JP5729611B2 - Method for producing metallic molybdenum coating film - Google Patents

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Description

本発明は、金属モリブデン塗布膜の製造方法に関する。
詳しくは、ガラス等の耐熱性基板上に金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を塗布・乾燥・焼成する塗布法によって、密着性と膜強度に優れ、かつ高い導電性を有する金属モリブデン塗布膜を形成する金属モリブデン塗布膜の製造方法、及び、その製造方法で得られる金属モリブデン塗布膜に関するものである。
The present invention relates to the production how the molybdenum metal coating film.
Specifically, a metal molybdenum coating film having excellent adhesion and film strength and high conductivity is formed by a coating method in which a coating solution for forming a metal molybdenum coating film is applied, dried, and fired on a heat-resistant substrate such as glass. The present invention relates to a metal molybdenum coating film manufacturing method and a metal molybdenum coating film obtained by the manufacturing method.

近年、カルコパイライト型薄膜太陽電池の背面電極、液晶ディスプレイやタッチパネル等の配線電極に、金属モリブデン膜が用いられている。
ここで、カルコパイライト型薄膜太陽電池は、高い変換効率を示すため、近年、開発が活発化しており、その構造は、ガラス等の基板上に、金属モリブデン(Mo)の背面電極層が形成され、この背面電極層上に、Cu、In、Ga、Seを主成分とするカルコパイライト半導体光電変換層を形成し、更にその上にCdS等のバッファ層と、ZnO系(例えば、酸化アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO))の透明電極層が順次形成された構造となっている(例えば、特許文献1、2参照)。
In recent years, a metal molybdenum film is used for a back electrode of a chalcopyrite thin film solar cell, and a wiring electrode of a liquid crystal display, a touch panel or the like.
Here, the chalcopyrite thin-film solar cell has been actively developed in recent years because of its high conversion efficiency, and its structure is such that a back electrode layer of metallic molybdenum (Mo) is formed on a substrate such as glass. A chalcopyrite semiconductor photoelectric conversion layer mainly composed of Cu, In, Ga, and Se is formed on the back electrode layer, and a buffer layer such as CdS and a ZnO-based (for example, aluminum oxide doped) are further formed thereon. Thus, a transparent electrode layer of zinc oxide (AZO) is sequentially formed (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

このカルコパイライト型薄膜太陽電池の背面電極材料として金属モリブデンが採用されている理由は、金属モリブデンは導電率の観点からすると必ずしも最適ではないが、カルコパイライト半導体光電変換層(例えば、CuInSe)と比較的反応しにくく、かつ入手しやすいためである。
そして、この金属モリブデンの背面電極層(金属モリブデン膜)の製造方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着法等の蒸着法(気相法)が広く用いられている(例えば、特許文献1、2参照)。
The reason why metal molybdenum is used as the back electrode material of this chalcopyrite thin film solar cell is that metal molybdenum is not necessarily optimal from the viewpoint of conductivity, but chalcopyrite semiconductor photoelectric conversion layer (for example, CuInSe 2 ) and This is because it is relatively difficult to react and is easily available.
And as a manufacturing method of this metal molybdenum back electrode layer (metal molybdenum film), vapor deposition methods (vapor phase method) such as vacuum vapor deposition, sputtering, and chemical vapor deposition are widely used (for example, patent documents). 1 and 2).

これらの方法は、緻密で導電性に優れた均一な金属モリブデン膜を基板上に形成することができるが、一方で、金属モリブデン膜の形成に使用する膜形成装置は、真空容器をベースとするため非常に高価であり、また基板成膜毎に製造装置内の成分ガス圧を精密に制御しなければならないため、製造コストと量産性に問題があった。
そこで、基板上に良質な金属モリブデン膜を簡便な方法で、かつ安価に形成する方法が要望されていた。
Although these methods can form a dense metal molybdenum film with excellent conductivity on a substrate, the film forming apparatus used for forming the metal molybdenum film is based on a vacuum vessel. Therefore, it is very expensive, and the component gas pressure in the manufacturing apparatus must be precisely controlled every time the substrate is formed, so there is a problem in manufacturing cost and mass productivity.
Therefore, there has been a demand for a method for forming a high-quality metal molybdenum film on a substrate by a simple method and at a low cost.

特開2000−91601号公報JP 2000-91601 A WO2005/109525号の明細書Specification of WO2005 / 109525

このような状況を鑑み本発明は、低コストかつ簡便な金属モリブデン膜の製造方法として、有機モリブデン化合物を含有する塗布液を用いたインク塗布法による、密着性や膜強度に優れ、かつ高い導電性も有する金属モリブデン塗布膜の製造方法の提供を目的とするものである。 In view of such circumstances, the present invention provides a low-cost and simple method for producing a metal molybdenum film, which has excellent adhesion and film strength and high conductivity by an ink coating method using a coating liquid containing an organic molybdenum compound. sex providing manufacturing how the metallic molybdenum coating film having also aims.

発明者らは、上記課題に鑑み、有機モリブデン化合物を主成分として含有する塗布液を基板上に塗布、乾燥、加熱処理して得られる塗布膜について鋭意研究を重ねた結果、その加熱処理時の有機モリブデン化合物の無機化において、濃青色の膜色を有する低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を形成すれば、その後の還元処理において低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)から金属モリブデンへの還元が容易に進行して金属光沢を有する金属モリブデン塗布膜が形成できること見出した。更に、この方法で得られる金属モリブデン塗布膜が、高い導電性と優れた密着性や膜強度を兼ね備えることも知見し、本発明の完成に至ったものである。 In view of the above problems, the inventors have conducted extensive research on a coating film obtained by applying, drying, and heat-treating a coating solution containing an organic molybdenum compound as a main component, and as a result, during the heat treatment, in mineralization of organic molybdenum compounds, lower molybdenum oxide having a deep blue membrane color; by forming the (MoO x 2 ≦ x <3 ), a lower molybdenum oxides in the subsequent reduction treatment (MoO x; 2 ≦ x It was found that the reduction from <3) to metallic molybdenum can easily proceed to form a metallic molybdenum coating film having metallic luster. Furthermore, it has been found that the metal molybdenum coating film obtained by this method has both high conductivity, excellent adhesion and film strength, and the present invention has been completed.

即ち、本発明の第1の発明は、主成分として有機モリブデン化合物を含有する金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を、耐熱性基板上に塗布して塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜を乾燥して乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を加熱処理により無機化、及び還元して、金属モリブデンを主成分とする金属微粒子層を形成する加熱還元工程の各工程を経て形成される、金属モリブデン塗布膜の製造方法であって、加熱還元工程が、乾燥工程で形成された有機モリブデン化合物を主成分とする乾燥塗布膜に対し、まず250〜350℃の加熱処理を行い、乾燥塗布膜に含まれる有機成分を熱分解または燃焼、或いは熱分解並びに燃焼により除去した無機化により低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した金属酸化物微粒子層を形成した後、更に還元性雰囲気中で450℃以上に昇温する還元処理を施し、前記低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を還元して、金属モリブデンを主成分とする金属微粒子が緻密に充填した金属微粒子層を形成する工程であることを特徴とする金属モリブデン塗布膜の製造方法である。 That is, the first invention of the present invention is a coating process for forming a coating film by coating a coating solution for forming a metal molybdenum coating film containing an organic molybdenum compound as a main component on a heat-resistant substrate. Formed through each step of a drying process for drying to form a dry coating film, and a heating reduction process for forming a metal fine particle layer mainly composed of metal molybdenum by mineralizing and reducing the dry coating film by heat treatment. In the method for producing a metal molybdenum coating film, the heat reduction step first performs a heat treatment at 250 to 350 ° C. on the dry coating film mainly composed of the organic molybdenum compound formed in the drying step, a; (2 ≦ x <3 MoO x) mainly composed of organic components contained in the dry coating film pyrolysis or combustion, or thermal decomposition and lower molybdenum oxide by mineralization was removed by combustion After genus oxide fine particles to form a metal oxide fine particle layer was densely filled, further subjected to reduction treatment heated to 450 ° C. or higher in a reducing atmosphere, the lower molybdenum oxide (MoO x; 2 ≦ x < 3) A method for producing a metal molybdenum coating film, which is a step of forming a metal fine particle layer in which metal fine particles containing metal molybdenum as a main component are densely filled by reducing 3).

