JP2008014768A - Defect inspection device and method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect inspection device and method capable of detecting a fault of the device itself. <P>SOLUTION: A storage part 207 stores reference information acquired by imaging a reference subject beforehand. A defect extraction part 205 compares comparison object information acquired by imaging the reference subject after acquiring the reference information with the reference information stored in the storage part 207, and extracts a different portion between both information as defects. A defect determination part 206 determines the occurrence of the fault of the device itself based on extraction results of the defects. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、検査対象物の欠陥検査を行う欠陥検査装置及び欠陥検査方法に関する。   The present invention relates to a defect inspection apparatus and a defect inspection method for inspecting a defect of an inspection object.

半導体装置やFPD(Flat Panel Display)の製造工程及び検査工程では、試料(製品)の表面像をCCDカメラ等によって取り込んで画像を生成し、比較用のデータと実際の画像のデータとを比較して試料の良否を判定する欠陥検査装置が用いられている。このような装置においては、運用する上で何らかの原因で思わぬトラブルが発生することがある。この際に、少しでも早くトラブルを解消して装置を復旧させる必要がある。そこで、トラブル発生からのダウンタイムを短縮するために種々の提案がなされている(例えば特許文献1,2,3参照)。
特開2002−268721号公報 特開2003−99114号公報 特開平8−161008号公報
In the manufacturing process and inspection process of semiconductor devices and flat panel displays (FPDs), the surface image of a sample (product) is captured by a CCD camera or the like to generate an image, and the comparison data and the actual image data are compared. Thus, a defect inspection apparatus for determining the quality of a sample is used. In such an apparatus, an unexpected trouble may occur for some reason during operation. At this time, it is necessary to solve the problem as soon as possible and restore the apparatus. Therefore, various proposals have been made in order to shorten the downtime from the occurrence of trouble (see, for example, Patent Documents 1, 2, and 3).
JP 2002-268721 A JP 2003-99114 A JP-A-8-161008

しかしながら、上記の従来技術のように、自動的に欠陥を検査するような装置において、動作に支障をきたして使用できなくなるようなトラブル以外にも、装置自身に異常が発生したことに起因して、動作に支障がないものの、異常な検査結果が出力されて多数の偽の不良品を出してしまうようなトラブルが発生する。このようなトラブルが発生した場合、作業者が装置の異常に気づかないと、そのまま作業を続けてしまうことによって、検査の信頼性が失われる可能性がある。また、大量の不良品によって歩留まりが低下し、製造される製品の製造原価の増加につながる可能性もある。   However, in the apparatus that automatically inspects defects as in the above-described prior art, it is caused by the occurrence of an abnormality in the apparatus itself other than the trouble that makes the operation unusable and becomes unusable. Although there is no hindrance to the operation, a trouble that an abnormal inspection result is output and many false defective products are generated occurs. When such a trouble occurs, if the operator does not notice the abnormality of the apparatus, the work is continued as it is, and the reliability of the inspection may be lost. In addition, a large number of defective products may reduce the yield, leading to an increase in the manufacturing cost of the manufactured product.

本発明は、上述した問題点に鑑みてなされたものであって、装置自身の異常を検出することができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a defect inspection apparatus and a defect inspection method capable of detecting an abnormality of the apparatus itself.

本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、検査対象物の欠陥検査を行う欠陥検査装置において、基準被写体を撮像する撮像手段と、前記基準被写体を撮像して得られた基準情報を記憶する記憶手段と、前記基準情報の取得後に前記基準被写体を撮像して得られた比較対象情報と前記基準情報とを比較した結果に基づいて装置自身の異常の有無を判定する判定手段とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置である。   The present invention has been made to solve the above problems, and in a defect inspection apparatus for inspecting a defect of an inspection object, an imaging means for imaging a reference subject and a reference obtained by imaging the reference subject Storage means for storing information, and determination means for determining presence / absence of abnormality of the apparatus itself based on a result of comparing the reference information with comparison target information obtained by imaging the reference subject after obtaining the reference information And a defect inspection apparatus characterized by comprising:

また、本発明は、検査対象物の欠陥検査を行う欠陥検査方法において、基準被写体を撮像して基準情報を取得した後に、前記基準被写体を撮像して得られた比較対象情報と前記基準情報とを比較した結果に基づいて装置自身の異常の有無を判定することを特徴とする欠陥検査方法である。   Further, the present invention provides a defect inspection method for inspecting a defect of an inspection object. After acquiring a reference information by imaging a reference subject, comparison target information obtained by imaging the reference subject and the reference information The defect inspection method is characterized in that the presence / absence of abnormality of the apparatus itself is determined based on the result of comparing the above.

基準情報を取得したときの装置の状態と、比較対象情報を取得したときの装置の状態とが異なっている場合、その状態の違いに起因して、基準情報と比較対象情報に相違が生じる。したがって、本発明によれば、基準情報と比較対象情報を比較することによって、装置自身の異常を検出することができるという効果が得られる。   When the state of the device when the reference information is acquired is different from the state of the device when the comparison target information is acquired, a difference occurs between the reference information and the comparison target information due to the difference in the state. Therefore, according to the present invention, it is possible to detect an abnormality of the apparatus itself by comparing the reference information and the comparison target information.

以下、図面を参照し、本発明の実施形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
まず、本発明の第1の実施形態を説明する。図1は、本実施形態による欠陥検査装置の構成を示している。本欠陥検査装置は、通常の基板検査装置としての欠陥検査を行う機能の他に、装置自身の異常の有無を検出する自己診断を行う機能も備えている。保持部101は、半導体ウェハやFPDのガラス基板等の基板1(検査対象物、被検体)を保持する。保持回転部102は、保持部101によって保持された基板1を面内で任意の方向に回転させる。ベース部103は、保持部101及び保持回転部102を搭載して移動可能に構成されている。
(First embodiment)
First, a first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 shows the configuration of the defect inspection apparatus according to the present embodiment. In addition to the function of performing defect inspection as a normal substrate inspection apparatus, this defect inspection apparatus also has a function of performing self-diagnosis for detecting the presence or absence of abnormality of the apparatus itself. The holding unit 101 holds a substrate 1 (inspection object, subject) such as a semiconductor wafer or an FPD glass substrate. The holding rotation unit 102 rotates the substrate 1 held by the holding unit 101 in an arbitrary direction within the plane. The base unit 103 is configured to be movable with the holding unit 101 and the holding rotation unit 102 mounted thereon.

照明部104は、ランプからの光を、出射端が直線状に形成された光ファイバに入射させ、保持部101によって保持された基板1にライン状の照明光を照射する。照明集光レンズ105はシリンドリカルレンズであり、照明部104が発した照明光を紙面に平行な面内で基板1に集光する。集光レンズ106は、紙面に垂直な面内でフィールドレンズとして作用し、基板1の表面で反射された反射光を集光する。フィルタ部107は、集光レンズ106によって集められた光の波長及び偏光状態を任意に選択するフィルタ群を備える。撮像部108はレンズ及びラインセンサカメラを備え、フィルタ部107を通過した光をレンズによって結像し、ラインセンサカメラによって電気信号に変換する。このとき、ベース部103が図1の矢印方向に基板1と共に移動しつつ、撮像を行う。   The illuminating unit 104 causes light from the lamp to enter an optical fiber whose emission end is formed in a linear shape, and irradiates the substrate 1 held by the holding unit 101 with linear illumination light. The illumination condenser lens 105 is a cylindrical lens, and condenses the illumination light emitted from the illumination unit 104 on the substrate 1 in a plane parallel to the paper surface. The condenser lens 106 acts as a field lens in a plane perpendicular to the paper surface, and collects the reflected light reflected by the surface of the substrate 1. The filter unit 107 includes a filter group that arbitrarily selects the wavelength and polarization state of the light collected by the condenser lens 106. The imaging unit 108 includes a lens and a line sensor camera. The light that has passed through the filter unit 107 is imaged by the lens and converted into an electrical signal by the line sensor camera. At this time, imaging is performed while the base portion 103 moves together with the substrate 1 in the direction of the arrow in FIG.

また、本欠陥検査装置は、保持部101に基板1を搭載する図示しない基板搬送部も備えている。また、照明部104と集光レンズ105及び撮像部108とフィルタ部107と集光レンズ106はそれぞれ図示しない支持部材によって一体に支持されている。そして、基板上のそれぞれの光軸交点を通り紙面に垂直な軸を回動軸としてそれらが回動する。   The defect inspection apparatus also includes a substrate transport unit (not shown) that mounts the substrate 1 on the holding unit 101. The illumination unit 104, the condensing lens 105, the imaging unit 108, the filter unit 107, and the condensing lens 106 are integrally supported by support members (not shown). Then, they rotate around an axis perpendicular to the paper surface passing through each optical axis intersection on the substrate.

図2に示す全体制御部は、撮像部108から出力された電気信号を、撮像制御部208を介して受け取り、その電気信号に基づいて2次元の画像情報を生成し、画像処理によって欠陥を認識して基板1の良否を判定する。全体制御部は装置の制御機能と画像処理機能を備える。図2において、装置制御部201は、本欠陥検査装置の制御をコントロールして装置を動作させる。画像生成部202は、撮像制御部208から出力された電気信号から画像情報を生成する。位置補正部203は、画像生成部202によって生成された比較対象となる画像情報(比較対象画像情報)と、予め記憶部207に保存されている基準となる画像情報(基準画像情報)とを比較して画像の位置ずれを検出すると共に、撮像した画像を移動させて2つの画像の位置関係を補正する。   2 receives the electrical signal output from the imaging unit 108 via the imaging control unit 208, generates two-dimensional image information based on the electrical signal, and recognizes defects by image processing. Then, the quality of the substrate 1 is determined. The overall control unit has an apparatus control function and an image processing function. In FIG. 2, an apparatus control unit 201 controls the defect inspection apparatus to operate the apparatus. The image generation unit 202 generates image information from the electrical signal output from the imaging control unit 208. The position correction unit 203 compares the image information to be compared (comparison target image information) generated by the image generation unit 202 with the reference image information (reference image information) stored in the storage unit 207 in advance. Then, the positional deviation of the images is detected, and the captured image is moved to correct the positional relationship between the two images.

輝度補正部204は、位置補正部203によって位置補正された比較対象画像情報の輝度を抽出し、記憶部207に保存されている基準画像情報の輝度と比較して輝度の差を検出すると共に、2つの画像情報の輝度差を補正するため、比較対象画像情報の輝度を基準画像情報の輝度に合わせる。欠陥抽出部205は、輝度補正部204によって輝度の補正された比較対象画像情報と、記憶部207に保存されている基準画像情報とを比較して、輝度に一定値(閾値)以上の差のある部分を欠陥と判定する。欠陥判定部206は、欠陥抽出部205によって抽出された欠陥の輝度差や形状情報から欠陥の種類や重要度を分類する。   The luminance correction unit 204 extracts the luminance of the comparison target image information whose position is corrected by the position correction unit 203, detects a difference in luminance compared with the luminance of the reference image information stored in the storage unit 207, and In order to correct the luminance difference between the two pieces of image information, the luminance of the comparison target image information is matched with the luminance of the reference image information. The defect extraction unit 205 compares the comparison target image information whose luminance has been corrected by the luminance correction unit 204 with the reference image information stored in the storage unit 207, and compares the luminance with a difference of a certain value (threshold value) or more. A certain part is determined as a defect. The defect determination unit 206 classifies the type and importance of the defect based on the luminance difference and shape information of the defect extracted by the defect extraction unit 205.

