JP5731119B2 - 新規ポリアミド−ポリシロキサン化合物 - Google Patents
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Description
この場合
*は自由な原子価数を表し、
Xは電子吸引基であり、
R6基は同一でも異なっていても良く、水素及び炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基から選ばれ、これらは−O−、−C(O)−、−NH−及び−NR3−から選ばれる基を1つ以上含むことが出来る。この場合、
R3は、炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、これらは−O−、−C(O)−および−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことが出来る。
この場合、
R6基は、好ましくは水素であり、
ST1は、2価から4価、炭素数1000以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、そしてそれは、−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−及びケイ素数2から1000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことが出来る。
この場合、
R3は上に定義した通りであり、
yは0から5まで、そして好ましくは1であり、また
xは1から3まで、そして好ましくは1又は2、
又はそれの酸付加化合物である。
この場合、
R4は炭素数20以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、
s=1から999、好ましくは1から199、より好ましくは1から99であり、
この場合、
ST1、ST2又はST4基の少なくとも1つは式(2)のポリオルガノシロキサン基を含む。
この場合、
X、R6、ST1及びyは上に定義した通り、そして
Yは−O−、−S−及び−NR2−から選ばれる、
この場合、
R2は水素又は炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、そしてそれは−O−、−C(O)−、−NH−及び−NR3−から選ばれる基を1つ以上含むことが出来、
この場合、R3は上に定義した通りであり、
ST1は炭素数1000以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、そしてそれは−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−、
ケイ素数2から1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことが出来、
この場合、
R5は炭素数100以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、そしてそれは−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことが出来る。
又は、R5は、ST2基の中に環状構造を形成する2価の基である。
又は、
Yは窒素であり、例えば、−Y−ST2−Y−が以下の構造を持つように、ST2と共に、特にピペラジンのような環状ジアミンの使用から生ずる複素環構造を形成する。:
これに関連して、この変異体には、例えば、−Y−ST2−Y−が以下の構造、すなわちピペリジン誘導体、を持つように、Y基1つだけ含む複素環構造の場合も含まれる。:
この場合、
R3は上に定義した通りであり、
Zは−C(O)−O−、−SO2−、−NO2、−P(O)(OR4)2、−CN、−NC、及び−C(O)−から選ばれる。
この場合、R1、ST1、ST2、R2、R5及びyは、上に定義した通りであり、
ST3は炭素数2から100の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、そしてそれは−O−、−C(O)−、−NH−及び−NR3−から選ばれる基を1つ以上含むことが出来、
ST4は炭素数1000以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和及び芳香族の炭化水素基であり、そしてそれは−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−及びケイ素数2から1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を、1つ以上含むことが出来、
A−は無機及び有機アニオンである。
ST2は2価の、炭素数200以下の直鎖状、環状又は分岐状の、多価、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基、そしてそれは−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−、
及びケイ素数2から200のポリシロキサンユニットから選ばれる基を、1つ以上含むことが出来る。
R2はH又は炭素数10以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、そしてそれは−O−、−C(O)−、−NH−及び−NR3−から選ばれる基1つ以上含むことが出来、
yは0から3、
ST4は、2価、炭素数200以下の直鎖状、環状又は分岐状の、多価、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基、そしてそれは−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−及びケイ素数2から200のポリオルガノシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことが出来、
この場合、
ST1、ST2又はST4基の少なくとも1つは式(2)のポリオルガノシロキサン基を含む。
R3は炭素数10以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和及び芳香族の炭化水素基であり、そしてそれは−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことが出来、
R4は炭素数9以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、
R5は炭素数25以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、それらは−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことができ、又R5はST2基中で環状構造を形成する2価の基である。
R6は水素であり、
A−は、例えば塩化物又は臭化物、硫酸塩、リン酸塩、カルボキシレ−ト、アルキル硫酸塩又はスルホン酸塩などハロゲン化物から選ばれる。
例えばヘキサメチレンのような、2価の、炭素数15以下の直鎖状炭化水素基であり、
例えば、
などのような、2価の、炭素数15以下の環状炭化水素基であり、
例えば以下の式の2,4−トルイル、2,6−トルイル、ビスフェニルメタン及びナフチレン構造などに基づくような、2価の、炭素数15以下の芳香族炭化水素基である。
から選ばれる。
例えばメチルシクロヘキシル又はイソホロン構造に基づく、2価の、炭素数15以下の分岐上炭化水素基であり、
