KR101261016B1 - method and apparatus for automatic optical inspection of flat panel substrate - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 평판패널 기판의 자동광학검사 방법은, 상기 기판의 일부 영역을 촬영하고, 각각이 촬영한 영상 내에 주기적으로 반복하여 존재하는 셀 레이아웃 패턴인 단위 영상들에 기초하여 기준 영상을 생성하는 단계, 각 단위 영상들을 상기 기준 영상과 비교하여 결함의 존부를 판정하고 기판에 결함이 존재할 경우 결함의 위치 정보를 획득하는 단계 및 획득한 결함의 위치정보를 출력하는 단계를 포함한다. An automatic optical inspection method for a flat panel substrate according to the present invention includes photographing a partial region of the substrate and generating a reference image based on unit images which are cell layout patterns that are periodically and repeatedly present in the photographed image. Comprising the step of comparing each unit image with the reference image to determine the presence of a defect, and if there is a defect in the substrate, obtaining the position information of the defect and outputting the position information of the obtained defect.
Description
본 발명은 평판 패널의 제조 기술에 관련된 것으로, 더욱 상세히 설명하면, 평판패널 기판의 자동광학검사 방법 및 그 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a manufacturing technology of a flat panel, and more particularly, to an automatic optical inspection method and apparatus for a flat panel substrate.
평판 패널은 복수의 화소를 포함하고 각 화소에서 빛을 세기를 조절하여 영상을 표현하는 것으로, 액정 표시장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이(Plasma Display Panel), 유기발광표시장치(Organic Light Emitting Display) 등을 예로 들을 수 있다. A flat panel includes a plurality of pixels and expresses an image by adjusting the intensity of light in each pixel. The flat panel includes a liquid crystal display, a plasma display panel, and an organic light emitting display. ), For example.
평판 패널은 하나의 기판 상에 복수의 화소를 형성하고 그 상부를 다른 기판으로 봉지함으로써 형성된다. 특히, 평판 패널 중 액정표시장치 또는 유기발광표시장치는 기판에 복수의 화소를 형성할 때 기판 상에 박막을 증착, 에칭, 세정하는 공정을 반복함으로써 복수의 화소회로가 기판 상에 형성된다. 상기의 증착, 에칭, 세정하는 공정을 진행하는 과정에서 박막으로 형성된 화소회로 등을 형성하는 배선이 쇼트 또는 개방되는 결함이 있게 된다. 하지만, 결함이 있는 기판을 폐기하게 되면 수율이 낮아져 제조원가가 비싸지는 문제점이 있어 평판 패널 기판의 배선을 수리한다. 이때, 평판 패널 기판을 수리하기 위해 결함의 존재 여부와 위치는 검사자가 육안 검사를 통해 파악하는 것이 일반적이다. The flat panel is formed by forming a plurality of pixels on one substrate and encapsulating the upper part with another substrate. In particular, in the liquid crystal display or the organic light emitting display of the flat panel, a plurality of pixel circuits are formed on the substrate by repeating the process of depositing, etching, and cleaning the thin film on the substrate. In the process of performing the above deposition, etching, and cleaning process, there is a defect in which the wiring for forming the pixel circuit formed of the thin film is shorted or opened. However, when the defective substrate is discarded, there is a problem that the yield is low and the manufacturing cost is high, thereby repairing the wiring of the flat panel substrate. In this case, in order to repair the flat panel substrate, it is common for the inspector to determine whether the defect is present through visual inspection.
하지만, 검사자가 육안으로 검사하면 검사자의 컨디션에 따라 검사 시간이 결정되며 검사자 별로 검사기준이 다르기 때문에 평판 패널의 품질이 균일하게 유지되지 못하는 문제점이 있다. 또한, 육안 검사는 검사 시간이 오래 걸리는 문제점이 있다. However, when the inspector visually inspects, the inspection time is determined according to the condition of the inspector, and there is a problem in that the quality of the flat panel is not maintained uniformly because the inspection criteria are different for each inspector. In addition, the visual inspection has a problem that the test takes a long time.
본 발명의 목적은 평판 패널 기판의 결함을 자동으로 파악하는 평판패널 기판의 자동광학검사 방법 및 그 장치를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an automatic optical inspection method for a flat panel substrate and an apparatus thereof for automatically detecting a defect of the flat panel substrate.