本発明の第2の発明は、第1の発明における有機モリブデン化合物が、アセチルアセトンモリブデン(モリブデン(VI)オキサイドビス−2,4−ペンタンジオネート)[MoO(C]であることを特徴とする金属モリブデン塗布膜の製造方法である。 In the second invention of the present invention, the organic molybdenum compound in the first invention is acetylacetone molybdenum (molybdenum (VI) oxide bis-2,4-pentanedionate) [MoO 2 (C 5 H 7 O 2 ) 2 ]. This is a method for producing a metal molybdenum coating film.

本発明の第3の発明は、第1または第2の発明における還元性雰囲気が、水素ガス、若しくは、水素ガス或いは有機溶剤蒸気の少なくとも一種以上を含む中性ガスからなる雰囲気であり、前記中性ガスが窒素ガス、不活性ガスのいずれか一種以上であることを特徴とする金属モリブデン塗布膜の製造方法である。   According to a third aspect of the present invention, the reducing atmosphere in the first or second aspect is an atmosphere composed of hydrogen gas or a neutral gas containing at least one of hydrogen gas or organic solvent vapor, A method for producing a metal molybdenum coating film, wherein the reactive gas is at least one of nitrogen gas and inert gas.

本発明の第4の発明は、第1から第3の発明における塗布工程の金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の耐熱性基板上への塗布方法が、インクジェット印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、ディスペンサ印刷法、スリットコート法、ダイコート法、ドクターブレードコート法、ワイヤーバーコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法のいずれかであることを特徴とする金属モリブデン塗布膜の製造方法である。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an ink jet printing method, a screen printing method, or a gravure printing method, wherein a coating solution for forming a metal molybdenum coating film in the coating process in the first to third inventions is applied to a heat resistant substrate. , Offset printing method, flexographic printing method, dispenser printing method, slit coating method, die coating method, doctor blade coating method, wire bar coating method, spin coating method, dip coating method, spray coating method This is a method for producing a metal molybdenum coating film.

本発明の金属モリブデン塗布膜の製造方法によれば、その加熱処理時の有機モリブデン化合物の無機化において、濃青色の膜色を有する低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を形成することにより、その後の還元処理において低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)から金属モリブデンへの還元を容易に進行させて金属光沢を有する金属モリブデン塗布膜が形成できるため、簡便かつ安価に、高い導電性を有し、密着性や膜強度にも優れる金属モリブデン塗布膜を成膜できる。 According to the method for producing a metal molybdenum coating film of the present invention, lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) having a deep blue film color is formed in the inorganicization of the organic molybdenum compound during the heat treatment. By doing so, since the reduction from lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) to metal molybdenum can be easily advanced in the subsequent reduction treatment, a metal molybdenum coating film having a metallic luster can be formed. A metal molybdenum coating film having high conductivity and excellent adhesion and film strength can be formed at low cost.

さらに、本発明に係る金属モリブデン塗布膜は、各種デバイスに適用することが可能であり、金属モリブデン塗布膜を電極層として適用する場合には、本発明の金属モリブデン塗布膜を形成した耐熱性基板を用い、太陽電池等の発電デバイス、液晶ディスプレイ(液晶素子)の表示デバイス、及びタッチパネル等の入力デバイス等に好適である。   Furthermore, the metal molybdenum coating film according to the present invention can be applied to various devices. When the metal molybdenum coating film is applied as an electrode layer, the heat resistant substrate on which the metal molybdenum coating film of the present invention is formed. Is suitable for power generation devices such as solar cells, display devices for liquid crystal displays (liquid crystal elements), input devices such as touch panels, and the like.

空気中の飽和水蒸気含有量(体積%)と露点温度(℃)の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between saturated water vapor content (volume%) in air, and dew point temperature (degreeC). 実施例1に係る金属モリブデン塗布膜、及び比較例1に係るモリブデン酸化物塗布膜の反射プロファイルを示す図である。It is a figure which shows the reflection profile of the metal molybdenum coating film which concerns on Example 1, and the molybdenum oxide coating film which concerns on the comparative example 1. FIG.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明の金属モリブデン塗布膜の製造方法は、有機モリブデン化合物を主成分とする金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を、耐熱性基板上に塗布、乾燥、加熱還元して形成される金属モリブデン塗布膜の製造方法であって、金属モリブデンを主成分とする金属微粒子が緻密に充填した金属微粒子層を形成するため、得られる金属モリブデン塗布膜では、基板への密着性、膜強度、導電性等の向上が可能となり、また、簡便な製造方法による低コスト化も図ることができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The method for producing a metal molybdenum coating film of the present invention comprises a metal molybdenum coating film formed by coating a coating solution for forming a metal molybdenum coating film containing an organic molybdenum compound as a main component on a heat resistant substrate, drying, and heat reduction. In the manufacturing method of the above, a metal fine particle layer in which metal fine particles mainly composed of metal molybdenum are densely filled is formed. Thus, in the obtained metal molybdenum coating film, adhesion to the substrate, film strength, conductivity, etc. Improvement can be achieved, and cost reduction can be achieved by a simple manufacturing method.

[金属モリブデン塗布膜構造]
先ず、金属モリブデン塗布膜の構造を説明する。
例えば、スパッタリング法等の気相成長法を用いて金属モリブデン膜を形成した場合、通常、金属モリブデンの結晶粒が粒界を介して配列した膜構造である多結晶の金属モリブデン膜構造が形成され、膜構造において金属モリブデンの微粒子はほとんど観察されない。
[Metal molybdenum coating film structure]
First, the structure of the metal molybdenum coating film will be described.
For example, when a metal molybdenum film is formed by using a vapor phase growth method such as sputtering, a polycrystalline metal molybdenum film structure is usually formed, which is a film structure in which crystal grains of metal molybdenum are arranged through grain boundaries. In the film structure, metal molybdenum fine particles are hardly observed.

一方、本発明の有機モリブデン化合物を主成分とする金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を耐熱性基板上に塗布、乾燥、加熱還元する塗布法で形成した金属モリブデン塗布膜では、通常、金属モリブデン微粒子同士が結合した膜構造を有しており、金属モリブデン微粒子の粒子径や金属モリブデン微粒子間に存在する空隙の大きさは、加熱還元工程の条件などでも異なるが、少なからず開空隙(オープンポア)を有する金属モリブデン微粒子で構成される金属モリブデン塗布膜となる。   On the other hand, in a metal molybdenum coating film formed by a coating method in which a coating solution for forming a metal molybdenum coating film mainly composed of the organomolybdenum compound of the present invention is applied to a heat resistant substrate, dried, and heated and reduced, the metal molybdenum fine particles are usually used. It has a film structure in which the metal molybdenum particles are bonded to each other, and the size of the metal molybdenum fine particles and the size of the voids existing between the metal molybdenum fine particles vary depending on the conditions of the heat reduction process, but are not limited to open pores (open pores). This is a metal molybdenum coating film composed of metal molybdenum fine particles having a surface.

このような金属モリブデン塗布膜において、金属モリブデン微粒子を緻密に充填させると同時に、金属モリブデン微粒子の結晶成長も促進させて、開空隙(オープンポア)が少なく緻密で、かつ金属モリブデン微粒子同士の接触が強化された金属微粒子層を有する膜構造を形成することが必要であり、これによって、金属モリブデン塗布膜の導電性や膜強度の向上が可能となる。   In such a metal molybdenum coating film, the metal molybdenum fine particles are densely filled, and at the same time, the crystal growth of the metal molybdenum fine particles is promoted, so that the metal molybdenum fine particles have small open pores (open pores) and are dense. It is necessary to form a film structure having a reinforced metal fine particle layer, which makes it possible to improve the conductivity and film strength of the metal molybdenum coating film.

即ち、本発明における金属モリブデン微粒子が緻密に充填した金属微粒子層は、前述の金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を用いた塗布法において、その加熱処理時の無機化や還元処理の条件を適切に設定することにより形成されるものである。   That is, the metal fine particle layer in which the metal molybdenum fine particles are densely packed in the present invention is appropriately subjected to the mineralization or reduction treatment conditions during the heat treatment in the coating method using the coating liquid for forming the metal molybdenum coating film. It is formed by setting.