例えば2,4−トルイル、2,6−トルイル、ビスフェニルメタン及びナフチレン構造に基づく、2価の、炭素数15以下の芳香族炭化水素基である。。
−ジオールとジイソシアネートとの、
−OH末端ポリエーテル、好ましくはエチレンオキシド及びプロピレンオキシドベースのポリエーテル、とジイソシアネートとの、
−OH末端ポリエステルとジイソシアネートとの、
−OH末端ポリカーボネートとジイソシアネートとの、
−OH末端ポリアクリレ−トとジイソシアネートとの、
反応生成物である。
−ジアミンとジイソシアネートとの、
−NH又はNH2末端ポリエーテル、好ましくはエチレンオキシド及びプロピレンオキシドベースのポリエーテルとジイソシアネートとの、
−NH2末端ポリアミドとジイソシアネートとの、
−NH2末端ウレアとジイソシアネートとの、
反応生成物である。
市販のアミノ末端ポリエーテルの例としてはJeffamines(登録商標) of the ED series (Huntsman Corp.)。
−α,ω−アミノアルキル末端シロキサンとジイソシアネートとの、
−α,ω−ヒドロキシアルキル末端シロキサンとジイソシアネートとの、
−α,ω−ポリエーテル末端シロキサンとジイソシアネートとの、及び
−α,ω−エポキシ末端シロキサンとジイソシアネートとの
反応によって調製される。
−炭化水素ジオール、
−OH末端ポリエーテル、好ましくはエチレンオキシド及びプロピレンオキシドベースのポリエーテル、
−OH末端ポリエステル、
−OH末端ポリカーボネート及び
−OH末端ポリアクリレ−トである。
−炭化水素ジアミン,
−アミノアルコール、例えばエタノールアミン、
−NH又はNH2末端 ポリエーテル、好ましくはエチレンオキシド及びプロピレンオキシドベースのポリエーテル、
−NH2末端 ポリアミド、
−NH2末端ウレアである。
市販のアミノ末端ポリエーテルの例としては、the Jeffamines(登録商標) of the ED series (Huntsman Corp.)が挙げられる。
−ジオールとジイソシアネートとの、
−OH末端ポリエーテル、好ましくはエチレンオキシド及びプロピレンオキシドベースのポリエーテルとジイソシアネートとの、
−OH末端ポリエステルとジイソシアネートとの
−OH末端ポリカーボネートとジイソシアネートとの、
−OH末端ポリアクリレ−トとジイソシアネートとの
反応生成物である。
−ジアミンとジイソシアネートとの、
−NH又はNH2末端ポリエーテル、好ましくはエチレンオキシド−およびプロピレンオキシドベースのポリエーテルとジイソシアネートとの
−NH2末端ポリアミドとジイソシアネートとの、
−NH2末端ウレアとジイソシアネートとの
反応生成物である。
市販のアミノ末端ポリエーテルの例としては、the Jeffamines(登録商標) of the ED series (Huntsman Corp)が挙げられる。
−第1級および/または第2級アミノ基を含むα,ω−アミノアルキル末端シロキサン、
−α,ω−ヒドロキシアルキル末端シロキサン、
−α,ω−ポリエーテル末端シロキサン
を経由して実行される。
−α,ω−アミノアルキル末端とシロキサンとジイソシアネートとの、
−α,ω−ヒドロキシアルキル末端シロキサンとジイソシアネートとの、
−α,ω−ポリエーテル末端シロキサンとジイソシアネートとの
反応によって調製される。
この場合、x、y、X、R6及びST1は、上に定義した通り。
ST1及び/又はST2基の少なくとも1つがポリシロキサン基を含むという条件で、任意に溶媒中で、任意に触媒の存在下で、式H−Y−ST2−Y−Hの化合物と反応する。
この場合、Y及びST2は上に定義した通り。
H−Y−ST2−(Y−H)x
この場合xは>1
の化合物は、
この場合、x、y、X、R6及びST1は上に定義した通り
式
HY2−ST3−NR5 2、
の化合物
この場合ST3、Y2及びR5は上に定義した通り
及び式
Q−ST4V−Q,
の化合物と反応する
この場合。
Qは、アミノ基のアルキル化が可能な基であり、ST4Vは、4級化反応後、Qに由来する分子部分と一緒にST4基を形成する。ただし少なくとも1つのST1、ST3及び/又はST4基は、ポリオルガノシロキサン基から成る。
HY−ST3−NR5 2、
の"非対称化合物"の使用は、
特に、この変異において−NR5 2基が優先的にアルキル化を受ける間、HY−基を経由して環状ケトンの開環を生じさせることに役立つ。
しかしながら、当然、アミノ末端化合物は、化合物
と、過剰の化合物
HY2−ST3−NR5 2、
との反応から調製することが可能である。
この場合、R5は水素も可能であり、次に化合物
Q−ST4V−Q,
と反応する。
この場合、末端NR5 2基は、第1級又は第2級アミノ基であるので4級化が必ずしも起こらない。
ここで、置換基は上に定義した通り、
ST2は式
−ST3−N+(R5)2−ST4−N+(R5)2−ST3−
の基の構造を形成する
の繰り返し単位を有する化合物が、このように形成されるように、そして、第4級アンモニウム基(すなわち、例えば相当する親水性又は表面への接着能力を化合物に与えるイオン基)で形成されるように、変異におけるR5は水素でなく、アルキルであることが好ましい。
−炭化水素ジエポキシド、例えばビニルシクロヘキセンジエポキシド
−エポキシ末端ポリエーテル、好ましくはエチレンオキシド及びプロピレンオキシドベースのポリエーテル、例えばグリシジル末端ポリエーテル、
−エポキシ末端ポリエステル及び
−エポキシ末端ポリカーボネートである。
−ハロゲン末端ポリエーテル、好ましくはエチレンオキシド−及びプロピレンオキシドベースのポリエーテル,
−炭化水素ジオール及びポリエーテルのハロカルボン酸エステル、好ましくは、エチレンオキシド及びプロピレンオキシドベースのポリエーテル、具体的には、炭化水素ジオール及びポリエーテルのクロロ酢酸エステル、クロロプロピオン酸エステル及びクロロブタン酸エステルの
から成る群より選ばれる。
Q−ST4V−Q
の使用によって実行される。
それらは、好ましくは、
−α,ω−エポキシ末端シロキサン、好ましくはα,ω−グリシジル及びエポキシシクロヘキシル末端シロキサン、
−α,ω−ハロアルキル末端シロキサン、好ましくはクロロプロピル及びクロロプロペニル末端シロキサン
−α,ω−ハロカルボン酸エステル末端シロキサン、好ましくはクロロ酢酸、クロロプロピオン酸及びクロロブタン酸のエステル
−α,ω−ハロカルボン酸エステル末端ポリエーテルシロキサン、好ましくはクロロ酢酸、クロロプロピオン酸およびクロロブタン酸のエステル
から選ばれる。
調製すなわち、例えば本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物は、直接低温衝撃改質剤として単独で使用することが出来る。しかしながら、それらは事前に、例えば混合、配合又はマスタ−バッチの調製によって適切に供給することも出来る。
a)本発明によるポリアミド−ポリシロキサン化合物を含む溶液、混合物又はエマルションの形でのプレミックスの調製及び
b)プレミックスa)と任意のさらなる界面活性剤、補助物質及び他の添加剤の添加物とを使用している、さらなる混合物の調製。又は
c)ステップa)及びb)の組み合わせ、この場合、構成成分の混合は撹拌器、溶解機、ニ−ダ−、ポンプ、混合スクリュ−、混合ノズル及び低圧及び高圧乳化装置で実行される。
溶液又は混合物:
0.1 - 99.9 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物