본 발명의 제1측면은, 평판패널 기판의 자동광학검사 방법에 있어서, 방법은: 기판의 일부 영역을 촬영하고, 각각 촬영한 영상 내에 주기적으로 반복하여 존재하는 셀 레이아웃 패턴에 대응하는 단위 영상들에 기초하여 기준 영상을 생성하는 단계, 각 단위 영상들을 상기 기준 영상과 비교하여 결함의 존부를 판정하고 기판에 결함이 존재할 경우 결함의 위치 정보를 획득하는 단계 및 획득한 결함의 위치정보를 출력하는 단계를 포함하는 평판패널 기판의 자동광학검사방법을 제공하는 것이다. According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for automatic optical inspection of a flat panel substrate, the method comprising: unit images corresponding to a cell layout pattern which is photographed on a portion of the substrate and periodically repeated in each of the photographed images; Generating a reference image based on the reference image, determining whether there is a defect by comparing each unit image with the reference image, acquiring position information of the defect if a defect exists on the substrate, and outputting position information of the acquired defect It is to provide an automatic optical inspection method of a flat panel substrate comprising a step.
부가적으로, 상기 기준 영상을 생성하는 단계는: 단위 영상의 일 지점의 화소값과 그 단위 영상과 인접한 다른 단위 영상들의 지점의 상기 일 지점에 대응하는 화소값들로부터 기준영상의 대응하는 지점의 화소값을 구하여 기준 영상을 생성하는 평판패널 기판의 자동광학검사방법을 제공하는 것이다. Additionally, the generating of the reference image may include: a pixel value of one point of the unit image and pixel values corresponding to the point of the point of the other unit images adjacent to the unit image of the corresponding point of the reference image. An automatic optical inspection method of a flat panel substrate which generates a reference image by obtaining a pixel value is provided.
부가적으로, 상기 기준 영상을 생성하는 단계에서 결함의 존재 여부를 판단는 기준 영상은 M x N의 크기를 갖고 일 지점의 화소값 J(i,j)은, J(i,j)=MED{I(i,j), I(i,j-N), I(i,j+N), I(i-M,j), I(i+M,j)}에 의해 결정되는 평판패널 기판의 자동광학검사 방법을 제공하는 것이다. In addition, in the step of generating the reference image, the reference image determining whether a defect is present has a size of M × N, and the pixel value J (i, j) at one point is J (i, j) = MED { Automatic Optical Inspection of Flat Panel Substrate Determined by I (i, j), I (i, jN), I (i, j + N), I (iM, j), I (i + M, j)} To provide a way.
부가적으로, 영상의 모서리에 위치하는 단위 영상과 비교되는 기준영상의 각 지점의 화소값은 인접한 단위 영상에서 누락된 단위 영상의 화소값을 제외하고 산출하는 평판패널 기판의 자동광학검사 방법을 제공하는 것이다. In addition, the present invention provides an automatic optical inspection method of a flat panel substrate in which pixel values of respective points of a reference image compared to a unit image located at an edge of an image are calculated except for pixel values of a unit image missing from an adjacent unit image. It is.
부가적으로, 기준 영상은 단위 영상과 동일한 크기의 영상인 평판패널 기판의 자동광학검사 방법을 제공하는 것이다. In addition, the reference image provides an automatic optical inspection method of a flat panel substrate having an image having the same size as a unit image.
부가적으로, 상기 단위 영상을 획득하는 단계에서 상기 카메라가 촬영하는 기판의 영역은 외부에서 입력된 결함의 개략적인 위치정보에 기초하여 결정되는 평판패널 기판의 자동광학검사 방법을 제공하는 것이다. In addition, the area of the substrate photographed by the camera in the step of acquiring the unit image is to provide an automatic optical inspection method of the flat panel substrate is determined based on the rough position information of the defect input from the outside.
본 발명의 제2측면은, 상기 평판패널 기판의 자동광학검사 방법이 구현된 프로그램이 기록된 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기록매체를 제공하는 것이다. A second aspect of the present invention is to provide a recording medium which can be read by a computer on which a program in which the automatic optical inspection method for the flat panel substrate is implemented is recorded.
본 발명의 제3측면은, 평판패널 기판의 자동광학검사장치에 있어서, 상기 장치는: 메모리, 상기의 기판의 일부 영역을 촬영한 영상을 획득하는 영상획득부, 상기 각각의 영상들 내에 주기적으로 반복하여 존재하는 셀 레이아웃 패턴인 단위 영상들을 기초로 기준영상을 생성하고 메모리에 저장하는 기준영상생성부, 기준 영상과 단위영상들을 비교하여 기판의 결함이 존재하면 기판의 결함의 위치 정보를 획득하여 메모리에 저장하는 결함 판정부 및 결함 판정부에서 획득한 기판의 결함의 위치정보를 외부로 출력하는 출력부를 포함하는 평판패널 기판의 자동광학검사장치를 제공하는 것이다. According to a third aspect of the present invention, in an automatic optical inspection apparatus for a flat panel substrate, the apparatus includes: a memory, an image acquisition unit for acquiring an image of a portion of the substrate, and periodically in each of the images The reference image generator generates a reference image based on the unit images, which are repeatedly present in the cell layout pattern, and compares the reference image with the unit images if the defect exists in the substrate. An automatic optical inspection apparatus for a flat panel substrate including a defect determining unit stored in a memory and an output unit for outputting position information of a defect of a substrate obtained by the defect determining unit to the outside.
