel manufacturing process includes, for example, an array (TFT) process, a cell (liquid crystal) process, and a module process. Among these, in the array process, after a gate electrode, a semiconductor film, a source / drain electrode, a protective film, and a transparent electrode are formed on a transparent substrate, an array defect inspection is performed, and a short circuit such as an electrode or a wiring The presence of defects such as disconnection is inspected.

通常、アレイ欠陥検査には、配線の端部にプローブを接触させ、配線両端における電気抵抗や、隣接する配線間の電気抵抗および/または電気容量を測定する方法が用いられている。しかしながら、この方法によるアレイ欠陥検査において、配線部の欠陥の有無を検出できても、その欠陥の位置を特定するのは容易ではなかった。欠陥の位置を特定する検査方法の一例として作業者が基板を顕微鏡で観察して特定する目視検査があるが、この検査方法は作業者の負担が大きく、また、目視では欠陥の判別が難しく、欠陥の位置を誤ることもあった。   In general, for array defect inspection, a method is used in which a probe is brought into contact with an end portion of a wiring, and an electric resistance at both ends of the wiring and an electric resistance and / or capacitance between adjacent wirings are measured. However, even if the presence or absence of a defect in the wiring portion can be detected in the array defect inspection by this method, it is not easy to specify the position of the defect. As an example of an inspection method for identifying the position of a defect, there is a visual inspection in which an operator observes and identifies a substrate with a microscope, but this inspection method is burdensome to the operator, and it is difficult to determine the defect visually. Sometimes the position of the defect was wrong.

このため、基板を赤外カメラで撮影して画像処理を行い、欠陥位置を特定する赤外検査が提案されている。   For this reason, infrared inspection has been proposed in which a substrate is photographed with an infrared camera, image processing is performed, and a defect position is specified.

特許文献1は、赤外検査に関するものであり、図13に示すように、薄膜トランジスタ液晶基板において、走査線811〜815と信号線821〜825との間に電圧Vを与えることで短絡欠陥803を発熱させる。一方で、走査線811〜815および信号線821〜825を電圧印加前後に破線806に沿って赤外顕微鏡で画像信号を検出し、検出した画像信号の差をとり、X、Y方向への投影を算出することにより、短絡欠陥803の画素番地を特定する技術が開示されている。   Patent Document 1 relates to an infrared inspection. As shown in FIG. 13, in a thin film transistor liquid crystal substrate, a short circuit defect 803 is generated by applying a voltage V between scanning lines 811 to 815 and signal lines 821 to 825. Cause heat. On the other hand, the scanning lines 811 to 815 and the signal lines 821 to 825 are detected with an infrared microscope along the broken line 806 before and after voltage application, and the difference between the detected image signals is taken and projected in the X and Y directions. A technique for specifying the pixel address of the short-circuit defect 803 by calculating the above is disclosed.

また近年では、比較的大型のパネル(例えば60型の液晶パネル)を搭載した装置が多く流通するようになり、大型パネルの製造が盛んになっている。そして、その製造ラインでは、上述と同様に、配線部の欠陥を検査するために複数の赤外カメラを用いて1つの大型パネルの欠陥検査をおこなう方法がある。   In recent years, many apparatuses equipped with relatively large panels (for example, 60-type liquid crystal panels) have been distributed, and the manufacture of large panels has become active. In the production line, as described above, there is a method of inspecting a defect of one large panel using a plurality of infrared cameras in order to inspect the defect of the wiring portion.

複数の赤外カメラを用いた方法として、物体表面温度の異常を、2つの赤外カメラを用いて、物体表面の右側と左側とを撮影することによって、監視する方法が特許文献2に開示されている。   As a method using a plurality of infrared cameras, Patent Document 2 discloses a method of monitoring an object surface temperature abnormality by photographing right and left sides of an object surface using two infrared cameras. ing.

ところで、上述のように赤外カメラを用いた欠陥検査装置においては、赤外カメラ自体、より具体的には赤外カメラの受光領域に汚れがあると、正確な欠陥検出が実施できず、パネルの製品不良を招く虞がある。そのため、欠陥検査装置のメンテナンスとして、赤外カメラの汚れの有無を検出する機構が搭載されているものがある。   By the way, in the defect inspection apparatus using the infrared camera as described above, if the infrared camera itself, more specifically, the light receiving area of the infrared camera is contaminated, accurate defect detection cannot be performed, and the panel There is a risk of product failure. Therefore, as a maintenance of the defect inspection apparatus, there is one in which a mechanism for detecting the presence or absence of dirt on the infrared camera is mounted.

特許文献3は、パネルの配線欠陥装置ではないが、赤外カメラの汚れの有無を検出する機構が搭載されている技術が開示されている。特許文献3では、車両に搭載されて車両周辺を撮像する撮像装置の異常の有無を検知する撮像装置の異常検知装置が開示されている。この撮像装置の異常検知装置は、複数の撮像装置の撮像により得られた各複数の撮像装置の画像の輝度値に基づき各複数の撮像装置毎の画像の輝度分散値を算出する輝度分散値算出手段と、上記輝度分散値算出手段により算出された複数の上記輝度分散値に応じて上記撮像装置の異常の有無を検知する異常検知手段とを備えている。   Patent Document 3 discloses a technique in which a mechanism for detecting the presence or absence of dirt on an infrared camera is mounted, although it is not a panel wiring defect device. Patent Document 3 discloses an abnormality detection device for an imaging device that detects whether there is an abnormality in an imaging device that is mounted on a vehicle and images the periphery of the vehicle. The abnormality detection device of this imaging device calculates a luminance variance value for calculating a luminance dispersion value of an image for each of a plurality of imaging devices based on a luminance value of an image of each of the plurality of imaging devices obtained by imaging of the plurality of imaging devices. And an abnormality detecting means for detecting presence / absence of abnormality of the imaging device in accordance with the plurality of luminance dispersion values calculated by the luminance dispersion value calculating means.

特開平6−51011号公報(1994年2月25日公開)Japanese Patent Laid-Open No. 6-51011 (published February 25, 1994) 特開平11−6769号公報(1999年1月12日公開)Japanese Patent Laid-Open No. 11-6769 (published on January 12, 1999) 特開2006−157740号公報(2006年6月15日公開)JP 2006-157740 A (released on June 15, 2006)

しかし、特許文献3の構成では、複数の撮像装置は、互いに光軸が平行で、地表から同じ高さになるように固定されていた状態であるため、複数の赤外センサ間で異なる対象物が視野内にある場合に、汚れの有無を正しく判定することができない場合がある。   However, in the configuration of Patent Document 3, the plurality of imaging devices are in a state in which the optical axes are parallel to each other and are fixed so as to have the same height from the ground surface, and thus different objects among the plurality of infrared sensors. May not be able to correctly determine the presence or absence of dirt.

本発明は、上記の問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、配線欠陥の検出を行う、複数の赤外カメラを実装した配線欠陥検出において、当該複数の赤外カメラの異常を適切に検知することができ、よって、従来構成よりも検査信頼性の高い配線欠陥検出を実現することができる配線欠陥検出装置、および当該赤外カメラの異常を検知するための異常検知方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and its purpose is to detect wiring defects and to appropriately detect abnormalities in the plurality of infrared cameras in wiring defect detection in which a plurality of infrared cameras are mounted. Provided are a wiring defect detection device capable of detecting a wiring defect with higher inspection reliability than the conventional configuration, and an abnormality detection method for detecting an abnormality of the infrared camera. There is.

そこで、本願発明者らは、複数の赤外カメラを同じ条件下のもとで異常の有無を検査することによって、上述の目的を実現することを見出した。   Therefore, the inventors of the present application have found that the above-mentioned object is realized by inspecting a plurality of infrared cameras for abnormality under the same conditions.

すなわち、本発明に係る配線欠陥検出装置は、上記の課題を解決するために、
複数の赤外カメラを備え、当該複数の赤外カメラのそれぞれがパネルの部分領域の赤外画像を得ることによって、当該パネルに設けられた配線の欠陥の検出をおこなうための配線欠陥検出装置であって、
少なくとも2つの上記赤外カメラの視野が少なくとも一部において互いに重複しているときに当該少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれから得られる赤外画像における、当該重複している領域に対応する部分画像に基づいて、当該少なくとも2つの赤外カメラに異常があるか否かの判定をおこなう判定手段をさらに備えていることを特徴としている。
That is, the wiring defect detection device according to the present invention is to solve the above problems,
A wiring defect detection device for detecting defects in a wiring provided in the panel by providing a plurality of infrared cameras, and each of the plurality of infrared cameras obtaining an infrared image of a partial region of the panel. There,
A partial image corresponding to the overlapping region in the infrared image obtained from each of the at least two infrared cameras when the fields of view of at least two of the infrared cameras overlap each other at least partially; On the basis of this, it is further characterized by further comprising determination means for determining whether or not there is an abnormality in the at least two infrared cameras.

