JP5824773B2 - ガンマ量子反応の位置及び時間を測定するマトリックス装置及び方法、並びに陽電子放射断層撮影においてガンマ量子反応の位置及び時間を測定する前記装置の使用方法 - Google Patents
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Description
nm)に相当する応答の範囲の放射線を放出するため、検出器の効率を向上させる。
Time Of Flight)の画像を再現する方法が開示されている。この方法ではイメージングシステム10のテストエリア14において調査対象物のアウトラインを得る。その対象物から放出された放射線に関する事象(events)が記録され、電子データに変換される。その対象物の外部からの入射放射線に相当する電子データは除外され、最終画像が、残りの電子データから再現される。
さらに、本発明の他の形態においては、シンチレーションチェンバを構成するマトリックス装置において、ガンマ量子の反応の位置及び時間を決定する方法であって、シンチレーションチェンバは、(a)原子番号が少なくとも50の原子が添加されたプラスチックシンチレータで構成され、表面が、臨界角よりも大きい角度でシンチレーションチェンバの内側から表面に入射する光子を反射する、シンチレーションプレートと、(b)検出壁を構成する光電子増倍管であって、シンチレーションチェンバが発する光パルスを記録し、光パルスから電気信号に変換する、シンチレーションチェンバのサイドレイヤー(L,G,P,D)およびシンチレーションチェンバの前レイヤー(F)および後レイヤー(T)として配置された、光電子増倍管と、(c)光電子増倍管が取り付けられ、シンチレーションプレートとハウジングとの間に位置し、光電子増倍管の各々のケーシングと寸法と形状が一致する切込み孔群を有し、マトリックス装置を覆うハウジングに取り付けられた取り付けプレートと、(d)シンチレーションプレートが組み付けられたフレームであって、ハウジングに取り付けられたフレームと、(e)光電子増倍管とシンチレーションプレートとの間の空気層とを有し、方法は、(i)シンチレーションチェンバのサイドレイヤー(L,G,P,D)のうち少なくとも3つのサイドレイヤーならびにシンチレーションチェンバの前レイヤー(F)および後レイヤー(T)において記録される電子信号についての事象(events)を選択し、(ii)一定の時間間隔の範囲内に発生した電子信号だけをさらに処理することを含み、(iii)(1)シンチレーションチェンバの前レイヤー(F)および後レイヤー(T)からの電子信号の振幅に基づいて、(2)シンチレーションチェンバのサイドレイヤー(L,G,P,D)からの電子信号の振幅に基づいて、(3)シンチレーションチェンバの前レイヤー(F)および後レイヤー(T)からの電子信号の時間に基づいて、3つの独立した方法での計算の平均として、シンチレーションプレートの平面におけるガンマ量子の反応の位置を決定し、(iv)シンチレーションチェンバのサイドレイヤー(L,G,P,D)の光電子増倍管の電子信号振幅の分布に基づいて、ガンマ量子の反応の深さおよび二つの同時発生したガンマ量子のLORを決定し、(v)全ての光電子増倍管からの電子信号の時間に基づいてLORの各々に沿った対消滅の位置を定義し、(vi)一連のLORおよびLORに沿った対消滅の位置に基づいて、断層撮影画像を提供する、方法を提供する。
を決定することができる。
なお、本願明細書に記載の実施形態によれば、以下の構成もまた開示される。
[項目1]
シンチレーションチェンバを構成するガンマ量子の反応の位置及び時間を測定するマトリックス装置において、
前記チェンバ(1)は、好ましくは原子番号が少なくとも50の原子が添加されたプラスチックシンチレータで構成されたシンチレーションプレート(8)を備え、
前記シンチレーションプレート(8)の表面は、いわゆるバウンダリアングル(boundary angle)よりも大きい角度で内側から入射する光子を反射するものであり、