부가적으로, 기준영상생성부는 하나의 단위영상의 일 지점의 화소값과 그 단위 영상과 인접한 다른 단위 영상들의 상기 일 지점에 대응하는 지점의 화소값들로부터 기준영상의 대응하는 지점의 화소값을 구하여 기준영상을 생성하는 평판패널 기판의 자동광학검사장치를 제공하는 것이다. In addition, the reference image generating unit may generate a pixel value of a corresponding point of the reference image from pixel values of a point of one unit image and pixel values of a point corresponding to the point of another unit image adjacent to the unit image. It is to provide an automatic optical inspection device for a flat panel substrate to obtain a reference image.
부가적으로, 상기 영상획득부는: 외부로부터 결함의 개략적인 위치정보를 입력받는 입력부, 영상을 촬영하여 상기 메모리에 저장하는 카메라모듈 및 입력부에서 입력된 결함의 개략적인 위치정보에 기초하여 상기 카메라모듈을 해당 위치로 이송하는 카메라 이송부를 더 포함하는 평판패널 기판의 자동광학검사장치를 제공하는 것이다. Additionally, the image acquisition unit may include: an input unit for receiving schematic position information of a defect from the outside, a camera module for capturing an image and storing the image in the memory, and the camera module based on the schematic position information of the defect input from the input unit. It is to provide an automatic optical inspection apparatus for a flat panel substrate further comprising a camera transfer unit for transferring to the position.
본 발명에 따른 평판패널의 자동광학검사 방법 및 그 장치에 의하면, 자동으로 기판 상에 위치하는 결함을 감지하고 그 위치를 파악할 수 있다. 따라서, 육안으로 기판의 결함을 판단하지 않게 되어 기판의 검사를 빠르게 진행할 수 있으며, 기판을 이용하여 제조한 평판 패널의 품질이 균일하게 유지될 수 있다. According to the automatic optical inspection method and apparatus of the flat panel according to the present invention, it is possible to automatically detect a defect located on the substrate and to determine its position. Therefore, the defect of the substrate may not be determined with the naked eye, so that the inspection of the substrate may be quickly performed, and the quality of the flat panel manufactured using the substrate may be maintained uniformly.
도 1은 본 발명에 따른 평판 패널 기판의 자동광학검사장치의 일실시예를 나타내는 구조도이다.
도 2는 도 1에 도시된 영상획득부의 일실시예를 나타내는 구조도이다.
도 3은 본 발명에 따른 평판 패널 기판의 자동광학검사장치를 이용하여 평판 패널 기판의 결함을 검출하는 방법의 일실시예를 나타내는 순서도이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 평판 패널 기판의 자동광학검사장치를 이용하여 평판 패널 기판의 결함을 검출하는 방법의 다른 일실시예를 나타내는 순서도이다.
도 5는 도 1에 도시된 기준영상 생성부에서 기준 영상을 선정하는 방법의 일실시예를 나타내는 개념도이다. 1 is a structural diagram showing an embodiment of an automatic optical inspection apparatus for a flat panel substrate according to the present invention.
FIG. 2 is a structural diagram illustrating an embodiment of an image acquisition unit illustrated in FIG. 1.
3 is a flow chart showing an embodiment of a method for detecting a defect of a flat panel substrate using an automatic optical inspection device for a flat panel substrate according to the present invention.
4A and 4B are flowcharts illustrating another embodiment of a method for detecting a defect of a flat panel substrate using an automatic optical inspection apparatus for the flat panel substrate according to the present invention.
FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating an embodiment of a method of selecting a reference image by the reference image generator illustrated in FIG. 1.
이하에서는 본 발명을 이러한 실시예들을 통해 당업자가 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily understand and reproduce the present invention through these embodiments.