上記の構成によれば、少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれについて、重複している視野領域の画像を用いて当該少なくとも2つの赤外カメラに異常があるか否かを判定する。すなわち、このように、同一領域を撮像することにより、複数の赤外カメラ間で異なる対象物が視野内にある従来構成の場合と比較して、赤外カメラの異常を、精度よく検知することができる。   According to the above configuration, for each of at least two infrared cameras, it is determined whether or not there is an abnormality in the at least two infrared cameras by using the overlapping visual field region images. In other words, by imaging the same region in this way, it is possible to detect abnormalities in the infrared camera with higher accuracy than in the case of the conventional configuration in which different objects are in the field of view among multiple infrared cameras. Can do.

また、上記の構成によれば、赤外カメラの画素単位の比較が可能となるため、異常検知感度が向上する。   Moreover, according to said structure, since the comparison of the pixel unit of an infrared camera is attained, abnormality detection sensitivity improves.

また、本発明に係る配線欠陥検出装置は、上記の構成に加えて、
上記複数の赤外カメラを移動させる移動手段と、
上記少なくとも2つの赤外カメラが、上記検出をおこなう際と、上記判定をおこなう際とで、視野を変えるように上記移動手段を制御する制御手段とをさらに備えていることが好ましい。
In addition to the above configuration, the wiring defect detection device according to the present invention includes:
Moving means for moving the plurality of infrared cameras;
It is preferable that the at least two infrared cameras further include control means for controlling the moving means so as to change the field of view between the detection and the determination.

上記の構成によれば、配線の欠陥を検出する場合と、赤外カメラに異常があるか否かを判定する場合とで、上記複数の赤外カメラの配置が異なるように上記移動手段を制御する制御手段を備えている。そのため、配線の欠陥を検出する際には、複数の赤外カメラが全て互いに異なる領域を撮像するように構成していても、赤外カメラに異常があるか否かを判定する場合に赤外カメラを移動手段により移動させて重複領域を撮像することができる。換言すれば、上記の構成によれば、複数の赤外カメラが全て互いに異なる視野を撮像して配線の欠陥を検出することができるため、配線欠陥検出を効率的に行うことができるとともに、赤外カメラの異常を精度よく検知することができる。   According to the above configuration, the moving unit is controlled so that the arrangement of the plurality of infrared cameras is different between when detecting a wiring defect and when determining whether there is an abnormality in the infrared camera. Control means is provided. For this reason, when detecting a wiring defect, it is necessary to determine whether there is an abnormality in the infrared camera even if the plurality of infrared cameras are configured to capture different areas. The overlapping area can be imaged by moving the camera by the moving means. In other words, according to the above-described configuration, since the plurality of infrared cameras can detect the defect of the wiring by imaging all the different visual fields, it is possible to efficiently detect the wiring defect and It is possible to accurately detect abnormalities in the outside camera.

また、本発明に係る配線欠陥検出装置は、上記の構成に加えて、
上記制御手段は、上記判定をおこなう際に、上記少なくとも2つの赤外カメラの視野の中心が一致するように上記移動手段を制御することが好ましい。
In addition to the above configuration, the wiring defect detection device according to the present invention includes:
The control means preferably controls the moving means so that the centers of the fields of view of the at least two infrared cameras coincide when making the determination.

上記の構成によれば、上記少なくとも2つの赤外カメラの視野の中心が一致するように上記移動手段を制御するので、少なくとも2つの赤外カメラの視野の大部分を重複領域として上記判定に利用することができることから、異常を検知する領域を広く確保することができる。   According to the above configuration, the moving means is controlled so that the centers of the visual fields of the at least two infrared cameras coincide with each other, so that most of the visual fields of the at least two infrared cameras are used for the determination as overlapping regions. Therefore, a wide area for detecting an abnormality can be secured.

また、本発明に係る配線欠陥検出装置は、上記の構成に加えて、
上記検出をおこなう際に、上記少なくとも2つの上記赤外カメラの視野が少なくとも一部において互いに重複していることが好ましい。
In addition to the above configuration, the wiring defect detection device according to the present invention includes:
When performing the detection, it is preferable that the visual fields of the at least two infrared cameras overlap at least partially.

上記の構成によれば、配線の欠陥の検出をおこなう場合と、赤外カメラの異常の判定をおこなう場合とで、赤外カメラの位置を変える必要がない。そのため、欠陥検出と異常判定とを間隔をあげずに実行することができる。   According to the above configuration, there is no need to change the position of the infrared camera between the case of detecting a wiring defect and the case of determining an abnormality of the infrared camera. Therefore, defect detection and abnormality determination can be performed without increasing the interval.

また、本発明に係る配線欠陥検出装置は、上記の構成に加えて、
上記少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれの上記部分画像に、当該少なくとも2つの赤外カメラのうちの任意の赤外カメラが発する熱に由来した異常画像が含まれる場合には、上記部分画像から当該異常画像をトリミングしたトリミング画像に対応する視野領域のうち、当該少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれに共通する領域に対応する画像同士を比較することによって、上記判定をおこなうことが好ましい。
In addition to the above configuration, the wiring defect detection device according to the present invention includes:
When the partial image of each of the at least two infrared cameras includes an abnormal image derived from heat generated by any of the at least two infrared cameras, the partial image It is preferable that the determination is performed by comparing images corresponding to regions common to the at least two infrared cameras among the visual field regions corresponding to the trimmed image obtained by trimming the abnormal image.

例えばパネルを赤外カメラで撮像する場合、赤外カメラの配置位置によっては、自らが映り込む場合がある。そして、赤外カメラが駆動により発熱している場合には、熱がパネルによって反射され、赤外画像にあたかもパネルが発熱しているかのような画像が形成される。これは、赤外カメラの異常の有無を判定する場合であっても同様で、撮像対象に赤外カメラの熱が反射して、赤外画像の一部にその熱に由来する異常画像が形成される。このような異常画像は、赤外カメラの異常の有無の判定において、汚れがある(異常がある)と誤って判定される原因になる。そこで、本発明の上記構成によれば、そのような異常画像をトリミングして除き、そのトリミング後の画像(トリミング画像)のうちの、各カメラに共通する視野に対応した部分を用いて赤外カメラの異常の有無を判定する。そのため、上述のような異常がある(汚れがある)と誤って判定される虞はなく、信頼性の高い検知を実現することができる。このような映り込みは、赤外カメラの視野の中心を通る軸が、撮像対象面に対して垂直に位置している場合に多い。   For example, when the panel is imaged with an infrared camera, the image itself may be reflected depending on the arrangement position of the infrared camera. When the infrared camera generates heat by driving, the heat is reflected by the panel, and an image is formed as if the panel is generating heat in the infrared image. This is the same even when the presence or absence of an abnormality of the infrared camera is determined. The infrared camera heat is reflected on the imaging target, and an abnormal image derived from the heat is formed on a part of the infrared image. Is done. Such an abnormal image is a cause of erroneous determination that there is dirt (abnormality) in determining whether there is an abnormality in the infrared camera. Therefore, according to the above-described configuration of the present invention, such an abnormal image is trimmed off, and an infrared image is obtained using a portion corresponding to the field of view common to each camera in the trimmed image (trimmed image). Determine whether the camera is abnormal. Therefore, there is no possibility of erroneously determining that there is an abnormality as described above (there is dirt), and highly reliable detection can be realized. Such reflection often occurs when the axis passing through the center of the field of view of the infrared camera is positioned perpendicular to the imaging target surface.

また、或る赤外カメラに、上記パネルを介して、別の赤外カメラの熱が映り込む場合も同様である。このような映り込みは、当該或る赤外カメラの視野の中心を通る軸を通る軸が、撮像対象面に対して垂直ではない所定の角度を有して傾斜している場合に多い。   The same applies to the case where the heat of another infrared camera is reflected on a certain infrared camera via the panel. Such reflection often occurs when the axis passing through the axis passing through the center of the field of view of the certain infrared camera is inclined at a predetermined angle that is not perpendicular to the imaging target surface.

また、本発明に係る、赤外カメラの異常検知方法は、上記の課題を解決するために、
上記の構成を具備した配線欠陥検出装置の上記赤外カメラの異常を検知するカメラ異常検知方法であって、
少なくとも2つの上記赤外カメラの視野が少なくとも一部において互いに重複しているときに当該少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれから得られる赤外画像における、当該重複している領域に対応する部分画像に基づいて、当該少なくとも2つの赤外カメラに異常があるか否かの判定をおこなう判定工程を含むことを特徴としている。
Moreover, in order to solve the above-described problem, the infrared camera abnormality detection method according to the present invention,
A camera abnormality detection method for detecting an abnormality of the infrared camera of the wiring defect detection device having the above-described configuration,
A partial image corresponding to the overlapping region in the infrared image obtained from each of the at least two infrared cameras when the fields of view of at least two of the infrared cameras overlap each other at least partially; Based on this, the method includes a determination step of determining whether or not there is an abnormality in the at least two infrared cameras.