このような金属モリブデン微粒子が緻密に充填した金属微粒子層の形成機構については、いまだ明らかとはいえないが、本発明では、加熱処理時の有機モリブデン化合物の無機化において、一旦濃青色の膜色を有する低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を形成し、その後の還元処理において低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を還元して金属モリブデン塗布膜を形成しているため、無機化で得られる低級モリブデン酸化物を主成分とする金属酸化物微粒子層の緻密化が、最終的に得られる金属モリブデンを主成分とする金属微粒子層の緻密化につながるものと考えられる。 The formation mechanism of the metal fine particle layer densely filled with such metal molybdenum fine particles is not yet clear, but in the present invention, in the mineralization of the organomolybdenum compound during the heat treatment, the film color once dark blue A lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) is formed, and the lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) is reduced in a subsequent reduction treatment to form a metal molybdenum coating film. Therefore, the densification of the metal oxide fine particle layer mainly composed of lower molybdenum oxide obtained by mineralization leads to the densification of the metal fine particle layer mainly composed of metal molybdenum. Conceivable.

[金属モリブデン塗布膜形成用塗布液]
次に、本発明で用いられる金属モリブデン塗布膜形成用塗布液について詳細する。
本発明では、有機モリブデン化合物を主成分とする金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を用い、低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を一旦経由した後、金属モリブデンを形成するものである。
[Metal molybdenum coating film coating solution]
Next, the coating liquid for forming a metal molybdenum coating film used in the present invention will be described in detail.
In the present invention, a metallic molybdenum coating film-forming coating solution containing an organic molybdenum compound as a main component is used, and after passing through a lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3), metallic molybdenum is formed. is there.

まず、有機モリブデン化合物を主成分とし、有機溶剤を含む金属モリブデン塗布膜形成用塗布液について、以下に説明する。
本発明で用いる有機金属化合物の有機モリブデン化合物としては、例えば、モリブデンアセチルアセトン錯体としてのアセチルアセトンモリブデン(正式名称:モリブデン(VI)オキサイドビス−2,4−ペンタンジオネート[MoO(C])、モリブデンアルコキシドとしてのモリブデンエトキシド[Mo(CO)]等が挙げられるが、基本的には、溶剤に溶解し、加熱処理時において塩素ガスや窒素酸化物ガスなどの有害ガスが発生せず、加熱処理による無機化によって低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)に分解する有機モリブデン化合物であれば良く、中でも上記アセチルアセトンモリブデンが好適である。
First, a coating solution for forming a metal molybdenum coating film containing an organic molybdenum compound as a main component and containing an organic solvent will be described below.
As the organomolybdenum compound of the organometallic compound used in the present invention, for example, acetylacetone molybdenum as a molybdenum acetylacetone complex (formal name: molybdenum (VI) oxide bis-2,4-pentanedionate [MoO 2 (C 5 H 7 O 2 ) 2 ]), molybdenum ethoxide as molybdenum alkoxide [Mo (C 2 H 5 O) 5 ], and the like. Basically, it dissolves in a solvent and is subjected to chlorine gas or nitrogen oxide during heat treatment. Any organic molybdenum compound that does not generate a harmful gas such as gas and decomposes into a lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) by mineralization by heat treatment may be used, and among these, acetylacetone molybdenum is preferable.

金属モリブデン塗布膜形成用塗布液に含まれる有機モリブデン化合物は、耐熱性基板上に金属モリブデン塗布膜を形成させるための主たる化合物原料であり、その含有量は1〜30重量%の範囲であることが好ましく、更に好ましくは5〜20重量%とするのが良い。
その合計含有量が1重量%未満であると膜厚の薄い金属モリブデン塗布膜しか得られなくなるため十分な導電性が得られない。また、30重量%より多いと金属モリブデン塗布膜形成用塗布液中の有機モリブデン化合物が析出し易くなって塗布液の安定性が低下したり、得られる金属モリブデン塗布膜が厚くなり過ぎて亀裂(クラック)が発生する場合がある。
The organomolybdenum compound contained in the coating solution for forming the metal molybdenum coating film is a main compound raw material for forming the metal molybdenum coating film on the heat-resistant substrate, and the content thereof is in the range of 1 to 30% by weight. Is preferable, and more preferably 5 to 20% by weight.
If the total content is less than 1% by weight, only a thin metal molybdenum coating film can be obtained, and sufficient conductivity cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 30% by weight, the organomolybdenum compound in the coating solution for forming the metal molybdenum coating film is likely to be precipitated and the stability of the coating solution is lowered, or the resulting metal molybdenum coating film becomes too thick and cracks ( Cracks) may occur.

金属モリブデン塗布膜の機能向上のために、必要に応じて、金属モリブデン塗布膜形成用塗布液に少量の有機ナトリム化合物、有機チタン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機ハフニウム化合物、有機バナジウム化合物、有機ニオブ化合物、有機タンタル化合物、有機タングステン化合物のいずれか1つ以上を添加しても良い。   In order to improve the function of the metal molybdenum coating film, a small amount of organic sodium compound, organic titanium compound, organic zirconium compound, organic hafnium compound, organic vanadium compound, organic niobium compound is added to the coating liquid for forming the metal molybdenum coating film, as necessary. Any one or more of an organic tantalum compound and an organic tungsten compound may be added.

さらに、金属モリブデン塗布膜形成用塗布液には、必要に応じて有機バインダーを添加しても良い。有機バインダーを加えることで、耐熱性基板に対する濡れ性が改善されると同時に、塗布液の粘度調整を行うことができる。上記有機バインダーは加熱処理時において燃焼や熱分解する材料が好ましく、このような材料として、セルロース誘導体、アクリル樹脂等が有効である。   Furthermore, an organic binder may be added to the coating solution for forming the metal molybdenum coating film, if necessary. By adding the organic binder, the wettability with respect to the heat-resistant substrate is improved, and at the same time, the viscosity of the coating solution can be adjusted. The organic binder is preferably a material that burns or thermally decomposes during heat treatment, and cellulose derivatives, acrylic resins, and the like are effective as such materials.

有機バインダーに用いられるセルロース誘導体としては、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース 、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース 、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース 、カルボキシエチルセルロース、カルボキシエチルメチルセルロース、ニトロセルロース等が挙げられるが、これらの中でもヒドロキシプロピルセルロース(以下、「HPC」と表記する場合がある)が好ましい。
なお、上記各種セルロース誘導体やアクリル樹脂では、分子量が異なる多くの種類が市販されており、例えば、HPCでは、その分子量の大きさに応じて、高分子量タイプ、中分子量タイプ、低分子量タイプがあり、分子量が大きいほど、バインダーとして配合した金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の粘度を高めることができる。分子量タイプの選定、および、配合量の決定は、金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の塗布性、および金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の塗布方法や塗布膜厚に応じ、随時最適化する必要がある。
Examples of cellulose derivatives used in organic binders include methyl cellulose, ethyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, hydroxyethyl methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, ethyl hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, carboxyethyl methyl cellulose, and nitrocellulose. Among these, hydroxypropyl cellulose (hereinafter sometimes referred to as “HPC”) is preferable.
In addition, many types of cellulose derivatives and acrylic resins having different molecular weights are commercially available. For example, HPC has a high molecular weight type, a medium molecular weight type, and a low molecular weight type depending on the molecular weight. As the molecular weight increases, the viscosity of the coating solution for forming a metal molybdenum coating film blended as a binder can be increased. The selection of the molecular weight type and the determination of the blending amount must be optimized from time to time depending on the coating properties of the coating solution for forming the metal molybdenum coating film and the coating method and coating thickness of the coating solution for forming the metal molybdenum coating film. is there.

上記HPCを用いれば、5重量%以下の含有量で十分な濡れ性が得られると同時に、大幅な粘度調整を行うことができる。またHPCの大気中での燃焼開始温度は300℃程度であり、加熱還元工程での加熱処理を300〜350℃の温度領域で行えば燃焼するので、生成する低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子の粒成長を阻害せず、最終的に、導電性が良好な金属モリブデン塗布膜を作製することができる。HPCの含有量が5重量%より多くなると、ゲル状になって塗布液中に残留し易くなり、極めて多孔質の金属モリブデン塗布膜を形成して透明性や導電性が著しく損なわれる。
ここで、セルロース誘導体として、例えばHPCの代わりにエチルセルロースを用いた場合には、HPCを用いた場合よりも塗布液の粘度が低く設定できるが、高粘度塗布液が好適であるスクリーン印刷法等ではパターン印刷性が若干低下する。
If the above HPC is used, sufficient wettability can be obtained at a content of 5% by weight or less, and at the same time, the viscosity can be greatly adjusted. The combustion start temperature of HPC in the atmosphere is about 300 ° C., and combustion occurs when the heat treatment in the heat reduction process is performed in the temperature range of 300 to 350 ° C. Therefore, lower molybdenum oxide (MoO x ; It is possible to finally produce a metal molybdenum coating film having good conductivity without inhibiting the growth of metal oxide fine particles mainly composed of ≦ x <3). When the content of HPC is more than 5% by weight, it becomes gelled and tends to remain in the coating solution, forming a very porous metal molybdenum coating film, and the transparency and conductivity are significantly impaired.
Here, as the cellulose derivative, for example, when ethyl cellulose is used instead of HPC, the viscosity of the coating solution can be set lower than when HPC is used. However, in the screen printing method or the like in which a high viscosity coating solution is suitable. Pattern printability is slightly reduced.

