JP5813409B2

JP5813409B2 - ガス分析用プローブ

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Publication number: JP5813409B2
Application number: JP2011171188A
Authority: JP
Inventors: 繁幸外村; 大西　敏和; 敏和大西; 井戸　琢也; 琢也井戸
Original assignee: Horiba Ltd
Current assignee: Horiba Ltd
Priority date: 2010-08-04
Filing date: 2011-08-04
Publication date: 2015-11-17
Anticipated expiration: 2031-08-04
Also published as: US20120033219A1; EP2416146A2; JP2012053038A; EP2416146A3; US8649013B2; EP2416146B1

Description

本発明は、ガス分析用プローブに関する。

従来、石炭や重油を燃焼させるボイラから排出される燃焼排ガスの中には、ＮＯ_X、ＳＯ_X、ＳＯ₂、ＣＯ₂、ＣＯ等の成分が含まれている。そこで、常時その成分量をガス分析計で分析し、その分析結果を脱硝、脱硫などの制御や環境監視に役立てることが行われている。このようなガス分析計としては、オープンパス方式のものや、プローブ式のものを挙げることができる。

上述したプローブ式のガス分析計としては、筒状のガス分析用プローブ（例えば、特許文献１参照）が燃焼排ガスの流れる配管に直交するように設置されたものが存在する。以下、特許文献１のガス分析用プローブについて説明する。

図１０は、従来のガス分析用プローブを模式的に示す側面図である。図１０に示すガス分析用プローブ２００は、筒状の形状を有しており、配管２０２（例えば、煙道）に直交するように設置されている。プローブ２００には、サンプルガスＳ（例えば、燃焼排ガス）の流れの上流側及び下流側に開口２０３Ａ及び開口２０３Ｂがそれぞれ設けられている。配管２０２内を流れるサンプルガスＳは、上流側の開口２０３Ａからプローブ２００内に流入するとともに、下流側の開口２０３Ｂから流出する。これにより、プローブ２００内をサンプルガスＳで満たすことができる。そして、プローブ２００内に設けられた測定場（例えば、測定セル）に、測定対象に応じた測定光を通過させることで、測定光の減衰量により測定対象の定量等を行っている。

米国特許第５７８１３０６号明細書

しかしなから、上述のガス分析用プローブでは、燃焼排ガスの流れの上流側に開口が設けられているため、燃焼排ガス中のガス成分とともにダストが流入する。そのため、特に、ダストの量が多い場合等、測定セル内において、ダストによる測定光の吸収や散乱によって測定光の減衰が生じ、測定に必要な光量が得られないおそれがあった。つまり、測定精度が低下するという問題があった。

本発明は前記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、ガス分析用プローブ内部へのダストの流入を抑制し、内部を通過する測定光の適切な光量を確保し、高い測定精度のガス分析を可能とするガス分析用プローブを提供することにある。

本発明の一見地に係るガス分析用プローブは、サンプルガスが流れる配管に設置されるガス分析用プローブであって、筒状部材と、１つ又は複数のサンプルガス流入部とを備えている。筒状部材は、サンプルガスの流れに少なくとも交差するように配置され、且つ、内部にサンプルガスが供給される測定場を有している。１つ又は複数のサンプルガス流入部は、筒状部材に設けられている。流れの向きを変えて回り込んでくるサンプルガスは、１つ又は複数のサンプルガス流入部を通って、測定場内に流入する。

前記構成によれば、ガス分析用プローブでは、サンプルガスの流れが回り込んで測定場にサンプルガスが採取される。一方、ダストはある程度の質量を有しており、慣性の法則により運動方向に移動し続けるため、ガス分析用プローブに回り込み難い。従って、前記構成によれば、ダストの流入を抑制することができる。その結果、内部を通過する測定光の適切な光量を確保することが可能となる。また、ダストの流入を抑制することができるので、内部へのダストの付着量を低減でき、定期的な掃除を極力不要とすることができる。

前記構成の具体的な態様として、例えば、一旦、サンプルガスの流れをプローブの外周面や、プローブを覆うカバー等に接触させてから測定場に供給する。このような構成としては、例えば、側面にフィルタを有する筒に、プローブを内部に設置した二重管構造としてもよい。また、例えば、プローブのサンプルガスの流れの上流側側面に開口を設けるとともに、その開口を覆うカバーであって、サンプルガスが回りこんで測定場に回り込む程度の隙間を有するカバーを備えた構造であってもよい。また、例えば、ガス分析用プローブのサンプルガスの流れの左側及び／又は右側側面に開口を設けた構造であってもよい。