上記の構成によれば、少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれについて、重複している視野領域の画像を用いて当該少なくとも2つの赤外カメラに異常があるか否かを判定する。すなわち、このように、同一領域を撮像することにより、複数の赤外カメラ間で異なる対象物が視野内にある従来構成の場合と比較して、赤外カメラの異常を、精度よく検知することができる。   According to the above configuration, for each of at least two infrared cameras, it is determined whether or not there is an abnormality in the at least two infrared cameras by using the overlapping visual field region images. In other words, by imaging the same region in this way, it is possible to detect abnormalities in the infrared camera with higher accuracy than in the case of the conventional configuration in which different objects are in the field of view among multiple infrared cameras. Can do.

また、上記の構成によれば、赤外カメラの画素単位の比較が可能となるため、異常検知感度が向上する。   Moreover, according to said structure, since the comparison of the pixel unit of an infrared camera is attained, abnormality detection sensitivity improves.

本発明は、配線欠陥の検出を行う、複数の赤外カメラを実装した配線欠陥検出において、当該複数の赤外カメラの異常を適切に検知することができ、よって、従来構成よりも検査信頼性の高い配線欠陥検出を実現することができる配線欠陥検出装置、および当該赤外カメラの異常を検知するための異常検知方法を提供することができる。   According to the present invention, in detecting a wiring defect in which a plurality of infrared cameras are mounted for detecting a wiring defect, an abnormality of the plurality of infrared cameras can be appropriately detected, and therefore, inspection reliability is higher than that of the conventional configuration. It is possible to provide a wiring defect detection device capable of realizing high wiring defect detection and an abnormality detection method for detecting abnormality of the infrared camera.

本発明の一実施形態に係る欠陥検査装置の主要な構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the main structures of the defect inspection apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る欠陥検査装置の斜視図である。It is a perspective view of the defect inspection apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. マクロセンサを構成する各赤外カメラの撮像視野を表した平面図である。It is a top view showing the imaging visual field of each infrared camera which comprises a macro sensor. 汚れの検知をおこなうときのマクロセンサを構成する各赤外カメラの撮像視野を表した平面図である。It is a top view showing the imaging field of view of each infrared camera which constitutes a macro sensor when performing dirt detection. 汚れの検知をおこなうフローを示した図である。It is the figure which showed the flow which performs the detection of dirt. 或る赤外カメラに別の赤外カメラが発した熱が映り込んだ状態の図である。It is a figure of the state in which the heat which another infrared camera emitted in a certain infrared camera was reflected. 液晶パネルとプローブの平面図である。It is a top view of a liquid crystal panel and a probe. 赤外検査によって短絡欠陥を検知するフローを示した図である。It is the figure which showed the flow which detects a short circuit defect by an infrared test. 画素部の欠陥を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the defect of a pixel part. 本発明の他の実施形態において、汚れの検知をおこなうときのマクロセンサを構成する各赤外カメラの撮像視野を表した平面図である。In other embodiment of this invention, it is a top view showing the imaging visual field of each infrared camera which comprises a macro sensor when performing the detection of dirt. 本発明の他の実施形態において、汚れの検知をおこなうフローを示した図である。In other embodiment of this invention, it is the figure which showed the flow which detects a stain | pollution | contamination. 本発明のさらに別の実施形態を示す図である。It is a figure which shows another embodiment of this invention. 従来技術を示す図である。It is a figure which shows a prior art.

〔実施形態1〕
以下、図面を参照して、本発明に係る実施の一態様を詳細に説明する。本実施形態においては、複数の赤外センサを用いて液晶パネルの全面を撮影することで、走査線および信号線を赤外センサで走査する手間を省き、欠陥検査に要する時間を短縮することのできる欠陥検査装置に関して、当該複数の赤外センサの異常を適切に検知して、従来構成よりも検査信頼性の高い配線欠陥検出を実現することができる配線欠陥検出装置、および当該赤外センサの異常を検知するための異常検知方法について説明する。
Embodiment 1
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment, by photographing the entire surface of the liquid crystal panel using a plurality of infrared sensors, the trouble of scanning the scanning lines and signal lines with the infrared sensor can be saved, and the time required for defect inspection can be shortened. A defect inspection apparatus capable of appropriately detecting an abnormality in the plurality of infrared sensors and realizing a defect detection with higher inspection reliability than the conventional configuration, and the infrared sensor An abnormality detection method for detecting an abnormality will be described.

図1は、実施の一態様である欠陥検査装置100の主要な構成を示すブロック図である。欠陥検査装置100は、マザー基板1上に形成された複数の液晶パネル2を1枚ずつ順々に配線等の短絡欠陥を検査するものであり、赤外センサ3、センサ移動手段4、主制御部5、電圧印加部6、データ記憶部7、プローブ8、および、プローブ移動手段9を備える。ここで、主制御部5は、プローブ移動手段9、赤外センサ3、センサ移動手段4、および、電圧印加部6を制御する制御手段であり、後述する赤外カメラの異常判定をおこなう判定手段でもある。電圧印加部6は、プローブ8に電気的に接続されており、液晶パネル2の走査線および信号線に電圧を印加する。データ記憶部7は、主制御部5と接続され、画像データを記憶する。   FIG. 1 is a block diagram showing a main configuration of a defect inspection apparatus 100 according to one embodiment. The defect inspection apparatus 100 inspects short-circuit defects such as wirings one by one for a plurality of liquid crystal panels 2 formed on the mother substrate 1 one by one, and includes an infrared sensor 3, a sensor moving means 4, a main control. Unit 5, voltage application unit 6, data storage unit 7, probe 8, and probe moving means 9. Here, the main control unit 5 is a control unit that controls the probe moving unit 9, the infrared sensor 3, the sensor moving unit 4, and the voltage application unit 6, and a determination unit that performs abnormality determination of an infrared camera to be described later. But there is. The voltage application unit 6 is electrically connected to the probe 8 and applies a voltage to the scanning lines and signal lines of the liquid crystal panel 2. The data storage unit 7 is connected to the main control unit 5 and stores image data.

図2は、本実施形態に係る欠陥検査装置100を示した斜視図である。欠陥検査装置100は、図1に示す主要な構成に加えて、基板アライメントステージ11、アライメントカメラ12、および、光学カメラ13を備える。欠陥検査装置100の詳細について、図1および図2に基づいて説明する。   FIG. 2 is a perspective view showing the defect inspection apparatus 100 according to the present embodiment. The defect inspection apparatus 100 includes a substrate alignment stage 11, an alignment camera 12, and an optical camera 13 in addition to the main components shown in FIG. Details of the defect inspection apparatus 100 will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

基板アライメントステージ11には、基板移動手段(図示せず)によって、マザー基板1が載置され、マザー基板1の位置が調整される。アライメントカメラ12は、基板アライメントステージ11の上方に設置され、主制御部5により制御され、マザー基板1の位置を確認する。光学カメラ13は、主制御部5により制御され、赤外センサ3で検知された短絡欠陥を可視画像として撮影するために用いる。光学カメラ13は、プローブ8を撮影し、位置合わせを行うのに用いることもできる。   A mother substrate 1 is placed on the substrate alignment stage 11 by a substrate moving means (not shown), and the position of the mother substrate 1 is adjusted. The alignment camera 12 is installed above the substrate alignment stage 11 and is controlled by the main control unit 5 to confirm the position of the mother substrate 1. The optical camera 13 is controlled by the main control unit 5 and is used for photographing a short-circuit defect detected by the infrared sensor 3 as a visible image. The optical camera 13 can also be used to photograph the probe 8 and perform alignment.

ここで、プローブ8は、液晶パネル2の走査線および信号線に電圧を印加するためのものであり、プローブ移動手段9は、マザー基板1に形成された複数の液晶パネル2を1枚ずつ順々に検査するために、検査する液晶パネル2毎の端子部にプローブ8が当接するようにプローブ8を移動させるものである。そして、プローブ移動手段9は、プローブ保持部9a、ガントリーガイドレール9b、上下ガイドレール9c、ガイド保持部9d、および、シフトガイドレール9eを備える。ガントリーガイドレール9b、上下ガイドレール9c、および、シフトガイドレール9eは、各ガイドレールの長手方向沿いに独立してプローブ8を移動させることができる。図2に示すXYZ座標系は、後述のシフトガイドレール9eの長手方向をX軸方向、ガントリーガイドレール9bの長手方向をY軸方向とし、上下ガイドレール9cの長手方向をZ軸方向とすると、プローブ保持部9aは、プローブ8を保持し、ガントリーガイドレール9bのY軸方向にスライド可能に設置され、上下ガイドレール9cは、ガントリーガイドレール9bがZ軸方向にスライド可能に取り付けられている。ガイド保持部9dは、上下ガイドレール9cを保持し、シフトガイドレール9eのX軸方向にスライド可能に設置されている。   Here, the probe 8 is for applying a voltage to the scanning line and the signal line of the liquid crystal panel 2, and the probe moving means 9 sequentially moves the plurality of liquid crystal panels 2 formed on the mother substrate 1 one by one. In order to perform various inspections, the probes 8 are moved so that the probes 8 come into contact with the terminal portions of the liquid crystal panels 2 to be inspected. The probe moving means 9 includes a probe holding portion 9a, a gantry guide rail 9b, an upper and lower guide rail 9c, a guide holding portion 9d, and a shift guide rail 9e. The gantry guide rail 9b, the upper and lower guide rails 9c, and the shift guide rail 9e can move the probe 8 independently along the longitudinal direction of each guide rail. The XYZ coordinate system shown in FIG. 2 has a longitudinal direction of a shift guide rail 9e described later as an X-axis direction, a longitudinal direction of a gantry guide rail 9b as a Y-axis direction, and a longitudinal direction of the upper and lower guide rails 9c as a Z-axis direction. The probe holding portion 9a holds the probe 8 and is slidably installed in the Y axis direction of the gantry guide rail 9b. The upper and lower guide rails 9c are attached so that the gantry guide rail 9b is slidable in the Z axis direction. The guide holding portion 9d holds the upper and lower guide rails 9c and is installed to be slidable in the X-axis direction of the shift guide rail 9e.