ところで、ニトロセルロースは、熱分解性は優れているが、加熱処理時において有害な窒素酸化物ガスの発生があり、加熱処理炉の劣化や排ガス処理に問題を生じる場合がある。以上のように、使用するセルロース誘導体は、状況に応じて適宜選択する必要がある。
また、アクリル樹脂としては、比較的低温で燃焼するアクリル樹脂が好ましい。
By the way, although nitrocellulose is excellent in thermal decomposability, harmful nitrogen oxide gas is generated during the heat treatment, which may cause problems in deterioration of the heat treatment furnace and exhaust gas treatment. As described above, the cellulose derivative to be used needs to be appropriately selected depending on the situation.
The acrylic resin is preferably an acrylic resin that burns at a relatively low temperature.

また、金属モリブデン塗布膜形成用塗布液には、塗布性や膜均一性を改善する目的で、極微量(例えば、金属モリブデン塗布膜形成用塗布液に対し、0.001〜0.05重量%)の界面活性剤(高分子界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等)を添加してもよい。   In addition, the coating solution for forming a metal molybdenum coating film has a very small amount (for example, 0.001 to 0.05% by weight with respect to the coating solution for forming a metal molybdenum coating film) for the purpose of improving coating properties and film uniformity. ) Surfactant (polymer surfactant, silicone surfactant, etc.) may be added.

金属モリブデン塗布膜形成用塗布液に含まれる有機溶剤には、有機モリブデン化合物(モリブデンのアセチルアセトン錯体化合物)を高濃度で溶解できるN−メチル−2−ピロリドン(NMP)やアセチルアセトン、あるいはこれらの混合溶剤が好ましい。   Examples of the organic solvent contained in the coating solution for forming the metal molybdenum coating film include N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and acetylacetone, which can dissolve an organic molybdenum compound (molybdenum acetylacetone complex compound) at a high concentration, or a mixed solvent thereof. Is preferred.

更に、塗布液を低粘度に調製したり、塗布性の改善のために、金属モリブデン塗布膜形成用塗布液に配合する溶剤には、各種有機金属化合物とセルロース誘導体やアクリル樹脂を溶解させた溶液と相溶性があれば良く、上記以外の溶剤として、水、メタノール(MA)、エタノール(EA)、1−プロパノール(NPA)、イソプロパノール(IPA)、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール(DAA)等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等のエステル系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル(MCS)、エチレングリコールモノエチルエーテル(ECS)、エチレングリコールイソプロピルエーテル(IPC)、エチレングリコールモノブチルエーテル(BCS)、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル(PGM)、プロピレングリコールエチルエーテル(PE)、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGM−AC)、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート(PE−AC)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル等のグリコール誘導体、トルエン、キシレン、メシチレン、ドデシルベンゼン等のベンゼン誘導体、クレゾール類、キシレノール、エチルフェノール、p−tert−ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、カシューナット殻液[3ペンタデカデシールフェノール]等のアルキルフェノール系あるいはアルケニルフェノール系溶媒、コハク酸エステル、グルタル酸エステル、アジピン酸エステル、マロン酸エステル、フタル酸エステル等の二塩基酸エステル(例えば二塩基酸ジメチル、二塩基酸ジエチル等)系溶媒、ホルムアミド(FA)、N−メチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド(DMSO)、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1、3−ブチレングリコール、ペンタメチレングリコール、1、3−オクチレングリコール、テトラヒドロフラン(THF)、クロロホルム、ミネラルスピリッツ、ターピネオール等、及びこれらのいくつかの混合液が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Furthermore, in order to adjust the coating solution to a low viscosity or improve the coating properties, the solvent mixed in the coating solution for forming the metal molybdenum coating film is a solution in which various organometallic compounds and cellulose derivatives or acrylic resins are dissolved. And solvents other than the above include water, methanol (MA), ethanol (EA), 1-propanol (NPA), isopropanol (IPA), butanol, pentanol, benzyl alcohol, diacetone alcohol ( DAA) alcohol solvents, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl propyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), ketone solvents such as cyclohexanone, isophorone, ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, Butyl propionate, isopropyl butyrate, Ethyl acetate, butyl butyrate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate , Ethyl 3-oxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, Propyl 2-oxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, 2-oxy-2-methyl Methyl lopionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, aceto Esters such as methyl acetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, ethylene glycol monomethyl ether (MCS), ethylene glycol monoethyl ether (ECS), ethylene glycol isopropyl ether (IPC), ethylene Glycol monobutyl ether (BCS), ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol methyl ether (PGM), propylene glycol Ethyl ether (PE), propylene glycol methyl ether acetate (PGM-AC), propylene glycol ethyl ether acetate (PE-AC), diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether Glycols such as acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether Derivatives, benzene derivatives such as toluene, xylene, mesitylene, dodecylbenzene, cresols, xylenol, ethylphenol, p-tert-butylphenol, octylphenol, nonylphenol, alkylphenols such as cashew nut shell liquid [3 pentadecadedecylphenol] or Alkenylphenol solvents, dibasic acid esters such as succinic acid esters, glutaric acid esters, adipic acid esters, malonic acid esters, phthalic acid esters (eg, dibasic acid dimethyl, dibasic acid diethyl, etc.) solvents, formamide (FA) , N-methylformamide, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide, dimethylsulfoxide (DMSO), ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol , Dipropylene glycol, 1,3-butylene glycol, pentamethylene glycol, 1,3-octylene glycol, tetrahydrofuran (THF), chloroform, mineral spirits, terpineol, etc., and some mixtures thereof, It is not limited to these.

塗布液の安定性や成膜性を考慮すると、使用する溶剤としては、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、γ−ブチロラクトン等が好ましい。   Considering the stability of the coating solution and the film formability, the solvent used is preferably methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether (PGM), γ-butyrolactone, or the like.

本発明で用いる金属モリブデン塗布膜形成用塗布液は、上記有機モリブデン化合物に、必要に応じてこれら以外の各種有機金属化合物のいずれか一種以上を少量、更に、必要に応じて有機バインダーを加えた混合物を溶剤に加熱溶解させることによって製造する。   The coating solution for forming a metal molybdenum coating film used in the present invention is obtained by adding a small amount of any one or more of various organic metal compounds other than these to the above organic molybdenum compound, and further adding an organic binder as necessary. It is produced by heating and dissolving the mixture in a solvent.

金属モリブデン塗布膜形成用塗布液製造時の加熱溶解は、通常、加熱温度を60〜180℃とし、0.5〜12時間攪拌することにより行われる。
加熱温度が60℃よりも低いと十分に溶解せず、例えば、アセチルアセトンモリブデンを主成分とする金属モリブデン塗布膜形成用塗布液であれば、アセチルアセトンモリブデン等の析出分離が起って塗布液の安定性が低下してしまい、180℃よりも高いと溶剤の蒸発が顕著となり塗布液の組成が変化してしまうので好ましくない。
The heating and melting at the time of producing the coating solution for forming the metal molybdenum coating film is usually performed by setting the heating temperature to 60 to 180 ° C. and stirring for 0.5 to 12 hours.
When the heating temperature is lower than 60 ° C., it does not dissolve sufficiently. For example, in the case of a coating solution for forming a metal molybdenum coating film containing acetylacetone molybdenum as a main component, precipitation and separation of acetylacetone molybdenum and the like occur and the coating solution is stable. When the temperature is higher than 180 ° C., the evaporation of the solvent becomes remarkable and the composition of the coating solution changes, which is not preferable.

金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の粘度は、含有する有機バインダーの分子量や含有量、溶剤の種類によって調整することができるので、インクジェット印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、ディスペンサ印刷法、スリットコート法、ダイコート法、ドクターブレードコート法、ワイヤーバーコート法、スピンコート法、スプレーコート法等の各種塗布法のそれぞれに適した粘度に調整して対応することができる。   The viscosity of the coating solution for forming a metal molybdenum coating film can be adjusted depending on the molecular weight and content of the organic binder contained, and the type of solvent, so that the inkjet printing method, screen printing method, gravure printing method, offset printing method, flexographic printing method, etc. The viscosity can be adjusted to suit each application method such as printing method, dispenser printing method, slit coating method, die coating method, doctor blade coating method, wire bar coating method, spin coating method, spray coating method, etc. it can.