記憶部207は、欠陥検査に用いる画像情報等を記憶する。撮像制御部208は、適切な撮像を実施するため、フィルタ部107及び撮像部108を駆動すると共に、フィルタ部107、撮像部108、集光レンズ106の回動動作を制御する。また、撮像制御部208は画像生成部202へ画像の電気信号を送信する。照明制御部209は照明部104の調光を制御すると共に、照明部104と集光レンズ105の回動動作を制御する。保持回転駆動部210は保持回転部102を駆動する。保持駆動部211は保持部101を駆動する。表示部212は液晶等のモニタであり、検査の状況や制御コマンドボタンを表示する。操作部213は、操作者が装置を操作するために使用するキーボードや、マウス、タッチパネル等を備えており、作業者が操作部213を操作することによって、装置制御部201に対して指示を与えることが可能となっている。   The storage unit 207 stores image information and the like used for defect inspection. The imaging control unit 208 drives the filter unit 107 and the imaging unit 108 and controls the rotation operations of the filter unit 107, the imaging unit 108, and the condenser lens 106 in order to perform appropriate imaging. Further, the imaging control unit 208 transmits an electrical signal of the image to the image generation unit 202. The illumination control unit 209 controls dimming of the illumination unit 104 and controls the rotation operation of the illumination unit 104 and the condenser lens 105. The holding rotation driving unit 210 drives the holding rotation unit 102. The holding drive unit 211 drives the holding unit 101. The display unit 212 is a monitor such as a liquid crystal display, and displays the inspection status and control command buttons. The operation unit 213 includes a keyboard, a mouse, a touch panel, and the like that are used by an operator to operate the apparatus. When the operator operates the operation unit 213, the operation unit 213 gives an instruction to the apparatus control unit 201. It is possible.

なお、装置制御部201、画像生成部202、位置補正部203、輝度補正部204、欠陥抽出部205、及び欠陥判定部206は、プログラムをメモリにロードすることにより動作するものでも良いし、電子回路であっても構わない。   Note that the apparatus control unit 201, the image generation unit 202, the position correction unit 203, the luminance correction unit 204, the defect extraction unit 205, and the defect determination unit 206 may operate by loading a program into a memory or electronic It may be a circuit.

以下、装置の自己診断に係る機能を中心にして、本欠陥検査装置の要部の詳細を説明する。保持部101は、例えば真空チャックステージであって、保持駆動部211からの駆動信号に従って基板1を吸着して保持した状態で移動可能である。保持回転部102は、保持回転駆動部210からの駆動信号に従って基板1を回転させることが可能となっている。   Hereinafter, the details of the main part of the defect inspection apparatus will be described focusing on the functions related to the self-diagnosis of the apparatus. The holding unit 101 is, for example, a vacuum chuck stage, and is movable in a state where the substrate 1 is sucked and held in accordance with a drive signal from the holding drive unit 211. The holding rotation unit 102 can rotate the substrate 1 in accordance with a drive signal from the holding rotation driving unit 210.

また、保持部101は、装置自身の異常の有無を検出するのに用いる基準被写体として機能させるため、図3に示すように、照明部104からの照明光の反射光を撮像したときに画像情報の輝度が中心と周辺とで異なるように、表面状態が異なる領域101Aと領域101Bが保持部101の表面に形成されている。また、ベース部103には黒つや消し塗装が施してあり、照明光が反射しないようになっている。ただし、真空吸着のための孔や溝、縁部等が本来形成されているが、図3はそれらを省略した模式図となっている。   In addition, since the holding unit 101 functions as a reference subject used to detect whether there is an abnormality in the apparatus itself, as illustrated in FIG. 3, image information is obtained when the reflected light of the illumination light from the illumination unit 104 is captured. A region 101A and a region 101B having different surface states are formed on the surface of the holding unit 101 so that the luminance of the center differs from that of the periphery. Further, the base portion 103 is painted with black matte so that the illumination light is not reflected. However, holes, grooves, edges and the like for vacuum suction are originally formed, but FIG. 3 is a schematic diagram in which they are omitted.

照明部104は、例えば保持部101に対する照明角度を回動により変更可能なように設けられており、照明制御部209からの命令により、保持部101上の基板1に様々な角度から光を照射すると共に、その光量を変化させることが可能となっている。フィルタ部107は、撮像制御部208からの命令により、狭帯域フィルタや偏光フィルタ又はNDフィルタ等の組み合わされたフィルタを切り替えることが可能となっている。装置制御部201の命令に基づいて撮像制御部208が駆動信号を出力することによって、フィルタ部107のフィルタを適宜変更することが可能となっている。   For example, the illumination unit 104 is provided so that the illumination angle with respect to the holding unit 101 can be changed by rotation, and the substrate 1 on the holding unit 101 is irradiated with light from various angles according to a command from the illumination control unit 209. In addition, the amount of light can be changed. The filter unit 107 can switch a combined filter such as a narrowband filter, a polarization filter, or an ND filter in accordance with a command from the imaging control unit 208. When the imaging control unit 208 outputs a drive signal based on a command from the device control unit 201, the filter of the filter unit 107 can be changed as appropriate.

図示しない基板搬送部は、例えば基板1を搭載するキャリアの蓋を開閉する部分と搬送ロボットからなり、装置制御部201からの命令によって、キャリアに入っている基板1を取り出し、保持部101まで搬送することが可能となっている。   The substrate transport unit (not shown) includes, for example, a part that opens and closes the lid of the carrier on which the substrate 1 is mounted and a transport robot, and takes out the substrate 1 contained in the carrier according to a command from the apparatus control unit 201 and transports it to the holding unit 101 It is possible to do.

画像生成部202は、撮像部108の撮像動作により生成された電気信号を、撮像制御部208を介して受け取り、その電気信号を基に2次元の画像情報を生成する。記憶部207には、保持部101の全体の基準画像情報と共に、保持部101上の複数の閉領域(例えば図3の閉領域301〜304)の座標情報と画像情報が保存される。   The image generation unit 202 receives an electrical signal generated by the imaging operation of the imaging unit 108 via the imaging control unit 208, and generates two-dimensional image information based on the electrical signal. In the storage unit 207, coordinate information and image information of a plurality of closed regions (for example, the closed regions 301 to 304 in FIG. 3) on the holding unit 101 are stored together with the entire reference image information of the holding unit 101.

位置補正部203は、予め装置制御部201によって指示された複数の閉領域の座標情報に基づいて、記憶部207に保存されている閉領域の画像情報(第1の閉領域画像情報)と、画像生成部202によって生成された比較対象画像情報のうちの一部の閉領域の画像情報(第2の閉領域画像情報)とを比較する。位置補正部203はさらに、比較対象画像内の閉領域を画像上でずらしながら第1の閉領域画像情報と第2の閉領域画像情報を順次比較し、基準画像上の閉領域に対応した比較対象画像上の閉領域を検出する。そして、位置補正部203は、検出した位置に基づいて、基準画像と画像上の位置が同一になるように、比較対象画像の座標を移動させる。   The position correction unit 203, based on the coordinate information of a plurality of closed regions instructed in advance by the device control unit 201, the closed region image information (first closed region image information) stored in the storage unit 207, The comparison target image information generated by the image generation unit 202 is compared with part of the closed region image information (second closed region image information). Further, the position correction unit 203 sequentially compares the first closed region image information and the second closed region image information while shifting the closed region in the comparison target image on the image, and performs a comparison corresponding to the closed region on the reference image. A closed region on the target image is detected. Then, based on the detected position, the position correction unit 203 moves the coordinates of the comparison target image so that the reference image and the position on the image are the same.

輝度補正部204は、閉領域における基準画像情報と比較対象画像情報の輝度がほぼ同一になるように比較対象画像情報のゲインやオフセット値を変更することが可能となっている。欠陥抽出部205は基準画像情報と比較対象画像情報の差分の情報(差分画像情報)を生成し、差分画像情報から輝度差の大きい部分を欠陥として抽出することができるようになっている。このとき、どの程度の輝度差があった場合に欠陥と判定するのかを決める閾値は記憶部207に保存されており、装置制御部201によって読み出されて欠陥抽出部205に渡される。   The brightness correction unit 204 can change the gain and offset value of the comparison target image information so that the brightness of the reference image information and the comparison target image information in the closed region are substantially the same. The defect extraction unit 205 can generate information on the difference between the reference image information and the comparison target image information (difference image information), and extract a portion having a large luminance difference from the difference image information as a defect. At this time, a threshold value that determines how much the luminance difference is to be determined as a defect is stored in the storage unit 207, read by the apparatus control unit 201, and passed to the defect extraction unit 205.

欠陥判定部206は、欠陥抽出部205で抽出された欠陥の輝度差の情報や、欠陥の発生した位置の情報、及び欠陥の形状情報に基づいて、欠陥の種類や欠陥の重要度、又は欠陥の発生原因の特定を行う。   The defect determination unit 206 determines the type of defect, the importance of the defect, or the defect based on the information on the luminance difference of the defect extracted by the defect extraction unit 205, the information on the position where the defect occurred, and the shape information of the defect. Identify the cause of the occurrence.

次に、本欠陥検査装置による自己診断の方法を説明する。図4は、自己診断に係る処理の手順を示している。図4中のデータ作成工程(ステップS11)は、自己診断を行うために基板1の無い状態の保持部101を予め基準被写体として撮像して基準画像情報を生成し、基準となるリファレンス情報を基準画像情報から生成する工程である。データ作成工程後、検査装置は通常の検査を行う。処理工程(ステップS12)は、新たに生成した比較対象画像情報を、後の工程で基準画像情報と比較可能となるように処理する工程である。   Next, a self-diagnosis method using this defect inspection apparatus will be described. FIG. 4 shows a procedure of processing related to self-diagnosis. In the data creation step (step S11) in FIG. 4, in order to perform self-diagnosis, the holding unit 101 without the substrate 1 is imaged in advance as a reference subject to generate reference image information, and the reference information serving as a reference is used as a reference. This is a step of generating from image information. After the data creation process, the inspection device performs normal inspection. The processing step (step S12) is a step of processing the newly generated comparison target image information so that it can be compared with the reference image information in a later step.

欠陥抽出工程(ステップS13)は、新たに生成した比較対象画像情報と基準画像情報を比較し、欠陥を抽出する工程である。欠陥抽出工程において、欠陥が抽出された場合には、判定工程(ステップS14)において、装置に異常が発生していると判定され、その具体的な原因が特定される。表示工程(ステップS15)は、判定結果を表示する工程である。ステップS12〜S15は、通常の検査を行った後、何らかの操作指示又は一定時間の経過により開始される装置自身の検査工程である。   The defect extraction step (step S13) is a step of comparing the newly generated comparison target image information with the reference image information to extract defects. If a defect is extracted in the defect extraction step, it is determined in the determination step (step S14) that an abnormality has occurred in the apparatus, and the specific cause is specified. A display process (step S15) is a process of displaying a determination result. Steps S <b> 12 to S <b> 15 are inspection processes of the apparatus itself that are started by some operation instruction or a certain period of time after performing a normal inspection.

以下、上記の各工程の詳細を説明する。まず、装置をセットアップした直後、若しくは照明部104のランプを交換した直後などに、作業者が操作部213を操作して校正処理の実行指示を入力すると、データ生成工程(ステップS11)が実行される。このデータ生成工程では、まず、照明部104による照明光の照射位置に向かって保持部101が移動する。この移動の途中で装置制御部201から撮像制御部208に撮像命令が出され、撮像命令を受けた撮像制御部208の指示により、撮像部108が撮像を開始する。   The details of each of the above steps will be described below. First, immediately after setting up the apparatus or immediately after replacing the lamp of the lighting unit 104, when the operator operates the operation unit 213 and inputs an execution instruction for calibration processing, a data generation step (step S11) is performed. The In this data generation step, first, the holding unit 101 moves toward the illumination light irradiation position by the illumination unit 104. During this movement, an imaging command is issued from the apparatus control unit 201 to the imaging control unit 208, and the imaging unit 108 starts imaging in response to an instruction from the imaging control unit 208 that has received the imaging command.