また、赤外センサ3は、液晶パネル2の赤外画像を取得するためのものであり、マクロセンサ3a、および、ミクロセンサ3bを備える。マクロセンサ3aは、4つの赤外カメラ(複数の赤外カメラ)を備え、これら4つの赤外カメラの撮像領域を合わせることで視野を広げ、液晶パネル2の全面を一度で撮影することができる。マクロセンサ3aについては、後に詳述する。また、ミクロセンサ3bは、赤外カメラを1つ備え、液晶パネル2の局部を視野に入れることができる。   The infrared sensor 3 is for acquiring an infrared image of the liquid crystal panel 2 and includes a macro sensor 3a and a micro sensor 3b. The macro sensor 3a includes four infrared cameras (a plurality of infrared cameras). The field of view can be expanded by combining the imaging areas of the four infrared cameras, and the entire surface of the liquid crystal panel 2 can be photographed at once. . The macro sensor 3a will be described in detail later. Further, the microsensor 3b includes one infrared camera, and can localize the liquid crystal panel 2 in the field of view.

また、センサ移動手段4は、赤外センサ3を液晶パネル2上へ移動させるものであり、センサ保持部4a、4b、4c、シフトガイドレール4d、ガイド保持部4e、および、ガントリーガイドレール4fを備える。センサ保持部4aはマクロセンサ3aを、センサ保持部4bはミクロセンサ3bを、センサ保持部4cは光学カメラ13をそれぞれ保持する。センサ保持部4a〜4cは、シフトガイドレール4d上を独立してスライド可能に設置されている。シフトガイドレール4dは、長手方向がY軸と平行になるように設置されており、ガイド保持部4eに保持されている。ガイド保持部4eは、ガントリーガイドレール4fにスライド可能に設置されている。ガントリーガイドレール4fは、その長手方向がX軸と平行になるように設置されている。   The sensor moving means 4 moves the infrared sensor 3 onto the liquid crystal panel 2, and includes the sensor holding portions 4a, 4b, 4c, the shift guide rail 4d, the guide holding portion 4e, and the gantry guide rail 4f. Prepare. The sensor holding unit 4a holds the macro sensor 3a, the sensor holding unit 4b holds the microsensor 3b, and the sensor holding unit 4c holds the optical camera 13. The sensor holding portions 4a to 4c are slidably installed on the shift guide rail 4d. The shift guide rail 4d is installed such that its longitudinal direction is parallel to the Y axis, and is held by the guide holding portion 4e. The guide holding part 4e is slidably installed on the gantry guide rail 4f. The gantry guide rail 4f is installed such that its longitudinal direction is parallel to the X axis.

プローブ移動手段9およびセンサ移動手段4は、別々のガイドレールを有し、基板アライメントステージ11の上方を互いに干渉されずに移動することができる。このため、液晶パネル2にプローブ8を接触させた状態で、さらに、液晶パネル2上にマクロセンサ3a、ミクロセンサ3b、および、光学カメラ13を移動させることができる。   The probe moving unit 9 and the sensor moving unit 4 have separate guide rails, and can move above the substrate alignment stage 11 without interfering with each other. Therefore, the macro sensor 3a, the micro sensor 3b, and the optical camera 13 can be further moved on the liquid crystal panel 2 in a state where the probe 8 is in contact with the liquid crystal panel 2.

以下に、4つの赤外カメラから構成されるマクロセンサ3aについて詳述する。   Hereinafter, the macro sensor 3a composed of four infrared cameras will be described in detail.

図3は、1枚の液晶パネル2全体をマクロセンサ3aの4つの赤外カメラの撮像視野で撮像する場合の、液晶パネル2と、4つの赤外カメラの撮像視野との位置関係を示した模式図である。図3に示すように、各赤外カメラは撮像視野の一部の領域において他の3つのカメラの撮像視野の一部と重複するように、撮像視野の大きさおよび赤外カメラの位置が調整されている。そのため、液晶パネル2の表面を漏れなく撮像し、欠陥を漏れなく検出することができる。   FIG. 3 shows the positional relationship between the liquid crystal panel 2 and the imaging fields of the four infrared cameras when the entire liquid crystal panel 2 is imaged with the imaging fields of the four infrared cameras of the macro sensor 3a. It is a schematic diagram. As shown in FIG. 3, the size of the imaging field of view and the position of the infrared camera are adjusted so that each infrared camera overlaps with a part of the imaging field of the other three cameras in a part of the imaging field of view. Has been. Therefore, the surface of the liquid crystal panel 2 can be imaged without omission and the defect can be detected without omission.

ところで、欠陥を漏れなく検出するには、上述した撮像視野の割付の調整に加えて、赤外カメラ自体が本来の撮像性能を発揮してこそ実現される。例えば、赤外カメラのレンズなどの受光経路に何かが付着していたり、傷があったり(以下、これらを総称して「汚れ」と称する)して、光が妨げられることがあっては、いくら撮像視野の割付が適切に調整されていても、欠陥を見逃す虞がある。そこで、本発明では、赤外カメラの受光経路に汚れがあるか否かを検知して、赤外カメラ自体が本来の撮像性能を発揮できるようにメンテナンスする機構を具備している。具体的には、本実施形態では、基板アライメントステージ11上に液晶パネル(マザー基板)が配置されていない状態(期間)に、マクロセンサ3aを構成する4つの赤外カメラが、基板アライメントステージ11を撮像して、当該4つの赤外カメラのそれぞれに、汚れがあるか否かを検知する。   By the way, in order to detect a defect without omission, in addition to the above-described adjustment of the allocation of the imaging field, the infrared camera itself exhibits its original imaging performance. For example, if something is attached to the light-receiving path such as a lens of an infrared camera or there is a scratch (hereinafter collectively referred to as “dirt”), the light may be blocked. Even if the allocation of the imaging field of view is adjusted appropriately, there is a risk of missing a defect. Therefore, the present invention includes a mechanism for detecting whether or not the light receiving path of the infrared camera is contaminated and performing maintenance so that the infrared camera itself can exhibit its original imaging performance. Specifically, in the present embodiment, the four infrared cameras constituting the macro sensor 3 a are in the state (period) in which the liquid crystal panel (mother substrate) is not arranged on the substrate alignment stage 11. To detect whether each of the four infrared cameras is dirty.

そして、本実施形態において特徴的な点としては、基板アライメントステージ11の所定の確認位置Rに、マクロセンサ3aを構成する4つの赤外カメラのそれぞれの撮像中心を一致させるように、当該4つの赤外カメラの配置を変えて、各赤外カメラが同じ領域を撮像する点にある。これにより、各赤外カメラが同じ撮影条件下で撮影することになるので、汚れの有無を正確に検知することができる。図4は、この条件について説明する模式図である。図4に示すように、本実施形態では、4つの赤外カメラ全ての撮像中心を、基板アライメントステージ11の或る1つの位置に合わせる。これにより、同じ対象物が4つの赤外カメラ全ての視野内に入ることになる。   As a characteristic point in the present embodiment, the four confirmation positions R of the substrate alignment stage 11 are matched with the respective imaging centers of the four infrared cameras constituting the macro sensor 3a. By changing the arrangement of the infrared cameras, each infrared camera images the same region. Thereby, since each infrared camera will image | photograph on the same imaging | photography conditions, the presence or absence of dirt can be detected correctly. FIG. 4 is a schematic diagram for explaining this condition. As shown in FIG. 4, in this embodiment, the imaging centers of all four infrared cameras are aligned with a certain position of the substrate alignment stage 11. As a result, the same object falls within the field of view of all four infrared cameras.

図5は、マザー基板がない状態で赤外カメラの異常チェックを行うフローを示した図である。   FIG. 5 is a diagram showing a flow for checking the abnormality of the infrared camera in the absence of the mother board.