高粘度(5000〜50000mPa・s程度)の塗布液は、高分子量の有機バインダーを5重量%以下、好ましくは2〜4重量%含有させることで作製できる。一方、低粘度(5〜500mPa・s程度)の塗布液は、低分子量の有機バインダーを5重量%以下、好ましくは0.1〜2重量%含有させ、かつ低粘度の希釈用溶剤で希釈することで作製できる。また、中粘度(500〜5000mPa・s)の塗布液は、高粘度の塗布液と低粘度の塗布液を混合することで作製する。   A coating solution having a high viscosity (about 5000 to 50000 mPa · s) can be prepared by containing a high molecular weight organic binder in an amount of 5% by weight or less, preferably 2 to 4% by weight. On the other hand, the low-viscosity (about 5 to 500 mPa · s) coating solution contains 5% by weight or less, preferably 0.1 to 2% by weight of a low molecular weight organic binder, and is diluted with a low viscosity diluent. Can be produced. Further, the medium viscosity (500 to 5000 mPa · s) coating solution is prepared by mixing a high viscosity coating solution and a low viscosity coating solution.

[金属モリブデン塗布膜の製造方法]
本発明の金属モリブデン塗布膜の製造方法について詳細する。
本発明の金属モリブデン塗布膜は、金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を耐熱性基板上に塗布して塗布膜を形成する塗布工程、その塗布膜を乾燥して乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、その乾燥塗布膜を加熱処理により無機化、及び還元して、金属モリブデンを主成分とする金属膜を形成する加熱還元工程の各工程を経て形成される。
[Method for producing metal molybdenum coating film]
The manufacturing method of the metal molybdenum coating film of the present invention will be described in detail.
The metal molybdenum coating film of the present invention is a coating process in which a coating solution for forming a metal molybdenum coating film is applied on a heat resistant substrate to form a coating film, a drying process in which the coating film is dried to form a dry coating film, The dried coating film is mineralized and reduced by heat treatment to form a heat reduction process for forming a metal film containing metal molybdenum as a main component.

(a)塗布工程
耐熱性基板上への金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の塗布は、インクジェット印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、ディスペンサ印刷法、スリットコート法、ダイコート法、ドクターブレードコート法、ワイヤーバーコート法、スピンコート法、スプレーコート法等の各種塗布法を用いて塗布される。
これらの塗布は、クリーンルーム等のように清浄でかつ温度や湿度が管理された雰囲気下で行うことが好ましい。温度は室温(25℃程度)、湿度は40〜60%RHが一般的である。
(A) Coating process Coating of a coating solution for forming a metal molybdenum coating film on a heat-resistant substrate is performed by inkjet printing, screen printing, gravure printing, offset printing, flexographic printing, dispenser printing, slit coating. It is applied using various coating methods such as a die coating method, a doctor blade coating method, a wire bar coating method, a spin coating method, and a spray coating method.
These coatings are preferably performed in a clean atmosphere such as a clean room where the temperature and humidity are controlled. The temperature is generally room temperature (about 25 ° C.) and the humidity is generally 40 to 60% RH.

その耐熱性基板としては、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等の酸化物系無機基板や、ステンレススチール、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)等の金属系無機基板を用いることができる。
また、上記各種酸化物系無機基板上に金属導電膜(ステンレススチール、Al、Ni、Cu等)をスパッタリング法、蒸着法、メッキ法等を用いて形成したものを耐熱性基板としても良く、この場合、本発明の金属モリブデン塗布膜は、その金属導電膜上に形成される。このような膜構成の基板を、例えば、前述のカルコパイライト型薄膜太陽電池に適用する場合、その金属モリブデン塗布膜は、カルコパイライト半導体光電変換層(例えば、CuInSe)と金属導電膜との間の反応防止電極層(拡散バリア電極層)として機能する。
As the heat-resistant substrate, oxide-based inorganic substrates such as soda lime glass, non-alkali glass, and quartz glass, and metal-based inorganic substrates such as stainless steel, aluminum (Al), nickel (Ni), and copper (Cu) are used. Can be used.
Moreover, what formed the metal conductive film (stainless steel, Al, Ni, Cu, etc.) on the said various oxide type inorganic board | substrates using sputtering method, vapor deposition method, the plating method, etc. is good also as a heat resistant board | substrate. In this case, the metal molybdenum coating film of the present invention is formed on the metal conductive film. When the substrate having such a film structure is applied to, for example, the above-described chalcopyrite thin film solar cell, the metal molybdenum coating film is between the chalcopyrite semiconductor photoelectric conversion layer (for example, CuInSe 2 ) and the metal conductive film. It functions as a reaction preventing electrode layer (diffusion barrier electrode layer).

(b)乾燥工程
次の乾燥工程では、金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を塗布した耐熱性基板を、通常大気中80〜180℃で1〜30分間、好ましくは2〜10分間保持して塗布膜の乾燥を行い、乾燥塗布膜を作製する。
その乾燥条件(乾燥温度、乾燥時間)は、用いる耐熱性基板の種類や金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の塗布厚み等によって、適宜選択すればよく、上記乾燥条件に限定される訳ではない。ただし、生産性を考慮すれば、乾燥時間は、得られる乾燥塗布膜の膜質が悪化しない必要最低限度に短縮することが望ましい。
(B) Drying step In the next drying step, the heat-resistant substrate coated with the coating solution for forming a metal molybdenum coating film is usually applied at 80 to 180 ° C. in the atmosphere for 1 to 30 minutes, preferably 2 to 10 minutes. The film is dried to produce a dry coating film.
The drying conditions (drying temperature, drying time) may be appropriately selected depending on the type of heat-resistant substrate to be used, the coating thickness of the coating solution for forming a metal molybdenum coating film, and the like, and are not limited to the above drying conditions. However, in consideration of productivity, it is desirable that the drying time is shortened to the minimum necessary so that the quality of the obtained dry coating film is not deteriorated.

なお、必要に応じて大気中乾燥に代えて、減圧乾燥(到達圧力:通常1kPa以下)を適用することも可能である。この減圧乾燥では、塗布された透明導電膜形成用塗布液中の溶剤が、減圧下で強制的に除去されて乾燥が進行するため、大気中乾燥に比べてより短時間での乾燥が可能となるため、製造工程の処理時間の短縮に有用となりうる。
この作製した乾燥塗布膜は、金属モリブデン塗布膜形成用塗布液から有機溶剤が揮発除去されたものであって、有機モリブデン化合物、必要に応じて少量添加される、各種有機金属化合物や有機バインダー等の有機系成分で構成されている。
In addition, it is also possible to apply reduced-pressure drying (attainment pressure: usually 1 kPa or less) instead of drying in the air as necessary. In this drying under reduced pressure, the solvent in the applied coating liquid for forming a transparent conductive film is forcibly removed under reduced pressure and the drying proceeds, so that drying in a shorter time is possible compared to drying in the air. Therefore, it can be useful for shortening the processing time of the manufacturing process.
The produced dry coating film is obtained by volatilizing and removing an organic solvent from a coating solution for forming a metal molybdenum coating film. An organic molybdenum compound, a small amount of an organic metal compound, an organic binder, and the like are added as necessary. It is composed of organic components.

(c)加熱還元工程
加熱還元工程では、まず始めに、乾燥工程で作製した乾燥塗布膜を加熱処理して乾燥塗布膜中の有機モリブデン化合物、または必要に応じて少量添加された各種有機金属化合物を含んだ有機モリブデン化合物、および必要に応じて添加された有機バインダー等の有機系成分を熱分解・燃焼(酸化)により無機化させて低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した金属酸化物微粒子層を形成する。
次に、上記低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子層を還元性雰囲気中において450℃以上に昇温し、低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を還元して、金属モリブデンを主成分とする金属微粒子が緻密に充填した金属微粒子層を形成している。尚、この金属微粒子層(金属モリブデン塗布膜)には、不純物元素として、少量の金属微粒子の表面酸化に伴う酸素(O)及び金属微粒子層から完全に除去しきれなかった炭素(C)を含んでいるが、膜の機能を大きく損なうものではない。
(C) Heat reduction process In the heat reduction process, first, a dry coating film produced in the drying process is heat-treated to form an organomolybdenum compound in the dry coating film, or various organometallic compounds added in small amounts as necessary. Organic molybdenum components containing bismuth and organic components such as organic binder added as necessary are mineralized by thermal decomposition and combustion (oxidation) to produce lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) A metal oxide fine particle layer densely filled with metal oxide fine particles as a main component is formed.
Next, the metal oxide fine particle layer mainly composed of the lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) is heated to 450 ° C. or more in a reducing atmosphere, and the lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) is reduced to form a metal fine particle layer densely filled with metal fine particles mainly composed of metal molybdenum. The metal fine particle layer (metal molybdenum coating film) contains oxygen (O) accompanying the surface oxidation of a small amount of metal fine particles and carbon (C) that could not be completely removed from the metal fine particle layer as impurity elements. However, it does not significantly impair the function of the membrane.

