JP5736828B2 - 使用済み耐火物からのSiC分離回収方法 - Google Patents
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Description
従来、使用済み耐火物のリサイクル技術に関しては、特許文献1〜5に示されるような種々の提案がなされているが、いずれも使用済み耐火物から付着スラグと変質層を除去し、破砕して耐火物原料にリサイクルする方法やリサイクル耐火物に関するものである。
[1]陰イオン界面活性剤を添加したpHが中性の水溶液に使用済みのSiC−Al 2 O 3 系耐火物の粉砕物を投入して、浮遊選鉱法によりAl2O3を浮上分離させ、沈殿物のSiCを分離回収することを特徴とする使用済み耐火物からのSiC分離回収方法。
[2]上記[1]の方法において、陰イオン界面活性剤がドデシル硫酸ナトリウムであることを特徴とする使用済み耐火物からのSiC分離回収方法。
ここで、SiC−Al2O3系耐火物とは、SiC、Al2O3を主原料とするレンガまたは不定形耐火物のことである。
浮遊選鉱法は、親水性・疎水性という粒子表面の性質と気泡を利用した固々分離法である。図1に浮遊選鉱法による固々分離の原理を示す。まず、分離対象である微細な固体粒子を水中に投入し、撹拌翼で撹拌することにより水中に懸濁させ、そこに散気装置により気泡を導入する。すると、疎水性の表面をもつ固体粒子(以下、「疎水性粒子」という)だけが選択的に気泡表面に付着し、気泡の浮力により付着物として浮上する。このように疎水性粒子が付着した状態で浮上した泡をフロスという。通常、フロス形成を維持するための助剤として、気泡剤が添加される。一方、親水性の表面をもつ固体粒子(以下、「親水性粒子」という)は気泡に付着せず、自重により沈降(沈殿)する。これらを個別に回収することで、親水性粒子と疎水性粒子の分離が可能となる。
SiCとAl2O3では、ゼータ電位が異なる挙動を示す。ゼータ電位は液体と固体の接する界面に発生している界面電荷を簡易的に定量化したものである。図2に、水溶液のpHとSiC粒子およびAl2O3粒子のゼータ電位との関係を示す。界面電荷は液体のpH環境により変化し、例えば、pHが中性時のSiCの界面電荷は負、Al2O3の界面電荷は正となる。このように固体粒子の表面電位の正負が異なる場合、溶液への界面活性剤の添加により、一方の固体粒子を疎水性にすることができる。
図3は、水中で陰イオン界面活性剤がAl2O3粒子に電気的に吸着してAl2O3粒子が疎水化し、この疎水化したAl2O3粒子が気泡に付着して浮上する原理(想定される原理)を示している。水溶液のpHが中性では、Al2O3粒子表面は正に帯電している。陰イオン界面活性剤が水中に溶解すると、解離して親水基は負に帯電する。すると、正に帯電したAl2O3粒子表面に、負に帯電した陰イオン界面活性剤の親水基が吸着する。Al2O3粒子は陰イオン界面活性剤の疎水基で覆われ、表面が疎水化された状態になる。この結果、疎水化されたAl2O3粒子は気泡に付着し、気泡とともに浮上する。以上が、陰イオン界面活性剤を用いた場合に想定されるAl2O3粒子の浮上分離の原理である。
逆に、水溶液のpHが中性では、SiC粒子表面は負に帯電している。陽イオン界面活性剤が水中に溶解すると、解離して親水基は正に帯電する。すると、負に帯電したSiC粒子表面に、正に帯電した陽イオン界面活性剤の親水基が吸着する。SiC粒子は陽イオン界面活性剤の疎水基で覆われ、表面が疎水化された状態になる。この結果、疎水化されたSiC粒子は気泡に付着し、気泡とともに浮上する。以上が、陽イオン界面活性剤を用いた場合に想定されるSiC粒子の浮上分離の原理である。
SiCとAl2O3は不定形耐火物の原料となる粉状のものを用いた。界面活性剤には、安価で安全性が高く入手しやすいものとして、陰イオン界面活性剤はドデシル硫酸ナトリウムを、陽イオン界面活性剤は塩化ベンザルコニウムを、それぞれ用いた。また、フロス生成に必要な気泡剤としては2−エチルヘキサノールを用いた。水溶液の水はイオン交換水を用いた。