S31(ステップ31をS31と記す。以下、同様。)において、基板アライメントステージ11(図2)のあらかじめ決められた確認位置Rにマクロセンサ3aの1つの赤外カメラ331を移動し、赤外画像P1を撮像する。赤外画像P1は、データ記憶部7(図1)に一旦格納される。   In S31 (Step 31 is referred to as S31. The same applies hereinafter), one infrared camera 331 of the macro sensor 3a is moved to a predetermined confirmation position R on the substrate alignment stage 11 (FIG. 2), and an infrared image is obtained. Image P1. The infrared image P1 is temporarily stored in the data storage unit 7 (FIG. 1).

S32では、S31に続いて、先ほどとは異なる赤外カメラ332を確認位置Rに移動し、赤外画像P2を撮像する。赤外画像P2は、データ記憶部7(図1)に一旦格納される。   In S32, following S31, an infrared camera 332 different from the previous one is moved to the confirmation position R, and an infrared image P2 is captured. The infrared image P2 is temporarily stored in the data storage unit 7 (FIG. 1).

S33では、S32に続いて、さらに別の赤外カメラ333を確認位置Rに移動し、赤外画像P3を撮像する。赤外画像P3は、データ記憶部7(図1)に一旦格納される。   In S33, following S32, another infrared camera 333 is moved to the confirmation position R, and an infrared image P3 is captured. The infrared image P3 is temporarily stored in the data storage unit 7 (FIG. 1).

S34では、S33に続いて、最後に残った赤外カメラ334を確認位置Rに移動し、赤外画像P4を撮像する。赤外画像P3は、データ記憶部7(図1)に一旦格納される。   In S34, following S33, the last remaining infrared camera 334 is moved to the confirmation position R, and an infrared image P4 is captured. The infrared image P3 is temporarily stored in the data storage unit 7 (FIG. 1).

S35において、上記赤外画像P1〜P4の比較を行う。具体的には、S35では、データ記憶部7(図1)に格納していた赤外画像P1〜P4を読み出し、まず、比較対象外領域(異常画像)がある場合は、比較対象外領域中の画素情報を使用しないように設定(トリミング)して、比較対象領域(トリミング画像)のみを抽出する(領域抽出工程)。   In S35, the infrared images P1 to P4 are compared. Specifically, in S35, the infrared images P1 to P4 stored in the data storage unit 7 (FIG. 1) are read. First, if there is a non-comparison area (abnormal image), The pixel information is set (trimmed) so as not to be used, and only the comparison target region (trimmed image) is extracted (region extraction step).

ここで、上記比較対象外領域について説明する。マクロセンサ3aを構成する4つの赤外カメラは、駆動によって自ら熱を発する。そのため、赤外カメラ同士の位置関係によっては、基板アライメントステージ11が反射面となって、或る赤外カメラに、駆動中の他の赤外カメラの熱が映り込む場合がある(図6)。このような映り込みは、検知の精度を落とすことになる。そこで、この不都合な映り込み画像(比較対象外領域の画像)を、当該或る赤外カメラによって撮像された撮像画像から除くことで、基板アライメントステージ11そのものを撮像して、或る赤外カメラの撮像性能をまさに反映している画像を得ることができる。比較対象外領域の有無は、或る赤外カメラの撮像視野の位置、当該撮像視野の広さ、および、或る赤外カメラの入射光の光軸と基板アライメントステージ11表面とのなす角度を考慮するとともに、他の赤外カメラの撮像視野の位置と広さと他の赤外カメラの入射光の光軸と基板アライメントステージ11表面とのなす角度を考慮することによって、予測することができる。この一連の画像処理は、主制御部5(図1)で行う。   Here, the non-comparison area will be described. The four infrared cameras constituting the macro sensor 3a themselves generate heat when driven. Therefore, depending on the positional relationship between the infrared cameras, the substrate alignment stage 11 may be a reflection surface, and heat from another infrared camera being driven may be reflected on a certain infrared camera (FIG. 6). . Such reflections reduce the accuracy of detection. Therefore, by removing this inconvenient reflected image (image of the non-comparison region) from the captured image captured by the certain infrared camera, the substrate alignment stage 11 itself is captured, and a certain infrared camera is captured. It is possible to obtain an image that exactly reflects the imaging performance. The presence / absence of the non-comparison region is determined by the position of the imaging field of a certain infrared camera, the width of the imaging field, and the angle between the optical axis of incident light of the certain infrared camera and the surface of the substrate alignment stage 11. This can be predicted by considering the position and width of the imaging field of another infrared camera and the angle between the optical axis of the incident light of the other infrared camera and the surface of the substrate alignment stage 11 while taking into consideration. This series of image processing is performed by the main controller 5 (FIG. 1).

そして、S35では、次に、赤外画像P1〜P4のそれぞれについて、抽出した比較対象領域内の全画素の値の平均値M1〜M4を算出する。次に平均値M1〜M4の差分DM12(M1とM2の差分をDM12とする。)、DM13(M1とM3の差分をDM13とする。)、DM14(M1とM4の差分をDM14とする。)を算出する。   In S <b> 35, next, average values M <b> 1 to M <b> 4 of the values of all pixels in the extracted comparison target region are calculated for each of the infrared images P <b> 1 to P <b> 4. Next, the difference DM12 (the difference between M1 and M2 is DM12), DM13 (the difference between M1 and M3 is DM13), DM14 (the difference between M1 and M4 is DM14) of the average values M1 to M4. Is calculated.

S36では、S35に続いて、あらかじめ決められた差分閾値とS35において算出した値(DM12〜DM14)とを比較する。例えば、DM12のみが上記差分閾値以上であった場合には赤外カメラ332が異常、DM13のみが上記差分閾値以上であった場合には赤外カメラ333が異常、DM12〜DM14の全てが上記差分閾値以上であった場合には赤外カメラ331が異常であると判定できる。   In S36, following S35, a predetermined difference threshold is compared with the values (DM12 to DM14) calculated in S35. For example, if only DM12 is greater than or equal to the difference threshold, the infrared camera 332 is abnormal, if only DM13 is greater than or equal to the difference threshold, the infrared camera 333 is abnormal, and all of DM12 to DM14 are the difference. If it is equal to or greater than the threshold, it can be determined that the infrared camera 331 is abnormal.

ここで、S35での比較値の算出方法およびS36での比較方法は本実施例記載の方法に限定される必要はない。例えば別の実施例としては、S35における赤外画像P1と赤外画像P2との比較においては、比較対象領域内の各画素について赤外画像P1の値と赤外画像P2の値の差分を算出することが考えられ得る。S36においては、あらかじめ決められた差分閾値以上の上記差分がある画素数の比較対象領域内の全画素数に占める割合が、あらかじめ決められた異常画素割合閾値よりも大きい場合に異常と判断することができる。   Here, the calculation method of the comparison value in S35 and the comparison method in S36 need not be limited to the method described in this embodiment. For example, as another embodiment, in the comparison between the infrared image P1 and the infrared image P2 in S35, the difference between the value of the infrared image P1 and the value of the infrared image P2 is calculated for each pixel in the comparison target region. Can be considered. In S36, when the ratio of the number of pixels having the above difference equal to or greater than a predetermined difference threshold to the total number of pixels in the comparison target area is larger than a predetermined abnormal pixel ratio threshold, it is determined as abnormal. Can do.

以上が赤外カメラの異常の有無の検知方法(判定工程)である。なお、本発明は、或る赤外カメラの視野のなかの一部分に異常がある場合(例えば、汚れの付着など)にその検知をおこなうことができるだけでなく、視野全体に異常がある場合(例えば、受光面全体の異常)にも判定することができる。   The above is the detection method (determination process) of the presence or absence of abnormality of the infrared camera. The present invention can detect not only when there is an abnormality in a part of the field of view of an infrared camera (for example, adhesion of dirt), but also when there is an abnormality in the entire field of view (for example, The abnormality of the entire light receiving surface can also be determined.

以上の方法を、液晶パネルの配線欠陥を検出する工程の前に行い、一部の領域に異常が検知された場合には、汚れの除去であったり、赤外カメラの一部あるいは全体を別のものに取り替えたりなどの対応をとることができる。   The above method is performed before the step of detecting the wiring defect of the liquid crystal panel, and when an abnormality is detected in a part of the area, it is possible to remove the dirt or to separate part or all of the infrared camera. You can take measures such as replacing it with a new one.

続いて、異常の無い(あるいは異常が無くなった)赤外カメラによって構成されたマクロセンサ3aを用いた配線欠陥検出方法を説明する。本実施形態では、プローブを介して液晶パネル2の走査線および信号線に電圧を印加し、欠陥部に電流が流れることによる発熱を、上記マクロセンサ3a、ミクロセンサ3bで計測し、欠陥部の位置を特定する方法を用いる。以下、プローブの構成と欠陥検査方法について、図7および図8を用いて詳述する。   Next, a wiring defect detection method using the macro sensor 3a configured by an infrared camera having no abnormality (or no abnormality) will be described. In this embodiment, a voltage is applied to the scanning line and the signal line of the liquid crystal panel 2 through the probe, and heat generation due to current flowing through the defective portion is measured by the macro sensor 3a and the micro sensor 3b, and A method for specifying the position is used. Hereinafter, the configuration of the probe and the defect inspection method will be described in detail with reference to FIGS.

