JP5751512B2 - 粉末中心軸供給式hvaf溶射装置 - Google Patents
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Description
HVAF溶射装置を図1に示すように構成したものを用いた。ノズル長さ、末広部長さ、スロート内径、バレル長さ、バレル内径については、以下の条件のものを用いた。
ノズル長さ :25mm
末広部長さ :15mm
スロート内径:14.3mm及び10.1mm
バレル長さ :123mm
バレル内径 :19mm
灯油と酸素の燃焼炎を熱源とする上記のHVAF溶射装置を用い、表1に示す溶射条件で、酸化チタン(平均粒径10μm)をアルミニウム基材の表面に溶射し、溶射皮膜−1を得た。
溶射条件を表1に示す条件とし、酸化チタン(平均粒径17μm)に変更してアルミニウム基材の表面に溶射し、溶射皮膜−2を得た。
溶射条件を表1に示す条件とし、粉末中心軸供給式HVAF溶射装置でなく、通常のHVAFにラバルノズルを装着した装置で実施例1の粉末を溶射したところ、ガス温度が高温のためにアルミニウム基材が溶融し皮膜作製は出来なかった。
得られた溶射皮膜について、X線回折装置(株式会社島津製作所製、装置名XRD−7000)により、皮膜の結晶状態の定性評価を行い、溶射前の酸化チタンの結晶状態と比較した。溶射皮膜−1、及び2では、溶射前の酸化チタンと同じアナターゼ相のみのピークを示し、ルチル相は確認されなかった。結果を表2に示す。
得られた溶射皮膜について、走査型電子顕微鏡(株式会社日立ハイテクノロジーズ製、装置名S−4100)により、表面の観察を行った。皮膜表面において、酸化チタンの粒子の溶融は観察されず、断面から緻密な皮膜であることが判明した。図3に実施例1にて得られる溶射皮膜表面の写真を示す。また、図4に実施例1にて得られる溶射皮膜断面の写真を示す。
湿式メチレンブルー分解性能試験を実施して光触媒特性の評価を行った。酸化チタン溶射皮膜をメチレンブルー水溶液に浸漬させ、紫外線光を照射することにより発生するメチレンブルー水溶液濃度の変化を測定することで評価を行う。ここで示す分解活性指数はメチレンブルー水溶液を単位時間当たりに分解させるモル濃度であり、この指数が高いほど活性が高い。実施例1、2に対して試験を行った。自記可視紫外分光光度計(日本分光株式会社製、装置名V−560)により、メチレンブルーの吸収波長ピーク(約664nm)を測定した。
2 燃焼室
3 冷却室
4 金属等供給路
4a 金属等供給口
4b 金属等排出口
5 ラバルノズル
6 バレル
7 燃料導入口
8 圧縮空気導入口
9 冷却ガス導入管
10 短円錐部(convergent部)
11 長円錐部(divergent部)
Claims (5)
- 液体燃料を圧縮空気により燃焼させ、発生した燃焼ガスを利用して高温の金属、セラミックス又は樹脂を基材に衝突させるHVAF溶射装置であって、
燃料と圧縮空気を混合し燃焼させて燃焼ガスを生成する燃焼室と、
燃焼室に連結され、燃焼室で生成された燃焼ガスを冷却する冷却室と、
冷却室内へ冷却ガスを導入する冷却ガス導入管と、
金属、セラミックス又は樹脂を噴射する燃焼ガス噴射方向とは逆の方向を背面方向とした場合に、冷却室の背面方向から粉末状の金属、セラミックス又は樹脂を装置内に供給する粉末供給路と、
冷却室の正面方向に連結され、粉末供給路から供給された金属、セラミックス又は樹脂が燃焼ガスとともに通過するラバルノズルと、
ラバルノズルに連結され、ラバルノズルを通過した金属、セラミックス又は樹脂が超音速の燃焼ガスとともに通過し、且つ、通過の過程で金属、セラミックス又は樹脂を加速させるバレルとを備えたHVAF溶射装置。 - 底面が冷却室に隣接して配置された略円錐台形状の短円錐部と、
上面が短円錐部の上面と隣接して配置され、底面がバレルと隣接して配置された略円錐台形状の長円錐部とから構成されており、
長円錐部の底面の径が短円錐部の底面の径より大きく、長円錐部の高さが短円錐部の高さより高く、短円錐部と長円錐部の上面の径が、短円錐部及び長円錐部の両底面より小さいラバルノズルを有する請求項1記載のHVAF溶射装置。 - 燃焼室と冷却室が燃焼ガス噴射方向に対して垂直方向に隣接して配置されることを特徴とする請求項1又は2記載のHVAF溶射装置。
- 粉末供給路が冷却室の背面方向から燃焼ガス噴射方向に対して水平方向に設けられ、金属、セラミックス又は樹脂がラバルノズル及びバレルを通過する燃焼ガスの流路の略中心軸上に供給されることを特徴とする請求項1、2又は3記載のHVAF溶射装置。
- 粉末供給路がラバルノズルの直前まで伸びており、金属、セラミックス又は樹脂がラバルノズル内へ直接供給されることを特徴とする請求項1、2、3又は4記載のHVAF溶射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010240583A JP5751512B2 (ja) | 2010-10-27 | 2010-10-27 | 粉末中心軸供給式hvaf溶射装置 |
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JP2010240583A Active JP5751512B2 (ja) | 2010-10-27 | 2010-10-27 | 粉末中心軸供給式hvaf溶射装置 |
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JP (1) | JP5751512B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017008394A (ja) * | 2015-06-24 | 2017-01-12 | 有限会社エスエスシー | 低温溶射用hvaf溶射装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3612568B2 (ja) * | 2001-10-09 | 2005-01-19 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | Hvof溶射ガンによる金属皮膜形成方法と溶射装置 |
US6736902B2 (en) * | 2002-06-20 | 2004-05-18 | General Electric Company | High-temperature powder deposition apparatus and method utilizing feedback control |
JP2007191780A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Toshiba Corp | 溶射装置及びその方法 |
JP5171125B2 (ja) * | 2007-06-25 | 2013-03-27 | プラズマ技研工業株式会社 | コールドスプレー用のノズル及びそのコールドスプレー用のノズルを用いたコールドスプレー装置 |
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JP2012092391A (ja) | 2012-05-17 |
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