すなわち、加熱還元工程の無機化では、昇温過程で250〜350℃まで加熱温度が高くなってくると、雰囲気の酸素含有の有無によらず(例えば、空気雰囲気や水素含有雰囲気などによらず)乾燥塗布膜中の上記有機モリブデン化合物(少量添加された各種有機金属化合物を含有する物も含む)は徐々に熱分解・燃焼(酸化)されて、濃青色の膜色を有する低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)への変換(所謂無機化)が生じる。 That is, in the mineralization of the heat reduction process, when the heating temperature is increased to 250 to 350 ° C. in the temperature raising process, regardless of the presence or absence of oxygen in the atmosphere (for example, regardless of the air atmosphere or the hydrogen-containing atmosphere) ) The above-mentioned organomolybdenum compounds in dry coating films (including those containing various organometallic compounds added in small amounts) are gradually pyrolyzed and burned (oxidized) to form a lower molybdenum oxide having a dark blue film color. Conversion (so-called mineralization) to (MoO x ; 2 ≦ x <3) occurs.

ここで、この濃青色の膜色を有する低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)は、空気等の酸素含有雰囲気中で350℃を越える温度で加熱すると、無色透明のモリブデン酸化物(MoO)(別名:三酸化モリブデン)まで酸化され、このモリブデン酸化物(MoO)は、還元性雰囲気中において450℃以上(例えば500℃程度)に昇温しても金属モリブデンまで還元されないため、金属モリブデン塗布膜を得ることができない。したがって、250〜350℃の加熱処理による無機化により一旦低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を形成した後は、モリブデン酸化物(MoO)への酸化を防止するために雰囲気を還元性雰囲気にし、その還元性雰囲気中で450℃以上に昇温する必要があり、これにより低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)は容易に金属モリブデンまで還元されて金属モリブデン塗布膜を得ることができる。 Here, the lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) having a deep blue film color is a colorless and transparent molybdenum oxide when heated at a temperature exceeding 350 ° C. in an oxygen-containing atmosphere such as air. It is oxidized to (MoO 3 ) (also known as molybdenum trioxide), and this molybdenum oxide (MoO 3 ) is not reduced to metallic molybdenum even if the temperature is raised to 450 ° C. or higher (for example, about 500 ° C.) in a reducing atmosphere. Therefore, a metal molybdenum coating film cannot be obtained. Therefore, after the lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) is once formed by mineralization by heat treatment at 250 to 350 ° C., the atmosphere is used to prevent oxidation to molybdenum oxide (MoO 3 ). In a reducing atmosphere, and it is necessary to raise the temperature to 450 ° C. or higher in the reducing atmosphere. As a result, the lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) is easily reduced to metallic molybdenum. A coating film can be obtained.

有機バインダーを配合した金属モリブデン塗布膜形成用塗布液では、加熱還元工程の無機化時に、有機バインダーを熱分解・燃焼(酸化)等によって塗布膜から除去することが望ましく、その際の雰囲気は、用いる有機バインダーの種類にもよるが、一般的には酸素含有雰囲気(例えば空気)が好ましい。通常、有機バインダーは、無機化のための250〜350℃の加熱処理時に徐々に熱分解・燃焼(酸化)して、主に二酸化炭素(CO)や水分(HO)に転化されて雰囲気中に揮散して膜中から消失(例えば前述のHPCであれば空気中で約300〜350℃の加熱処理でほぼ消失)していくため、特に空気雰囲気中で無機化した場合には、最終的には金属モリブデン塗布膜中にはほとんど残留しない。 In the coating liquid for forming a metal molybdenum coating film containing an organic binder, it is desirable to remove the organic binder from the coating film by thermal decomposition / combustion (oxidation), etc., at the time of mineralization in the heat reduction process. Although depending on the type of organic binder used, an oxygen-containing atmosphere (for example, air) is generally preferable. Usually, the organic binder is gradually pyrolyzed and burned (oxidized) during heat treatment at 250 to 350 ° C. for mineralization, and is mainly converted into carbon dioxide (CO 2 ) and moisture (H 2 O). In order to volatilize in the atmosphere and disappear from the film (for example, in the case of the above-mentioned HPC, it is almost disappeared by heat treatment at about 300 to 350 ° C. in the air). Finally, it hardly remains in the metal molybdenum coating film.

一方、有機バインダーを配合しない金属モリブデン塗布膜形成用塗布液では、有機バインダーの燃焼(酸化)のための酸素を必要としないため、無機化のための250〜350℃の加熱処理の時点から還元処理までずっと還元性雰囲気を適用することができる。これは、有機モリブデン化合物自体が還元性雰囲気中でも熱分解により無機化して低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を生成できるからである。 On the other hand, a coating solution for forming a metal molybdenum coating film that does not contain an organic binder does not require oxygen for the combustion (oxidation) of the organic binder, so it is reduced from the time of heat treatment at 250 to 350 ° C. for mineralization. A reducing atmosphere can be applied throughout the process. This is because the organic molybdenum compound itself can be mineralized by thermal decomposition even in a reducing atmosphere to produce a lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3).

前述の通り、このような金属モリブデン微粒子が緻密に充填した金属微粒子層の形成機構については、いまだ明らかとはいえないが、本発明では、加熱処理時の有機モリブデン化合物の無機化において、一旦濃青色の膜色を有する低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を形成し、その後の還元処理において低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を還元して金属モリブデン塗布膜を形成しているため、無機化で得られる低級モリブデン酸化物を主成分とする金属酸化物微粒子層の緻密化が、最終的に得られる金属モリブデンを主成分とする金属微粒子層の緻密化につながるものと考えられる。 As described above, the formation mechanism of the metal fine particle layer in which such metal molybdenum fine particles are densely packed is not yet clear. However, in the present invention, in the mineralization of the organomolybdenum compound during the heat treatment, it is once concentrated. A lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) having a blue film color is formed, and then the lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) is reduced in a subsequent reduction treatment to apply metal molybdenum. Since the film is formed, the metal oxide fine particle layer mainly composed of lower molybdenum oxide obtained by mineralization is densified, and the metal fine particle layer mainly composed of metal molybdenum is finally densified. It is thought that it leads to.

そこで、加熱還元工程では、先ず乾燥工程で作製した乾燥塗布膜を加熱処理して乾燥塗布膜中の有機モリブデン化合物、または必要に応じて少量添加された各種有機金属化合物を含んだ有機モリブデン化合物、および必要に応じて添加された有機バインダー等の有機系成分を熱分解・燃焼(酸化)により無機化させて低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した金属酸化物微粒子層を形成する。
したがって、緻密な金属モリブデン塗布膜を得るためには、還元処理前の低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子層の緻密化が必要である。
Therefore, in the heat reduction step, first, the dry coating film prepared in the drying step is heat-treated, and the organomolybdenum compound in the dry coating film, or an organic molybdenum compound containing various organometallic compounds added in small amounts as necessary, And, if necessary, an organic component such as an organic binder added thereto is mineralized by thermal decomposition and combustion (oxidation), and a metal oxide mainly composed of lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) A metal oxide fine particle layer filled with fine particles is formed.
Therefore, in order to obtain a dense metal molybdenum coating film, it is necessary to densify the metal oxide fine particle layer whose main component is a lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) before the reduction treatment.