0.1 - 99.9 % 溶媒及び/又はオイル及び/又はシリコーン及び/又は水
本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物のエマルションの組成物:
エマルションの調製には、水及び非イオン、陽イオン及び両性界面活性剤及び界面活性剤混合物が一般に使用される。エマルションはさらに例えば無機及び有機酸、塩基及びバッファー、塩、増粘剤、乳化安定剤例えば"キサンタンゴム"、保存料、泡安定剤、消泡剤及び溶媒、例えばアルコール(エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリコールエーテル及びグリセロール及びそれらの混合物)など補助物質を含むことができる。
10 - 50 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物
1 - 35 % 界面活性剤
0 - 10 % 補助物質
0 - 20 % 溶媒
100 %まで 水をつぎ足す。
化粧品、織物及び他の繊維状基材の仕上げ又は硬表面のコ−ティング剤のためのマイクロエマルション、:
20 - 80 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物
0 - 35 % 界面活性剤
0 - 10 % 補助物質
0 - 20 % 溶媒
100 %まで 水をつぎ足す。
化粧品製剤には、例えば以下のものが含まれる:
いわゆる"リンス−オフ"製品、例えば"2−イン−1"シャンプー、"ボディウォッシュ"及び洗浄中及び後、又は着色後、又は脱色、カーリング又は真っ直ぐにする前のヘアトリートメントのためのヘアコンディショナー、及び、いわゆる"リーヴ−イン"製品、例えばヘアトリートメント、ケアクリーム、ヘアドレッシングクリーム、ヘアジェル、ヘアスタイリング製品、ヘアセッティング組成物、ヘアスプレー、ポンプスプレー、ブロー−ウェーブ組成物及びブロー−乾燥セッティング組成物。当該製剤はさらに同様に、洗浄により達成された着色の耐性結果によってパーマネント、セミパーマネント及びテンポラリーヘア着色剤組成物の3タイプに区別出来るヘア着色剤組成物を含む。ここで用語ヘアとは、すべてのケラチン含有繊維を含むが、特に、人のヘアである。ヘア着色剤組成物は、本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物に加えて、例えば、通常のシリコーン、界面活性剤、補助物質及び着色試薬、を含む。これらの成分は、単独で又はさらなる成分の組み合わせのどちらでも、各々使うことが出来る。そして、当該製剤において、ボリュームの増大、くし通りの良さ、及び光沢、例えば人や動物のヘアのような色のついたケラチン含有基材からの洗浄による色落ちの減少に役立つ付加的な作用を示す。そして、少なくとも1つのポリアミド−ポリシロキサン化合物を含む。
25℃での粘性0.65 − 200,000,000 mPa.s の環状、線状及び分岐状ポリジメチルシロキサン及びそれらの混合物であり、例えば、オクタオルガノシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカオルガノシクロ−ペンタシロキサン及びドデカオルガノシクロヘキサシロキサン。この場合、有機基は、好ましくはメチルを示し、例えば、GE Bayer SiliconesのSF 1173、SF 1202、SF 1217、SF 1204及びSF 1258、GE Bayer Siliconesのジメチコン、例えばバイシロン M オイル(M3〜M 2,000,000)、SE 30、SF 1214、SF 1236、SF 1276及びCF 1251、及びジメチコノール、GE Bayer Silicones/Momentive Performance Materialsの例えばバイシロンおよびDow CorningのDC 1501 and DC 1503及びSiOH末端基をもつ高分子量のポリジメチルシロキサンが含まれる。
化粧品製剤の成分としての界面活性剤は、A. Domsch: Die kosmetischen Praparate、Verlag fur Chem. Industrie、4th edition、1992、in Kosmetikjahrbuch 1995、Verlag fur chemische Industrie、1995及びH. Stache、Tensidtaschenbuch、2nd edition、Carl Hanser Verlag、1981に記述されている。
例えば以下の陰イオン界面活性剤は当該製剤の構成成分として適している。ただし、それらに限定されるものではない。:
硫酸アルキル、アルキルエーテル硫酸塩、アルカリル硫酸塩、オレフィンスルホン酸、アルキルアミドエーテル硫酸塩、アシルイセチオン酸、アシルグルタミン酸塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、メチルタウリド及びタウリド、サルコシド、スルホコハク酸塩、タンパク質−脂肪酸コンデンセ−ト、アルキルリン酸塩及びアルキルエーテルリン酸塩。
遊離酸及びアルカリ金属塩及びマグネシウム、アンモニウム及びそれらのモノ、ジ及びトリエタノールアミン塩が、ここで使用されうる。
例えば以下の両性界面活性剤は製剤の構成成分として適している。ただし、それらに限定されるものではない。:
アルキルベタイン、アルキルアミドベタイン、スルホベタイン、アセテート及びジアセテート、イミダゾリン、プロピオン酸塩及びアルキルアミンオキシド。
アルキル及びアシル基ここでは8−19のC原子を含む。
例えば以下の非イオン界面活性剤は、当該製剤の構成成分として適している。ただし、それらに限定されるものではない:
アルキルエトキシレート、アリルエトキシレート、エトキシ化エステル、ポリグリコールアミド、ポリソルベート、グリセロール脂肪酸エトキシレート、アルキルフェノールポリグリコールエーテル及び例えばアルキルグリコシドナー等の糖型界面活性剤。
陽イオン界面活性剤の場合は、純陽イオン界面活性剤と陽イオンポリマーに区別される。
例えば以下の非イオン界面活性剤は当該製剤の構成成分として適している。ただし、それらに限定されるものではない:
モノアルキルクワット、ジアルキルクワット、トリアルキルクワット、テトラアルキルクワット、ベンジルアンモニウム塩、ピリジン塩、アルカノールアンモニウム塩、イミダゾリン塩、オキサゾリン塩、チアゾリン塩、アミンオキシドの塩及びスルホン塩、ここでクワットという用語は少なくとも1つの第4級アンモニウム基が存在することを意味する。
"2イン1"シャンプーのため、純陽イオン界面活性剤に加え、特に、陽イオン変性ポリマーも又用いられる。これらのポリマーの包括的記述はUS 5,977,038 及び WO 01−41720 A1に掲載されている。陽イオンポリアクリルアミド、陽イオンプロテイン誘導体、ヒドロキシアルキルセルロ−スエーテル及び陽イオングァ−誘導体がここでは好ましい。陽イオングァ−誘導体、CTFA名グァ−ヒドロキシプロピルトリモニウムクロリドは特に好ましい。これらの種類は以下の商品名Cosmedia Guar C 261 (Henkel)、Diagum P 5070 (Diamalt)及びRhodiaのJaguar C types 及びJaguar EXCELで得られる。
特に化粧品製剤の成分としての補助物質は、:A. Domsch. Die kosmetischen Praparate. Verlag fur Chem. Industrie. 4th edition. 1992; 及び: Kosmetikjahrbuch 1995. Verlag fur Chemische Industrie, 1995.に記述されている。