図7(a)は、マザー基板1に形成される液晶パネル2の平面図である。液晶パネル2には、走査線と信号線が交差する各交点にTFTが形成された画素部17と、走査線と信号線をそれぞれ駆動する周辺回路部18が形成されている。液晶パネル2の縁部には、端子部19a〜19dが設けられており、端子部19a〜19dは画素部17や周辺回路部18の各配線と繋がっている。   FIG. 7A is a plan view of the liquid crystal panel 2 formed on the mother substrate 1. The liquid crystal panel 2 includes a pixel portion 17 in which a TFT is formed at each intersection where a scanning line and a signal line intersect, and a peripheral circuit portion 18 that drives the scanning line and the signal line, respectively. Terminal portions 19 a to 19 d are provided at the edge of the liquid crystal panel 2, and the terminal portions 19 a to 19 d are connected to the wirings of the pixel portion 17 and the peripheral circuit portion 18.

図7(b)は、液晶パネル2に設けられた端子部19a〜19dと導通させるためのプローブの一例を表した平面図である。プローブ8は、液晶パネル2の大きさとほぼ同じ大きさの枠状の形状をなしており、端子部19a〜19dに対応した複数のプローブ針21a〜21dを備えている。複数のプローブ針21a〜21dは、図示しないスイッチングリレーを介して、プローブ針21の一本ずつを個別に、電圧印加部6に接続できるようになっている。このため、プローブ8は、端子部19a〜19dにつながる複数の配線を選択的に接続させ、または複数の配線をまとめて接続させることができる。   FIG. 7B is a plan view illustrating an example of a probe for conducting with the terminal portions 19 a to 19 d provided on the liquid crystal panel 2. The probe 8 has a frame shape substantially the same size as the liquid crystal panel 2 and includes a plurality of probe needles 21a to 21d corresponding to the terminal portions 19a to 19d. The plurality of probe needles 21a to 21d can individually connect one probe needle 21 to the voltage application unit 6 via a switching relay (not shown). For this reason, the probe 8 can selectively connect a plurality of wires connected to the terminal portions 19a to 19d, or can connect the plurality of wires together.

また、プローブ8は、液晶パネル2とほぼ同じ大きさの枠状の形状をなしているため、端子部19a〜19dとプローブ針21a〜21dの位置を合わせる際に、プローブ8の枠部の内側から光学カメラ13で確認する。   Further, since the probe 8 has a frame shape that is almost the same size as the liquid crystal panel 2, the inside of the frame portion of the probe 8 is aligned when the positions of the terminal portions 19 a to 19 d and the probe needles 21 a to 21 d are aligned. To confirm with the optical camera 13.

図8は、赤外検査によって短絡欠陥を検知するフローを示した図である。マザー基板1に形成された複数の液晶パネル2について、S1(ステップ1をS1と記す。以下、同様。)からS9のステップにより、順次、欠陥検査が実施される。   FIG. 8 is a diagram illustrating a flow of detecting a short-circuit defect by infrared inspection. For a plurality of liquid crystal panels 2 formed on the mother substrate 1, defect inspection is sequentially performed in steps S <b> 1 (step 1 is referred to as S <b> 1. The same applies hereinafter) to S <b> 9.

S1では、欠陥検査装置100の基板アライメントステージ11にマザー基板1が載置され、XY座標軸と平行になるよう基板の位置が調整される。S2では、プローブ移動手段9によりプローブ8が検査対象となる液晶パネル2の上部に移動され、プローブ針21a〜21dが液晶パネル2の端子部19a〜19dに接触される。   In S1, the mother substrate 1 is placed on the substrate alignment stage 11 of the defect inspection apparatus 100, and the position of the substrate is adjusted to be parallel to the XY coordinate axes. In S2, the probe moving means 9 moves the probe 8 to the upper part of the liquid crystal panel 2 to be inspected, and the probe needles 21a to 21d are brought into contact with the terminal portions 19a to 19d of the liquid crystal panel 2.

S3では、各種欠陥のモードに対応して、配線が選択され、導通させるプローブ針21の切り替えが行なわれる。S4は、欠陥ブロック24内の配線に印加する電圧値を設定している。配線に印加する電圧値は、電圧印加部6によって調整され、通常、数十ボルト程度の電圧が印加される。   In S3, the wiring is selected and the probe needle 21 to be conducted is switched corresponding to the various defect modes. In S4, a voltage value to be applied to the wiring in the defective block 24 is set. The voltage value applied to the wiring is adjusted by the voltage application unit 6, and a voltage of about several tens of volts is normally applied.

図9は、一例として、画素部17に生じる欠陥の位置を模式的に示している。図9(a)は、例えば、走査線と信号線のように、配線Xと配線Yが上下に交差する位置で短絡した欠陥部23を示している。このような欠陥部23は、導通させるプローブ針21を、図7に示した21aと21d、若しくは、21bと21cに切り替えることで、欠陥部23に電流が流れ、発熱する。   FIG. 9 schematically shows the positions of defects generated in the pixel portion 17 as an example. FIG. 9A shows a defective portion 23 that is short-circuited at a position where the wiring X and the wiring Y intersect vertically, such as a scanning line and a signal line. By switching the probe needle 21 to be electrically connected to 21a and 21d, or 21b and 21c shown in FIG. 7, a current flows through the defective portion 23 to generate heat.

図9(b)は、例えば、走査線と補助容量線のように、隣接する配線Xの配線間で短絡した欠陥部23を示している。このような欠陥部23は、導通させるプローブ針21を、21bの奇数番と21dの偶数番に切り替えることで、欠陥部23に電流が流れ、発熱する。   FIG. 9B shows a defective portion 23 that is short-circuited between adjacent wirings X, such as a scanning line and an auxiliary capacitance line. In such a defective portion 23, the probe needle 21 to be conducted is switched between the odd number 21b and the even number 21d, whereby a current flows through the defective portion 23 to generate heat.

図9(c)は、例えば、信号線と補助容量線のように、隣接する配線Yの配線間で短絡した欠陥部23を示している。このような欠陥部23は、導通させるプローブ針21を、21aの奇数番と21cの偶数番に切り替えることで、欠陥部23に電流が流れ、発熱する。   FIG. 9C shows a defective portion 23 short-circuited between adjacent wirings Y, such as a signal line and an auxiliary capacitance line. By switching the probe needle 21 to be electrically connected to the odd number 21a and the even number 21c, a current flows through the defect portion 23 to generate heat.

S5では、マクロセンサ3aによって、液晶パネル2全面の赤外検査が行われる。ここで、マクロセンサ3aは、欠陥部23から放出される赤外光を検出することで欠陥部23の位置を絞り込むことができる。このため、マクロセンサ3aを走査せずに液晶パネル2の全面を計測することができ、赤外検査の時間を短縮することができる。   In S5, an infrared inspection of the entire surface of the liquid crystal panel 2 is performed by the macro sensor 3a. Here, the macro sensor 3 a can narrow down the position of the defect portion 23 by detecting the infrared light emitted from the defect portion 23. For this reason, the entire surface of the liquid crystal panel 2 can be measured without scanning the macro sensor 3a, and the time for infrared inspection can be shortened.

S6では、センサ移動手段4は、ミクロセンサ3bを、S5で検出された欠陥がミクロセンサ3bの視野に収まるように移動する。S7では、ミクロセンサ3bによって、液晶パネル2局所の赤外検査が行われる。電流が流れて発熱した欠陥部23を、ミクロセンサ3bで撮影し、欠陥部23から放出される赤外光を検出する。マクロセンサ3aにより、発熱部の位置が絞り込まれているため、ミクロセンサ3bを、直接、発熱部に合わせることができ、欠陥部23の修正に必要となる欠陥の種類などの情報について、さらに詳細な計測を短時間で行なうことができる。計測された熱画像は、欠陥部23の温度が周辺よりも高く表示されるので、欠陥部23と配線の位置関係から欠陥位置が特定され、データ記憶部7に記憶される。   In S6, the sensor moving unit 4 moves the microsensor 3b so that the defect detected in S5 is within the field of view of the microsensor 3b. In S7, an infrared inspection of the liquid crystal panel 2 is performed by the microsensor 3b. The defect portion 23 that has generated heat due to the flow of current is photographed by the microsensor 3b, and infrared light emitted from the defect portion 23 is detected. Since the position of the heat generating portion is narrowed down by the macro sensor 3a, the microsensor 3b can be directly adjusted to the heat generating portion, and further details on information such as the type of defect necessary for correcting the defect portion 23 are provided. Measurement can be performed in a short time. In the measured thermal image, since the temperature of the defect portion 23 is displayed higher than that of the periphery, the defect position is specified from the positional relationship between the defect portion 23 and the wiring, and is stored in the data storage unit 7.