保持部101が照明光を横切る際に、保持部101に対して最適な角度で最適な光量で入射するように予め調整された照明光が基板1の表面に照射され、その反射光が撮像部108に入射する。撮像部108から出力された電気信号は撮像制御部208を介して画像生成部202に出力される。画像生成部202は、入力された電気信号に基づいて横X画素/縦Y画素の2次元の画像情報(基準画像情報)を生成し、位置補正部203へ出力する。   When the holding unit 101 crosses the illumination light, the surface of the substrate 1 is irradiated with illumination light that has been adjusted in advance so as to be incident on the holding unit 101 at an optimal angle and with an optimal amount of light, and the reflected light is applied to the imaging unit. 108 is incident. The electrical signal output from the imaging unit 108 is output to the image generation unit 202 via the imaging control unit 208. The image generation unit 202 generates two-dimensional image information (reference image information) of horizontal X pixels / vertical Y pixels based on the input electrical signal, and outputs the two-dimensional image information (reference image information) to the position correction unit 203.

位置補正部203は、生成された画像内で最も位置を特定しやすい閉領域を複数検出する。そして、位置補正部203は、その閉領域の座標情報を装置制御部201に通知する。装置制御部201は座標情報を記憶部207に格納する。続いて、基準画像情報は輝度補正部204へ出力される。輝度補正部204は基準画像情報から輝度情報を生成し、装置制御部201に輝度情報を通知する。装置制御部201は輝度情報を記憶部207に格納する。続いて、基準画像情報は欠陥抽出部205へ出力される。   The position correction unit 203 detects a plurality of closed regions whose positions are most easily specified in the generated image. Then, the position correction unit 203 notifies the device control unit 201 of the coordinate information of the closed region. The device control unit 201 stores the coordinate information in the storage unit 207. Subsequently, the reference image information is output to the luminance correction unit 204. The luminance correction unit 204 generates luminance information from the reference image information and notifies the device control unit 201 of the luminance information. The device control unit 201 stores the luminance information in the storage unit 207. Subsequently, the reference image information is output to the defect extraction unit 205.

欠陥抽出部205は、基準画像情報と比較対象画像情報を比較して欠陥を抽出する際に用いる欠陥抽出パラメータ、即ち、予め定められた値以上の輝度の差が生じた場合に欠陥として認識するための閾値を設定する。この閾値は欠陥抽出パラメータとして記憶部207に保存される。また、基準画像情報はリファレンス情報として記憶部207に保存される。   The defect extraction unit 205 recognizes the defect as a defect when a defect extraction parameter used when extracting the defect by comparing the reference image information and the comparison target image information, that is, when a difference in luminance exceeding a predetermined value occurs. Set a threshold for this. This threshold value is stored in the storage unit 207 as a defect extraction parameter. The reference image information is stored in the storage unit 207 as reference information.

続いて、通常の基板検査を実施していない待機状態であり、且つ、予め定められた期間自己診断を実施していないと装置制御部201が認識すると、自己診断が開始され、処理工程(ステップS12)に移行する。装置制御部201は座標情報、輝度情報、基準画像情報、及び欠陥抽出パラメータを記憶部207から読み込む。そして、装置制御部201は、保持部101に基板1が搭載されていない状態で保持回転駆動部210及び保持駆動部211に命令を出して、保持部101の表面をデータ作成工程(ステップS11)と同一の条件で撮像可能な状態とする。   Subsequently, when the apparatus control unit 201 recognizes that the normal substrate inspection is not performed and the self-diagnosis is not performed for a predetermined period, the self-diagnosis is started, and the processing step (step The process proceeds to S12). The apparatus control unit 201 reads coordinate information, luminance information, reference image information, and defect extraction parameters from the storage unit 207. Then, the apparatus control unit 201 issues a command to the holding rotation driving unit 210 and the holding driving unit 211 in a state where the substrate 1 is not mounted on the holding unit 101, and the surface of the holding unit 101 is subjected to a data creation process (step S11). It is assumed that imaging is possible under the same conditions as in FIG.

撮像部108によって保持部101の表面が撮像され、画像生成部202によって比較対象画像情報が生成される。位置補正部203は、装置制御部201から通知された座標情報に基づいて、基準画像内の閉領域の画像情報と比較対象画像内の閉領域の画像情報とを比較して、比較対象画像内で基準画像内の閉領域と同一であると推測できる場所を特定する。比較対象画像内の複数の閉領域について同様の動作を実施することにより、比較対象画像内で同一箇所と認識された閉領域の位置が基準画像内の閉領域の位置からどの程度シフトしているのかを計測することができる。位置補正部203は、この計測結果に基づいて比較対象画像を移動させて、基準画像と画像上の位置が同一になるようにする。   The imaging unit 108 images the surface of the holding unit 101, and the image generation unit 202 generates comparison target image information. The position correcting unit 203 compares the image information of the closed region in the reference image with the image information of the closed region in the comparison target image based on the coordinate information notified from the device control unit 201, and compares the image information in the comparison target image. To identify a place that can be assumed to be the same as the closed region in the reference image. By performing the same operation for a plurality of closed regions in the comparison target image, how much the position of the closed region recognized as the same position in the comparison target image is shifted from the position of the closed region in the reference image. Can be measured. The position correction unit 203 moves the comparison target image based on the measurement result so that the position on the image is the same as the reference image.

続いて、位置補正された比較対象画像情報は輝度補正部204へ出力される。輝度補正部204は、座標情報に基づいて比較対象画像内の閉領域の座標を検出し、その閉領域に含まれる画素の輝度値を求める。また、輝度補正部204は、その閉領域に対応した基準画像内の閉領域に含まれる画素の輝度値を輝度情報から抽出して参照し、比較対象画像情報と基準画像情報の輝度分布がほぼ均一となるように、比較対象画像情報全体の輝度にゲインをかけたりオフセットを加えたりする。これにより、両者の輝度が多少変動していても、基準画像情報とほぼ同様の輝度特性となるように比較対象画像情報を補正することが可能となる。輝度補正された画像情報は欠陥抽出部205へ出力される。   Subsequently, the position-corrected comparison target image information is output to the luminance correction unit 204. The luminance correction unit 204 detects the coordinates of the closed region in the comparison target image based on the coordinate information, and obtains the luminance value of the pixels included in the closed region. Also, the luminance correction unit 204 extracts and refers to the luminance value of the pixel included in the closed region in the reference image corresponding to the closed region from the luminance information, and the luminance distribution of the comparison target image information and the reference image information is almost equal. In order to make it uniform, a gain is applied to the luminance of the entire comparison target image information or an offset is added. As a result, even if the luminance of both is slightly changed, it is possible to correct the comparison target image information so that the luminance characteristics are almost the same as those of the reference image information. The luminance-corrected image information is output to the defect extraction unit 205.

続いて、欠陥抽出工程(ステップS13)において、欠陥抽出部205は欠陥抽出パラメータ及び基準画像情報を装置制御部201から受け取り、輝度補正部204から出力された比較対象画像情報と基準画像情報とを比較し、その差分をとることで差分画像情報を生成する。欠陥抽出部205はさらに、差分画像情報に含まれる輝度差が、欠陥抽出パラメータの示す閾値を超える部分を検出して欠陥と特定し、その部分の差分画像情報を欠陥判定部206へ出力する。   Subsequently, in the defect extraction step (step S13), the defect extraction unit 205 receives the defect extraction parameter and the reference image information from the apparatus control unit 201, and uses the comparison target image information and the reference image information output from the luminance correction unit 204. Difference image information is generated by comparing and taking the difference. The defect extraction unit 205 further detects a part where the luminance difference included in the difference image information exceeds the threshold indicated by the defect extraction parameter, identifies the defect, and outputs the difference image information of the part to the defect determination unit 206.

続いて、判定工程(ステップS14)に移行して、欠陥判定が実施される。即ち、欠陥抽出工程(ステップS13)で抽出された欠陥が、どのような原因で発生した欠陥であるのかが判定される。   Then, it transfers to a determination process (step S14) and defect determination is implemented. That is, it is determined what kind of cause the defect extracted in the defect extraction step (step S13) is.

例えば、撮像制御部208から出力される撮像タイミング信号と、保持駆動部211から出力される保持部101の移動信号とのタイミングがずれた場合には、基準画像と比較対象画像との間には、上下方向の端部において輝度の差が生じる。この差が、欠陥抽出パラメータの示す閾値を超えている場合には、図5のような欠陥501が検出される。   For example, when the timing of the imaging timing signal output from the imaging control unit 208 and the movement signal of the holding unit 101 output from the holding drive unit 211 are deviated, there is no difference between the reference image and the comparison target image. A difference in luminance occurs at the end in the vertical direction. If this difference exceeds the threshold indicated by the defect extraction parameter, a defect 501 as shown in FIG. 5 is detected.

又は、何らかの原因によって集光レンズ106や撮像部108の位置が移動してしまった場合や、光軸のずれが発生した場合には、画像の位置が本来の位置とは異なってしまう。本実施形態では、位置補正部203により画像の位置ずれが補正されるようになっているが、予め想定されている範囲を超えた位置ずれを補正することはできない。そのため、基準画像と比較対象画像との間には、左右方向の端部において輝度の差が生じる。この場合には、図6のような欠陥601が検出されることとなる。   Alternatively, when the positions of the condenser lens 106 and the imaging unit 108 are moved for some reason or when an optical axis shift occurs, the position of the image is different from the original position. In the present embodiment, the positional deviation of the image is corrected by the position correcting unit 203, but the positional deviation exceeding the range assumed in advance cannot be corrected. For this reason, a difference in luminance occurs between the reference image and the comparison target image at the left and right ends. In this case, a defect 601 as shown in FIG. 6 is detected.

さらに、撮像部108がラインセンサカメラを有している場合には、一部の画素に異常が発生すると、比較対象画像は、縦方向に伸びる縦線が入ってしまったかのような画像となる。比較対象画像と基準画像における縦線上の画素の輝度の差が閾値以上の場合、図7に示すように、欠陥701,702として抽出される。このように、装置の異常に起因する画像の異常について欠陥判定部206は判定を行い、欠陥の位置・輝度差・形状の情報を考慮して装置の異常原因の推定を行い、その推定結果を装置制御部201に通知する。   Further, when the imaging unit 108 includes a line sensor camera, when an abnormality occurs in some pixels, the comparison target image is an image as if a vertical line extending in the vertical direction has been entered. When the luminance difference between the pixels on the vertical line in the comparison target image and the reference image is greater than or equal to the threshold value, the defects 701 and 702 are extracted as shown in FIG. As described above, the defect determination unit 206 determines the image abnormality caused by the abnormality of the device, estimates the cause of the abnormality of the device in consideration of the position / luminance difference / shape information of the defect, and the estimation result is obtained. Notify the device control unit 201.

続いて、表示工程(ステップS15)において、具体的な異常の内容と欠陥の位置、撮像した画像と共に警告メッセージが、表示部212によって表示される。   Subsequently, in the display step (step S15), a warning message is displayed on the display unit 212 together with specific abnormality contents, defect positions, and captured images.

上述したように、本実施形態では、基準被写体を撮像して得られた基準画像情報と、基準画像情報の取得後に基準被写体を撮像して得られた比較対象画像情報との差分に基づいて、装置自身の異常の有無が判定される。基準画像情報を取得したときの装置の状態と、比較対象画像情報を取得したときの装置の状態とが異なっている場合、その状態の違いに起因して、基準画像情報と比較対象画像情報に相違が生じる。したがって、本実施形態のように基準画像情報と比較対象画像情報を比較することによって、装置自身の異常を検出することができる。   As described above, in the present embodiment, based on the difference between the reference image information obtained by imaging the reference subject and the comparison target image information obtained by imaging the reference subject after obtaining the reference image information, It is determined whether there is an abnormality in the device itself. If the state of the device when the reference image information is acquired is different from the state of the device when the comparison target image information is acquired, the reference image information and the comparison target image information are changed due to the difference in the state. Differences occur. Therefore, the abnormality of the apparatus itself can be detected by comparing the reference image information and the comparison target image information as in the present embodiment.