水槽にイオン交換水4.5L(pH6.2〜8.2,水温19.2〜20.0℃)を入れ、気泡剤を添加した。水200mlを入れたビーカーに粒径74μm以下のSiCとAl2O3の粉末各50gと界面活性剤を添加し、マグネチックスターラーにて100rpm、10分間撹拌した。この液を水槽に投入し、コンプレッサから散気装置へ所定のガス流量と圧力(0.2MPa)にて送風することで、所定時間浮遊選鉱を行った。その後、フロスを回収することで浮上物(固体粒子)を回収し、沈殿物は排水後水槽底部に残ったものを回収した。また、排水した液に残る懸濁物を回収し、沈殿物の一部として扱った。これら回収物は熱風乾燥機で乾燥させた後、秤量および化学分析を行った。
[浮上物の回収率(%)]={[回収した浮上物質量(g)]/[投入物質量(g)]}×100 …(1)
[SiCの回収率(%)]={[回収した浮上物(又はろ過物)中のSiC質量(g)]/[投入したSiC質量(g)]}×100 …(2)
[Al2O3の回収率(%)]={[回収した浮上物(又はろ過物)中のAl2O3質量(g)]/[投入したAl2O3質量(g)]}×100 …(3)
使用済みのSiC−Al2O3系耐火物を粉砕する場合、事前にスラグが付着した部分を除去して、粒径0.3mm以下に粉砕することが好ましい。浮遊選鉱法は気泡に付着させて分離するため、粒子径は小さいほうが浮上し易く、望ましくは粒径0.15mm以下まで粉砕したほうがよい。
陰イオン界面活性剤は、分離性能、安全性、価格の点から、ドデシル硫酸ナトリウムが適している。また、水溶液中での陰イオン界面活性剤の濃度は5×10−5mol/L以上が好ましい。
気泡剤としては、2−エチルヘキサノールなどが好ましく、水溶液中での濃度は28ppm以上が好ましい。
浮遊選鉱装置としては、後述する図8に示すように、水槽と、その底部に設置され、水槽内の水溶液に気泡を散気する散気装置と、水槽内の水溶液を撹拌する撹拌装置など備えたものを用いるのが好ましい。
図8に使用した浮遊選鉱装置の概略を示す。この装置では、水槽に15m3の水を入れ、撹拌翼を20rpmで回転させて水を撹拌しつつ、底部に設置された散気装置にコンプレッサから圧縮空気が供給され、その多孔板(孔径φ0.3mm、孔数3700個)から空気が吹き出すことにより気泡が生成する。そして、この気泡に水溶液中の疎水性粒子が付着することでフロスが生成する。
陰イオン界面活性剤としてドデシル硫酸ナトリウムを、気泡剤として2−エチルヘキサノールをそれぞれ用い、水槽内での陰イオン界面活性剤の濃度は5×10−5mol/Lとし、気泡剤の濃度は28ppmとした。水溶液の温度は21.0℃、pH6.8であった。コンプレッサから散気装置へのガス流量を1000L/min、ガス圧力を0.2MPaとして浮遊選鉱を行った。
浮上物とろ過物(沈殿物+懸濁液中の固形分)の回収量と化学成分を分析した結果を図9に示すが、浮上物はAl2O3:72質量%、ろ過物はSiC:95質量%で回収できた。浮上物にはSiCが20質量%含まれるが、高純度のSiCを回収するためには、粉砕後もAl2O3と分離できないSiCも浮上分離するほうがよい。
Claims (2)
- 陰イオン界面活性剤を添加したpHが中性の水溶液に使用済みのSiC−Al 2 O 3 系耐火物の粉砕物を投入して、浮遊選鉱法によりAl2O3を浮上分離させ、沈殿物のSiCを分離回収することを特徴とする使用済み耐火物からのSiC分離回収方法。
- 陰イオン界面活性剤がドデシル硫酸ナトリウムであることを特徴とする請求項1に記載の使用済み耐火物からのSiC分離回収方法。
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