前記構成においては、一端又は両端の上流側に孔を設け、前記孔からサンプルガスを流入させることにより、パージエア供給部（図示しない）から供給されるパージエアが中央部に流入することを防止することが好ましい。

プローブにおいては、例えば、一端又は両端側に設けられる光学素子（例えば、測定光の受光部、発光部、ミラー等）にサンプルガスが接触しないようにパージエアを導出し、光学素子にダストや腐食成分等が接触して汚染等が発生することを抑制する構成とすることができる。しかしながら、このような構成とした場合、パージエアがガス分析用プローブの中央部へと流入するとサンプルガスの濃度が薄まり、正確な測定が行えなくなるおそれがある。そのような問題を解決するために、端部の上流側に孔が形成しており、この孔から流入するサンプルガスが壁となってパージエアがこれより内側へと進行することを抑制している。その結果、サンプルガスのより正確な測定を行うことが可能となる。
また、端部側に光学素子が設けられているか否かに関わらず、ガス分析用プローブの両端部に孔を形成する場合には、一方の孔から他方の孔までの距離を測定場の長さと規定することができ、測定場の長さをより明確なものとすることができる。その結果、測定場の長さと測定光の減衰量とに基づいたサンプルガスのより正確な濃度測定を行うことが可能となる。

前記構成においては、上流側に形成され、且つ、サンプルガスとともに流入するダストが測定に実質的に影響を与えない程度の径を有する孔を備えることが好ましい。

前記構成によれば、上流側に孔が形成されているため、上流側から流入するサンプルガスの風圧により内部にダストが堆積することを防止することができる。一方、前記孔は、サンプルガスとともに流入するダストが測定に影響を与えない程度の径であるため、内部を通過する測定光の適切な光量を確保することが可能である。

また、本発明に係る光分析装置は、前記の課題を解決するために、前記に記載のガス分析用プローブを備えることを特徴とする。

本発明によれば、ガス分析用プローブ内部へのダストの流入を抑制し、内部を通過する測定光の光量を確保することを可能とするガス分析用プローブを提供することができる。

本発明の一実施形態に係るガス分析用プローブを備える光分析装置の模式図である。図１に示したガス分析用プローブの筒状体の斜視図である。図２に示した筒状体の平面図である。図２に示した筒状体の横断面図である。図２に示した筒状体の裏面図である。図１に示したガス分析用プローブの縦断面図である。図１に示したガス分析用プローブの縦断面図である。図１に示したガス分析用プローブの横断面図である。パージエア遮断性効果のシミュレーション結果を示す図である。パージエア遮断性効果のシミュレーション結果を示す図である。パージエア遮断性効果のシミュレーション結果を示す図である。パージエア遮断性効果のシミュレーション結果を示す図である。他の実施形態に係るガス分析用プローブの平面図である。他の実施形態に係るガス分析用プローブの縦断面図である。他の実施形態に係るガス分析用プローブの縦断面図である。他の実施形態に係るガス分析用プローブの横断面図である。他の実施形態に係るガス分析用プローブの横断面図である。従来のガス分析用プローブを模式的に示す側面図である。

１．第１実施形態
以下、本発明の実施形態について図面に基づいて説明する。

図１は、本発明の一実施形態に係るガス分析用プローブを備える光分析装置を模式的に示す構成図である。図２は、図１に示したプローブの筒状体の斜視図である。図３Ａは、図２に示した筒状体の平面図であり、図３Ｂは、その横断面図であり、図３Ｃは、その裏面図である。

本実施形態に係る光分析装置９０は、測定装置１０と分析部２とを備える。測定装置１０は、測定光を出力する光源１１（例えば、レーザやＬＥＤ）、光検出手段１２（例えば、フォトダイオード）、及び、制御装置１３を有する一般的な測定装置である。制御装置１３は、光源１１や光検出手段１２の動作制御を行うとともに、光検出手段１２が受信する信号に基づいて、分析対象物の濃度を算出する。制御装置１３としては、例えば、アナログ回路や、ＣＰＵなどのデジタル回路を利用して構成することができる。