도 1은 본 발명에 따른 평판 패널 기판의 자동광학검사장치의 일실시예를 나타내는 구조도이다. 도 1을 참조하면, 평판 패널 기판의 자동광학검사장치는 메모리(110), 영상획득부(120), 기준영상생성부(130), 결함 판정부(140) 및 출력부(150)를 포함한다. 1 is a structural diagram showing an embodiment of an automatic optical inspection apparatus for a flat panel substrate according to the present invention. Referring to FIG. 1, an automatic optical inspection apparatus for a flat panel substrate includes a
메모리(110)는 하나의 평판 패널의 기판을 촬영하여 획득한 영상을 저장하며, 평판 패널의 기판을 촬영한 영상을 분석하여 획득하는 단위 영상들과 단위 영상들을 기초로 기준영상을 생성하고 저장한다. 또한, 메모리(110)는 영상획득부(120)의 위치정보를 저장하고 위치정보를 결함판정부(140)에 제공함으로써, 단위영상들에 영상획득부(120)의 위치정보를 맵핑할 수 있다. The
영상획득부(120)는 평판 패널 기판의 일부 영역을 촬영하여 기판을 촬영한 영상을 획득하고 메모리(110)에 저장한다. 또한, 영상획득부(120)는 평판 패널 기판 상에서 이동하며 촬영을 하는데, 촬영지점에 대한 위치 정보를 메모리(110)에 저장한다. 영상획득부(120)는 CCD(Charge-Coupled Device) 카메라와 같은 고해상도의 카메라를 예로 들을 수 있다. The
기준영상 생성부(130)는 메모리(110)에 저장된 촬영된 영상 내에서 표시되는 기판 상에 형성된 레이아웃을 분석하여 단위 영상을 생성한다. 기판의 레이아웃은 박막을 패터닝 하는 과정에서 주기적으로 반복되는 패턴이 형성되며, 이러한 레이아웃을 분석하고 반복되는 패턴 하나를 하나의 단위 영상으로 설정한다. 이때, 영상획득부(120)에서 획득한 하나의 영상에 복수의 단위 영상이 설정된다. 기준영상생성부(130)는 반복되는 패턴의 주기값을 기초로 단위 영상을 인식하는데, 가로/세로방향의 주기값은 조작자가 입력할 수도 있고 자동으로 인식할 수도 있다. 또한, 단위영상의 크기는 패턴의 한 주기에 포함된 영상의 화소의 개수로 표현되는데 카메라가 촬영한 영상이므로 이 주기 값은 반드시 정수값이라고 할 수 없으며 127.5와 같은 소수점을 갖는 수도 가능하다. The
또한, 기준영상 생성부(130)는 단위 영상과 비교하여 기판의 결함을 파악하게 하데 사용되는 기준영상을 생성하고 생성된 기준영상을 메모리(110)에 저장한다. 기준 영상은 단위 영상들을 구성하는 화소들에 각각 대응하는 각 지점에 대한 화소값을 기초로하여 생성되는데, 기준영상생성부(130)는 하나의 단위영상과 그 단위영상에 이웃하는 단위 영상들을 선정하고 각 단위 영상들로부터 각 단위 영상들의 각 지점에 대응되는 위치의 화소값들을 읽어들인다. 그리고, 이들 화소값 중에서 중간값을 선정하고 선정된 중간값은 단위 영상의 일 지점에 대응되는 기준영상의 일 지점의 화소값으로 선정한다. 즉, 기준영상의 화소값은 복수의 단위 영상들의 화소값의 중간값으로 선정된다. In addition, the
결함판정부(140)는 영상획득부(120)에서 평판 패널 기판을 촬영하여 획득한 단위 영상들을 기준영상생성부(130)에서 생성된 기준 영상과 순차적으로 비교하여 기판의 결함의 존재 여부를 파악한다. 또한, 결함판정부(140)는 단위영상에 맵핑된 영상획득부(120)의 위치정보를 이용하여 평판 패널 상에 결함이 존재하는 위치 정보를 획득하고 메모리(110)에 저장한다. 이때, 기준영상이 단위 영상과 동일한 크기를 가지므로 단순한 화소값을 비교하여 결함의 위치를 파악하는 것이 가능하다. The defect determiner 140 sequentially compares the unit images acquired by photographing the flat panel substrate by the
출력부(150)는 결함 판정부(140)에서 획득한 평판 패널 기판의 결함의 위치정보를 외부로 출력하여 평판 패널의 결함이 존재하는 위치에 대한 정보를 인식할 수 있도록 한다. The
도 2는 도 1에 도시된 영상획득부의 일실시예를 나타내는 구조도이다.FIG. 2 is a structural diagram illustrating an embodiment of an image acquisition unit illustrated in FIG. 1.
도 2를 참조하면, 영상획득부(120)는 입력부(121), 카메라 이송부(122) 및 카메라 모듈(123)을 포함한다. 2, the
입력부(121)는 외부로부터 기판 결함의 개략적인 위치정보를 입력받는다. The
카메라 이송부(122)는 입력부(121)에서 입력받은 기판 결함의 개략적인 위치로 카메라 모듈(123)이 이동할 수 있도록 한다. 예를 들어, 카메라 이송부(122)는 X-Y 축 상에서 카메라 모듈(123)을 X 축 또는 Y 축 방향으로 이동하는 X-Y 축 로봇일 수도 있다. 카메라 이송부(122)는 카메라 모듈(123)이 기판 상의 평면 위에서 가로 세로 방향으로 이동될 수 있도록 하여 카메라 모듈(123)이 기판의 전 영역을 촬영할 수 있도록 한다. 그리고, 카메라 이송부(122)는 기판 상에 카메라 모듈(130)이 위치하는 위치정보를 메모리(110)로 전송하여 카메라 모듈(123)의 위치정보와 단위 영상이 맵핑될 수 있도록 한다. The
카메라 모듈(123)은 기판을 촬영하여 기판에 대한 고해상도의 영상을 획득할 수 있도록 한다. 그리고, 카메라 모듈(123)은 획득한 영상을 메모리(110)에 저장할 수 있도록 한다.The
도 3은 본 발명에 따른 평판 패널 기판의 자동광학검사장치를 이용하여 평판 패널 기판의 결함을 검출하는 방법의 일실시예를 나타내는 순서도이다. 3 is a flow chart showing an embodiment of a method for detecting a defect of a flat panel substrate using an automatic optical inspection device for a flat panel substrate according to the present invention.
