JP5822111B2 - 製造装置及びその管理方法、記録媒体、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
また、本発明の第3の態様によれば、製造に際して調整可能な複数の調整部を有する製造装置が提供される。この製造装置は、この製造装置で製造される製品の複数の問題毎にそれぞれ複数の要因との間の第1の相関情報を記録した第1の相関テーブルと、その複数の要因毎にそれぞれその製造装置の複数の調査項目との間の第2の相関情報を記録した第2の相関テーブルと、を記憶した記憶装置と、制御情報を入力する入力装置と、その入力装置から入力されるその制御情報に応じて、その第1の相関テーブル及びその第2の相関テーブルを用いてその複数の調査項目及びその複数の問題からそれぞれ所定の調査項目及び問題の少なくとも一方を選択する制御装置と、を備え、その複数の調査項目は、その複数の調整部のうちの少なくとも1つを調査することでその問題を解決できることを表しているものである。
また、本発明の第5の態様によれば、製造に際して調整可能な複数の調整部を有する製造装置の管理用データを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。その管理用データは、その製造装置で製造される製品の複数の問題毎にそれぞれ複数の要因との間の第1の相関情報を記録した第1の相関テーブルのデータと、その複数の要因毎にそれぞれその製造装置の複数の調査項目との間の第2の相関情報を記録した第2の相関テーブルのデータと、を有し、その複数の問題とその複数の調査項目とが、その第1の相関テーブル及びその第2の相関テーブルを介して対応付けられ、その複数の調査項目は、その複数の調整部のうちの少なくとも1つを調査することでその問題を解決できることを表しているものである。
図1は、本実施形態のスキャニングステッパー(スキャナー)よりなる走査型の露光装置(投影露光装置)100の概略構成を示す。図1において、露光装置100は、照明系10と、照明系10からの露光用の照明光(露光光)ILにより照明されるレチクルR(マスク)を保持するレチクルステージRSTと、レチクルRから射出された照明光ILをウエハW(基板)に投射する投影光学系PLを含む投影ユニットPUと、ウエハWを保持するウエハステージWST及び計測ステージMSTを有するステージ装置50とを備えている。露光装置100は、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータよりなる主制御装置20を含む制御系(図3参照)も備えている。以下、投影光学系PLの光軸AXと平行にZ軸を取り、これに直交する平面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向にY軸を、Z軸及びY軸に直交する方向にX軸を取り、X軸、Y軸、及びZ軸の回りの回転(傾斜)方向をそれぞれθx、θy、及びθz方向として説明を行う。
レチクルRのパターン面は、レチクルステージRSTの上部に例えば真空吸着により保持されている。レチクルステージRSTは、レチクルベース(不図示)のXY平面に平行な上面で、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系11(図3参照)によって、X方向、Y方向、θz方向に微少駆動可能であると共に、走査方向(Y方向)に指定された走査速度で駆動可能となっている。
本実施形態の露光装置100は、図1では不図示であるが、ウエハWの所定のアライメントマークの位置を計測するアライメント系AL(図3参照)、及びレチクルRのアライメントマークの投影光学系PLによる像の位置を計測するために、ウエハステージWSTに内蔵された空間像計測系34(図3参照)を備えている。これらの空間像計測系34及びアライメント系ALを用いて、レチクルRとウエハWの各ショット領域とのアライメントが行われる。
[第1実施例]
次に、表2の論理表LT1〜LT3を用いた第1実施例につき説明する。この第1実施例では、複数の製品問題として、現像後にウエハWに形成されるレジストパターンの形状に関する現象、及びウエハWの各ショット領域内における位置(ショット内位置)の誤差を想定する。さらに、レジストパターンの形状に関する現象として、孤立線の線幅変動、密集線の線幅変動、密集線の崩れ、及び太線の崩れを想定する。また、ショット内位置の誤差として、露光領域IAのスリット方向(X方向)の誤差(スリット方向依存性)及び走査方向(Y方向)の誤差(スキャン方向依存性)を想定する。