光電子増倍管(10)は、前記シンチレーションチェンバが発する光パルスを各側面で記録する検出壁を構成するものであり、
得られた光パルスは、前記シンチレーションプレート(8)と装置全体のケーシング(2)の間に配置された光電子増倍管(10)マトリックスにより電気信号に変換されるように構成され、
前記光電子増倍管(10)は、フレーム(12)に取り付けられた装置全体(2)を覆いかつ支持するハウジングに取り付けられた取り付けプレート(11)に装着されており、シンチレーションプレート(8)は、光電子増倍管(10)のケーシングと寸法と形状が一致する切込み孔群を備えた、光電子増倍管(10)を支持するための取り付けプレート(11)に組み付けられており、
前記光電子増倍管(10)と前記シンチレーションプレート(8)との間に空気層(13)が形成され、
データ分析の第1ステップにおいて、それらの事象(events)が、光電子増倍管レイヤー(10)の少なくとも3つのサイドレイヤー及び前後レイヤーにおいて記録される信号に選択され、
更なる処理のために、一定の時間間隔に発生したそれらの信号だけが選択され、
平面(xy)内における量子反応の位置が、前(P)及び後(T)の光電子増倍管レイヤー(10)からの信号の振幅、サイド光電子増倍管レイヤーからの信号の振幅、前(P)及び後(T)のレイヤーからの光電子増倍管信号(10)の時間に基づく、3つの独立した方法で測定され、
最終結果として、適切な測定の不確実性で重み付けられた平均が計算され、
前記プレートのサイドパネル内の前記光電子増倍管における信号の振幅の分布から、ガンマ量子の反応の深さ(DOI)及びLOR線が決定され、すべての光電子増倍管からの信号の時間に基づいて、LOR線に沿った対消滅点が定義され、デリバードされた一連の再現された線LOR及びその線に沿った対消滅の位置が断層撮影画像を提供することをを特徴とする。
[項目2]
電圧が、前記光電子増倍管の種類と一致する分圧器(14)により光電子増倍管ダイノード(10)に分配され、前記分圧器(14)は、光電子増倍管のケーシングに隣接する電子機器のハウジング内に配置された電源により電圧ケーブルを通して給電され、前記光電子増倍管からの信号は、信号ケーブル(16)により電子回路(3)に供給されることを特徴とする、項目1に記載の装置。
[項目3]
シンチレーションプレート(8)は、該シンチレーションプレート(8)の構成材料の屈折率と同様の屈折率を持つ光学接着剤(9)により接合されており、同様の屈折率は、接合箇所における光子の反射を抑制するものであることを特徴とする、項目1に記載の装置。
[項目4]
前記シンチレーションプレート(8)は、遮光性フォイル(17)によりチェンバー内から分離されているのを特徴とする、項目1に記載の装置。
[項目5]
プラスチックカバー(18)が患者側から見えることを特徴とする、項目1に記載の装置。
[項目6]
シンチレータ壁は、右(P)、左(L)、上(T)及び下(D)に分けられ、前(F)及び後ろ(T)で光を記録することを特徴とする、項目1に記載の方法。
[項目7]
図1ないし図7に示された特徴を有する、項目1に記載の装置。
[項目8]
ガンマ量子の反応の位置と時間を測定する方法において、
前記シンチレーションプレート(8)の表面は、いわゆるバウンダリアングル(boundary angle)よりも大きい角度で内側から入射する光子を反射するものであり、
光電子増倍管(10)は、前記シンチレーションチェンバが発する光パルスを各側面で記録する検出壁を構成するものであり、
得られた光パルスは、前記シンチレーションプレート(8)と装置全体のケーシング(2)の間に配置された光電子増倍管(10)マトリックスにより電気信号に変換されるように構成され、
いわゆるバウンダリアングル(boundary angle)よりも小さい角度でプレートの表面に達するシンチレータ材料におけるガンマ量子の吸収の結果として生じる光の光子は、フライアウトし、前記シンチレーションチェンバ(1)を囲む前記光電子増倍管(10)により記録され、