S8は、検査中の液晶パネル2について、各種欠陥モードの全検査が終了しているか判断され、未検査の欠陥モードがあれば、S3に戻り、次の欠陥モードに合せてプローブ8の接続が切り替えられ、欠陥検査が繰り返される。   In S8, it is determined whether or not all inspections in various defect modes have been completed for the liquid crystal panel 2 being inspected. If there is an uninspected defect mode, the process returns to S3, and the probe 8 is connected in accordance with the next defect mode. It is switched and the defect inspection is repeated.

S9は、検査中のマザー基板1について、全ての液晶パネル2のアレイ欠陥検査が終了しているか判断され、未検査の液晶パネル2が残っていれば、S1に戻り、次の検査対象となる液晶パネル2にプローブが移動されて、欠陥検査が繰り返される。   In S9, it is determined whether the array defect inspection of all the liquid crystal panels 2 has been completed for the mother substrate 1 being inspected. If there is any uninspected liquid crystal panel 2, the process returns to S1 and becomes the next inspection object. The probe is moved to the liquid crystal panel 2 and the defect inspection is repeated.

以上により、配線の欠陥の有無が検出される。   Thus, the presence or absence of a wiring defect is detected.

(本実施形態の作用効果)
以上のように、本実施形態の欠陥検査装置100によれば、マクロセンサ3aの4つの赤外センサの各撮像領域が少なくとも一部の領域において重複している重複領域に対応した温度測定結果を比較して、異常(汚れ)があるか否かを判定している。このように、同一領域を撮像することにより、複数の赤外センサ間で異なる対象物が視野内にある従来構成の場合と比較して、赤外センサの異常を、精度よく検知することができる。また、赤外センサの画素単位の比較が可能となるため、異常検知感度が向上する。
(Operational effect of this embodiment)
As described above, according to the defect inspection apparatus 100 of the present embodiment, the temperature measurement result corresponding to the overlapping region where the imaging regions of the four infrared sensors of the macro sensor 3a overlap in at least a part of the regions. In comparison, it is determined whether or not there is an abnormality (dirt). In this way, by imaging the same region, it is possible to detect an abnormality of the infrared sensor with higher accuracy than in the case of the conventional configuration in which different objects among a plurality of infrared sensors are in the field of view. . In addition, since the pixel unit of the infrared sensor can be compared, the abnormality detection sensitivity is improved.

〔実施形態2〕
本発明に係る他の実施形態について、図10および図11に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本実施形態では、上記実施形態1との相違点について説明するため、説明の便宜上、実施形態1で説明した部材と同一の機能を有する部材には同一の部材番号を付し、その説明を省略する。
[Embodiment 2]
Another embodiment according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 10 and 11. In addition, in this embodiment, in order to demonstrate a difference from the said Embodiment 1, for convenience of explanation, the same member number is attached | subjected to the member which has the same function as the member demonstrated in Embodiment 1, and the description Is omitted.

上述した実施形態1では、汚れの検知の際に、マクロセンサ3aの4つの赤外カメラは、基板アライメントステージ11(図1)の表面を撮像している。これに対して、本実施形態では、汚れの検知の際に、基板アライメントステージ11(図1)上に液晶パネル2を載置して、液晶パネル2をマクロセンサ3aの4つの赤外カメラによって撮像して、その撮像画像から、実施形態1と同じ方法で、汚れの有無を検知する。   In the first embodiment described above, when detecting dirt, the four infrared cameras of the macro sensor 3a image the surface of the substrate alignment stage 11 (FIG. 1). On the other hand, in the present embodiment, the liquid crystal panel 2 is placed on the substrate alignment stage 11 (FIG. 1) when dirt is detected, and the liquid crystal panel 2 is mounted by four infrared cameras of the macro sensor 3a. The image is picked up, and the presence or absence of dirt is detected from the picked-up image by the same method as in the first embodiment.

図10は、4つの赤外カメラ全ての撮像中心が、基板アライメントステージ11上に載置した液晶パネル2の或る1つの位置に合わした状態を示す図であり、上述の実施形態1の図4に対応した図である。これにより、同じ対象物が4つの赤外カメラ全ての視野内に入ることになる。   FIG. 10 is a diagram showing a state in which the imaging centers of all four infrared cameras are aligned with a certain position of the liquid crystal panel 2 placed on the substrate alignment stage 11. 4 corresponds to FIG. As a result, the same object falls within the field of view of all four infrared cameras.

図11は、マザー基板が在る状態で赤外カメラの異常チェックを行うフローを示した図である。   FIG. 11 is a diagram showing a flow for checking the abnormality of the infrared camera in the state where the mother board is present.

S51ではマザー基板のアライメントを行い、基板上の液晶パネル位置を算出する。   In S51, the mother substrate is aligned, and the position of the liquid crystal panel on the substrate is calculated.

S52では、S51に続いて、あらかじめ決められた赤外カメラの異常(汚れ)の検知時の液晶パネル位置にプローブ8(図1)を移動する。この液晶パネル位置とは、パネル内にプローブ8が存在しないことを実現したプローブ8の退避位置のことである。   In S52, following S51, the probe 8 (FIG. 1) is moved to a predetermined position of the liquid crystal panel when an abnormality (dirt) of the infrared camera is detected. The liquid crystal panel position is a retracted position of the probe 8 that realizes that the probe 8 does not exist in the panel.

S53では、S52に続いて、図10に示すように、赤外カメラの異常チェック時の液晶パネルの中央位置Rに赤外カメラの視野中央が一致するように赤外カメラ331を移動し、赤外画像P1´を撮像する。   In S53, following S52, as shown in FIG. 10, the infrared camera 331 is moved so that the center of the visual field of the infrared camera coincides with the center position R of the liquid crystal panel at the time of checking the abnormality of the infrared camera. An outside image P1 ′ is captured.

S54では、S53に続いて、S53の赤外カメラ331と同様に、赤外カメラ332の視野中央が液晶パネルの中央位置Rに一致するように赤外カメラ332を移動し、赤外画像P2´を撮像する。   In S54, similarly to the infrared camera 331 in S53, the infrared camera 332 is moved so that the center of the visual field of the infrared camera 332 coincides with the center position R of the liquid crystal panel, and the infrared image P2 ′ is moved. Image.

S55では赤外カメラ333について、S56では赤外カメラ334について同様に実施する。   The same operation is performed for the infrared camera 333 in S55 and for the infrared camera 334 in S56.

S57は、実施形態1で説明したS35と同様の処理を、S58は、実施形態1で説明したS36と同様の処理を行うことで異常(汚れ)を検知することができる。   An abnormality (dirt) can be detected by performing the same process as S35 described in the first embodiment in S57 and performing the same process as S36 described in the first embodiment in S58.

このように、本実施形態によれば、液晶パネル2を用いて汚れの検知を行っている。実施形態1との対比において本実施形態の有利な点としては、比較対象外領域を特定する場合に、基板アライメントステージで反射の有無を特定するよりも、実際の液晶パネルを用いて行うほうが正確に特定することができる点にある。これにより、汚れのより厳密な検知をおこなうことができる。   As described above, according to the present embodiment, dirt is detected using the liquid crystal panel 2. In contrast to the first embodiment, the advantage of this embodiment is that when specifying the non-comparison region, it is more accurate to use an actual liquid crystal panel than specifying the presence or absence of reflection on the substrate alignment stage. There is a point that can be specified. Thereby, it is possible to perform more accurate detection of dirt.

〔実施形態3〕
本発明に係る他の実施形態について、図12に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本実施形態では、上記実施形態1との相違点について説明するため、説明の便宜上、実施形態1で説明した部材と同一の機能を有する部材には同一の部材番号を付し、その説明を省略する。
[Embodiment 3]
Another embodiment according to the present invention will be described below with reference to FIG. In addition, in this embodiment, in order to demonstrate a difference from the said Embodiment 1, for convenience of explanation, the same member number is attached | subjected to the member which has the same function as the member demonstrated in Embodiment 1, and the description Is omitted.

上述の実施形態1では、配線欠陥を検出するときのマクロセンサ3aの4つの赤外カメラの配置と、汚れを検知するときの当該4つの赤外カメラの配置とが異なる場合について説明した。しかし、本発明はこれに限定されるものではなく、配線欠陥を検出するときと、汚れを検知するときとで当該4つの赤外カメラの配置を変えない態様であってもよい。   In the first embodiment described above, the case where the arrangement of the four infrared cameras of the macro sensor 3a when detecting a wiring defect is different from the arrangement of the four infrared cameras when detecting dirt is described. However, the present invention is not limited to this, and may be an aspect in which the arrangement of the four infrared cameras is not changed between when a wiring defect is detected and when dirt is detected.

図12は、本実施形態のマクロセンサ3aの4つの赤外カメラの配置を模式的に示した図であり、図12(a)は、実施形態1の図3と同一である。本実施形態では、図12(a)に示す撮像視野を動かすことなく、汚れを検知し、その後、配線欠陥を検出する。   FIG. 12 is a diagram schematically showing the arrangement of the four infrared cameras of the macro sensor 3a of the present embodiment, and FIG. 12 (a) is the same as FIG. 3 of the first embodiment. In this embodiment, dirt is detected without moving the imaging field of view shown in FIG. 12A, and then a wiring defect is detected.