また、保持部101の表面を基準被写体とすることによって、装置の自己診断を行う際に自己診断用の試料を保持部101上に載置する必要がなくなり、自己診断に掛かる時間を短縮することができる。さらに、基準被写体の表面が複数の領域(図3の領域101A,101B)を有しており、基準被写体の表面を撮像して得られた画像情報における輝度が領域毎に異なるように基準被写体の表面状態を領域毎に変えて基準被写体を構成することで、2つの画像情報における輝度の比較により装置の異常を容易に検出することができる。   In addition, by using the surface of the holding unit 101 as a reference subject, it is not necessary to place a sample for self-diagnosis on the holding unit 101 when performing self-diagnosis of the apparatus, and the time required for self-diagnosis can be reduced. Can do. Furthermore, the surface of the reference subject has a plurality of regions (regions 101A and 101B in FIG. 3), and the brightness of the reference subject is different so that the luminance in the image information obtained by imaging the surface of the reference subject varies from region to region. By configuring the reference subject by changing the surface state for each region, it is possible to easily detect an abnormality of the apparatus by comparing the luminance in the two pieces of image information.

また、基準画像情報と比較対象画像情報を比較して、装置の異常に起因する欠陥を抽出することによって、特に撮像系又は照明系の異常の有無をより好適に検知することができる。   In addition, by comparing the reference image information and the comparison target image information and extracting defects caused by the abnormality of the apparatus, it is possible to more suitably detect the presence or absence of an abnormality in the imaging system or the illumination system.

また、ロットの入れ替えなどで装置が待機している合間に装置の自己診断が実行されることにより、基板検査に影響を与えずに装置の異常を検出することが可能となる。さらに、上述した自己診断を定期的に行うことによって、装置側の異常故障の警告をいち早く作業者に発して異常を知らせることができ、作業者に正しい対処方法を促して装置のダウンタイムを短縮することができる。   In addition, by executing a self-diagnosis of the apparatus while the apparatus is on standby due to a lot change or the like, it is possible to detect an abnormality of the apparatus without affecting the substrate inspection. In addition, by performing the self-diagnosis described above regularly, it is possible to quickly notify the operator of an abnormal failure on the device side and notify the operator of the abnormality, and prompt the operator for a corrective action and reduce the downtime of the device. can do.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態を説明する。図8は、本実施形態による保持部101の平面図である。保持部101の表面には、基板1を少ない面積で接触保持するためのピン801が並べられている。また、保持部101の表面の中央部付近には図示せぬ真空吸引用の孔が複数形成されており、真空吸引により、基板の縁と接触する縁部とピン801との隙間の空間を負圧とすることにより、基板1の裏面をわずかな面積で支えながら保持部101の表面に保持することが可能となっている。また、複数のピン801が均一に配置された領域内において、中央部の1箇所及び周辺部の4箇所には、目印となるようにピンの配列を変えたピン群802〜806が形成されている。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a plan view of the holding unit 101 according to the present embodiment. On the surface of the holding unit 101, pins 801 for holding the substrate 1 in contact with a small area are arranged. In addition, a plurality of holes for vacuum suction (not shown) are formed near the center of the surface of the holding portion 101, and the space between the edge contacting the edge of the substrate and the pin 801 is reduced by vacuum suction. By using the pressure, it is possible to hold the back surface of the substrate 1 on the surface of the holding portion 101 while supporting the back surface with a small area. Further, in a region where the plurality of pins 801 are uniformly arranged, pin groups 802 to 806 in which the arrangement of the pins is changed so as to be a mark are formed in one place in the central portion and four places in the peripheral portion. Yes.

以下、図4及び図9を参照し、本実施形態における自己診断の方法を説明する。図9は図4のデータ生成工程(ステップS11)の詳細を示している。データ生成工程(ステップS11)では、保持部101を撮像して得た基準画像情報から、位置補正部203が、目印となるピン群802〜806の少なくともいずれかを含む閉領域を検出する。その閉領域の座標情報及び基準画像情報は装置制御部201に渡され、記憶部207に保存される(ステップS111)。続いて、基準画像情報は輝度補正部204に出力される。   Hereinafter, a self-diagnosis method according to this embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 9 shows details of the data generation step (step S11) of FIG. In the data generation step (step S11), the position correction unit 203 detects a closed region including at least one of the pin groups 802 to 806 serving as landmarks from the reference image information obtained by imaging the holding unit 101. The coordinate information and the reference image information of the closed region are transferred to the device control unit 201 and stored in the storage unit 207 (step S111). Subsequently, the reference image information is output to the luminance correction unit 204.

輝度補正部204は、座標情報に基づいて、閉領域内の基準画像情報の輝度を検出し、装置制御部201に輝度情報を通知する。この輝度情報は記憶部207に保存される(ステップS112)。続いて、基準画像情報は欠陥抽出部205に出力される。   The luminance correction unit 204 detects the luminance of the reference image information in the closed region based on the coordinate information, and notifies the device control unit 201 of the luminance information. This luminance information is stored in the storage unit 207 (step S112). Subsequently, the reference image information is output to the defect extraction unit 205.

欠陥抽出部205は、基準画像情報と比較対象画像情報を比較して欠陥を抽出する際に用いる欠陥抽出パラメータ、即ち、予め定められた値以上の輝度の差が生じた場合に欠陥として認識するための閾値を設定する(ステップS113)。この閾値は欠陥抽出パラメータとして記憶部207に保存される。また、基準画像情報はリファレンス情報として記憶部207に保存される。   The defect extraction unit 205 recognizes the defect as a defect when a defect extraction parameter used when extracting the defect by comparing the reference image information and the comparison target image information, that is, when a difference in luminance exceeding a predetermined value occurs. A threshold value is set for this (step S113). This threshold value is stored in the storage unit 207 as a defect extraction parameter. The reference image information is stored in the storage unit 207 as reference information.

続いて、処理工程(ステップS12)において、撮像部108によって保持部101の表面が撮像され、画像生成部202によって比較対象画像情報が生成される。位置補正部203は、座標情報に基づいて、基準画像内の閉領域の画像情報と比較対象画像内の閉領域の画像情報とを比較して、比較対象画像内で基準画像内の閉領域と同一であると推測できる場所を特定する。   Subsequently, in the processing step (step S <b> 12), the imaging unit 108 images the surface of the holding unit 101, and the image generation unit 202 generates comparison target image information. The position correction unit 203 compares the image information of the closed region in the reference image with the image information of the closed region in the comparison target image based on the coordinate information, and determines the closed region in the reference image in the comparison target image. Identify locations that can be assumed to be the same.

そして、位置補正部203は、比較対象画像を移動させて、基準画像と画像上の位置が同一になるようにする。本実施形態では、閉領域内に目印となる特異なピン配列が存在するため、画像処理でもそのピン配列を検出しやすく、より正確な位置合わせが可能となる。位置合わせの施された比較対象画像情報が輝度補正部204に出力され、輝度補正部204によって輝度補正が施される。   Then, the position correction unit 203 moves the comparison target image so that the position on the image is the same as the reference image. In this embodiment, since a unique pin array serving as a mark exists in the closed region, it is easy to detect the pin array even in image processing, and more accurate alignment is possible. The comparison target image information subjected to the alignment is output to the luminance correction unit 204, and the luminance correction is performed by the luminance correction unit 204.

続いて、欠陥抽出工程(ステップS13)において、欠陥抽出部205は比較対象画像情報と基準画像情報とを比較し、その差分をとることで差分画像情報を生成する。欠陥抽出部205はさらに、差分画像情報に含まれる輝度差が、欠陥抽出パラメータの示す閾値を超える部分を検出して欠陥と特定し、その部分の差分画像情報を欠陥判定部206へ出力する。   Subsequently, in the defect extraction step (step S13), the defect extraction unit 205 compares the comparison target image information with the reference image information, and generates difference image information by taking the difference. The defect extraction unit 205 further detects a part where the luminance difference included in the difference image information exceeds the threshold indicated by the defect extraction parameter, identifies the defect, and outputs the difference image information of the part to the defect determination unit 206.

保持部101の表面に並べられたピン801若しくは目印となるピン群802〜806が位置のずれなどを起こすと、欠陥が検出されるため、撮像時のタイミングや光学系の移動、撮像部の異常等を第1の実施形態と同様に検出することが可能である。判定工程(ステップS13)及び表示工程(ステップS14)も第1の実施形態と同様であるので、説明を省略する。   When a pin 801 arranged on the surface of the holding unit 101 or a pin group 802 to 806 serving as a mark is displaced, a defect is detected. Therefore, the timing at the time of imaging, the movement of the optical system, the abnormality of the imaging unit Etc. can be detected in the same manner as in the first embodiment. Since the determination step (step S13) and the display step (step S14) are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted.

本実施形態によれば、保持部101の表面形状をわずかに変更するだけで第1の実施形態と同等の効果を得ることが可能となり、保持部101の製作価格を押さえつつ装置の異常を的確に捉えることが可能となる。なお、閉領域内に特異なピン配列がなくても、十分位置合わせが可能な場合には、特異なピン配列は不要であり、この場合は、保持部101をそのまま撮像するだけで、装置の異常を検出することができる。   According to the present embodiment, it is possible to obtain the same effect as that of the first embodiment by slightly changing the surface shape of the holding unit 101, and it is possible to accurately correct the abnormality of the apparatus while suppressing the manufacturing price of the holding unit 101. Can be captured. Even if there is no specific pin arrangement in the closed region, if sufficient alignment is possible, the specific pin arrangement is not necessary. Abnormalities can be detected.

(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態を説明する。図10は、本実施形態による保持部101の平面図である。第2の実施形態と同様に、保持部101の表面にはピン1001が並べられており、さらに特定の場所に、ピンの配列を変えたピン群1002〜1005が設けられている。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 10 is a plan view of the holding unit 101 according to the present embodiment. Similar to the second embodiment, pins 1001 are arranged on the surface of the holding unit 101, and further, pin groups 1002 to 1005 in which the arrangement of the pins is changed are provided at specific locations.

さらに、保持部101の表面の中央部及び周辺部には、反射率の比較的高い矩形状の高反射率領域1006〜1010が設けられている。高反射率領域1006〜1010内の反射率はほぼ均一となっており、撮像部108が保持部101の表面を撮像したときに、高反射率領域1006〜1010を均一な輝度値の矩形として撮像できるようになっている。5つの高反射率領域の全てが同一の反射率を持つように作成されているため、画像内では輝度の均一な矩形部分が5箇所に存在するようになっている。   Furthermore, rectangular high reflectivity regions 1006 to 1010 having a relatively high reflectivity are provided at the central portion and the peripheral portion of the surface of the holding portion 101. The reflectivity in the high reflectivity regions 1006 to 1010 is substantially uniform, and when the imaging unit 108 images the surface of the holding unit 101, the high reflectivity regions 1006 to 1010 are imaged as rectangles having uniform luminance values. It can be done. Since all of the five high reflectance regions are created to have the same reflectance, there are five rectangular portions with uniform luminance in the image.

また、ベース部103の表面上の保持部101の周辺において、保持部101に基板1を搭載したときの基板1の表面と同一の高さになるように高さが調節された解像度チャート1011〜1014が設置されている。解像度(又は解像力)チャート1011〜1014には、撮像光学系の解像力に応じた空間周波数で複数のW/B(White/Black)パターンが縦横に形成されており、これらの輝度の差を比較することにより、光学系の解像力を相対的に計測することができる。   Also, a resolution chart 1011 whose height is adjusted to be the same height as the surface of the substrate 1 when the substrate 1 is mounted on the holding unit 101 around the holding unit 101 on the surface of the base unit 103. 1014 is installed. In the resolution (or resolving power) charts 1011 to 1014, a plurality of W / B (White / Black) patterns are formed vertically and horizontally at a spatial frequency corresponding to the resolving power of the imaging optical system, and the difference in luminance is compared. Thus, the resolving power of the optical system can be relatively measured.