次に、表2の論理表LT1〜LT3を適用可能な第2実施例につき説明する。この第2実施例では、複数の製品問題として、ウエハWのショット領域内の位置に依存する線幅変動(又はレジストパターンの崩れ等、以下同様)(以下、ショット内依存性という)、ウエハWの表面の位置に依存する線幅変動(以下、ウエハ内依存性という)、及び位置に依存しないランダムな線幅変動(以下、ランダム成分という)を想定する。そして、複数の誤差要因として、ウエハのステッピング誤差、ウエハの走査方向の正逆(±Y方向)による位置決め誤差(正逆差)、デフォーカス、ショット領域内の倍率誤差、ショット領域の回転誤差、ショット領域内のシフト成分、ウエハの線形誤差(線形倍率誤差等)、及びウエハの高次誤差を想定する。これらの複数の製品問題及び複数の誤差要因に関してステップ102を実行することによって、表4の第1相関テーブルTC1が作成される。第1相関テーブルTB1の相関情報の解釈は表3の第1相関テーブルTB1と同様である。
本実施形態の作用効果等は以下の通りである。
(1)本実施形態の露光装置100(製造装置)は、露光装置100で製造されるウエハW(製品)の複数の製品問題A〜D(問題)毎にそれぞれ複数の誤差要因1〜4(要因)との間の第1の相関情報を記録した第1相関テーブルTA1と、複数の誤差要因1〜4毎にそれぞれ露光装置100の複数の管理項目1〜4(調査項目)との間の第2の相関情報を記録した第2相関テーブルTA2と、を記憶した記憶装置36と、制御情報を入力する入力装置42と、入力装置42から入力される制御情報に応じて、第1相関テーブルTA1及び第2相関テーブルTA2を用いて複数の管理項目及び複数の製品問題からそれぞれ所定の管理項目及び製品問題の少なくとも一方を選択する主制御装置20と、を備えている。
(2)また、ステップ106〜110は、複数の製品問題のうち問題が生じている製品問題A(第1の問題)を指定するステップ106と、第1相関テーブルTA1を用いて製品問題Aに関連する誤差要因1(第1の要因)を選択するステップ108と、第2相関テーブルTA2を用いて誤差要因1に関連する管理項目1(第1の調査項目)を選択するステップ110と、を含んでいる。従って、多くの製品問題及び多くの誤差要因がある場合でも、相関テーブルTA1,TA2を用いて発生している製品問題に関連する管理項目を効率的に選択でき、その製品問題を効率的に解決できる。
次に、上記の実施形態では以下のような変形が可能である。
(1)上記の実施形態の第1相関テーブルTA1等の相関情報は、相関の有無の情報であるが、図12の第1変形例の第1相関テーブルTA11で示すように、相関情報に重み付けの情報を含めてもよい。図12において、第1相関テーブルTA11の4行×4列の相関情報は、各製品問題A〜D毎に、当該製品問題に関係の有る誤差要因の寄与分の和が例えば100(%)になるように重み付けの情報を含んでいる。例えば製品問題Aに関係の有る誤差要因は誤差要因1及び3であり、かつ誤差要因1及び3の寄与分はそれぞれ40及び60である。他の製品問題B,C,Dに関係の有る誤差要因2,3,4の寄与分はそれぞれ100である。また、第2相関テーブルTA12は、誤差要因1〜4に相関の有る管理項目はそれぞれ管理項目1〜4であることを意味している。
(2)次に、上記の実施形態では相関テーブルTA1,TA2等を用いて、製品問題から管理項目を選択している。これに対して、図13(A)の第2変形例のフローチャートで示すように、或る誤差要因が指定された場合に、2つの相関テーブルを用いてその誤差要因に関係する製品問題及び管理項目を選択してもよい。この動作は誤差要因の検定とも呼ぶことができる。この第2変形例では、図4のステップ102,104の実行により、表1の第1相関テーブルTA1及び第2相関テーブルTA2が作成される。これ以降の動作は図3の主制御装置20の第4手段20d(管理プログラムの機能の一部)によって実行される。そして、図13(A)のステップ120において、オペレータは入力装置42から第4手段20dに複数の誤差要因のうちの少なくとも一つの誤差要因を指定する。ここでは、図14に示すように、誤差要因1が指定されたものとする。これに続くステップ122において、第4手段20dは、図14の第1相関テーブルTA1を用いて、指定された誤差要因1と相関の有る(関連する)製品問題Aを選択する。次のステップ124において、第4手段20dは、図14の第2相関テーブルTA2を用いて、指定された誤差要因1と相関の有る(関連する)管理項目1を選択し、選択された製品問題A及び管理項目1を例えば出力装置44に出力するとともに、記憶装置36に記憶する。
このように第2変形例によれば、オペレータは、指定した誤差要因1が製品問題Aの原因となり、かつ誤差要因1は管理項目1によって管理されていることが分かり、誤差要因1に関して製品問題Aと管理項目1との関係付け(検定)を行うことができる。同様に他の誤差要因に関しても製品問題と管理項目との関係付けを容易に行うことができる。