無機および有機酸、塩基及びバッファー、塩、例えばエタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリコールエーテル及びグリセロールなどのアルコール、増粘剤、エマルションの安定剤、例えばキサンタンゴム、再オイリング試薬、保存料、泡安定、消泡剤、真珠光沢及び乳化剤、例えばジステアリン酸グリコール及び二酸化チタン、コラ−ゲン加水分解物、ケラチン加水分解物、シルク加水分解物、例えば亜鉛ピリチオン、サリチル酸、二硫化セレン、硫黄及びタール調製品などのふけ予防の活性化合物、ポリマー乳化剤、ビタミン、染料、UVフィルター、ベントナイト、香油、フレグランス、スタイリングポリマー、モイスチャー、植物エキス及びさらに天然又は天然−同等の原料物質など。
ヘア着色剤組成物の染料及び他の成分は A. Domsch, Die kosmetischen Praparate, Verlag fur chem. Industrie, 4th edition, 1992に記述されている。染料は:Legislation on cosmetic agents (Cosmetics Legislation), Bundesgesetzblatt 1997, part I p. 2412, section 3 and annex 3 and in European Community (EC) Directive, 76/68/EEC, annex IVに記載されている。
数回(10回より多い)のヘアの洗浄によってでさえ色あせないパーマネント着色剤は、過酸化水素による酸化条件下、染料前駆体の相互間での化学反応によって形成される。相当する構成成分の混合物は、ここで達成できた着色の結果で決定する。
例えば以下の酸化塩基は当該製剤の構成成分として適している。ただしそれらに限定されるものではない。:
m−及びp−フェニレンジアミン(ジアミノベンゼン)のN−置換誘導体及びそれらの塩、o−フェニレンジアミンのN−置換誘導体、o−、m−及びp−トルイレンジアミン(メチル−ジアミノベンゼン)のN−置換誘導体及びそれらの塩、p−アミノジフェニルアミン及びその塩酸塩および硫酸塩、o−、m−及びp−アミノフェノール及びその塩酸塩、2,4−ジアミノイソ硫酸塩(4−メトキシ−m−フェニレンジアミン硫酸塩)、o−クロロ−p−フェニレンジアミン硫酸塩、ピクラミン酸(2,4−ジニトロ−6−アミノフェノール)及び2,4−ジニトロ−1−ナフト−ルスルホン酸およびそれらのナトリウム塩。
例として以下のカップリング成分が当該製剤の構成成分として適している。ただしそれらに限定されるものではない。:
ヒドロキノン(1,4−ジヒドロキシベンゼン)、レゾールシノール(1,3−ジヒドロキシベンゼン)、ピロカテコ−ル(1,2−ジヒドロキシベンゼン)、α−ナフト−ル(1−ヒドロキシナフタレン)、ピロガロ−ル(1,2,3−トリヒドロキシベンゼン)及び2,6−ジアミノピリジン。
6−12%の間の過酸化水素をここで含む顕色剤溶液及び着色組成物を含んでいる当該製剤の構成成分も又、任意に加えることが出来る。しかしながら、ここで過酸化物溶液は完全に安定でなければならない。
セミパーマネント着色剤は、6−10回のシャンプー洗浄でも着色剤を維持させる開発がされている。いわゆる直接染料は、基本的にニトロ、アゾ及びアントラキノンに属する染料はここで使用される。これらの染料は、ヘアの中に染み込むのに十分に小さい。一般的に使用される製剤は、溶液、クリーム、シャンプー又はエアロゾールの泡である。当該組成物は、パーマネントヘア着色剤のような着色成分を含んでいる製剤に相当する。
セミパーマネントヘア着色剤組成物と対照的に、ティントともいうテンポラリー着色剤は、ヘアへの浸透能力のない、より大きい染料分子を含んでいる。それらは、1−6回の洗浄でも着色剤を維持させる開発がされている。アゾ及び塩基性染料及びアジン及びチアジン誘導体は、一般的にここで使用される。セミパーマネント及びパーマネントヘア着色剤組成物のためのその記載は、当該製剤の組成物に適用する。染料及びヘア着色剤組成物の他の材料は: A. Domsch, Die kosmetischen Praparate, Verlag fur Chem. Industrie, 4th edition, 1992中に記述されている。染料は:化粧品薬剤法(Cosmetics Legislation), Bundesgesetzblatt 1997, part I p. 2412、section 3 and annex 3及びEuropean Community (EC) Directive、76/68/EEC、annex IV中に記述されている。
0.01 - 10 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物
2 - 15 % 陰イオン界面活性剤
0 - 10 % 両性界面活性剤
0 - 15 % 非イオン界面活性剤
0 - 10 % 陽イオン界面活性剤
0 - 10 % シリコーンコンディショニング試薬 (co−アジュバント)
0 - 10 % 補助物質
100 %まで 水をつぎ足す。
0.1 - 12 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物
1 - 35 % ナトリウム又はアンモニウム ラウリル又はラウレス硫酸塩(20 − 30 %)
1 - 6 % ココアミドプロピルベタイン(25 − 35 %)
0 - 3 % グァ−ヒドロキシプロピルトリモニウムクロリド
0 - 5 % ポリクオタニウム−10
0 - 12 % シリコーンコンディショニング試薬(co−アジュバント)
0.01 - 1 % 2ナトリウムEDTA
0.01 - 1 % フェノキシエチノール(と)メチルパラベン(と)
ブチルパラベン(と)エチルパラベン(と)
プロピルパラベン
0 - 1 % パフューム(フレグランス)
0 - 1 % 染料
0 - 1 % クエン酸
0 - 2 % 塩化ナトリウム
100 %まで 水をつぎ足す。
0.1 - 15 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物
0 - 10 % 両性界面活性剤
0.1 - 15 % 非イオン界面活性剤
0 - 10 % 陽イオン界面活性剤
0 - 12 % シリコーンコンディショニング試薬 (co−アジュバント)
0 - 20 % 補助物質
100 %まで 水をつぎ足す。
0.5 - 15%本発明のポリアミド−ポリシロキサン(非イオン乳化剤含有水で43.5 % 濃度のエマルションとして)
0 - 15 % シリコーンコンディショニング試薬 (co−アジュバント)
0 - 10 % 塩化セトリモニウム (25 − 35 %)
0 - 3 % グァ−ヒドロキシプロピルトリモニウムクロリド
1 - 10 % セテアリルアルコール
0 - 10 % グリセロール
0.01 - 1 % フェノキシエチノール(と)メチルパラベン(と)ブチルパラベン(と)エチルパラベン(と)プロピルパラベン
0 - 1 % パフューム(フレグランス)
0 - 1 % 染料
0 - 1 % クエン酸
100 %まで 水をつぎ足す。
0.4 - 20 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物
0 - 15 % 非イオン界面活性剤