도 3을 참조하면, 평판 패널의 기판 상에 박막을 증착, 에칭 및 세정하는 패터닝 공정 등을 수행한 후 영상획득부(120)를 이용하여 기판을 촬영한 영상을 획득한다.(200) 이때, 기판의 크기에 따라 기판을 복수의 영역으로 구분한 후 하나 또는 복수의 영상획득부(120)가 각 영역을 이동하면서 기판을 촬영한 영상을 획득한다. 박막은 실리콘층, 금속층, 절연층 등으로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 3, after performing a patterning process of depositing, etching, and cleaning a thin film on a substrate of a flat panel, an image obtained by photographing a substrate using an
그리고, 기판을 촬영한 영상을 분석함으로써, 촬영된 영상에 표시되는 기판에 형성된 박막 대한 레이아웃을 분석하고 기판 상에 반복되는 패턴을 파악한다. 그리고, 하나의 패턴에 대응되는 단위 영상을 생성하여 촬영된 영상에 복수의 단위 영상이 포함되도록 한다.(210) 기판에 반복되는 패턴은 화소회로를 예로 들을 수 있으며, 하나의 단위 영상에 하나의 화소회로가 대응될 수 있고 적색, 녹색 청색의 부화소로 이루어진 화소회로가 대응될 수도 있다.Then, by analyzing the image photographing the substrate, the layout of the thin film formed on the substrate displayed on the photographed image is analyzed and the pattern repeated on the substrate is identified. In addition, a plurality of unit images are included in the photographed image by generating a unit image corresponding to one pattern. (210) A repeating pattern on the substrate may include, for example, a pixel circuit, and one unit image is included in the unit image. Pixel circuits may correspond, and pixel circuits composed of red, green and blue subpixels may correspond.
다음으로, 복수의 단위 영상들을 분석하여 기준영상을 생성한다. (220) 보다 구체적으로 설명하면, 각각의 단위 영상들간에 대응되는 지점에 대한 화소값을 측정하고 측정된 화소값들의 중간값을 기준영상의 화소값으로 설정하여 기준영상을 생성한다. Next, a reference image is generated by analyzing a plurality of unit images. In more detail, a reference image is generated by measuring a pixel value of a point corresponding to each unit image, and setting a median value of the measured pixel values as the pixel value of the reference image.
기준영상이 생성되면 하나의 단위 영상의 일 지점에 대한 화소값과 기준 영상의 대응되는 지점에 대한 화소값을 비교한다. 비교결과 기준치 이상의 차이가 있는 지점들이 일정 영역 안에 일정 수 이상 존재하면, 그 단위 영상과 대응되는 기판 영역에 결함이 존재하는 것으로 판단한다.(230) When the reference image is generated, pixel values of one point of one unit image and pixel values of corresponding points of the reference image are compared. As a result of the comparison, if there are more than a predetermined number of points in the predetermined area that are different from each other, it is determined that a defect exists in the substrate area corresponding to the unit image.
그리고, 단위 영상에 맵핑된 영상획득부(120)의 위치정보를 이용하여 기판 상에 존재하는 결함의 위치를 확정하고 결함이 위치하는 영역의 위치정보를 외부로 출력한다.(240) Then, the position of the defect existing on the substrate is determined using the position information of the
도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 평판 패널의 자동광학검사장치를 이용하여 평판 패널의 결함을 검출하는 방법의 다른 일실시예를 나타내는 순서도이다. 4A and 4B are flowcharts illustrating another embodiment of a method of detecting a defect of a flat panel using an auto-optical inspection apparatus of a flat panel according to the present invention.