分析部２は、プローブ６０と、光源１１から出力されるレーザ光をプローブ６０に導く中空の導光管５１とを備える。プローブ６０は、ガス分析用として使用することができる。プローブ６０は、主に、筒状体６１から構成されている。プローブ６０は、筒状体６１の端部に設けられたフランジ６２をさらに有している。導光管５１とプローブ６０とは、フランジ６２を介して接続されている。

筒状体６１は、サンプルガスＳが流れる配管９６に、サンプルガスＳの流れに直交するように設置されている。筒状体６１は、配管９６内に配置された第１部分６１ａと、配管９６外の第２部分６１ｂとを有している。第１部分６１ａは、測定場６９（後述）をその中に含んでいる。また、筒状体６１には、サンプルガス流入部としての開口６５が第１部分６１ａに沿って形成されている。開口６５は、サンプルガスＳの流れに対する筒状体６１の第１部分６１ａの下流側側面のみに形成されている。開口６５は、測定場６９（図５参照）の全長にわたって形成されている。この開口６５からサンプルガスＳをサンプリングすることができる。また、開口６５には、図２及び図３に示すように、所定の間隔をおいてリブ６６が設けられており、筒状体６１の強度向上が図られている。
筒状体６１は、延びる方向に沿った０対称軸を有し長手方向を自らの延長方向と定義する長く延びた及び／又は直線状の筒形状である。
このように、開口６５は、筒状体の６１の長手方向に沿って並んだ複数の開口である。
なお、本実施形態においては、筒状体６１は、配管９６に、サンプルガスＳの流れに直交するように設置されている場合について説明するが、本発明において、筒状体は、この例に限定されず、配管に、サンプルガスの流れに少なくとも交差するように設置されていればよく、例えば、筒状体の先端（フランジとは反対側）がフランジよりも下流側に傾斜するように設置されていてもよい。

筒状体６１のフランジと反対の端側には、ミラー６３が設けられており、光源１１から出力されるレーザ光を光検出手段１２側に反射する。これにより、光検出手段１２では、戻り光の光強度が検出され、その減衰量によりサンプルガスＳ中の測定対象物を測定することができる。

本実施形態に係るプローブ６０は、サンプルガスに混入しているダストの筒状体６１への流入を抑制し、筒状体６１の内部を通過するレーザ光（測定光）の適切な光量の確保を可能とするものである。以下、具体的に説明する。

図４Ａは、図１に示したガス分析用プローブの縦断面図である。プローブ６０が備える筒状体６１には、下流側側面のみに測定場の全長にわたる開口６５が形成されており、筒状部材６１の上流側には開口が形成されていない。従って、サンプルガスＳに混入しているダストＤが筒状体６１の上流側から内部に侵入することはない。また、筒状体６１には、下流側側面のみに測定場の全長にわたる開口６５が形成されているので、サンプルガスＳは下流側の開口６５に回り込んで、筒状体６１内に流入する。一方、サンプルガスＳに混入しているダストＤはある程度の質量を有しており、慣性の法則により運動方向（下流方向）に移動し続ける。そのため、下流側に形成されている開口６５に回り込み難い。なお、下流側側面からのサンプル採取とは、図４Ｂに示すように、筒状体６１を横から見て周方向に分割したとき、最下流側Ｕからの角度αが９０度未満の位置から採取することを含み、６０度未満が好ましい。角度αは、筒状体６１の対称軸又は長手延長軸から見た各開口６５の開き角度である。

このように、本実施形態に係るプローブ６０によれば、サンプルガスＳを下流側の開口６５から流入させることができるとともに、ダストＤのプローブ６０への流入を抑制することができる。その結果、プローブ６０内部を通過する測定光の光量を確保することが可能となる。また、プローブ６０内部へのダストＤの流入を抑制することができるため、ダストＤの付着量を低減でき、定期的な掃除を極力不要とすることができる。

また、図１に示すように、光分析装置９０では、導光管５１側からプローブ６０側へとパージエアＰＡが導入されている。これにより、光源１１や光検出手段１２に、サンプルガスＳとともに流入したダスト等が接触して汚染等が発生することを抑制することができる。また、筒状体６１の内部には、フランジ６２側からミラー６３側へとパージエアＰＡを導くパージエア導出管６４が設けられている。これにより、ミラー６３に、サンプルガスＳとともに流入したダスト等が接触して汚染等が発生することを抑制することを可能としている。
ただし、このような構成とした場合、筒状体６１の第１部分６１ａの中央方向にパージエアＰＡが流入し、サンプルガスＳの濃度を薄め、正確な測定が行えなくなるおそれがある。そこで、プローブ６０では、フランジ６２側端部近傍の上流側に孔６７（図１及び図３参照）を、また、他端端部近傍（ミラー６３側端部）の上流側に孔６８（図１及び図３参照）を設けることにより、パージエア供給部（図示しない）から供給されるパージエアＰＡがこれより内側（測定場の中央の方向）へと進行することを抑制している。なお、孔６７及び孔６８は、筒状体６１の第１部分６１ａの両端に形成されている。以下、具体的に説明する。