0 - 10 % 陽イオン界面活性剤
0 - 20 % シリコーンコンディショニング試薬(co−アジュバント)
0 - 20 % 補助物質
100 %まで 水をつぎ足す。
1 - 20 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物(非イオン乳化剤含有水で43.5 % 濃度のエマルションとして)
0,5 - 10 % ステアリルアルコール(と)ステアレス−7(と)ステアレス−10
0 − 20 % シリコーンコンディショニング試薬 (co−アジュバント)
0 - 10 % 塩化セトリモニウム(25 − 35 %)
0 - 3 % グァ−ヒドロキシプロピルトリモニウムクロリド
0 - 5 % ジメチコン
0 - 5 % パラフィンオイル
1 - 10 % ステアリルアルコール
0 - 10 % グリセロール
0.01- 1%フェノキシエチノール(と)メチルパラベン(と)ブチルパラベン(と)エチルパラベン(と)プロピルパラベン
0 - 1 % パフューム(フレグランス)
0 - 1 % 染料
0 - 1 % クエン酸
0 - 2 % 塩化ナトリウム
100 %まで 水をつぎ足す。
2 - 5 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物
(非イオン乳化剤含有水で43.5 % 濃度のエマルションとして)
0 - 5 % シリコーンコンディショニング試薬(co−アジュバント)
0 - 2 % 塩化セトリモニウム(25 − 35 %)
0.5 - 5 % グリセロール
0.25 - 2.5 % プロピレングリコール
0.05 - 0.2 % 香料
0.1 - 0.5 % ポリソルベート20
100 %まで 水をつぎ足す。
0.1 - 10 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物
1 - 10 % ヘア染料前駆体又は所望のヘアカラー染料
0 - 15 % 陰イオン界面活性剤
0 - 10 % 両性界面活性剤
0 - 10 % 非イオン界面活性剤
0 - 10 % 陽イオン界面活性剤
0 - 1 % 亜硫酸ナトリウム
0 - 5 % バッファー
0 - 10 % シリコーンコンディショニング試薬 (co−アジュバント)
0 - 10 % 補助物質
100 %まで 水をつぎ足す。
0.1 - 10 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物(非イオン乳化剤含有水で20 % 濃度のエマルションとして)
1 - 5 % ヘアカラー前駆体又は所望のヘアカラーの染料2 - 15 % 陰イオン界面活性剤
0 - 10 % 両性界面活性剤
0 - 10 % 非イオン界面活性剤
0 - 10 % 陽イオン界面活性剤
0.1 - 1 % 亜硫酸ナトリウム
0.1 - 5 % バッファーpH = 8 − 12
0 - 10 % シリコーンコンディショニング試薬 (co−アジュバント)
0 - 10 % 補助物質
100 %まで 水をつぎ足す。
0.1 - 10% 本発明によるポリアミド−ポリシロキサン化合物 (非イオン乳化剤含有水で20 % 濃度のエマルションとして)
1 - 5 % ヘアカラー前駆体又は染料、所望のヘアカラーに従う
0.1 - 1 % 亜硫酸ナトリウム
5 - 15 % プロピレングリコール
5 - 15 % アンモニア(28 %)
10 - 30 % オレイン酸
5 - 15 % イソプロパノール
10 - 30 % アルカノールアミド
0 - 10 % シリコーンコンディショニング試薬(co−アジュバント)
100 %まで 水をつぎ足す。
0.1 - 10 %本発明によるポリアミド−ポリシロキサン化合物
10 - 30 % 過酸化水素(30 %)
0 - 15 % 陰イオン界面活性剤
0 - 10 % 両性界面活性剤
0 - 10 % 非イオン界面活性剤
0 - 10 % 陽イオン界面活性剤
0 - 5 % バッファー又は酸pH = 2 − 6
0 - 10 % シリコーンコンディショニング試薬(co−アジュバント)
0 - 10 % 補助物質
100 %まで 水をつぎ足す。
0.1 - 5 % 本発明のポリアミド−ポリシロキサン化合物 (非イオン乳化剤含有水で20 % 濃度のエマルションとして)
10 - 30 % 過酸化水素(30 %)
0 - 5 % シリコーンコンディショニング試薬(co−アジュバント)
1 - 10 % セテアリルアルコール
0.5 - 5 % トリデセス−2カルボキサミドMEA
0.5 - 5 % セテアレス−30
0.5 - 5 % グリセロール
0.05 - 2% ペンテト酸5ナトリウム(ペンタナトリウムジエチレン−トリアミンペンタアセテート)
0.05 - 2% すず酸ナトリウム
0.05 - 2% ピロリン酸テトラナトリウム
100% まで 水をつぎ足す。
提案形態について、一方では、本発明によるポリアミド−ポリシロキサン化合物は、不透明軟化剤分散液又は軟化剤エマルション又は透明なマイクロエマルション又は溶液の中へ組み込むことが可能である。
− 第4級アンモニウム化合物、好ましくは軟化剤として第4級アルカン酸エステルユニットを含むアンモニウム化合物
− 製剤の溶解性と透明性向上のための有機溶媒、好ましくは例えばエタノール、2−プロパノール、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコールなどのモノ及び多価のアルコール、エステル及びグリコールのエーテル及び例えばジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジアセテートなどのオリゴグリコール
− 軟化剤構成成分の可溶性の増大のためのジオール及び長鎖炭化水素の高級アルコール、例えば2,2,4−トリメチル1,3−ペンタンジオール
− 非イオン界面活性剤、好ましくはC8からC40までアルコールの分岐又は非分岐のアルコキシレート及び安定しているエマルション又はマイクロエマルションの調製のためのアルキレンオキシドの脂肪酸エステル
− パフューム
− 粘性調節剤
− 染料
− 保存料
− 脂肪族アミン又はそれらの複合体。調製剤として陰イオン界面活性剤を用いる。
− 第4級アンモニウム化合物、好ましくは軟化剤としてアルカン酸エステルユニットを含む第4級アンモニウム化合物
− 例としてはソルビタンエステル又は脂肪アルコールアルコキシレートを基礎とする非イオン軟化剤
− 例としてはセルロ−スエーテル、グァ−ガム又はテレフタル酸ブロックコポリマーを基礎とする"防汚剤"
および少なくとも1つの式の化合物を含む反応組成物に関係する。
H-Y-ST2-Y-H
この場合、x、y、X、Y、R6、ST1およびST2は上に定義した通りである
ただし少なくとも1つのST1基及び/又はST2はポリシロキサン基から成る。
この場合x、y、X、R6およびST1は、上に定義した通り
少なくとも1つの式
HY−ST3−NR5 2、
の化合物(この場合Y、ST3及びR5は上に定義した通りである)と、
少なくとも1つの式
Q−ST4V−Q,
の化合物とから成る反応組成物に関する。
この場合、Qはアミノ基のアルキル化の可能な基であり、そしてST4Vは、Qに由来する分子部分と一緒に4級化反応後、ST4基を形成する。
ただし、少なくとも1つのST1基、ST3及び/又はST4は、ポリオルガノシロキサン基から成る。
この場合 x、y、X、R6およびST1は、上に定義した通り、ただしST1基は、少なくとも1つのポリシロキサン基から成る。この場合、反応性組成物を使うことが出来る。