図11は、本実施形態による画像処理部109の構成を示している。本実施形態では、第1及び第2の実施形態による画像処理部109(図2)と比較して、輝度検出部214及び解像度計測部215が追加されている。輝度検出部214は、高反射率領域1006〜1010の画像情報における輝度値を計測し、それぞれの領域の平均輝度や輝度分布を検出する。   FIG. 11 shows the configuration of the image processing unit 109 according to the present embodiment. In the present embodiment, a luminance detection unit 214 and a resolution measurement unit 215 are added as compared to the image processing unit 109 (FIG. 2) according to the first and second embodiments. The luminance detection unit 214 measures luminance values in the image information of the high reflectance regions 1006 to 1010, and detects the average luminance and luminance distribution of each region.

解像度計測部215は、基準画像情報と比較対象画像情報における解像度チャート1011〜1014のパターン輝度の変化をラインセンサの一画素毎に検出することにより、離散的にサンプリングされた擬似的な輝度変化から光学系の解像力を予測して計測値として出力する。この解像力の計測の例を以下に挙げる。W/Bパターンの各々の輝度をI(w)及びI(b)とすると、次式で表される輝度の変化率I(f)を、各空間周波数を持つパターンについて測定することで解像力の相対値を評価することができる。
I(f) = (I(w) - I(b)) / (I(w) + I(b))
The resolution measurement unit 215 detects a change in the pattern luminance of the resolution charts 1011 to 1014 in the reference image information and the comparison target image information for each pixel of the line sensor, thereby detecting a pseudo luminance change sampled discretely. Predict the resolving power of the optical system and output it as a measured value. An example of the measurement of the resolving power is given below. Assuming that the luminance of each W / B pattern is I (w) and I (b), the luminance change rate I (f) expressed by the following equation is measured for the pattern having each spatial frequency to Relative values can be evaluated.
I (f) = (I (w)-I (b)) / (I (w) + I (b))

例えば、I(f)の値が0.2以上を解像しているとして、縦横の解像度チャートの各空間周波数の何番目までが解像しているかを評価する。解像されている最大の空間周波数又はチャート番号が解像力の値となる。   For example, assuming that the value of I (f) is 0.2 or more, it is evaluated how many spatial frequencies of the vertical and horizontal resolution charts are resolved. The maximum spatial frequency or chart number that is resolved is the resolution value.

次に、図12及び図13を参照し、本実施形態における自己診断の方法を説明する。装置のセットアップ時やランプ交換時にはデータ作成工程が実行される。図12は、このデータ作成工程の詳細を示している。まず、輝度ムラ情報検出工程(ステップS21)において、輝度検出部214は、保持部101の表面を撮像して得た基準画像情報における高反射率領域1006〜1010の輝度を検出し、その各領域について平均輝度、最大輝度、最小輝度、輝度分布などを計測する。計測した結果は輝度情報として記憶部207に保存される。   Next, a self-diagnosis method according to this embodiment will be described with reference to FIGS. A data creation process is executed at the time of device setup or lamp replacement. FIG. 12 shows details of this data creation process. First, in the luminance unevenness information detection step (step S21), the luminance detection unit 214 detects the luminances of the high reflectance regions 1006 to 1010 in the reference image information obtained by imaging the surface of the holding unit 101, and the respective regions. Measure the average brightness, maximum brightness, minimum brightness, brightness distribution, etc. The measurement result is stored in the storage unit 207 as luminance information.

続いて、解像度計測工程(ステップS22)では、解像度計測部215は、基準画像情報に基づいて、解像度チャート1011〜1014の解像力を測定する。測定結果は、解像力情報として記憶部207に保存される。また、第2の実施形態における図9のステップS111〜S113と同様にして、ステップS23〜S25において、閉領域の座標情報、輝度情報、欠陥抽出パラメータが作成され、記憶部207に保存される。   Subsequently, in the resolution measurement step (step S22), the resolution measurement unit 215 measures the resolution of the resolution charts 1011 to 1014 based on the reference image information. The measurement result is stored in the storage unit 207 as resolution information. Similarly to steps S111 to S113 of FIG. 9 in the second embodiment, in steps S23 to S25, coordinate information, luminance information, and defect extraction parameters of the closed region are created and stored in the storage unit 207.

図13は実際の装置運用時の動作を示している。まず、装置制御部201は、基板1について次の検査の予約が入っているか否かを判断する(ステップS31)。次の検査予約が入っている場合には、速やかに検査が実行される(ステップS32)。この検査が完了した後は、処理が再度ステップS31に戻る。一方、次の検査予約が入っていない場合には、装置制御部201は、前回の自己診断から規定の設定時間が経過しているか否かを判断する(ステップS33)。   FIG. 13 shows the operation during actual device operation. First, the apparatus control unit 201 determines whether or not the next inspection is reserved for the substrate 1 (step S31). If there is a next inspection reservation, the inspection is promptly executed (step S32). After this inspection is completed, the process returns to step S31 again. On the other hand, if the next examination reservation has not been entered, the apparatus control unit 201 determines whether or not a specified set time has elapsed since the previous self-diagnosis (step S33).

前回の自己診断から規定の設定時間が経過していない場合には、処理が再度ステップS31に戻る。一方、前回の自己診断から規定の設定時間が経過している場合には、自己診断が必要であると装置制御部201が判断した結果、装置は自己診断モードに入り、処理工程(ステップS34)が実行される。   If the specified set time has not elapsed since the previous self-diagnosis, the process returns to step S31 again. On the other hand, if the specified set time has elapsed since the previous self-diagnosis, the device control unit 201 determines that self-diagnosis is necessary. As a result, the device enters the self-diagnosis mode, and the processing step (step S34). Is executed.

処理工程では、装置制御部201は必要なパラメータを記憶部207から読み込み、輝度検出部214に通知する。輝度検出部214は、新たな撮像により生成された比較対象画像情報における高反射率領域1006〜1010の輝度を検出する。これら5箇所の領域については、輝度が同一となるように製造されているため、これらの領域に輝度の差が出るということは、装置に異常が発生していることになる。   In the processing step, the apparatus control unit 201 reads necessary parameters from the storage unit 207 and notifies the luminance detection unit 214 of them. The luminance detection unit 214 detects the luminance of the high reflectance regions 1006 to 1010 in the comparison target image information generated by new imaging. Since these five areas are manufactured to have the same luminance, a difference in luminance in these areas means that an abnormality has occurred in the apparatus.

例えば、保持部101の主面が水平面に対して傾いていた場合には、照明光が保持部101の表面で反射しても撮像部108に届かず暗くなる現象が発生する。特に、保持部101の主面の片側だけがたわんでいる場合などには、5つの高反射率領域の輝度が異なって検出されることになる。輝度検出部214は、これらの高反射率領域の輝度情報を装置制御部201に通知して、解像度計測部215に比較対象画像情報を出力する。   For example, when the main surface of the holding unit 101 is inclined with respect to the horizontal plane, a phenomenon occurs in which the illumination light does not reach the imaging unit 108 and becomes dark even when reflected by the surface of the holding unit 101. In particular, when only one side of the main surface of the holding unit 101 is bent, the brightness of the five high reflectance regions is detected differently. The luminance detection unit 214 notifies the apparatus control unit 201 of luminance information of these high reflectance regions, and outputs comparison target image information to the resolution measurement unit 215.

解像度計測部215は、基準画像情報における解像度チャート1011〜1014の解像力を計測して装置制御部201にその数値データを通知する。例えば、光学系に含まれる部品同士の間隔が何らかの原因で変化してしまった場合には、フォーカス異常として検出されるため、解像力の数値も基準画像情報とは異なった値となる。特に、光学系では、保持部101の表面の周辺部に異常が発生しやすいため、周辺部の4箇所の解像力を観測することで装置の異常を的確に検出することが可能となる。   The resolution measuring unit 215 measures the resolving power of the resolution charts 1011 to 1014 in the reference image information and notifies the apparatus control unit 201 of the numerical data. For example, if the interval between components included in the optical system has changed for some reason, it is detected as a focus abnormality, so the numerical value of the resolving power also differs from the reference image information. In particular, in the optical system, an abnormality is likely to occur in the peripheral portion of the surface of the holding unit 101. Therefore, it is possible to accurately detect an abnormality in the apparatus by observing the resolving power at four locations in the peripheral portion.

続いて、欠陥抽出工程(ステップS35)が実行される。欠陥抽出工程において、欠陥抽出部205は、輝度検出部214が検出した輝度情報、及び解像度計測部215が検出した解像力情報と、記憶部207に保存された輝度情報及び解像力情報とを装置制御部201から受け取り、それらの情報に基づいて、装置に異常があるか否かを判定する。   Subsequently, a defect extraction step (step S35) is performed. In the defect extraction step, the defect extraction unit 205 receives the luminance information detected by the luminance detection unit 214, the resolution information detected by the resolution measurement unit 215, and the luminance information and resolution information stored in the storage unit 207. Based on the information received from 201, it is determined whether or not there is an abnormality in the apparatus.

輝度に関する判定では、欠陥抽出部205は、処理工程で検出された高反射率領域1006〜1010の輝度のばらつきが、記憶部207に保存された輝度情報の示す輝度分布から外れている場合に、装置に異常があると判定する。また、解像力に関する判定では、欠陥抽出部205は、処理工程で検出された解像力の数値と、記憶部207に保存された解像力情報の示す解像力の数値とを比較し、両者の差が、欠陥抽出パラメータの示す閾値を超えている場合に、装置に異常があると判定する。さらに、欠陥抽出部205は、基準画像情報と比較対象画像情報の差分画像情報に基づいて、画像として異常があるか否かを判定する。続いて、第1及び第2の実施形態と同様にして、判定工程(ステップS36)及び表示工程(ステップS37)が実行される。   In the determination regarding luminance, the defect extraction unit 205 determines that the variation in luminance of the high reflectance regions 1006 to 1010 detected in the processing step is out of the luminance distribution indicated by the luminance information stored in the storage unit 207. It is determined that there is an abnormality in the device. In the determination regarding the resolving power, the defect extracting unit 205 compares the numerical value of the resolving power detected in the processing step with the numerical value of the resolving power indicated by the resolving power information stored in the storage unit 207, and the difference between the two is determined as the defect extraction. If the threshold value indicated by the parameter is exceeded, it is determined that the device is abnormal. Further, the defect extraction unit 205 determines whether there is an abnormality in the image based on the difference image information between the reference image information and the comparison target image information. Subsequently, the determination process (step S36) and the display process (step S37) are executed in the same manner as in the first and second embodiments.

本実施形態によれば、装置が検査待機中に自己診断を的確に実施することが可能であり、生産量に影響を与えることなく装置の自己診断を実行することができる。さらに、輝度のムラや解像度を検出することにより、保持部101が傾いている異常や、光学系の間隔のずれにより生じる焦点の異常、光学系の偏心による片ボケなどの非対称な解像の異常などを検出することができる。   According to the present embodiment, it is possible to accurately perform self-diagnosis while the apparatus is on standby for inspection, and it is possible to execute self-diagnosis of the apparatus without affecting the production amount. Furthermore, by detecting unevenness of brightness and resolution, abnormalities such as abnormal tilting of the holding unit 101, abnormal focus caused by deviations in the optical system spacing, and asymmetrical resolution such as one-sided blur due to optical system decentering. Etc. can be detected.

(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態を説明する。本実施形態では、反射光が略均一の輝度を備える基準被写体(例えばベアウェハ)が使用される。図14は、本実施形態による画像処理部109の構成を示している。本実施形態では、画像情報の位置補正及び輝度補正は行われない。また、輝度検出部214は、基準画像情報における輝度の度数に応じてヒストグラム(輝度分布)を作成する。さらに、欠陥抽出部205は、そのヒストグラムに基づいて装置の異常の有無を判定する。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, a reference subject (for example, a bare wafer) provided with substantially uniform brightness of reflected light is used. FIG. 14 shows the configuration of the image processing unit 109 according to the present embodiment. In the present embodiment, position correction and luminance correction of image information are not performed. Further, the luminance detection unit 214 creates a histogram (luminance distribution) according to the luminance frequency in the reference image information. Furthermore, the defect extraction unit 205 determines whether there is an abnormality in the apparatus based on the histogram.