データ分析の第1ステップにおいて、それらの事象(events)が、光電子増倍管レイヤー(10)の少なくとも3つのサイドレイヤーおよび前後レイヤーにおいて記録される信号に選択され、
更なる処理のために、一定の時間間隔に発生したそれらの信号だけが選択され、
プレート面における量子の反応の位置が測定された後、側面の光電子増倍管(10)の信号の振幅の分布に基づいて、ガンマ量子の反応の深さ(DOI)とLOR線が決定され、
反応の位置と光電子増倍管が記録した信号の振幅と時間に関する情報に基づいて、ガンマ量子がシンチレーション材料に発したエネルギー及び反応の時間を決定し、LOR線に沿った対消滅の位置を計算し、その後、測定された一連の再現された線LOR及びその線に沿った対消滅の位置が断層撮影画像を提供することを特徴とする方法。
[項目9]
空気の層(13)が、前記光電子増倍管と前記シンチレーションチェンバとの間に形成され、光信号は、シンチレーションプレート(8)から空気に出る光の線の屈折により、より多くの数の光電子増倍管(10)により記録されることを特徴とする、項目8に記載の方法。
[項目10]
電子回路は、バイナリ形式でコンピュータ(4)に送信される信号の振幅と発生の時間をディジットに変換し、それに基づいて患者の体内の放射線マーカーの濃度の分布が再現されることを特徴とする、項目8に記載の方法。
[項目11]
プレート面(x-y)における量子の反応の位置は、前記光電子増倍管(10)の位置、前(F)及び後ろ(R)の光電子増倍管レイヤーの信号の振幅、側面の光電子増倍管レイヤーからの信号の振幅、前後レイヤーからの光電子増倍管信号の時間の3つの独立した方法で決定され、最終結果として、適切な測定の不確実性で重み付けられた平均が計算されることを特徴とする、項目8に記載の方法。
[項目12]
プレートの側面パネルの光電子増倍管の信号の振幅の分布からガンマ量子の反応の深さ(DOI)を決定し、反応の位置及び光電子増倍管が記録した信号の振幅と時間に関する情報に基づいて、ガンマ量子及び反応の時間によりシンチレーション材料に発せられたエネルギーを決定し、LOR線に沿った対消滅の位置を計算し、送信されて再現された一連のLOR線及びそれらの線に沿った対消滅の位置が、断層撮影画像を提供することを特徴とする、
項目8に記載の方法。
[項目13]
1つのガンマ量子の反応に起因する信号を発した光電子増倍管(10)の総数、反応の位置と光電子増倍管ウィンドウ(Δri)の中心との距離、シンチレータにおける光信号のスピードに相当する校正定数(vs)、信号の減衰を示す校正定数(λ)、及び振幅の決定の不確実性(σ)を考慮して、シンチレータ材料においてガンマ量子が発したエネルギーと反応の時間を決定することを特徴とする、項目8に記載の方法。
[項目14]
陽電子放射断層撮影機において用いられることを特徴とする、項目8または11に記載の方法。
[項目15]
陽電子放射断層撮影において項目1ないし7に記載された装置を用いる方法。
Claims (15)
- シンチレーションチェンバを構成するガンマ量子の反応の位置及び時間を測定するマトリックス装置において、
前記チェンバは、原子番号が少なくとも50の原子が添加されたプラスチックシンチレータで構成されたシンチレーションプレートを備え、
前記シンチレーションプレートの表面は、臨界角よりも大きい角度で内側から入射する光子を反射するものであり、
光電子増倍管は、前記シンチレーションチェンバが発する光パルスを各側面で記録する検出壁を構成するものであり、
得られた光パルスは、前記シンチレーションプレートと装置全体のケーシングの間に配置された光電子増倍管マトリックスにより電気信号に変換されるように構成され、
前記光電子増倍管は、フレームに取り付けられた装置全体を覆いかつ支持するハウジングに取り付けられた取り付けプレートに装着されており、シンチレーションプレートは前記フレームに組み付けられており、光電子増倍管を支持するための取り付けプレートは、光電子増倍管のケーシングの寸法と形状が一致する切込み孔群を備え、