炭化水素ベースのCPEEブロック中間体の合成
シクロペンタノン−2−カルボン酸エチルエステル(CPEE)33 g(0.2 mol)と、2−エチルヘキサン酸亜鉛0.4 gは、最初にブチルアセテート51.5 gに、室温で撹拌しながら導入された。イソホロン−ジイソシアネート(IPDI)22.2 g(0.1 mol)とブチルアセテート20 gの混合物は、20分間かけて滴下により加えられた。反応混合物の温度は32 ℃に達した。混合物は、次に80−90 ℃で10時間加熱された。実質的に
からなる淡黄色透明溶液が得られた。
CPEE−ブロック中間体とNH2−末端シロキサンとの反応
実施例1で得られた溶液20 g(中間体16.27 mmol)は、最初にブチルアセテート146 gと一緒に反応槽に導入された。下記構造のα,ω−アミノプロピル−末端シロキサン15.2 g(NH2基32.54 mmol; NH2 /シロキサンg 2.14 mmol)
は、滴下により部分に加えられた。反応混合物の温度は45 ℃に達した。次に混合物は85−92 ℃で7.5時間加熱された。実質的に以下の構造単位をもつポリマーを含有する高粘性黄色透明液体が得られた。
生成物試料のポリカーボネートシートへの塗布及び大気中での溶媒蒸発後、透明で丈夫な弾力性のある非粘着性のフィルムが得られた。
CPEE−ブロック中間体とNH−末端シロキサンとの反応
下記構造のα,ω−アミノプロピル−末端シロキサン50g(NH2 105 mmol; NH2 /シロキサンg 2.14mmol)
とイソプロピルグリシジルエーテル12.2 g(105 mmol)が、2−プロパノール62.2 gに溶解され、そして、その溶液は還流温度で6.5時間加熱された。淡黄色透明溶液が得られた。
シクロペンタノン環の変換率は、NMR分光法により76%と測定された。
生成物試料のポリカーボネートシートへの塗布及び大気中での溶媒蒸発後、透明で丈夫で弾力性があり少し粘着性のあるフィルムが得られた。
CPEE−ブロック中間体とCH2OH−末端シロキサンとの反応
下記構造のシロキサン35.5 g (16.27 mmol)は、
実施例1で得られた溶液20 g(中間体16.27 mmol)、2−エチルヘキサン酸亜鉛0.2 g及びブチルアセテート33 gと共に混合され、その混合物は120 ℃で6 時間加熱された。混合物の冷却後、わずかに濁った混合物は、折ったろ紙でろ過した。粘性のある黄色液体が得られた。
シクロペンタノン環の変換率はNMR分光法により42 %と測定された。
CPEE−ブロック中間体とCHOH−末端シロキサンとの反応
下記構造のシロキサン48.8 g(8.13 mmol)は、
実施例1で得られた溶液10 g(中間体8.13 mmol)、2−エチルヘキサン酸亜鉛0.2 gとブチルアセテート47 gと共に混合され、その混合物は120 ℃で7.5 時間加熱された。混合物の冷却後、わずかに濁った混合物は折ったろ紙でろ過した。粘性のある黄色液体が得られた。
シクロペンタノン環の変換率はNMR分光法により33 %と測定された。
CPEE−ブロックシロキサン−含有中間体とNH2−末端炭化水素構造との反応
IPDI 22.2 g(0.1 mol)は、室温でメトキシプロピルアセテ−ト46 gに溶解された。下記のシロキサン46.7 g (NH2 基0.1 mol)と
メトキシプロピルアセテート23 gとから成る混合物は、1時間かけ滴下により加えられた。反応温度は40 ℃に達した。反応混合物は90 ℃で1.5時間加熱された。実質的に下記構造をもつイソシアネート末端シロキサン
が得られた。
H2NCH(CH3)CH2[OCH2CH(CH3)]a(OCH2CH2)9[OCH2CH(CH3)]bNH2
この場合、a+b = 3.6
が測り入れられ、そして全混合物は100 ℃で8 時間加熱された。透明で、高粘性の、わずかに赤茶けた着色生成物溶液が得られた。
クロロ酢酸エステル単位により置換されたシロキサンの合成
CH≡CCH2OC(O)CH2Cl 59.5 g(449 mmol)とビニルシロキサン−修飾Pt触媒0.5 g(Pt 1 %含む)は、最初にフラスコへN2下、室温にて導入された。α,ω−SiH−官能基を持つシロキサン416.5 g(SiH 346 mmol、SiH 0.83 mmol/g)0.5 時間かけて滴下により加えられ、温度は130 ℃まで増大した。反応温度はさらに2.5 時間維持された。SiHの残存量の体積測定は変換率98.5 %を示す。
炭化水素ベースのCPEEブロック中間体の合成
シクロペンタノン−2−カルボン酸エチルエステル(CPEE)33 g(0.2 mol)と、2−エチルヘキサン酸亜鉛0.4 gとは、最初にブチルアセテート51.5 g中、室温で撹拌しながら導入された。イソホロン−ジイソシアネート(IPDI)22.2 g(0.1 mol)とブチルアセテート20 g との混合物は、20分間かけて滴下により加えられた。反応混合物の温度は32 ℃に達した。混合物は、次に80−90 ℃で10時間加熱された。淡黄色透明溶液が実質的に得られた。
シロキサン−クワットを与える実施例8のCPEE−ブロック中間体の反応
実施例2の溶液23 g(中間体18.7 mmol)、(CH3)2NCH2CH2CH2NH2 3.8 g(7.4 mmol)、2−エチルヘキサン酸亜鉛0.2 g及び2−プロパノール54 gは、互いに室温にて混合され、温度は45 ℃まで上昇した。混合物は、82−84 ℃で1時間加熱された。
Claims (26)
- 式(3)の繰り返し単位を含むポリアミド−ポリシロキサン化合物。
ここで、
「Yは−O−、−S−及び−NR2−から選ばれる。
ここで、R2は水素又は炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−及び−NR3−から選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ここで、R3は炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状、飽和、不飽和又は芳香族炭化水素基であり、これらは、−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ST2は炭素数1,000以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−、
及びケイ素数2から1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ここで、R5は炭素数100以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことができ、又は、R5はST2基の中に環状構造を形成する2価の基である。」
又は、
「Yは窒素であり、ST2と共に複素環構造を形成する。」
Xは電子吸引基である。
R6は同一でも異なっていても良く、水素および炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基から選ばれ、−O−、−C(O)−、-NH-及び−NR3−で選ばれる基を1つ以上含むことができる(ここで、R3は前述の定義の通り)。
ST1は、炭素数1,000以下の2から4価の、直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、-NH-、−NR3−及びケイ素数2から1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる(ここで、R3は前述の定義の通り)。