以下、本実施形態における自己診断の方法を説明する。この処理手順は図4と同様である。まず、データ作成工程(ステップS11)において、輝度検出部214は、基板1の表面を撮像して得た基準画像情報における、予め指定された領域の輝度を解析し、そのヒストグラムを作成する。得られたヒストグラムは他の情報と共に記憶部207に保存される。   Hereinafter, a self-diagnosis method in this embodiment will be described. This processing procedure is the same as in FIG. First, in the data creation step (step S11), the luminance detection unit 214 analyzes the luminance of a predetermined area in the reference image information obtained by imaging the surface of the substrate 1, and creates a histogram thereof. The obtained histogram is stored in the storage unit 207 together with other information.

続いて、欠陥抽出部205は、ヒストグラムに含まれる輝度を正常と判断し、ヒストグラムに含まれない輝度を異常と判断する輝度範囲を設定するために少なくとも2つの閾値C及び閾値Dを決定する。それらの閾値は欠陥抽出パラメータとして記憶部207に保存される。   Subsequently, the defect extraction unit 205 determines that the luminance included in the histogram is normal, and determines at least two threshold values C and D in order to set a luminance range in which luminance not included in the histogram is determined to be abnormal. Those threshold values are stored in the storage unit 207 as defect extraction parameters.

続いて、処理工程(ステップS12)において、輝度検出部214は、基板1の表面を撮像して得た比較対象画像情報における、予め指定された領域の輝度を解析し、そのヒストグラムを作成する。作成されたヒストグラムは欠陥抽出部205に出力される。   Subsequently, in the processing step (step S12), the luminance detection unit 214 analyzes the luminance of a predetermined area in the comparison target image information obtained by imaging the surface of the substrate 1, and creates a histogram thereof. The created histogram is output to the defect extraction unit 205.

続いて、欠陥抽出工程(ステップS13)において、欠陥抽出部205はヒストグラム良否判定処理を行う。具体的には、装置制御部201は欠陥抽出パラメータを記憶部207から読み込み、輝度検出部214に渡す。輝度検出部214は、欠陥抽出パラメータに含まれる閾値C及び閾値Dを、処理工程で作成されたヒストグラムに当てはめたときに、閾値C〜閾値Dの範囲外に輝度の度数があるか否かを判断する。   Subsequently, in the defect extraction step (step S13), the defect extraction unit 205 performs histogram quality determination processing. Specifically, the apparatus control unit 201 reads defect extraction parameters from the storage unit 207 and passes them to the luminance detection unit 214. The luminance detection unit 214 determines whether or not the luminance frequency is outside the range of the threshold C to the threshold D when the threshold C and the threshold D included in the defect extraction parameter are applied to the histogram created in the processing step. to decide.

例えば、図15(a)に示すように、閾値Cと閾値Dで挟まれた輝度範囲内に輝度の度数が収まっている場合には、欠陥抽出部205は正常と判定する。また、図15(b)に示すように、閾値Cと閾値Dで挟まれた輝度範囲外に輝度の度数が分布している場合には、欠陥抽出部205は異常と判定する。欠陥抽出部205による判定の結果は、正常と異常とに分けて、検査結果情報として記憶部207に保存される。   For example, as shown in FIG. 15A, when the luminance frequency is within the luminance range between the threshold C and the threshold D, the defect extraction unit 205 determines that the defect is normal. As shown in FIG. 15B, when the luminance frequency is distributed outside the luminance range between the threshold C and the threshold D, the defect extraction unit 205 determines that the defect is abnormal. The determination result by the defect extraction unit 205 is stored in the storage unit 207 as inspection result information separately for normal and abnormal.

続いて、判定工程(ステップS14)において、欠陥判定部206はヒストグラム欠陥有無判定処理を行う。具体的には、欠陥判定部206は装置制御部201から検査結果情報を受け取り、検査結果情報が示すヒストグラム良否判定処理の結果に基づいて、装置が正常であるか異常であるかを判定する。   Subsequently, in the determination step (step S14), the defect determination unit 206 performs a histogram defect presence determination process. Specifically, the defect determination unit 206 receives the inspection result information from the apparatus control unit 201 and determines whether the apparatus is normal or abnormal based on the result of the histogram quality determination process indicated by the inspection result information.

続いて、表示工程(ステップS15)において、判定結果が表示される。具体的には、判定の結果、装置が異常であった場合には、欠陥判定部206は、装置制御部201を介して表示部212に対して警告命令を送る。表示部212は、警告命令に基づいて、警告メッセージを表示する。   Subsequently, the determination result is displayed in the display step (step S15). Specifically, as a result of the determination, if the device is abnormal, the defect determination unit 206 sends a warning command to the display unit 212 via the device control unit 201. The display unit 212 displays a warning message based on the warning command.

判定工程で検出できる具体的な異常として、以下のようなものが考えられる。撮像部108がラインセンサカメラを有している場合には、保持部101が一軸方向に移動する際に、保持部101に振れが発生すると、画像中の場所に応じて輝度の変化が現れる。一般に、保持部101の振れが上下方向の場合はピッチング、左右方向の場合はヨーイングと呼ばれるが、保持部101の振れがピッチングの場合には、画像の縦方向の位置により輝度が変化する。これにより、画像としては横線状の欠陥が検出される。   The following can be considered as specific abnormalities that can be detected in the determination step. When the imaging unit 108 includes a line sensor camera, when the holding unit 101 moves in a uniaxial direction and the shake occurs in the holding unit 101, a change in luminance appears according to the location in the image. Generally, when the shake of the holding unit 101 is up and down, it is called pitching, and when the shake of the holding unit 101 is left and right, it is called yawing. However, when the shake of the holding unit 101 is pitching, the luminance changes depending on the position in the vertical direction of the image. Thereby, a horizontal line-like defect is detected as an image.

また、保持部101の振れがヨーイングの場合にも、画像として横線状の欠陥が検出されるが、欠陥の左右方向の輝度値が異なる特徴を持っている。保持部101が移動を繰り返すと、欠陥が異なる場所に発生したり、移動速度により欠陥の発生状態が変化したりする場合があり、保持駆動部211の駆動信号により保持部101の速度を変えながら撮像した複数の画像から、ピッチングやヨーイングによる異常が発生していることを推測することができる。   Also, when the shake of the holding unit 101 is yawing, a horizontal line-like defect is detected as an image, but the luminance value in the left-right direction of the defect is different. When the holding unit 101 repeats the movement, defects may occur in different places, or the defect generation state may change depending on the moving speed, and the speed of the holding unit 101 is changed according to the drive signal of the holding drive unit 211. From a plurality of captured images, it can be estimated that an abnormality due to pitching or yawing has occurred.

また、保持部101自身が傾いている場合には、画像が全体的に暗くなったり、保持部101の傾きの方向に輝度の変化が生じたりする。特に、保持回転部102より上の部分が傾いている場合には、保持回転駆動部210からの駆動信号により、保持回転部102を回転させて検査をすると、輝度変化の方向が変わるため、保持部101がどちらに傾いているのかを検出することが可能となる。   Further, when the holding unit 101 itself is tilted, the image becomes dark as a whole, or the luminance changes in the tilt direction of the holding unit 101. In particular, when the portion above the holding rotation unit 102 is tilted, if the inspection is performed by rotating the holding rotation unit 102 with a drive signal from the holding rotation driving unit 210, the direction of luminance change changes. It is possible to detect which direction the part 101 is inclined.

また、光学系が傾いている場合には、保持部101の回転方向や移動速度にかかわらず、画像に特定方向の輝度傾斜が発生するため、保持部101の駆動条件を複数変えながら撮像した結果から、光学系の異常を推測することも可能である。   In addition, when the optical system is tilted, a brightness gradient in a specific direction is generated in the image regardless of the rotation direction or the moving speed of the holding unit 101. Therefore, a result of imaging while changing a plurality of driving conditions of the holding unit 101 From this, it is possible to infer abnormality of the optical system.

また、照明部104で発生する異常として、照明部104全体の位置ずれ、ランプの劣化、ランプの芯ずれ等が考えられる。異常がランプの位置ずれの場合には、異常が光学系の傾きの場合と同様に、保持部101の条件にかかわらず、画像に輝度傾斜が発生する。本実施形態では、図示せぬ複数の照明を持つ装置であれば、他の照明では輝度変化がないのに、特定の照明で輝度変化が発生することにより、照明の異常を検出することができる。   In addition, as an abnormality that occurs in the illumination unit 104, a position shift of the entire illumination unit 104, a lamp deterioration, a lamp misalignment, and the like can be considered. When the abnormality is a lamp position shift, a luminance gradient occurs in the image regardless of the conditions of the holding unit 101, as in the case where the abnormality is an inclination of the optical system. In the present embodiment, if the apparatus has a plurality of illuminations (not shown), the abnormality in illumination can be detected by the occurrence of a luminance change in specific illumination, even though there is no change in luminance in other illuminations. .

また、異常がランプの劣化の場合には、画像全体にわたって輝度が低下することにより、輝度のヒストグラムが全体的に低輝度側にシフトする。したがって、ヒストグラムの低輝度側へのシフトを検出することにより、ランプの劣化を検出することができる。また、ランプの芯ずれはランプ交換時に発生するトラブルであり、ランプ交換時に画像の各領域について、輝度の均一度が一定の条件を満たしていないことを検出することにより、ランプの芯ずれを検出することが可能となる。   When the abnormality is lamp deterioration, the luminance is lowered over the entire image, and the luminance histogram is shifted to the lower luminance side as a whole. Therefore, the deterioration of the lamp can be detected by detecting the shift of the histogram to the low luminance side. In addition, lamp misalignment is a problem that occurs when replacing the lamp, and the lamp misalignment is detected by detecting that the brightness uniformity does not satisfy certain conditions for each area of the image when the lamp is replaced. It becomes possible to do.

上述したように、本実施形態では、基準画像情報における輝度の分布と、比較対象画像情報における輝度とが比較され、比較対象画像情報における輝度が、基準画像情報における輝度の分布に含まれるか否かが判定される。これによって、上述した各種の異常を検出することができる。   As described above, in this embodiment, the luminance distribution in the reference image information is compared with the luminance in the comparison target image information, and whether or not the luminance in the comparison target image information is included in the luminance distribution in the reference image information. Is determined. Thereby, the various abnormalities described above can be detected.

(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態を説明する。本実施形態では、図16に示す、反射角度の異なるよう、撮像部108のトレース方向を回転軸として回転させて角度を少しずつ異ならせた複数の反射部1601〜1603が保持部101の近傍に配置されている。これらの反射部1601〜1603が、装置自身の異常の有無を検出するための基準被写体となる。
(Fifth embodiment)
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, as shown in FIG. 16, a plurality of reflecting portions 1601 to 1603, which are rotated with the trace direction of the imaging unit 108 as a rotation axis so as to have different reflection angles, are gradually changed in the vicinity of the holding unit 101. Has been placed. These reflection units 1601 to 1603 serve as reference subjects for detecting whether or not the apparatus itself is abnormal.

反射部1601〜1603は、撮像部108によるトレース方向(撮像素子の信号の読み出し方向)に沿って、ライン上に連続的に配置されている。また、反射部1601〜1603は保持部101と機械的に接続されており、保持部101の駆動動作に合わせて駆動される。なお、保持部101は駆動動作の途中であっても停止可能となっている。   The reflection units 1601 to 1603 are continuously arranged on the line along the trace direction (signal reading direction of the image sensor) by the imaging unit 108. The reflection units 1601 to 1603 are mechanically connected to the holding unit 101 and are driven in accordance with the driving operation of the holding unit 101. Note that the holding unit 101 can be stopped even during the driving operation.