この低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子層の緻密化のためには、前述の250〜350℃の加熱処理による無機化時において、露点温度の低い、即ち水蒸気含有量の少ない雰囲気を適用することが望ましい。
通常、水素等の還元性ガスや窒素等の中性ガスの露点温度は十分低く(例えば−60℃以下)、問題はないが、例えば酸素含有雰囲気としての空気には通常水分が含まれているため(参考として、図1に、空気中の飽和水蒸気含有量(体積%)と露点温度(℃)の関係を示す)、前述の有機バインダーを配合した金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を用いた場合などでは、露点温度の低い酸素含有雰囲気(空気など)を用いることが望まれる。この場合好ましい露点温度は、−10℃以下、より好ましくは−20℃以下、更に好ましくは−30℃以下である。
In order to densify the metal oxide fine particle layer mainly composed of this lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3), the dew point temperature is used during the mineralization by the heat treatment at 250 to 350 ° C. It is desirable to apply an atmosphere having a low water content, that is, a low water vapor content.
Usually, the dew point temperature of a reducing gas such as hydrogen or a neutral gas such as nitrogen is sufficiently low (for example, −60 ° C. or lower), and there is no problem. However, air as an oxygen-containing atmosphere usually contains moisture. Therefore (for reference, FIG. 1 shows the relationship between the saturated water vapor content (volume%) in the air and the dew point temperature (° C.)), and a coating solution for forming a metal molybdenum coating film containing the above organic binder was used. In some cases, it is desirable to use an oxygen-containing atmosphere (such as air) having a low dew point temperature. In this case, a preferable dew point temperature is −10 ° C. or lower, more preferably −20 ° C. or lower, and further preferably −30 ° C. or lower.

なお、上述のように低級モリブデン酸化物を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填するメカニズムに関しては、必ずしも明らかではないが、例えば、空気雰囲気中の水蒸気が、
(1)有機モリブデン化合物や低級モリブデン酸化物間に介在している有機バインダー成分の熱分解・燃焼(酸化)の促進作用を有する、
(2)低級モリブデン酸化物自体の結晶化、並びに結晶成長を促進する作用を有する、
等により、露点温度が低い雰囲気中では、加熱処理による無機化の初期段階まで、有機成分(有機モリブデン化合物や有機バインダーの有機成分)が塗布膜中に残存した膜構造が維持され、この膜構造は有機成分の作用で柔軟性を有し、かつ低級モリブデン酸化物の結晶化を抑制して、耐熱性基板と垂直方向への膜の収縮(緻密化)を可能とするためと推測される。
As described above, the mechanism of dense filling of the metal oxide fine particles mainly composed of lower molybdenum oxide is not necessarily clear. For example, water vapor in the air atmosphere
(1) has an action of promoting thermal decomposition and combustion (oxidation) of the organic binder component intervening between the organic molybdenum compound and the lower molybdenum oxide;
(2) has an action of promoting crystallization of the lower molybdenum oxide itself and crystal growth;
As a result, in an atmosphere with a low dew point temperature, the film structure in which organic components (organic components of organic molybdenum compounds and organic binders) remain in the coating film is maintained until the initial stage of mineralization by heat treatment. This is presumed to be flexible due to the action of the organic component and to suppress the crystallization of the lower molybdenum oxide and to allow the film to shrink (densify) in the direction perpendicular to the heat resistant substrate.

本発明の無機化で使用可能な酸素含有雰囲気ガスは、空気、または酸素ガス、あるいは、酸素ガスと中性雰囲気ガス(窒素、不活性ガス(アルゴン、ヘリウム等))の混合ガスが挙げられるが、安価で入手しやすい空気が好ましい。   Examples of the oxygen-containing atmosphere gas that can be used in the mineralization of the present invention include air, oxygen gas, or a mixed gas of oxygen gas and neutral atmosphere gas (nitrogen, inert gas (argon, helium, etc.)). Inexpensive and readily available air is preferred.

本発明の還元処理で使用する還元性雰囲気は、水素ガス、若しくは、水素ガス或いは有機溶剤蒸気の少なくとも一種以上を含む上記中性ガスからなる雰囲気であり、その中性ガスは窒素ガス、不活性ガス(アルゴン、ヘリウム等)のいずれか一種以上が挙げられるが、水素ガスや水素ガスを含有する中性ガス雰囲気が好適である。中でも、1〜4%水素−99〜96%窒素の混合ガスは、大気に漏洩しても爆発の恐れがないため好ましい雰囲気である。   The reducing atmosphere used in the reduction treatment of the present invention is an atmosphere comprising hydrogen gas or the above neutral gas containing at least one of hydrogen gas or organic solvent vapor, and the neutral gas is nitrogen gas, inert gas Any one or more of gases (argon, helium, etc.) may be mentioned, but a neutral gas atmosphere containing hydrogen gas or hydrogen gas is preferred. Among them, a mixed gas of 1-4% hydrogen-99-96% nitrogen is a preferable atmosphere because there is no risk of explosion even if it leaks into the atmosphere.

加熱還元工程の還元処理時の加熱温度は、低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)の還元が進行する温度である450℃以上、好ましくは500℃以上であり、加熱時間は好ましくは5〜120分間、より好ましくは15〜60分間である。
450℃よりも低い加熱温度で還元処理を行っても、十分に還元反応が進まず、良質な金属モリブデン塗布膜が得られない。
The heating temperature during the reduction treatment in the heat reduction step is 450 ° C. or higher, preferably 500 ° C. or higher, at which the reduction of the lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) proceeds, and the heating time is preferably Is 5 to 120 minutes, more preferably 15 to 60 minutes.
Even if the reduction treatment is performed at a heating temperature lower than 450 ° C., the reduction reaction does not proceed sufficiently and a high-quality metal molybdenum coating film cannot be obtained.

また、上記還元処理時の加熱温度の上限は特に限定されないが、加熱還元工程で用いる加熱処理装置の種類や耐熱性基板の耐熱性に影響受け、安価で最も一般的に用いられるソーダライムガラス基板では、歪点が約510℃であるので、この温度よりも低い温度で加熱処理することが好ましい。ただし、ソーダライムガラス基板をより耐熱性の高い耐熱性基材上で加熱処理すれば、基板の歪みを比較的少なくできるため、約600℃程度での加熱処理も可能である。もちろん、石英ガラス基板、無アルカリガラス基板、高歪点ガラス基板等のより耐熱性が高いガラス基板を用いる場合は、更に高い加熱温度が適用できる。   The upper limit of the heating temperature during the reduction treatment is not particularly limited, but it is affected by the type of heat treatment apparatus used in the heat reduction step and the heat resistance of the heat resistant substrate, and is the most commonly used soda lime glass substrate. Then, since the strain point is about 510 ° C., it is preferable to perform the heat treatment at a temperature lower than this temperature. However, if the soda lime glass substrate is heat-treated on a heat-resistant base material having higher heat resistance, the substrate can be relatively distorted, so that the heat treatment at about 600 ° C. is also possible. Of course, when a glass substrate with higher heat resistance such as a quartz glass substrate, an alkali-free glass substrate, or a high strain point glass substrate is used, a higher heating temperature can be applied.

加熱処理工程で用いる加熱処理装置には、ホットプレート、熱風循環加熱処理炉、遠赤外線加熱装置等が挙げられるが、これらに限定される訳ではない。ただし、本発明を実施するためには加熱処理雰囲気中の露点温度の制御や還元性雰囲気の適用が必要なため、使用する加熱処理装置には加熱処理雰囲気が制御可能な密閉型(ガス置換型)の構造が求められる。
なお、加熱還元工程の無機化や還元処理での昇温過程における昇温速度については特に制約はないが、5〜40℃/分の範囲、より一般的には10〜30℃/分である。5℃/分より昇温速度が遅いと昇温に時間がかかりすぎて効率が悪くなり、一方40℃/分を越える昇温速度を上記加熱処理装置で実現しようとすると、ヒーター容量が大きくなりすぎて現実的でない。
Examples of the heat treatment apparatus used in the heat treatment step include, but are not limited to, a hot plate, a hot-air circulating heat treatment furnace, a far-infrared heating apparatus, and the like. However, in order to carry out the present invention, it is necessary to control the dew point temperature in the heat treatment atmosphere or to apply a reducing atmosphere. Therefore, the heat treatment apparatus to be used is a sealed type (gas replacement type) in which the heat treatment atmosphere can be controlled. ) Is required.
In addition, there is no restriction | limiting in particular about the temperature increase rate in the temperature increase process in the mineralization of a heat reduction process or a reduction process, However, It is the range of 5-40 degree-C / min, More generally, 10-30 degree-C / min. . If the heating rate is slower than 5 ° C / min, it takes too much time to raise the temperature and the efficiency is deteriorated. On the other hand, if a heating rate exceeding 40 ° C / min is attempted with the above heat treatment apparatus, the heater capacity increases. Too impractical.