ただし、ウレタン架橋を含むST1は除く。
yは0から5までである。
ただし、ST1およびST2の少なくとも一つは、式(2)のポリオルガノシロキサン基を含む。
ここで、R4は炭素数20以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、sは1から999である。
又はこれらの酸付加化合物及び/又は塩。 - 線状又は分岐状又はこれらの酸付加化合物である請求項1に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。
- 式(3)の構造要素を少なくとも2つ含む請求項1又は2に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。
- 前記式(2)のポリシロキサン構造要素を少なくとも2つ含む請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。
- Xは−NO 2 、−P(O)(OR 4 ) 2 、−CN、−NC、および−Z−R1から選ばれ、ここで、R1は炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、-C(O)−、−NH−及び−NR3から選ばれる基を1つ以上含むことができ(R3は前述の定義の通り)、Zは−C(O)−O−、−SO 2 −および−C(O)−から選ばれる請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。
- Xは式−C(O)−O−R1(式中、R1は前述の定義の通り)のエステル基を示す請求項1〜5のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。
- Xはカルボン酸メチルエステル基及びカルボン酸エチルエステル基から選ばれる請求項1〜6のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。
- R6は水素である請求項1〜7のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。
- アミノ基、プロトン化アミノ基及び/又は第4級アンモニウム基を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。
- 次式の繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。
ここで、R 1 は炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、-C(O)−、−NH−及び−NR 3 から選ばれる基を1つ以上含むことができ(R 3 は前述の定義の通り)、ST1、ST2、R2、R5およびyは、前述の定義の通りである。
ST3は炭素数2から100の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−および−NR3−から選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ST4は炭素数1,000以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3およびケイ素数2〜1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる。
A−は無機及び有機アニオンである。 - 以下の好ましい定義の1つ以上又は全てが適用される請求項10に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物:
ST1は炭素数200以下の、2価の、直鎖状、環状又は分岐状の、多価の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−及びケイ素数2から200のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ST2は炭素数200以下の、2価の、直鎖状、環状又は分岐状の、多価の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−、
及びケイ素数2から200のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる。
R2は炭素数10以下の、H又は直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−及び−NR3−から選ばれる基を1つ以上含むことができる。
yは0から3である。
ST4は炭素数200以下の、2価の、直鎖状、環状又は分岐状の、多価の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−及びケイ素数2から200のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ST3は炭素数2から20の、直鎖状、環状又は分岐状の、多価の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、そしてそれらは−O−、−C(O)−、−NH−及び−NR3−から選ばれる基を1つ以上含むことができる。
R3は炭素数10以下の、直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことができる。
R4は炭素数9の、直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基である。
sは1から199である。
R5は炭素数25以下の、直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含む、又はR5は、ST2基の中に環状構造を形成する2価の基である。
R6は水素である。
A−は塩化物イオン、臭化物イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、カルボン酸イオン、アルキル硫酸イオン及びスルホン酸イオンから選ばれるものである。 - ST1が、
炭素数15以下の2価の直鎖状炭化水素基、
炭素数15以下の2価の環状炭化水素基、
炭素数15以下の2価の芳香族炭化水素基、
から選ばれる請求項1〜11のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物。 - 式
の化合物(式中、xは1から3までであり、y、X、R6及びST1は前述の定義の通り)と、
式HY2−ST3−NR5 2の化合物(式中、ST3、Y2及びR5は前述の定義の通り)と、
式Q−ST4V−Qの化合物(式中、Qはエポキシ基及びハロアルキル基から選ばれ、ST4Vは4級化反応後にQ由来の分子部分と共にST4基を形成する。ここで、ST 4 は炭素数1,000以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−、−NR 3 およびケイ素数2〜1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる。)と
の反応を含む請求項1〜12のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物の調製方法。