前記光電子増倍管と前記シンチレーションプレートとの間に空気層が形成され、
データ分析の第1ステップにおいて、それらの事象(events)が、前記取り付けプレートに取り付けられた光電子増倍管の右(P)、左(L)、上(G)および下(D)レイヤーのうちの少なくとも3つの各々のサイドレイヤーならびに前記取り付けプレートに取り付けられた光電子増倍管の前(F)および後(T)の各々のレイヤーにおいて記録される各信号に選択され、
更なる処理のために、一定の時間間隔の範囲内に発生したそれらの信号だけが選択され、
平面(xy)内における量子反応の位置が、前(F)及び後(T)の光電子増倍管レイヤーからの信号の振幅、サイド光電子増倍管レイヤーからの信号の振幅、前(F)及び後(T)のレイヤーからの光電子増倍管信号の時間に基づく、3つの独立した方法で測定され、
最終結果として、適切な測定の不確実性で重み付けられた平均が計算され、
前記光電子増倍管の前記右(P)、左(L)、上(G)、下(D)、前(F)および後(T)レイヤーにおける信号の振幅の分布から、ガンマ量子の反応の深さ(DOI)及びLOR線が決定され、すべての光電子増倍管からの信号の時間に基づいて、LOR線に沿った対消滅点が定義され、デリバードされた一連の再現された線LOR及びその線に沿った対消滅の位置が断層撮影画像を提供することを特徴とする、マトリックス装置。 - 電圧が、前記光電子増倍管の種類と一致する分圧器により光電子増倍管ダイノードに分配され、前記分圧器は、光電子増倍管のケーシングに隣接する電子機器のハウジング内に配置された電源により電圧ケーブルを通して給電され、前記光電子増倍管からの信号は、信号ケーブルにより電子回路に供給されることを特徴とする、請求項1に記載のマトリックス装置。
- シンチレーションプレートは、該シンチレーションプレートの構成材料の屈折率と同様の屈折率を持つ光学接着剤により接合されており、同様の屈折率は、接合箇所における光子の反射を抑制するものであることを特徴とする、請求項1または2に記載のマトリックス装置。
- 前記シンチレーションプレートは、遮光性フォイルによりチェンバ内から分離されているのを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載のマトリックス装置。
- プラスチックカバーが患者側から見えることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載のマトリックス装置。
- ガンマ量子の反応の位置と時間を測定する方法において、
シンチレーションプレートの表面は、臨界角よりも大きい角度で内側から入射する光子を反射するものであり、
光電子増倍管は、前記シンチレーションプレートが発する光パルスを各側面で記録する検出壁を構成するものであり、
得られた光パルスは、前記シンチレーションプレートと装置全体のケーシングの間に配置された光電子増倍管のマトリックスにより電気信号に変換されるように構成され、
前記臨界角よりも小さい角度でプレートの表面に達するシンチレータ材料におけるガンマ量子の吸収の結果として生じる光の光子は、フライアウトし、シンチレーションチェンバを囲む前記光電子増倍管により記録され、
データ分析の第1ステップにおいて、それらの事象(events)が、取り付けプレートに取り付けられた光電子増倍管レイヤーの右(P)、左(L)、上(G)および下(D)レイヤーのうちの少なくとも3つの各々のサイドレイヤーならびに前記取り付けプレートに取り付けられた光電子増倍管の前(F)および後(T)の各々のレイヤーにおいて記録される各信号に選択され、
更なる処理のために、一定の時間間隔の範囲内に発生したそれらの信号だけが選択され、
前記光電子増倍管の前記右(P)、左(L)、上(G)、下(D)前(F)および後(T)レイヤーにおける量子の反応の位置が測定された後、側面の光電子増倍管の信号の振幅の分布に基づいて、ガンマ量子の反応の深さ(DOI)とLOR線が決定され、