図５は、図１に示したガス分析用プローブの横断面図である。プローブ６０が備える筒状体６１には、フランジ６２側端部の上流側に孔６７が設けられている。そのため、この孔６７からサンプルガスＳが流入しサンプルガスＳ流による壁が形成される。その結果、導光管５１側（図示せず、図５中、右側）から筒状体６１側へと流入するパージエアＰＡ１は、このサンプルガスＳ流による壁により、これより内側へつまり筒状体６１の第１部分６１ａに対応する測定場６９の中央側へと進行することが抑制される。また、筒状体６１には、ミラー６３側端部の上流側に孔６８が設けられている。そのため、この孔６８からサンプルガスＳが流入しサンプルガスＳ流による壁が形成される。その結果、パージエア導出管６４（図１参照）を介してミラー６３側に導出されたパージエアＰＡ２は、このサンプルガスＳ流による壁により、これより内側へつまり測定場６９の中央側へと進行することが抑制される。

このように、プローブ６０では、サンプルガスＳ流による壁により、これより内側へとパージエアＰＡ（ＰＡ１、ＰＡ２）が進行することが抑制されるため、孔６７と孔６８との間の測定場６９でのサンプルガスＳの濃度が薄まることを防止することができる。従って、より正確な測定を行うことが可能となる。また、孔６７と孔６８とが形成されており、測定場６９の長さが定められるので、測定場６９の長さと測定光の減衰量とに基づいたより正確な測定を行うことが可能となる。なお、本発明において、ガス分析用プローブの端部の上流側に形成される孔は、プローブ６０のように、両端に設けられていてもよく、一端にだけ設けられていてもよい。

図６は、パージエア遮断性効果のシミュレーション結果を示す図である。図６Ａ及び図６Ｂは、プローブの端部近傍の上流側に孔６７及び孔６８を形成した場合のシミュレーション結果を示しており、図６Ａは、孔６７近辺（配管９６壁面近辺）の様子を示しており、図６Ｂは、孔６８近辺（配管９６の中央付近）の様子を示している。一方、図６Ｃ及び図６Ｄは、ガス分析用プローブの端部近傍の上流側に孔を形成していない場合のシミュレーション結果を示しており、図６Ｃは、図６Ａに対応するプローブの箇所の様子を示しており、図６Ｄは、図６Ｂに対応するプローブの箇所の様子を示している。図中、無色部分は、配管９６内のサンプルガスＳと同一の濃度を示しており、有色部分は、パージエアとサンプルガスＳとが混在していることを示している。
シミュレーションの条件は、下記の通りである。
（シミュレーションの条件）
孔６７及び孔６８の大きさ：２０ｍｍ×２０ｍｍ（角）
筒状体６１の直径：５０ｍｍ
孔６７から孔６８までの長さ（測定場６９の長さ）：１０００ｍｍ
サンプルガスＳの流速：１５ｍ／秒
サンプルガスＳの温度：４５０℃

図６Ａ及び図６Ｂと、図６Ｃ及び図６Ｄとを比較すると、図６Ａ及び図６Ｂの場合、すなわち、孔６７及び孔６８が形成されている場合、孔６７及び孔６８よりも内側へのパージエアの流入が抑制されることが分かる。また、シミュレーションの結果によれば、孔６７及び孔６８有りの場合（図６Ａ及び図６Ｂの場合）、測定場６９に占めるサンプルガスＳの割合は、９９．５％となった。一方、孔６７及び孔６８なしの場合（図６Ｃ及び図６Ｄの場合）、測定場６９に占めるサンプルガスＳの割合は、８２．１％となった。