これ以降の動作は図3の主制御装置20の第5手段20e(管理プログラムの機能の一部)によって実行される。そして、図13(B)のステップ130において、オペレータは入力装置42から第5手段20eに複数の管理項目のうちの少なくとも一つの管理項目及びその値を指定する。ここでは、図15に示すように、管理項目1が値40で指定されたものとする。これに続くステップ132において、第5手段20eは、図15の第2相関テーブルTA42を用いて、指定された管理項目1と相関の有る(関連する)誤差要因1を選択し、誤差要因1の値を求める。管理項目1の値は40であるため、誤差要因1の値は40になる。なお、図15の誤差要因1の値は40と異なっている。
このように、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。
Claims (23)
- 製造に際して調整可能な複数の調整部を有する製造装置の管理方法において、
前記製造装置で製造される製品の複数の問題毎にそれぞれ複数の要因との間の第1の相関情報を記録した第1の相関テーブルを用意する工程と、
前記複数の要因毎にそれぞれ前記製造装置の複数の調査項目との間の第2の相関情報を記録した第2の相関テーブルを用意する工程と、
前記第1の相関テーブル及び前記第2の相関テーブルを用いて前記複数の調査項目及び前記複数の問題からそれぞれ所定の調査項目及び問題の少なくとも一方を選択する工程と、を含み、
前記複数の調査項目は、前記複数の調整部のうちの少なくとも1つを調査することで前記問題を解決できることを表していることを特徴とする製造装置の管理方法。 - 前記所定の調査項目及び問題の少なくとも一方を選択する工程は、
前記複数の問題のうち第1の問題を指定する工程と、
前記複数の要因から前記第1の相関テーブルを用いて前記第1の問題に関連する第1の要因を選択する工程と、
前記複数の調査項目から前記第2の相関テーブルを用いて前記第1の要因に関連する第1の調査項目を選択する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の製造装置の管理方法。 - 前記第1の問題は複数であり、
前記第1の要因を選択する工程は、前記複数の第1の問題の共通の要因を特定する工程を含み、
前記第1の調査項目を選択する工程は、前記共通の要因に関連する調査項目を特定する工程を含むことを特徴とする請求項2に記載の製造装置の管理方法。 - 前記第1の相関情報は、前記複数の問題に対して前記複数の要因のうちで相関のない要因を特定する非相関情報を含み、
前記第1の要因を選択する工程は、前記第1の問題と相関のない第2の要因を特定する工程を含み、
前記第1の調査項目を選択する工程は、前記第2の要因に関連する調査項目を排除する工程を含むことを特徴とする請求項2又は3に記載の製造装置の管理方法。 - 前記第1の要因を選択する工程は、前記複数の問題のうちで前記第1の問題と異なる問題にのみ相関を有する第3の要因を特定する工程を含み、
前記第1の調査項目を選択する工程は、前記第3の要因に関連する調査項目を排除する工程を含むことを特徴とする請求項2〜4のいずれか一項に記載の製造装置の管理方法。 - 前記第1の相関情報は、前記複数の問題に対する前記複数の要因の重み情報を含み、
前記第1の要因を選択する工程は、前記第1の要因の重みの和を求める工程を含み、
前記第1の調査項目を選択する工程は、前記第1の要因のうちで前記重みの和の大きい順に前記第1の調査項目の優先順位を定める工程を含むことを特徴とする請求項2〜5のいずれか一項に記載の製造装置の管理方法。 - 前記所定の調査項目及び問題の少なくとも一方を選択する工程は、
前記複数の要因のうち第1の要因を指定する工程と、
前記複数の問題から前記第1の相関テーブルを用いて前記第1の要因に関連する第1の問題を選択する工程と、
前記複数の調査項目から前記第2の相関テーブルを用いて前記第1の要因に関連する第1の調査項目を選択する工程と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の製造装置の管理方法。 - 前記所定の調査項目及び問題の少なくとも一方を選択する工程は、
前記複数の調査項目のうち第1の調査項目を指定する工程と、
前記複数の要因から前記第2の相関テーブルを用いて前記第1の調査項目に関連する第1の要因を選択する工程と、
前記複数の問題から前記第2の相関テーブルを用いて前記第1の要因に関連する第1の問題を選択する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の製造装置の管理方法。 - 前記第1の相関情報は、前記複数の要因から前記複数の問題への影響を定量化する定量化情報を含み、
前記第1の要因を選択する工程は、前記第1の調査項目に関連する前記第1の要因を定量化する工程を含み、
前記第1の問題を選択する工程は、
前記第1の要因及び前記定量化情報から前記第1の問題の大きさを定量化する工程と、