撮像部108は、反射部1601〜1603からの反射光を集光可能な光学系を有する光集光部と、1ラインをトレース可能なラインセンサカメラとを備えている。本実施形態による画像処理部109の構成は図14と同様であるが、画像生成部202は、撮像部108のラインセンサカメラから出力される電気信号に基づいて1ライン分の画像情報を生成する(図16参照)。   The imaging unit 108 includes a light condensing unit having an optical system capable of condensing reflected light from the reflecting units 1601 to 1603 and a line sensor camera capable of tracing one line. The configuration of the image processing unit 109 according to the present embodiment is the same as that in FIG. 14, but the image generation unit 202 generates image information for one line based on an electrical signal output from the line sensor camera of the imaging unit 108. (See FIG. 16).

輝度検出部214は、1ライン分の画像情報における輝度を検出し、1ライン分の輝度からなる輝度情報(輝度ラインプロファイル)を生成する。なお、ノイズの影響を除去するため、画像生成部202が連続して複数ライン分の電気信号を取り込んで複数ライン分の画像情報を生成し、輝度検出部214が複数ライン分の画像情報における輝度を検出し、平均化して1ライン分の輝度情報を生成するようにしても構わない。   The luminance detection unit 214 detects the luminance in the image information for one line and generates luminance information (luminance line profile) including the luminance for one line. In order to remove the influence of noise, the image generation unit 202 continuously captures electric signals for a plurality of lines to generate image information for a plurality of lines, and the luminance detection unit 214 performs luminance in the image information for the plurality of lines. May be detected and averaged to generate luminance information for one line.

欠陥抽出部205は、基準画像情報から得られた輝度情報と、比較対象画像情報から得られた輝度情報とに基づいて装置の異常の有無を判定する。欠陥抽出部205による判定の結果は、正常と異常とに分けて、検査結果情報として記憶部207に保存される。   The defect extraction unit 205 determines whether there is an abnormality in the apparatus based on the luminance information obtained from the reference image information and the luminance information obtained from the comparison target image information. The determination result by the defect extraction unit 205 is stored in the storage unit 207 as inspection result information separately for normal and abnormal.

次に、本実施形態における自己診断の方法を説明する。この処理手順は図4と同様である。まず、データ作成工程(ステップS11)が実行される。装置制御部201からの指示を受けた保持駆動部211によって保持部101が駆動され、保持部101が照明光の照射位置まで移動する。そして、反射部1601からの反射光が撮像部108のラインセンサカメラに入射するように、照明部104、集光レンズ106、撮像部108のいずれかの角度が調整される。   Next, a self-diagnosis method in this embodiment will be described. This processing procedure is the same as in FIG. First, a data creation process (step S11) is performed. The holding unit 101 is driven by the holding driving unit 211 that has received an instruction from the apparatus control unit 201, and the holding unit 101 moves to the irradiation position of the illumination light. Then, the angle of any of the illumination unit 104, the condensing lens 106, and the imaging unit 108 is adjusted so that the reflected light from the reflection unit 1601 enters the line sensor camera of the imaging unit 108.

そして、撮像部108のラインセンサカメラがトレースした1ライン分の電気信号を画像生成部202が取り込み、画像情報(基準画像情報)を生成する。輝度検出部214は基準画像情報から輝度情報を生成する。ラインセンサカメラを用いて撮像するので、反射光が入射する画素を反射部毎に特定することができる。記憶部207には、反射部1601に対応する部分の輝度情報が履歴として記憶部207に保存される。   Then, the image generation unit 202 captures one line of electrical signals traced by the line sensor camera of the imaging unit 108, and generates image information (reference image information). The luminance detection unit 214 generates luminance information from the reference image information. Since imaging is performed using a line sensor camera, a pixel on which reflected light is incident can be specified for each reflection unit. In the storage unit 207, luminance information of a portion corresponding to the reflection unit 1601 is stored in the storage unit 207 as a history.

欠陥抽出部205は、基準画像情報と比較対象画像情報を比較して欠陥を抽出する際に用いる欠陥抽出パラメータ、即ち、予め定められた値以上の輝度の差が生じた場合に欠陥として認識するための閾値を設定する。この閾値は欠陥抽出パラメータとして記憶部207に保存される。反射部1602,1603についても、上記と同様に輝度情報が生成され、各反射部に対応する部分の輝度情報が記憶部207に保存される。   The defect extraction unit 205 recognizes the defect as a defect when a defect extraction parameter used when extracting the defect by comparing the reference image information and the comparison target image information, that is, when a difference in luminance exceeding a predetermined value occurs. Set a threshold for this. This threshold value is stored in the storage unit 207 as a defect extraction parameter. Also for the reflection units 1602 and 1603, luminance information is generated in the same manner as described above, and the luminance information of portions corresponding to the respective reflection units is stored in the storage unit 207.

続いて、処理工程(ステップS12)において、撮像部108のラインセンサカメラがトレースした1ライン分の電気信号を画像生成部202が再び取り込み、画像情報(比較対象画像情報)を生成する。輝度検出部214は比較対象画像情報から輝度情報を生成し、欠陥抽出部205へ出力する。   Subsequently, in the processing step (step S12), the image generation unit 202 captures again the electrical signal for one line traced by the line sensor camera of the imaging unit 108, and generates image information (comparison target image information). The luminance detection unit 214 generates luminance information from the comparison target image information and outputs the luminance information to the defect extraction unit 205.

続いて、欠陥抽出工程(ステップS13)において、欠陥抽出部205は、記憶部207に保存されていた輝度情報及び欠陥抽出パラメータを装置制御部201から受け取り、記憶部207に保存されていた輝度情報と新たに生成された輝度情報とを比較する。即ち、欠陥抽出部205は各輝度情報の画素毎の輝度値の差分を算出し、その差分が、欠陥抽出パラメータの示す所定の閾値よりも大きい場合には、保持部101、照明部104、集光レンズ106、及び撮像部108の間の角度関係に異常が発生したと判断する。欠陥抽出部205による判断の結果は、履歴として記憶部207に保存される。   Subsequently, in the defect extraction step (step S13), the defect extraction unit 205 receives the luminance information and defect extraction parameters stored in the storage unit 207 from the apparatus control unit 201, and the luminance information stored in the storage unit 207. Are compared with the newly generated luminance information. That is, the defect extraction unit 205 calculates a difference in luminance value for each pixel of each luminance information, and when the difference is larger than a predetermined threshold indicated by the defect extraction parameter, the defect extraction unit 205 collects the holding unit 101, the illumination unit 104, and the collection unit. It is determined that an abnormality has occurred in the angular relationship between the optical lens 106 and the imaging unit 108. The result of determination by the defect extraction unit 205 is stored in the storage unit 207 as a history.

続いて、判定工程(ステップS14)において、欠陥判定部206は、欠陥抽出部205による判断の結果に基づいて、装置が正常であるか異常であるかを判定する。判定の結果、装置が異常であった場合には、表示工程(ステップS15)において、欠陥判定部206は、装置制御部201を介して表示部212に対して警告命令を送る。表示部212は、警告命令に基づいて、警告メッセージを表示する。本実施形態によれば、撮像角度を変更するための機構の異常を検出することができる。   Subsequently, in the determination step (step S14), the defect determination unit 206 determines whether the apparatus is normal or abnormal based on the determination result by the defect extraction unit 205. As a result of the determination, if the apparatus is abnormal, the defect determination unit 206 sends a warning command to the display unit 212 via the apparatus control unit 201 in the display step (step S15). The display unit 212 displays a warning message based on the warning command. According to this embodiment, it is possible to detect an abnormality of a mechanism for changing the imaging angle.

なお、本実施形態では、3つの反射部の反射角度を互いに異なる角度にすることによって、基準被写体が3種類の反射角度を有するものとなっているが、より多くの反射角度を有するものとすることが可能である。図17(a)に示す反射部1701は長手方向の軸周りに3つの面を有しており、基準面に対する各面の角度が長手方向の位置に応じて変化するよう構成されている(図17(b))。これによって、照明部104の回動可能な全角度に対して反射光を検出することが可能となり、回動角度に対する反射光の強度を位置の情報として検出することができるため、より正確な検査をすることが可能となる。   In the present embodiment, the reference object has three types of reflection angles by making the reflection angles of the three reflecting portions different from each other. However, the reference subject has more reflection angles. It is possible. The reflective portion 1701 shown in FIG. 17A has three surfaces around the longitudinal axis, and is configured such that the angle of each surface with respect to the reference surface changes according to the position in the longitudinal direction (FIG. 17). 17 (b)). As a result, the reflected light can be detected for all the rotatable angles of the illuminating unit 104, and the intensity of the reflected light with respect to the rotating angle can be detected as position information. It becomes possible to do.

(第6の実施形態)
次に、本発明の第6の実施形態を説明する。本実施形態では、図18に示す、反射光の波長が異なるように形成された複数の反射部1801〜1803が保持部101の近傍に配置されている。これらの反射部1801〜1803が、装置自身の異常の有無を検出するための基準被写体となる。図1のフィルタ部107には、反射部毎に輝度情報を生成するために、各反射部の反射光波長にそれぞれ対応して交換可能とされる図示せぬバンドパスフィルタ(以下、BPフィルタと称する)が配置されている。本実施形態による画像処理部109の構成は図14と同様である
(Sixth embodiment)
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, a plurality of reflecting portions 1801 to 1803 that are formed so as to have different wavelengths of reflected light as shown in FIG. These reflection units 1801 to 1803 serve as a reference subject for detecting whether there is an abnormality in the apparatus itself. In the filter unit 107 of FIG. 1, in order to generate luminance information for each reflection unit, a bandpass filter (not shown) (hereinafter referred to as a BP filter) that can be replaced corresponding to the reflected light wavelength of each reflection unit. Are arranged). The configuration of the image processing unit 109 according to this embodiment is the same as that shown in FIG.

以下、本実施形態における自己診断の方法を説明する。この処理手順は図4と同様である。まず、データ作成工程(ステップS11)が実行される。装置制御部201からの指示を受けた保持駆動部211によって保持部101が駆動され、保持部101が照明光の照射位置まで移動する。そして、反射部1801からの反射光が撮像部108のラインセンサカメラに入射するように、照明部104、集光レンズ106、撮像部108のいずれかの角度が調整される。続いて、フィルタ部107を所定のBPフィルタにセットすることにより、各反射部のうち、所定のBPフィルタに対応した反射部のみに輝度情報が生成され、記憶部207に保存される。そして、順次BPフィルタを回転させることにより、各BPフィルタに対応した反射部で明るい輝度が得られた際の情報が保存される。   Hereinafter, a self-diagnosis method in this embodiment will be described. This processing procedure is the same as in FIG. First, a data creation process (step S11) is performed. The holding unit 101 is driven by the holding driving unit 211 that has received an instruction from the apparatus control unit 201, and the holding unit 101 moves to the irradiation position of the illumination light. Then, the angle of any of the illumination unit 104, the condenser lens 106, and the imaging unit 108 is adjusted so that the reflected light from the reflection unit 1801 enters the line sensor camera of the imaging unit 108. Subsequently, by setting the filter unit 107 to a predetermined BP filter, luminance information is generated only in the reflection unit corresponding to the predetermined BP filter among the reflection units, and stored in the storage unit 207. Then, by sequentially rotating the BP filter, information when bright brightness is obtained at the reflecting portion corresponding to each BP filter is stored.

続いて、処理工程(ステップS12)において、撮像部108のラインセンサカメラがトレースした1ライン分の電気信号を画像生成部202が再び取り込み、画像情報(比較対象画像情報)を生成する。輝度検出部214は比較対象画像情報から輝度情報を生成し、欠陥抽出部205へ出力する。   Subsequently, in the processing step (step S12), the image generation unit 202 captures again the electrical signal for one line traced by the line sensor camera of the imaging unit 108, and generates image information (comparison target image information). The luminance detection unit 214 generates luminance information from the comparison target image information and outputs the luminance information to the defect extraction unit 205.