도 4a 및 도 4b를 참조하면, 평판 패널의 기판 상에 박막을 증착, 에칭 및 세정을 하여 패터닝하는 공정을 수행한 후 영상획득부(120)를 이용하여 기판을 촬영한 영상을 획득한다.(300) 이때, 기판의 크기에 따라 기판 전체를 촬영하거나 기판을 복수의 영역으로 구분한 후 하나 또는 복수의 영상획득부(120)가 각 영역을 이동하면서 촬영하여 기판에 대한 영상을 획득한다. Referring to FIGS. 4A and 4B, after performing a process of depositing, etching, and cleaning a thin film on a substrate of a flat panel, a pattern is photographed using the
그리고, 영상을 분석하고 기판 상에 결함이 존재하는지의 여부를 개략적으로 판단한다.(310) 이때, 개략적으로 판단하는 방법은 영상을 관찰하여 영상에 휘도가 특별히 높거나 낮은 부분이 존재하는 지의 여부를 판단하는 것을 예로 들을 수 있다. 그리고, 기판 상에 기판의 결함이 존재하는 것으로 판단되면, 기판의 결함이 위치하는 것으로 판단된 영역을 영상획득부(120)를 이용하여 촬영함으로써 기판을 촬영한 영상을 획득한다.(320) 이때, 결함이 존재하는 위치는 영상획득부(120)의 위치정보를 통해 파악하는 것이 가능하다. Then, the image is analyzed and it is determined roughly whether or not there is a defect on the substrate (310). In this case, the method of roughly determining whether or not there is a part having a particularly high or low luminance in the image by observing the image. For example, to judge. When it is determined that a defect of the substrate exists on the substrate, an image obtained by photographing the substrate is obtained by photographing a region in which the defect of the substrate is determined using the
그리고, 기판을 촬영한 영상을 분석함으로써, 촬영된 영상에 표시되는 기판에 형성된 박막 대한 레이아웃을 분석하고 기판 상에 반복되는 패턴을 파악한다. 그리고, 하나의 패턴에 대응되는 단위 영상을 생성하여 촬영된 영상에 복수의 단위 영상이 포함되도록 한다.(330) 기판에 반복되는 패턴은 화소회로를 예로 들을 수 있으며, 하나의 단위 영상에 하나의 화소회로를 갖는 화소가 대응될 수 있고 적색, 녹색 청색의 부화소의 화소회로를 갖는 화소가 대응될 수도 있다. Then, by analyzing the image photographing the substrate, the layout of the thin film formed on the substrate displayed on the photographed image is analyzed and the pattern repeated on the substrate is identified. In addition, a plurality of unit images are included in the photographed image by generating a unit image corresponding to one pattern. In
다음으로, 복수의 단위 영상을 분석하여 복수의 단위 영상들의 화소값을 측정하고 측정된 화소값들의 중간값을 기준영상의 화소값으로 설정하여 기준영상을 생성한다.(340) Next, the pixel values of the plurality of unit images are measured by analyzing the plurality of unit images, and the reference image is generated by setting an intermediate value of the measured pixel values as the pixel value of the reference image.
기준영상이 생성되면 하나의 단위 영상과 기준단위 영상의 대응되는 지점의 화소값을 비교한다. 비교결과 기준치 이상의 차이가 있는 화소들이 일정 영역안에 일정 개수 이상 존재하면 그 단위 영상과 대응되는 기판 영역에 결함이 존재하는 것으로 판단한다.(350) When the reference image is generated, pixel values of one unit image and corresponding points of the reference unit image are compared. As a result of the comparison, when there are more than a predetermined number of pixels having a difference greater than or equal to the reference value, it is determined that a defect exists in the substrate region corresponding to the unit image.
그리고, 단위 영상에 맵핑된 영상획득부(120)의 위치정보를 이용하여 기판 상에 존재하는 결함의 위치를 확정하고 결함이 존재하는 영역의 위치정보를 외부로 출력한다.(360) Then, the position of the defect existing on the substrate is determined using the position information of the
도 5는 도 1에 도시된 기준영상 생성부에서 기준 영상을 선정하는 방법의 일실시예를 나타내는 개념도이다. 영상획득부(120)에서 촬영된 영상에는 기판의 레이아웃의 패턴을 분석하여 영상에 4 x 4 개의 단위 영상이 포함된 것으로 가정한다.FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating an embodiment of a method of selecting a reference image by the reference image generator illustrated in FIG. 1. In the image photographed by the