２．第２実施形態
ガス分析用プローブは、上流側に小孔が設けられていてもよい。以下、この例について説明する。

図７は、他の実施形態に係るガス分析用プローブの平面図である。図７に示すプローブ７０には、上流側に複数の小孔７１が形成されている。複数の小孔６１は所定の間隔を空けて配置されている。また、図示しないが、ガス分析用プローブ７０の下流側には、プローブ６０（図２参照）と同様に、下流側側面に測定場の全長にわたる方向に開口が形成されている。この下流側の開口については、既に説明済みであるからここでの説明は省略する。
小孔７１の径は、サンプルガスＳとともに流入するダストＤが測定に実質的に影響を与えない程度の径である。小孔７１の径、数、間隔等は、光源から出力される光の強度や、サンプルガスＳ中のダスト量等に応じて、所定の範囲内となるように適宜設定することができる。より具体的には、例えば、筒状体６１の径を５０ｍｍ、孔６７から孔６８までの長さ（測定場６９の長さ）を１０００ｍｍとしたとき、小孔７１の径としては、１ｍｍ〜２０ｍｍとすることができ、小孔７１同士の間隔としては、１０ｍｍ〜５０ｍｍとすることができる。また、小孔７１の径は、（小孔７１の合計面積）／（筒状体６１のサンプルガスＳとの接触面積）が１／１０００〜１／１０となるように設計することができる。なお、（筒状体６１のサンプルガスＳとの接触面積）とは、筒状体の側面全体のうちの上流側部分の面積、すなわち、上流側から見たときの面積をいう。

プローブ７０によれば、上流側に小孔７１が形成されているので、上流側の小孔７１から流入するサンプルガスＳによりプローブ７０内部にダストが堆積することを防止することができる。一方、小孔７１は、サンプルガスＳとともに流入するダストＤが測定に実質的に影響を与えない程度の径であるため、プローブの内部を通過する測定光の適切な光量を確保することが可能である。

３．第３実施形態
また、ガス分析用プローブは、下流側側面に測定場の全長にわたって形成された開口を開閉するカバーが取り付けられていてもよい。以下、この例について図８及び図９を用いて説明する。

図８Ａ及び図８Ｂは、他の実施形態に係るガス分析用プローブの縦断面図である。図８Ａ及び図８Ｂに示すプローブ７４は、図１に示したプローブ６０の筒状体６１に内接するように、１の面全体にわたって開口７５を有する筒状体７６が設けられた構成を有している。筒状体７６は、上述のカバーに相当するものである。プローブ７４を有する光分析装置では、図８Ａに示すように、筒状体７６の開口７５と筒状体６１の開口６５とが連通する位置関係となっている場合には、上述した光分析装置９０と同様にしてサンプルガスＳの分析を行うことができる。

ここで、図８Ａの状態から筒状体７６を回転させると、図８Ｂに示すように、筒状体７６の開口７５と筒状体６１の開口６５とが連通しない位置関係とすることができる。この状態の場合、サンプルガスＳは、筒状体６１内に流入することができない。従って、この状態で筒状体６１内にスパンガス等を満たすことにより、測定光の校正を行うことが可能となる。このように、プローブ７４によれば、筒状体６１を測定用としても校正用としても使用することができ、ガス分析用プローブの構成を簡略化することができる。また、筒状体７６を回転させることにより、筒状体７６の開口７５のエッジで筒状体６１の内壁に付着したダストを取り除くこともできる。なお、筒状体７６の回転は、手動で行っても電動等により行ってもよい。

４．第４実施形態
図９Ａ及び図９Ｂは、他の実施形態に係るガス分析用プローブの横断面図である。図９Ａ及び図９Ｂに示すガス分析用プローブ７８では、筒状体６１には、幅が略同一となるようにリブ７９と開口８０とが形成されている。また、筒状体６１の内側には、筒状体８２が設けられている。筒状体８２は、筒状体６１に内接し、開口８０と略同一の幅を有する複数の開口８１が形成されている。複数の開口８１は、筒状体６１のリブ７９及び開口８０側に形成されている。筒状体８２は、上述のカバーに相当するものである。プローブ７８を有する光分析装置では、図９Ａに示すように、筒状体８２の開口８１と筒状体６１の開口８０とが連通する位置関係となっている場合には、上述した光分析装置９０と同様にしてサンプルガスＳの分析を行うことができる。