続いて、欠陥抽出工程(ステップS13)において、欠陥抽出部205は、記憶部207に保存されていた輝度情報及び欠陥抽出パラメータを装置制御部201から受け取り、記憶部207に保存されていた輝度情報と新たに生成された輝度情報とを比較する。即ち、欠陥抽出部205は各輝度情報の画素毎の輝度値の差分を算出し、その差分が、欠陥抽出パラメータの示す所定の閾値よりも大きい場合には、BPフィルタに異常が発生したと判断する。欠陥抽出部205による判断の結果は、履歴として記憶部207に保存される。以降の工程も第5の実施形態と同様である。本実施形態によれば、BPフィルタの異常やその動作機構の異常を検出することができる。   Subsequently, in the defect extraction step (step S13), the defect extraction unit 205 receives the luminance information and defect extraction parameters stored in the storage unit 207 from the apparatus control unit 201, and the luminance information stored in the storage unit 207. Are compared with the newly generated luminance information. That is, the defect extraction unit 205 calculates a difference in luminance value for each pixel of each luminance information, and determines that an abnormality has occurred in the BP filter if the difference is larger than a predetermined threshold indicated by the defect extraction parameter. To do. The result of determination by the defect extraction unit 205 is stored in the storage unit 207 as a history. Subsequent steps are the same as those in the fifth embodiment. According to this embodiment, it is possible to detect an abnormality in the BP filter and an abnormality in its operation mechanism.

以上、図面を参照して本発明の実施形態について詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。例えば、第1の実施形態では、表面状態の異なる2種類の領域が保持部101に形成されているが、第4の実施形態のように基準被写体としてベアウェハを使用するものとし、且つ、その表面に上記の2種類の領域を形成しても構わない。また、基準被写体の表面に形成される特殊領域の形状は、図3に示す形状に限定されず、その他の形状でもよい。   As described above, the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to these embodiments, and includes design changes and the like without departing from the gist of the present invention. . For example, in the first embodiment, two types of regions having different surface states are formed in the holding unit 101. However, as in the fourth embodiment, a bare wafer is used as a reference subject, and the surface thereof is used. The above two types of regions may be formed. Further, the shape of the special region formed on the surface of the reference subject is not limited to the shape shown in FIG. 3, and may be other shapes.

また、表面状態の異なる複数の領域が形成された反射部を保持部101の近傍に配置して、これを基準被写体として用いても構わない。さらに、欠陥抽出部205による判定の結果、欠陥が発生したと判定された場合に、異常の発生を知らせる警告メッセージを表示部212に表示させるようにしても構わない。   In addition, a reflection part in which a plurality of regions having different surface states are formed may be arranged near the holding part 101 and used as a reference subject. Furthermore, as a result of the determination by the defect extraction unit 205, when it is determined that a defect has occurred, a warning message notifying the occurrence of an abnormality may be displayed on the display unit 212.

また、第1〜第6の実施形態に含まれる個々の技術を適宜組み合わせて欠陥検査装置を構成してもよい。   Further, the defect inspection apparatus may be configured by appropriately combining the individual techniques included in the first to sixth embodiments.

本発明の第1の実施形態による欠陥検査装置の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the defect inspection apparatus by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態による欠陥検査装置が備える全体制御部の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the whole control part with which the defect inspection apparatus by the 1st Embodiment of this invention is provided. 本発明の第1の実施形態による欠陥検査装置が備える保持部の平面図である。It is a top view of the holding part with which the defect inspection apparatus by the 1st Embodiment of this invention is provided. 本発明の第1の実施形態による欠陥検査装置が行う処理の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the process which the defect inspection apparatus by the 1st Embodiment of this invention performs. 本発明の第1の実施形態において検出される欠陥を示す参考図である。It is a reference drawing which shows the defect detected in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態において検出される欠陥を示す参考図である。It is a reference drawing which shows the defect detected in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態において検出される欠陥を示す参考図である。It is a reference drawing which shows the defect detected in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態による欠陥検査装置が備える保持部の平面図である。It is a top view of the holding part with which the defect inspection apparatus by the 2nd Embodiment of this invention is provided. 本発明の第2の実施形態による欠陥検査装置が行う処理の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the process which the defect inspection apparatus by the 2nd Embodiment of this invention performs. 本発明の第3の実施形態による欠陥検査装置が備える保持部の平面図である。It is a top view of the holding part with which the defect inspection apparatus by the 3rd Embodiment of this invention is provided. 本発明の第3の実施形態による欠陥検査装置が備える画像処理部の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the image process part with which the defect inspection apparatus by the 3rd Embodiment of this invention is provided. 本発明の第3の実施形態による欠陥検査装置が行う処理の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the process which the defect inspection apparatus by the 3rd Embodiment of this invention performs. 本発明の第3の実施形態による欠陥検査装置が行う処理の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the process which the defect inspection apparatus by the 3rd Embodiment of this invention performs. 本発明の第4の実施形態による欠陥検査装置が備える画像処理部の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the image process part with which the defect inspection apparatus by the 4th Embodiment of this invention is provided. 本発明の第4の実施形態における装置の自己診断方法を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the self-diagnosis method of the apparatus in the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5の実施形態による欠陥検査装置が備える反射部の構造を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the reflection part with which the defect inspection apparatus by the 5th Embodiment of this invention is provided. 本発明の第5の実施形態による欠陥検査装置が備える反射部の他の構造例を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the other structural example of the reflection part with which the defect inspection apparatus by the 5th Embodiment of this invention is provided. 本発明の第6の実施形態による欠陥検査装置が備える反射部の構造を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the reflection part with which the defect inspection apparatus by the 6th Embodiment of this invention is provided.

符号の説明Explanation of symbols

101・・・保持部(基準被写体)、102・・・保持回転部、103・・・ベース部、104・・・照明部、105・・・照明集光レンズ、106・・・集光レンズ、107・・・フィルタ部、108・・・撮像部(撮像手段)、109・・・画像処理部、201・・・装置制御部、202・・・画像生成部、203・・・位置補正部、204・・・輝度補正部、205・・・欠陥抽出部、206・・・欠陥判定部(判定手段)、207・・・記憶部(記憶手段)、208・・・撮像制御部、209・・・照明制御部、210・・・保持回転駆動部、211・・・保持駆動部、212・・・表示部、213・・・操作部、214・・・輝度検出部、215・・・解像度計測部

DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Holding part (reference | standard subject), 102 ... Holding | maintenance rotation part, 103 ... Base part, 104 ... Illumination part, 105 ... Illumination condensing lens, 106 ... Condensing lens, DESCRIPTION OF SYMBOLS 107 ... Filter part, 108 ... Imaging part (imaging means), 109 ... Image processing part, 201 ... Apparatus control part, 202 ... Image generation part, 203 ... Position correction part, 204... Brightness correction unit 205 205 Defect extraction unit 206 Defect determination unit (determination unit) 207 Storage unit (storage unit) 208 Imaging control unit 209 Illumination control unit, 210: holding rotation driving unit, 211 ... holding driving unit, 212 ... display unit, 213 ... operation unit, 214 ... luminance detection unit, 215 ... resolution measurement Part

Claims (11)

検査対象物の欠陥検査を行う欠陥検査装置において、
基準被写体を撮像する撮像手段と、
前記基準被写体を撮像して得られた基準情報を記憶する記憶手段と、
前記基準情報の取得後に前記基準被写体を撮像して得られた比較対象情報と前記基準情報とを比較した結果に基づいて装置自身の異常の有無を判定する判定手段と、
を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
In defect inspection equipment that performs defect inspection of inspection objects,
Imaging means for imaging a reference subject;
Storage means for storing reference information obtained by imaging the reference subject;
Determination means for determining presence / absence of abnormality of the device itself based on a result of comparing the reference information with comparison target information obtained by imaging the reference subject after obtaining the reference information;
A defect inspection apparatus comprising:
前記検査対象物を保持する保持手段をさらに備え、前記保持手段の表面が前記基準被写体であることを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。   The defect inspection apparatus according to claim 1, further comprising a holding unit that holds the inspection object, wherein a surface of the holding unit is the reference subject. 前記基準情報及び前記比較対象情報は前記基準被写体の画像情報であり、前記判定手段は、前記比較対象情報と前記基準情報の差分に基づいて装置自身の異常の有無を判定することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の欠陥検査装置。   The reference information and the comparison target information are image information of the reference subject, and the determination unit determines presence / absence of abnormality of the apparatus itself based on a difference between the comparison target information and the reference information. The defect inspection apparatus according to claim 1 or 2. 前記基準被写体の表面が複数の領域を有しており、前記基準被写体の表面を撮像して得られた画像情報における輝度が領域毎に異なるように、前記基準被写体の表面状態が領域毎に異なることを特徴とする請求項3に記載の欠陥検査装置。   The surface state of the reference subject varies from region to region so that the surface of the reference subject has a plurality of regions, and the luminance in image information obtained by imaging the surface of the reference subject varies from region to region. The defect inspection apparatus according to claim 3. 前記基準被写体の表面において、複数の特定の構造物が均一に配置された領域内に、前記特定の構造物からなる目印となる構造が複数形成されていることを特徴とする請求項3に記載の欠陥検査装置。   4. The structure according to claim 3, wherein a plurality of structures serving as marks made of the specific structures are formed in a region where the plurality of specific structures are uniformly arranged on the surface of the reference subject. Defect inspection equipment. 前記基準被写体は、画像情報における輝度が均一となるように形成された複数の領域を備えており、前記基準情報及び前記比較対象情報は、前記複数の領域を撮像して得られた画像情報における輝度であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の欠陥検査装置。   The reference subject includes a plurality of regions formed so that luminance in image information is uniform, and the reference information and the comparison target information are in image information obtained by imaging the plurality of regions. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the defect inspection apparatus has luminance. 前記基準被写体は解像度チャートを備えており、前記基準情報及び前記比較対象情報は前記解像度チャートの画像情報における輝度であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の欠陥検査装置。   The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the reference subject includes a resolution chart, and the reference information and the comparison target information are luminances in image information of the resolution chart. 前記基準情報は、前記基準被写体の画像情報における輝度の分布を示す情報であり、前記比較対象情報は、前記基準被写体の画像情報における輝度の情報であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の欠陥検査装置。   The reference information is information indicating a luminance distribution in the image information of the reference subject, and the comparison target information is luminance information in the image information of the reference subject. 2. The defect inspection apparatus according to 2. 前記基準被写体は、反射角度の異なる複数の反射部を備えており、前記基準情報及び前記比較対象情報は前記基準被写体の画像情報であり、前記判定手段は、前記比較対象情報と前記基準情報における前記反射部の輝度の差分に基づいて装置自身の異常の有無を判定することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の欠陥検査装置。   The reference subject includes a plurality of reflecting portions having different reflection angles, the reference information and the comparison target information are image information of the reference subject, and the determination unit includes the comparison target information and the reference information. 3. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein presence / absence of abnormality of the apparatus itself is determined based on a difference in luminance of the reflection unit. 前記基準被写体は、反射光の波長が異なるような複数の反射部を備えており、前記基準情報及び前記比較対象情報は前記基準被写体の画像情報であり、前記判定手段は、前記比較対象情報と前記基準情報における前記反射部の輝度の差分に基づいて装置自身の異常の有無を判定することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の欠陥検査装置。   The reference subject includes a plurality of reflecting portions having different reflected light wavelengths, the reference information and the comparison target information are image information of the reference subject, and the determination unit includes the comparison target information and the comparison target information. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein presence / absence of abnormality of the apparatus itself is determined based on a difference in luminance of the reflection unit in the reference information. 検査対象物の欠陥検査を行う欠陥検査方法において、基準被写体を撮像して基準情報を取得した後に、前記基準被写体を撮像して得られた比較対象情報と前記基準情報とを比較した結果に基づいて装置自身の異常の有無を判定することを特徴とする欠陥検査方法。   In a defect inspection method for inspecting a defect of an inspection object, based on a result of comparing the reference information with comparison target information obtained by imaging the reference subject after imaging the reference subject and acquiring reference information A defect inspection method characterized by determining whether there is an abnormality in the apparatus itself.
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