도 5를 참조하면, 기준영상은 4 x 4 개의 단위 영상 중 제1단위 영상(M,N)의 기판의 결함 존재 여부를 판단하는 제1단위 영상(410)을 선정하고 제1단위 영상(410)과 제1단위 영상(410)에 인접한 단위 영상을 이용하여 선정한다. 여기서, 각 단위 영상들의 해상도는 M x N 으로 가정한다. 또한, 제1단위 영상(410)에 인접한 단위 영상들은 제1단위 영상(410)의 상측에 위치하는 단위 영상(410a), 하측에 위치하는 단위 영상(410b), 좌측에 위치하는 단위 영상(410c), 우측에 존재하는 단위 영상(410d)으로 선정할 수 있다. 그리고, 각 단위 영상들의 해상도가 M x N 이면 각 단위 영상들의 일 지점의 수는 M x N 개가 된다. Referring to FIG. 5, the reference image selects a
그리고, 제1단위 영상(410)의 일 지점의 좌표를 (i,j)로 가정을 하면, 제1단위 영상(M,N)의 일 지점의 좌표에 대응되는 이웃한 단위 영상들(410a,410b,410c,410d)의 일 지점들은 각각 (i-M,j), (i+M,j), (i,j-N), (i,j+N)으로 설정할 수 있다. 그리고, 제1단위 영상(410)의 일 지점의 화소값과 이웃한 단위 영상들(410a,410b,410c,410d)의 일 지점들의 화소값을 측정하고 측정된 화소값들 중 중간값을 선택하여 기준영상의 일 지점의 화소값으로 설정하도록 한다. 그리고, 제1단위 영상(410)의 모든 지점에 대응되는 화소값의 중간값을 파악할 수 있도록 반복한다. 이때, 기준 영상의 해상도를 단위 영상의 해상도와 동일하게 설정하면 기준영상의 모든 지점의 화소값이 중간값을 단위 영상들의 화소값의 중간값들을 이용하여 설정될 수 있다. 따라서, 기준영상의 모든 지점의 화소값 설정은 하기의 수학식 1과 같이 표현될 수 있다. If the coordinates of one point of the
J(i,j)=MED{I(i,j), I(i,j-N), I(i,j+N), I(i-M,j), I(i+M,j)} (식 1)J (i, j) = MED {I (i, j), I (i, jN), I (i, j + N), I (iM, j), I (i + M, j)} One)
여기서, J(i,j)는 기준영상의 화소값, MED{}는 복수의 인수 중 중간값을 출력하는 함수, I는 단위 영상의 화소값, i,j는 단위 영상 내의 일 지점의 좌표, M은 단위 영상의 가로방향 해상도, N은 단위 영상의 세로방향 해상도를 의미한다. Where J (i, j) is a pixel value of a reference image, MED {} is a function of outputting a median value among a plurality of arguments, I is a pixel value of a unit image, i, j is a coordinate of a point in the unit image, M is the horizontal resolution of the unit image, N is the vertical resolution of the unit image.
기준 영상을 생성할 때, 단위 영상들의 각 지점의 화소값의 중간값을 이용하는 이유는, 일반적으로 기판 상에 결함의 수는 매우 적어 하나의 단위 영상과 그 단위 영상에 이웃하는 단위 영상의 일 지점에 결함이 존재할 확률이 매우 적다. 또한, 기판의 결함은 박막으로 인해 생성된 배선이 공정 중 쇼트 또는 오픈되어 발생된다. 따라서, 영상의 결함이 촬영된 영상에는 불필요한 배선이 촬영되어 있거나 필요한 배선이 촬영되어 있지 않기 때문에 단위 영상에서 결함이 존재하는 지점은 정상적인 지점과 다른 화소값을 갖게 된다. 따라서, 기준 영상을 생성할 때 화소값을 중간값으로 선정하게 되면 결함이 촬영된 영상의 화소값이 제거될 수 있다. When generating the reference image, the reason for using the median value of the pixel value of each point of the unit images, in general, the number of defects on the substrate is very small, one unit image and one point of the unit image neighboring the unit image There is a very small probability that there will be a defect. In addition, the defect of the substrate is caused by the short or open of the wiring generated by the thin film during the process. Therefore, since unnecessary wiring is photographed or necessary wiring is not photographed in the image in which the defect of the image is captured, the point where the defect exists in the unit image has a different pixel value from the normal point. Therefore, when the pixel value is selected as an intermediate value when the reference image is generated, the pixel value of the image in which the defect is captured may be removed.
그리고, 단위 영상의 모서리 부분에 존재하는 제2 단위 영상(420)의 경우 상측에 위치하는 단위 영상(420a)과 우측에 위치하는 단위 영상(420b)만이 인접한 단위 영상으로 설정될 수 있다. 따라서, 기준영상의 생성은 기준영상의 각 지점의 화소값을 인접한 단위 영상에서 누락된 단위 영상의 화소값을 제외하고 산출한다. In the case of the
본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주지하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야에서 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.It is to be understood that the technical spirit of the present invention has been specifically described in accordance with the preferred embodiments thereof, but it is to be understood that the above-described embodiments are intended to be illustrative and not restrictive. In addition, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.