ただし、ST1、ST3及び/又はST4基の少なくとも1つは、ポリオルガノシロキサン基から成る。 - コーティング剤、又は表面改質剤、又はエラストマー、又は熱硬化性樹脂、又は接着剤、又は金属及びプラスチック表面のプライマー、又はポリマー添加剤、又は洗剤添加剤、又はレオロジー試薬、又は化粧品、又は繊維改良試薬の調製の為の請求項1〜12のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物の使用。
- 硬表面上でのコーティング剤又は表面改質剤の調製の為の請求項15に記載の使用。
- シリコンエラストマーと他の基材との結合のためのプライマー調製の為の請求項15に記載の使用。
- 熱可塑性物質の変性剤の調製の為の請求項15に記載の使用。
- 低温衝撃改質剤調製の為の請求項18に記載の使用。
- 粘性調節剤、
又は帯電防止剤、
又は過酸化的又はヒドロシリル化(プラチナ触媒)によりエラストマーへ架橋可能であり、そこに表面特性の改質、又は気体、又は液体の拡散の改良、又は、シリコンエラストマーの膨潤特性の改良をもたらすシリコンゴム混合構成成分、
洗浄前、洗浄中及び洗浄後の織物繊維トリ−トメントのための織物繊維軟化剤、
又は天然及び合成繊維の改質剤、
又は織物仕上げ助剤、
又は洗剤含有剤、
の調製の為の請求項15に記載の使用。 - 請求項1から請求項12のいずれか1項に記載のポリアミド−ポリシロキサン化合物を少なくとも1つ含む洗浄剤、化粧品製剤および繊維処理製剤。
- 少なくとも1つの式
で示される化合物と、少なくとも1つの式H−Y−ST2−Y−Hで示される化合物とを含む反応組成物。
ここで、
「Yは−O−、−S−及び−NR2−から選ばれる。
ここで、R2は水素又は炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−及び−NR3−から選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ここで、R3は炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状、飽和、不飽和又は芳香族炭化水素基であり、これらは、−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ST2は炭素数1,000以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−、−NR3−、
及びケイ素数2から1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ここで、R5は炭素数100以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことができ、又は、R5はST2基の中に環状構造を形成する2価の基である。」
又は、
「Yは窒素であり、ST2と共に複素環構造を形成する。」
Xは電子吸引基である。
R6は同一でも異なっていても良く、水素および炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基から選ばれ、−O−、−C(O)−、-NH-及び−NR3−で選ばれる基を1つ以上含むことができる(ここで、R3は前述の定義の通り)。
ST1は、炭素数1,000以下の2から4価の、直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、-NH-、−NR3−及びケイ素数2から1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる(ここで、R3は前述の定義の通り)。
ただし、ウレタン架橋を含むST1は除く。
yは0から5までである。
xは1から3までである。
ただし、ST1およびST2の少なくとも一つは、ポリシロキサン基を含む。 - 少なくとも1つの式
で示される化合物(式中、xは1から3までであり、yは0から5までであり、Xは電子吸引基であり、R6は同一でも異なっていても良く、水素および炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基から選ばれ、−O−、−C(O)−、-NH-及び−NR3−で選ばれる基を1つ以上含むことができ(ここで、R3は炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状、飽和、不飽和又は芳香族炭化水素基であり、これらは、−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことができる)、ST1は炭素数1,000以下の2から4価の、直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、-NH-、−NR3−及びケイ素数2から1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる(ここで、R3は前述の定義の通り))と、
少なくとも1つの式HY−ST3−NR5 2で示される化合物(式中、Yは−O−、−S−及び−NR 2 −から選ばれ、ST3は炭素数2から100の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−および−NR3−から選ばれる基を1つ以上含むことができ、R5は炭素数100以下の、直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含み、又はR5はST2基の中に環状構造を形成する2価の基である)と、
少なくとも1つの式Q−ST4V−Qで示される化合物(式中、Qはエポキシ基及びハロアルキル基から選ばれ、ST4Vは4級化反応後にQ由来の分子部分と共にST4基を形成する。ここで、ST 4 は炭素数1,000以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、−NH−、−NR 3 およびケイ素数2〜1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる。)と
を含む反応組成物。
ただし、ST1及び/又はST4基の少なくとも1つは、ポリオルガノシロキサン基を含む。 - 請求項22又は請求項23に記載の反応組成物を硬化して得られる硬化組成物。
- コーティング剤及びエラストマーから選ばれる請求項24に記載の硬化組成物。
- 式
で示される化合物。
ここで、
xは1から3までである。
yは0から5までである。
Xは電子吸引基である。
R6は同一でも異なっていても良く、水素および炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基から選ばれ、−O−、−C(O)−、-NH-及び−NR3−で選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ここで、R3は炭素数40以下の直鎖状、環状又は分岐状、飽和、不飽和又は芳香族炭化水素基であり、これらは、−O−、−C(O)−及び−NH−から選ばれる基を1つ以上含むことができる。
ST1は炭素数1,000以下の2から4価の、直鎖状、環状又は分岐状の、飽和、不飽和又は芳香族の炭化水素基であり、−O−、−C(O)−、-NH-、−NR3−及びケイ素数2から1,000のポリシロキサンユニットから選ばれる基を1つ以上含むことができる(ここで、R3は前述の定義の通り)。
ただし、ウレタン架橋を含むST1は除く。
ただし、ST1基はポリシロキサン基を少なくとも1つ含む。
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