反応の位置と光電子増倍管が記録した信号の振幅と時間に関する情報に基づいて、ガンマ量子がシンチレーション材料に発したエネルギー及び反応の時間を決定し、LOR線に沿った対消滅の位置を計算し、その後、デリバードされた一連の再現された線LOR及びその線に沿った対消滅の位置が断層撮影画像を提供することを特徴とする方法。 - 空気の層が、前記光電子増倍管と前記シンチレーションチェンバとの間に形成され、光信号は、シンチレーションプレートから空気に出る光の線の屈折により、より多くの数の光電子増倍管により記録されることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 電子回路は、バイナリ形式でコンピュータに送信される信号の振幅と発生の時間をディジットに変換し、それに基づいて患者の体内の放射線マーカーの濃度の分布が再現されることを特徴とする、請求項6または7に記載の方法。
- プレート面(x-y)における量子の反応の位置は、前(F)及び後ろ(R)の光電子増倍管レイヤーの信号の振幅、側面の光電子増倍管レイヤーからの信号の振幅、前後レイヤーからの光電子増倍管信号の時間の3つの独立した方法で決定され、最終結果として、適切な測定の不確実性で重み付けられた平均が計算されることを特徴とする、請求項6から8のいずれか一項に記載の方法。
- プレートの側面パネルの光電子増倍管の信号の振幅の分布からガンマ量子の反応の深さ(DOI)を決定し、反応の位置及び光電子増倍管が記録した信号の振幅と時間に関する情報に基づいて、ガンマ量子及び反応の時間によりシンチレーション材料に発せられたエネルギーを決定し、LOR線に沿った対消滅の位置を計算し、送信されて再現された一連のLOR線及びそれらの線に沿った対消滅の位置が、断層撮影画像を提供することを特徴とする、請求項6から9のいずれか一項に記載の方法。
- 1つのガンマ量子の反応に起因する信号を発した光電子増倍管の総数、反応の位置と光電子増倍管ウィンドウの中心との距離(Δri)、シンチレータにおける光信号のスピードに相当する校正定数(vs)、信号の減衰を示す校正定数(λ)、及び振幅の決定の不確実性(σ)を考慮して、シンチレータ材料においてガンマ量子が発したエネルギーと反応の時間を決定することを特徴とする、請求項6から10のいずれか一項に記載の方法。
- 陽電子放射断層撮影機において用いられることを特徴とする、請求項6または9に記載の方法。
- 陽電子放射断層撮影において請求項1ないし5のいずれか一項に記載された装置を用いる方法。
- ガンマ量子の反応の位置及び時間を決定し、シンチレーションチェンバを構成するマトリックス装置において、
前記シンチレーションチェンバは、
(a)原子番号が少なくとも50の原子が添加されたプラスチックシンチレータで構成され、表面が、臨界角よりも大きい角度で前記シンチレーションチェンバの内側から前記表面に入射する光子を反射する、シンチレーションプレートと、
(b)検出壁を構成する光電子増倍管であって、前記シンチレーションチェンバが発する光パルスを記録し、前記光パルスから電気信号に変換する、前記シンチレーションチェンバのサイドレイヤー(L,G,P,D)および前記シンチレーションチェンバの前レイヤー(F)および後レイヤー(T)として配置された、光電子増倍管と、
(c)前記光電子増倍管が取り付けられ、前記シンチレーションプレートとハウジングとの間に位置し、前記光電子増倍管の各々のケーシングと寸法と形状が一致する切込み孔群を有し、前記マトリックス装置を覆う前記ハウジングに取り付けられた取り付けプレートと、
(d)前記シンチレーションプレートが組み付けられたフレームであって、前記ハウジングに取り付けられたフレームと、
(e)前記光電子増倍管と前記シンチレーションプレートとの間の空気層と、
(f)電子システムと
を備え、
前記電子システムは、
(i)前記シンチレーションチェンバのサイドレイヤー(L,G,P,D)のうち少なくとも3つのサイドレイヤーならびに前記シンチレーションチェンバの前記前レイヤー(F)および前記後レイヤー(T)において記録される電子信号についての事象(events)を選択し、