110: 메모리 120: 영상획득부
130: 기준영상생성부 140: 결함판정부
150: 출력부110: memory 120: image acquisition unit
130: reference image generation unit 140: defect determination
150: output unit
Claims (11)
상기 기판의 일부 영역을 촬영하고, 각각 촬영한 영상 내에 주기적으로 반복하여 존재하는 셀 레이아웃 패턴에 대응하는 단위 영상들에 기초하여 기준 영상을 생성하는 단계;
각 단위 영상들을 상기 기준 영상과 비교하여 결함의 존부를 판정하고 기판에 결함이 존재할 경우 결함의 위치 정보를 획득하는 단계; 및
획득한 결함의 위치정보를 출력하는 단계; 를 포함하며,
상기 기준 영상은 M×N의 크기를 갖으며, 일 지점의 화소값 J(i,j)가 MED{I(i,j), I(i,j-N), I(i,j+N), I(i-M,j), I(i+M,j)}이며, MED{}는 복수의 인수 중 중간값을 출력하는 함수, I는 단위 영상의 화소 값, i,j는 단위 영상 내의 일 지점의 좌표를 의미하는 평판패널 기판의 자동광학검사 방법.In the automatic optical inspection method of a flat panel substrate,
Photographing a portion of the substrate and generating a reference image based on unit images corresponding to a cell layout pattern that is periodically and repeatedly present in each captured image;
Comparing each unit image with the reference image to determine whether there is a defect, and obtaining position information of the defect when a defect exists in the substrate; And
Outputting position information of the acquired defect; Including;
The reference image has a size of M × N, and the pixel values J (i, j) of one point are MED {I (i, j), I (i, jN), I (i, j + N), I (iM, j), I (i + M, j)}, MED {} is a function for outputting an intermediate value among a plurality of arguments, I is a pixel value of a unit image, and i, j is a point in the unit image. Automatic optical inspection method of a flat panel substrate, which means the coordinates of.
단위 영상의 일 지점의 화소값과 상기 단위 영상과 인접한 다른 단위 영상들의 지점의 상기 일 지점에 대응하는 화소값들로부터 기준영상의 대응하는 지점의 화소값을 구하여 기준 영상을 생성하는 평판패널 기판의 자동광학검사 방법.The method of claim 1, wherein the generating of the reference image comprises:
A flat panel substrate for generating a reference image by obtaining a pixel value of a corresponding point of a reference image from pixel values of one point of a unit image and pixel values corresponding to the one point of a point of another unit image adjacent to the unit image. Automated Optical Inspection Method.
상기 영상의 모서리에 위치하는 단위 영상과 비교되는 기준영상의 각 지점의 화소값은 인접한 단위 영상에서 누락된 단위 영상의 화소값을 제외하고 산출하는 평판패널 기판의 자동광학검사 방법.The method of claim 1,
And a pixel value of each point of the reference image compared to the unit image located at the corner of the image is calculated by excluding the pixel value of the unit image missing from the adjacent unit image.
상기 기준 영상은 단위 영상과 동일한 크기의 영상인 평판패널 기판의 자동광학검사 방법.The method of claim 1,
And the reference image is an image having the same size as a unit image.
상기 기준 영상을 생성하는 단계에서 촬영하는 기판의 영역은 외부에서 입력된 결함의 개략적인 위치정보에 기초하여 결정되는 평판패널 기판의 자동광학검사 방법.The method of claim 1,
And an area of the substrate to be photographed in the step of generating the reference image is determined based on rough position information of a defect input from the outside.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110022767A KR101261016B1 (en) | 2011-03-15 | 2011-03-15 | method and apparatus for automatic optical inspection of flat panel substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110022767A KR101261016B1 (en) | 2011-03-15 | 2011-03-15 | method and apparatus for automatic optical inspection of flat panel substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120105149A KR20120105149A (en) | 2012-09-25 |
KR101261016B1 true KR101261016B1 (en) | 2013-05-06 |
Family
ID=47112215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110022767A KR101261016B1 (en) | 2011-03-15 | 2011-03-15 | method and apparatus for automatic optical inspection of flat panel substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR101261016B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101565748B1 (en) | 2013-05-31 | 2015-11-05 | 삼성에스디에스 주식회사 | A method and apparatus for detecting a repetitive pattern in image |
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---|---|---|---|---|
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CN105607312A (en) * | 2016-01-22 | 2016-05-25 | 武汉精测电子技术股份有限公司 | Automated optical inspection device and method for defect inspection of LCD (liquid crystal display) module |
KR101982347B1 (en) * | 2018-06-11 | 2019-05-24 | 주식회사 에이치비테크놀러지 | Apparatus and Method for Detecting Defects in Auto Repair System |
KR102043664B1 (en) * | 2019-04-29 | 2019-12-05 | 주식회사 에이치비테크놀러지 | Auto Repair System and Method for Detecting and Repairing Defects in a Substrate |
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-
2011
- 2011-03-15 KR KR1020110022767A patent/KR101261016B1/en active IP Right Grant
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---|---|
KR20120105149A (en) | 2012-09-25 |
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