汚れを検知するときには、撮像視野同士が重複している領域(図12(b)中の斜線を付した領域)を用いて、汚れの有無を検出する。検出方法は、実施形態1において説明した方法を用いることができる。   When detecting dirt, the presence / absence of dirt is detected using an area in which the imaging fields of view overlap each other (a hatched area in FIG. 12B). As the detection method, the method described in the first embodiment can be used.

本実施形態では、実施形態1に比べて重複領域が狭い、すなわち、異常の有無を検知する領域が狭いため、実施形態1よりも汚れ検知の精度は劣るが、マクロセンサ3aの4つの赤外カメラを移動させる必要がない分、パネルの製造効率を落とすことがない。   In the present embodiment, since the overlapping area is narrower than that in the first embodiment, that is, the area for detecting the presence or absence of abnormality is narrower, the dirt detection accuracy is inferior to that in the first embodiment, but the four infrared rays of the macro sensor 3a. Since there is no need to move the camera, the manufacturing efficiency of the panel is not reduced.

なお、本実施形態の構成も、或る赤外カメラの視野のなかの一部分に異常がある場合(例えば、汚れの付着など)にその検知をおこなうことができるだけでなく、視野全体に異常がある場合(例えば、受光面全体の異常)にも判定することができる。   Note that the configuration of the present embodiment can detect not only when there is an abnormality in a part of the field of view of an infrared camera (for example, adhesion of dirt), but also has an abnormality in the entire field of view. In some cases (for example, abnormality of the entire light receiving surface) can be determined.

なお、上述した各実施形態では、液晶パネルの配線欠陥を検出する態様について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、有機EL(Electroluminescence)パネルの配線、プリント基板回路、半導体基板回路などの配線を有する基板を対象とすることができる。   In each of the above-described embodiments, the aspect of detecting the wiring defect of the liquid crystal panel has been described. However, the present invention is not limited to this, and wiring of an organic EL (Electroluminescence) panel, a printed circuit board circuit, and a semiconductor substrate A substrate having wiring such as a circuit can be targeted.

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the claims.

本発明は、液晶パネルなどの配線を有する半導体基板の配線状態の検査に用いることができる。   The present invention can be used for inspection of a wiring state of a semiconductor substrate having wiring such as a liquid crystal panel.

1 マザー基板
2 液晶パネル
3 赤外センサ(赤外カメラ)
3a マクロセンサ(赤外カメラ)
3b ミクロセンサ(赤外カメラ)
4 センサ移動手段(移動手段)
4a〜4c センサ保持部
4d シフトガイドレール
4e ガイド保持部
4f ガントリーガイドレール
5 主制御部
6 電圧印加部
7 データ記憶部
8 プローブ
9 プローブ移動手段
9a プローブ保持部
9b ガントリーガイドレール
9c 上下ガイドレール
9d ガイド保持部
9e シフトガイドレール
11 基板アライメントステージ
12 アライメントカメラ
13 光学カメラ
17 画素部
18 周辺回路部
19a〜19d 端子部
21 プローブ針
21a〜21d プローブ針
23 欠陥部
24 欠陥ブロック
100 欠陥検査装置
331 赤外カメラ
332 赤外カメラ
333 赤外カメラ
334 赤外カメラ
R 確認位置(液晶パネルの中央)
1 Mother board 2 Liquid crystal panel 3 Infrared sensor (infrared camera)
3a Macro sensor (infrared camera)
3b Micro sensor (infrared camera)
4 Sensor moving means (moving means)
4a to 4c Sensor holding portion 4d Shift guide rail 4e Guide holding portion 4f Gantry guide rail 5 Main control portion 6 Voltage application portion 7 Data storage portion 8 Probe 9 Probe moving means 9a Probe holding portion 9b Gantry guide rail 9c Upper and lower guide rail 9d Guide Holding section 9e Shift guide rail 11 Substrate alignment stage 12 Alignment camera 13 Optical camera 17 Pixel section 18 Peripheral circuit sections 19a to 19d Terminal section 21 Probe needle 21a to 21d Probe needle 23 Defect section 24 Defect block 100 Defect inspection apparatus 331 Infrared camera 332 Infrared camera 333 Infrared camera 334 Infrared camera R Check position (center of liquid crystal panel)

Claims (5)

複数の赤外カメラを備え、当該複数の赤外カメラのそれぞれがパネルの部分領域の赤外画像を得ることによって、当該パネルに設けられた配線の欠陥の検出をおこなうための配線欠陥検出装置であって、
少なくとも2つの上記赤外カメラの視野が少なくとも一部において互いに重複しているときに当該少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれから得られる赤外画像における、当該重複している領域に対応する部分画像に基づいて、当該少なくとも2つの赤外カメラに異常があるか否かの判定をおこなう判定手段と、
上記複数の赤外カメラを移動させる移動手段と、
上記少なくとも2つの赤外カメラが、上記検出をおこなう際と、上記判定をおこなう際とで、視野を変えるように上記移動手段を制御する制御手段とをさらに備えていることを特徴とする配線欠陥検出装置。
A wiring defect detection device for detecting defects in a wiring provided in the panel by providing a plurality of infrared cameras, and each of the plurality of infrared cameras obtaining an infrared image of a partial region of the panel. There,
A partial image corresponding to the overlapping region in the infrared image obtained from each of the at least two infrared cameras when the fields of view of at least two of the infrared cameras overlap each other at least partially; A determination means for determining whether or not there is an abnormality in the at least two infrared cameras ,
Moving means for moving the plurality of infrared cameras;
The wiring defect characterized in that the at least two infrared cameras further comprise a control means for controlling the moving means so as to change a field of view between the detection and the determination. Detection device.
上記制御手段は、上記判定をおこなう際に、上記少なくとも2つの赤外カメラの視野の中心が一致するように上記移動手段を制御することを特徴とする請求項に記載の配線欠陥検出装置。 2. The wiring defect detection apparatus according to claim 1 , wherein the control means controls the moving means so that the centers of the fields of view of the at least two infrared cameras coincide when making the determination. 複数の赤外カメラを備え、当該複数の赤外カメラのそれぞれがパネルの部分領域の赤外画像を得ることによって、当該パネルに設けられた配線の欠陥の検出をおこなうための配線欠陥検出装置であって、
少なくとも2つの上記赤外カメラの視野が少なくとも一部において互いに重複しているときに当該少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれから得られる赤外画像における、当該重複している領域に対応する部分画像に基づいて、当該少なくとも2つの赤外カメラに異常があるか否かの判定をおこなう判定手段をさらに備え、
上記少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれの上記部分画像に、当該少なくとも2つの赤外カメラのうちの任意の赤外カメラが発する熱に由来した異常画像が含まれる場合には、上記部分画像から当該異常画像をトリミングしたトリミング画像に対応する視野領域のうち、当該少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれに共通する領域に対応する画像同士を比較することによって、上記判定をおこなうことを特徴とする配線欠陥検出装置。
A wiring defect detection device for detecting defects in a wiring provided in the panel by providing a plurality of infrared cameras, and each of the plurality of infrared cameras obtaining an infrared image of a partial region of the panel. There,
A partial image corresponding to the overlapping region in the infrared image obtained from each of the at least two infrared cameras when the fields of view of at least two of the infrared cameras overlap each other at least partially; A determination means for determining whether there is an abnormality in the at least two infrared cameras,
When the partial image of each of the at least two infrared cameras includes an abnormal image derived from heat generated by any of the at least two infrared cameras, the partial image of the field region corresponding to the trimming image by trimming the abnormal image, by comparing the images with each other corresponding to the common regions to each of the at least two infrared cameras, you and performs the determination distribution Line defect detection device.
上記検出をおこなう際に、上記少なくとも2つの上記赤外カメラの視野が少なくとも一部において互いに重複していることを特徴とする請求項1から3までの何れか1項に記載の配線欠陥検出装置。   4. The wiring defect detection device according to claim 1, wherein, when performing the detection, the visual fields of the at least two infrared cameras at least partially overlap each other. 5. . 請求項1からまでの何れか1項に記載の配線欠陥検出装置の上記赤外カメラの異常を検知する異常検知方法であって、
少なくとも2つの上記赤外カメラの視野が少なくとも一部において互いに重複しているときに当該少なくとも2つの赤外カメラのそれぞれから得られる赤外画像における、当該重複している領域に対応する部分画像に基づいて、当該少なくとも2つの赤外カメラに異常があるか否かの判定をおこなう判定工程を含むことを特徴とする異常検知方法。
An abnormality detection method for detecting an abnormality of the infrared camera of the wiring defect detection device according to any one of claims 1 to 4 ,
A partial image corresponding to the overlapping region in the infrared image obtained from each of the at least two infrared cameras when the fields of view of at least two of the infrared cameras overlap each other at least partially; An abnormality detection method characterized by including a determination step for determining whether or not there is an abnormality in the at least two infrared cameras.
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