前記第1の問題の定量化された大きさを閾値と比較する工程と、
を含むことを特徴とする請求項8に記載の製造装置の管理方法。 - 前記第1の調査項目に関して前記製造装置を調査する工程を含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の製造装置の管理方法。
- 前記製造装置は、物体の感光層を処理するリソグラフィー装置であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の製造装置の管理方法。
- 請求項11に記載の製造装置の管理方法を用いるデバイス製造方法。
- 製造に際して調整可能な複数の調整部を有する製造装置であって、
前記製造装置で製造される製品の複数の問題毎にそれぞれ複数の要因との間の第1の相関情報を記録した第1の相関テーブルと、
前記複数の要因毎にそれぞれ前記製造装置の複数の調査項目との間の第2の相関情報を記録した第2の相関テーブルと、を記憶した記憶装置と、
制御情報を入力する入力装置と、
前記入力装置から入力される前記制御情報に応じて、前記第1の相関テーブル及び前記第2の相関テーブルを用いて前記複数の調査項目及び前記複数の問題からそれぞれ所定の調査項目及び問題の少なくとも一方を選択する 制御装置と、
を備え、
前記複数の調査項目は、前記複数の調整部のうちの少なくとも1つを調査することで前記問題を解決できることを表していることを特徴とする製造装置。 - 前記入力装置を介して前記複数の問題のうち第1の問題が指定されたときに、
前記制御装置は、
前記複数の要因から前記第1の相関テーブルを用いて前記第1の問題に関連する第1の要因を選択し、前記複数の調査項目から前記第2の相関テーブルを用いて前記第1の要因に関連する第1の調査項目を選択することを特徴とする請求項13に記載の製造装置。 - 前記第1の相関情報は、前記複数の問題に対して前記複数の要因のうちで相関のない要因を特定する非相関情報を含み、
前記制御装置は、前記第1の要因を選択するとともに、前記第1の問題と相関のない第2の要因を特定し、前記制御装置は、前記第1の調査項目を選択するときに、前記第2の要因に関連する調査項目を排除することを特徴とする請求項14に記載の製造装置。 - 前記入力装置を介して前記複数の要因のうち第1の要因が指定されたときに、
前記制御装置は、
前記複数の問題から前記第1の相関テーブルを用いて前記第1の要因に関連する第1の問題を選択し、前記複数の調査項目から前記第2の相関テーブルを用いて前記第1の要因に関連する第1の調査項目を選択することを特徴とする請求項13に記載の製造装置。 - 前記入力装置を介して前記複数の調査項目のうち第1の調査項目が指定されたときに、
前記制御装置は、
前記複数の要因から前記第2の相関テーブルを用いて前記第1の調査項目に関連する第1の要因を選択し、前記複数の問題から前記第2の相関テーブルを用いて前記第1の要因に関連する第1の問題を選択することを特徴とする請求項13に記載の製造装置。 - 前記製造装置は、物体の感光層を処理するリソグラフィー装置であることを特徴とする請求項13〜17のいずれか一項に記載の製造装置。
- 請求項18に記載のリソグラフィー装置を用いて、基板にパターンを形成することと、
前記パターンが形成された前記基板を前記パターンに基づいて加工することと、
を含むデバイス製造方法。 - 製造に際して調整可能な複数の調整部を有する製造装置の管理用データを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
前記管理用データは、
前記製造装置で製造される製品の複数の問題毎にそれぞれ複数の要因との間の第1の相関情報を記録した第1の相関テーブルのデータと、
前記複数の要因毎にそれぞれ前記製造装置の複数の調査項目との間の第2の相関情報を記録した第2の相関テーブルのデータと、を有し、
前記複数の問題と前記複数の調査項目とが、前記第1の相関テーブル及び前記第2の相関テーブルを介して対応付けられ、
前記複数の調査項目は、前記複数の調整部のうちの少なくとも1つを調査することで前記問題を解決できることを表していることを特徴とする記録媒体。 - 前記第1の相関情報は、前記複数の問題に対して前記複数の要因のうちで相関のない要因を特定する非相関情報を含むことを特徴とする請求項20に記載の記録媒体。
- 前記第1の相関情報は、前記複数の問題に対する前記複数の要因の重み情報を含むことを特徴とする請求項20又は21に記載の記録媒体。
- 前記第1の相関情報は、前記複数の要因から前記複数の問題への影響を定量化する定量化情報を含むことを特徴とする請求項20〜22のいずれか一項に記載の記録媒体。
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