ここで、図９Ａの状態から筒状体８２を長さ方向（図９中、左右方向）にスライドさせると、図９Ｂに示すように、筒状体８２の開口８１と筒状体６１の開口８０とが連通しない位置関係とすることができる。この状態の場合、サンプルガスＳは、筒状体６１内に流入することができない。従って、この状態で筒状体６１内にスパンガス等を満たすことにより、測定光の校正を行うことが可能となる。このように、プローブ７８によれば、筒状体６１を測定用としても校正用としても使用することができ、ガス分析用プローブの構成を簡略化することができる。また、筒状体８２を長さ方向にスライドさせることにより、筒状体８２の開口８１のエッジで筒状体６１の内壁に付着したダストを取り除くこともできる。なお、筒状体８２の回転は、手動で行っても電動等により行ってもよい。

５．他の実施形態
前記複数の実施形態は適宜組み合わせることができる。例えば、第１実施形態は、単独でも実施可能であるが、第３実施形態又は第４実施形態と組み合わせ可能である。また、第２実施形態は、単独でも実施可能であるが、第３実施形態又は第４実施形態と組み合わせ可能である。
上述した実施形態では、測定光を分析部２（プローブ６０）に測定装置１０から直接に導入する場合について説明したが、測定装置と分析部とを、光ファイバや電線等により接続し、光ファイバを介して分析部２に測定光を導入することとしてもよい。

測定装置１０は、光を用いて分析対象物を測定するものであれば、特に限定されないが、例えば、吸光分光法（ＴＤＬＡＳ法）を利用するものを挙げることができる。ＴＤＬＡＳ法を利用する場合、測定装置１０は、測定吸収波長を選択することにより、赤外から近赤外域に吸収スペクトルを有するＯ_２、ＣＯ、ＣＯ_２、Ｈ_２Ｏ、ＮＨ_３、ＨＣｌ等のガス濃度測定を行うことができる。また、測定装置１０は、光源に量子カスケードレーザ（ＱＣＬ）を用いれば、中赤外域に吸収スペクトルを有するＳＯ_２ＮＯ、ＮＯ_２等のガス濃度測定を行うことができる。

上述した実施形態では、ミラー６３により測定光を反射させ、光源１１と同一の箇所に設置された光検出手段１２により検出させる場合について説明したが、本発明においては、ミラー６３の代わりに光検出手段を設け、この光検出手段により測定光を検出することとしてもよい。

上述した実施形態では、ガス濃度を分析する場合について説明したが、ＴＤＬＡＳ法を利用した温度計であってもよい。

以上、本発明の実施形態を説明したが、具体例を例示したに過ぎず、特に本発明を限定するものではなく、各手段等の具体的構成は、適宜設計変更可能である。また、本発明の実施形態に記載された効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、本発明の実施形態に記載されたものに限定されるものではない。

２分析部
１０測定装置
１１光源
１２光検出手段
１３制御装置
６０、７０、７４、７８プローブ
６１筒状体
６５（下流側の）開口
６７、６８（上流側の）孔
９６配管
１００光分析装置
Ｓサンプルガス
ＰＡパージエア

Claims

サンプルガスが流れる配管に設置されるガス分析用プローブであって、
前記サンプルガスの流れに少なくとも交差するように配置され、且つ、内部に前記サンプルガスが供給される測定場を有している、筒状部材と、
前記筒状部材内にパージエアを供給する少なくとも１つのパージエア供給部と、
前記筒状部材に設けられ、流れの向きを変えて回り込んでくる前記サンプルガスが前記測定場内に流入する１つ又は複数のサンプルガス流入部と、
前記筒状部材に設けられ、前記パージエアが前記筒状部材の中央側に移動するのを防止するためのサンプルガスが前記筒状部材内に流入するための少なくとも１つの第２サンプルガス流入部と
を備え、
前記１つ又は複数のサンプルガス流入部は、前記筒状部材における前記サンプルガスの流れの下流側側面のみに設けられた１つ又は複数の開口であり、
前記第２サンプルガス流入部は、前記筒状部材における前記サンプルガスの流れの上流側側面に設けられており、
前記第２サンプルガス流入部の総面積が、前記サンプルガス流入部の総面積よりも小さいガス分析用プローブ。
前記第２サンプルガス流入部は、少なくとも前記筒状部材の測定装置に接続される側の前記測定場の端部に設けられている請求項１に記載のガス分析用プローブ。
前記筒状部材は、サンプルガスとともに流入するダストがサンプルガスの測定に実質的に影響を与えない程度の径を有する複数の孔が形成された上流側側面を有する、請求項１又は２に記載のガス分析用プローブ。
請求項１〜３のいずれかに記載のガス分析用プローブを備える、光分析装置。