(ii)一定の時間間隔の範囲内に発生した前記電子信号だけをさらに処理することを含み、
(iii)(1)前記シンチレーションチェンバの前記前レイヤー(F)および前記後レイヤー(T)からの前記電子信号の振幅に基づいて、(2)前記シンチレーションチェンバの前記サイドレイヤー(L,G,P,D)からの前記電子信号の振幅に基づいて、(3)前記シンチレーションチェンバの前記前レイヤー(F)および前記後レイヤー(T)からの前記電子信号の時間に基づいて、3つの独立した方法での計算の平均として、前記シンチレーションプレートの平面における前記ガンマ量子の反応の前記位置を決定し、
(iv)前記シンチレーションチェンバの前記サイドレイヤー(L,G,P,D)の前記光電子増倍管の電子信号振幅の分布に基づいて、ガンマ量子反応の深さおよび二つの同時発生したガンマ量子のLORを決定し、
(v)全ての前記光電子増倍管からの前記電子信号の時間に基づいて前記LORの各々に沿った対消滅の位置を定義し、
(vi)一連のLORおよび前記LORに沿った前記対消滅の位置に基づいて、断層撮影画像を提供する、マトリックス装置。 - シンチレーションチェンバを構成するマトリックス装置において、ガンマ量子の反応の位置及び時間を決定する方法であって、
前記シンチレーションチェンバは、
(a)原子番号が少なくとも50の原子が添加されたプラスチックシンチレータで構成され、表面が、臨界角よりも大きい角度で前記シンチレーションチェンバの内側から前記表面に入射する光子を反射する、シンチレーションプレートと、
(b)検出壁を構成する光電子増倍管であって、前記シンチレーションチェンバが発する光パルスを記録し、前記光パルスから電気信号に変換する、前記シンチレーションチェンバのサイドレイヤー(L,G,P,D)および前記シンチレーションチェンバの前レイヤー(F)および後レイヤー(T)として配置された、光電子増倍管と、
(c)前記光電子増倍管が取り付けられ、前記シンチレーションプレートとハウジングとの間に位置し、前記光電子増倍管の各々のケーシングと寸法と形状が一致する切込み孔群を有し、前記マトリックス装置を覆う前記ハウジングに取り付けられた取り付けプレートと、
(d)前記シンチレーションプレートが組み付けられたフレームであって、前記ハウジングに取り付けられたフレームと、
(e)前記光電子増倍管と前記シンチレーションプレートとの間の空気層と
を有し、
前記方法は、
(i)前記シンチレーションチェンバのサイドレイヤー(L,G,P,D)のうち少なくとも3つのサイドレイヤーならびに前記シンチレーションチェンバの前記前レイヤー(F)および前記後レイヤー(T)において記録される電子信号についての事象(events)を選択し、
(ii)一定の時間間隔の範囲内に発生した前記電子信号だけをさらに処理することを含み、
(iii)(1)前記シンチレーションチェンバの前記前レイヤー(F)および前記後レイヤー(T)からの前記電子信号の振幅に基づいて、(2)前記シンチレーションチェンバの前記サイドレイヤー(L,G,P,D)からの前記電子信号の振幅に基づいて、(3)前記シンチレーションチェンバの前記前レイヤー(F)および前記後レイヤー(T)からの前記電子信号の時間に基づいて、3つの独立した方法での計算の平均として、前記シンチレーションプレートの平面における前記ガンマ量子の反応の前記位置を決定し、
(iv)前記シンチレーションチェンバの前記サイドレイヤー(L,G,P,D)の前記光電子増倍管の電子信号振幅の分布に基づいて、前記ガンマ量子の反応の深さおよび二つの同時発生したガンマ量子のLORを決定し、
(v)全ての前記光電子増倍管からの前記電子信号の時間に基づいて前記LORの各々に沿った対消滅の位置を定義し、
(vi)一連のLORおよび前記LORに沿った前記対消滅の位置に基づいて、断層撮影画像を提供する、方法。
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