本発明に係る金属モリブデン塗布膜の製造方法、及びその製造方法で得られる金属モリブデン塗布膜は、太陽電池等の発電デバイス、液晶ディスプレイ(液晶素子)の表示デバイス、及びタッチパネル等の入力デバイス等の電極に適用することで、例えばデバイスの低コスト化に大きく貢献することができるものである。
以下、実施例を用いて本発明を詳細するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
The method for manufacturing a metal molybdenum coating film according to the present invention and the metal molybdenum coating film obtained by the manufacturing method include power generation devices such as solar cells, display devices for liquid crystal displays (liquid crystal elements), and input devices such as touch panels. Application to the electrode can greatly contribute to, for example, cost reduction of the device.
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to these Examples.

[塗布液の作製]
アセチルアセトンモリブデン(室温で固体)(正式名称:モリブデン(VI)オキサイドビス−2,4−ペンタンジオネート[MoO(C](分子量=326.17)10g、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)7g、アセチルアセトン7gヒドロキシプロピルセルロース(HPC;低分子量タイプ)1gを混合し、120℃に加温して120分間攪拌して溶解した。
次に、得られた溶解液25gに、シクロヘキサノン25g、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)10g、メチルエチルケトン(MEK)40gを混合して均一になるまで良く攪拌し、ポアサイズ0.22μmのプロピレン(PP)製フィルターでろ過して、アセチルアセトンモリブデンを10重量%、ヒドロキシプロピルセルロースを1重量%含有する金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を作製した。この金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の粘度(25℃)は、10mPa・s程度であった。
[Preparation of coating solution]
Acetylacetone molybdenum (solid at room temperature) (formal name: molybdenum (VI) oxide bis-2,4-pentanedionate [MoO 2 (C 5 H 7 O 2 ) 2 ] (molecular weight = 326.17) 10 g, N-methyl 2-Pyrrolidone (NMP) 7 g and acetylacetone 7 g Hydroxypropylcellulose (HPC; low molecular weight type) 1 g were mixed, heated to 120 ° C. and stirred for 120 minutes to dissolve.
Next, 25 g of the obtained solution was mixed with 25 g of cyclohexanone, 10 g of propylene glycol monomethyl ether (PGM), and 40 g of methyl ethyl ketone (MEK), and stirred well until uniform, and made of propylene (PP) having a pore size of 0.22 μm. Filtration with a filter produced a coating solution for forming a metal molybdenum coating film containing 10% by weight of acetylacetone molybdenum and 1% by weight of hydroxypropylcellulose. The viscosity (25 ° C.) of this coating solution for forming a metal molybdenum coating film was about 10 mPa · s.

[金属モリブデン塗布膜の作製]
作製した金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を、25℃の無アルカリガラス基板(10cm×10cm×厚み0.7mm;可視光線透過率=91.2%、ヘイズ値=0.26%、屈折率=1.52)上の全面にスピンコーティング(500rpm×60sec)した後、熱風乾燥機を用いて空気雰囲気中100℃で5分間乾燥し、更にホットプレートを用いて露点温度が−55℃の空気雰囲気(3リッター/分供給;基板上の雰囲気ガスの平均流速=約0.045m/秒)において、300℃まで30分かけて昇温(昇温速度:10℃/分)し、300℃で30分間加熱処理して、アセチルアセトンモリブデンやHPC等の有機成分を燃焼・熱分解させて無機化し、濃青色の膜色を有する低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した金属酸化物微粒子層を形成した。
続けて、雰囲気を還元性雰囲気(3体積%水素−97体積%窒素)に切り替え(3リッター/分供給;基板上の雰囲気ガスの平均流速=約0.045m/秒)、300℃から500℃に昇温(昇温速度:10℃/分)し、500℃で30分間の還元処理を施し、低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を還元して、金属モリブデンを主成分とする金属微粒子が緻密に充填した金属光沢を有する金属微粒子層からなる実施例1に係る金属モリブデン塗布膜を作製した。
[Production of metal molybdenum coating film]
The prepared coating solution for forming a metal molybdenum coating film was a 25 ° C. alkali-free glass substrate (10 cm × 10 cm × thickness 0.7 mm; visible light transmittance = 91.2%, haze value = 0.26%, refractive index = 1.52) After spin coating (500 rpm × 60 sec) on the entire upper surface, it was dried in an air atmosphere at 100 ° C. for 5 minutes using a hot air dryer, and further an air atmosphere having a dew point temperature of −55 ° C. using a hot plate. (3 liter / min supply; average flow rate of atmospheric gas on substrate = approximately 0.045 m / sec), the temperature was raised to 300 ° C. over 30 minutes (temperature increase rate: 10 ° C./min), and 30 ° C. at 30 ° C. min heat treatment to, mineralized by combustion and thermal decomposition of organic components such as acetylacetone molybdenum or HPC, lower molybdenum oxide having a deep blue membrane color; the (MoO x 2 ≦ x <3 ) main Min and metal oxide fine particles to form a metal oxide fine particle layer was densely filled.
Subsequently, the atmosphere is switched to a reducing atmosphere (3 vol% hydrogen-97 vol% nitrogen) (3 liter / min supply; average flow rate of atmospheric gas on the substrate = about 0.045 m / sec), 300 ° C. to 500 ° C. Is heated (heating rate: 10 ° C./min), subjected to a reduction treatment at 500 ° C. for 30 minutes, and lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) is reduced to contain metal molybdenum as a main component. A metal molybdenum coating film according to Example 1 consisting of a metal fine particle layer having a metallic luster and densely filled with metal fine particles was prepared.

[特性評価]
金属モリブデン塗布膜の無機化と還元処理の製造工程条件、及び得られる膜の膜質を表1に示す。
作製した金属モリブデン塗布膜の表面抵抗、膜厚、比抵抗値、可視光線透過率及びヘイズ値、膜強度及び密着性の諸特性を測定し、その結果を表2に示す。また、得られた実施例1に係る金属モリブデン塗布膜の反射プロファイルを、比較例1のモリブデン酸化物塗布膜の反射プロファイルと共に図2に示す。
[Characteristic evaluation]
Table 1 shows the manufacturing process conditions for the mineralization and reduction treatment of the metal molybdenum coating film and the film quality of the obtained film.
The surface resistance, film thickness, specific resistance value, visible light transmittance and haze value, film strength and adhesion properties of the produced metal molybdenum coating film were measured, and the results are shown in Table 2. Moreover, the reflection profile of the obtained metal molybdenum coating film according to Example 1 is shown in FIG. 2 together with the reflection profile of the molybdenum oxide coating film of Comparative Example 1.

金属モリブデン塗布膜の表面抵抗は、三菱化学株式会社製の表面抵抗計ロレスタAP(MCP−T400)を用い測定した。
ヘイズ値と可視光線透過率は、日本電色株式会社製のヘイズメーター(NDH5000)を用いJIS K7136(ヘイズ値)、JISK7361−1(透過率)に基づいて測定した。
膜厚は、オプティカルプロファイラー(Zygo社製 NewView6200)を用いて測定した。
膜強度及び密着性は、基板上に形成された塗布膜を爪で擦って塗布膜の外観を観察し、傷や剥離がないものをそれぞれ「〇」、大きな傷や著しい剥離があるものをそれぞれ「×」と評価した。
塗布膜の反射プロファイルは、日立製作所株式会社製分光光度計(U−4000)を用いて測定した。
なお、可視光線透過率及びヘイズ値は、塗布膜だけの値であり、それぞれ下記(1)式、(2)式により求めた。
The surface resistance of the metal molybdenum coating film was measured using a surface resistance meter Loresta AP (MCP-T400) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
The haze value and visible light transmittance were measured based on JIS K7136 (haze value) and JIS K7361-1 (transmittance) using a Nippon Denshoku Co., Ltd. haze meter (NDH5000).
The film thickness was measured using an optical profiler (New View 6200 manufactured by Zygo).
For film strength and adhesion, rub the coating film formed on the substrate with a nail and observe the appearance of the coating film, ◯ for those without scratches or peeling, and those with large scratches or significant peeling, respectively. Evaluated as “x”.
The reflection profile of the coating film was measured using a spectrophotometer (U-4000) manufactured by Hitachi, Ltd.
The visible light transmittance and the haze value are values only for the coating film, and were obtained by the following formulas (1) and (2), respectively.

Figure 0005729611
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Figure 0005729611
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[塗布液の作製]
アセチルアセトンモリブデン(室温で固体)(正式名称:モリブデン(VI)オキサイドビス−2,4−ペンタンジオネート[MoO(C](分子量=326.17)10g、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)7.5g、アセチルアセトン7.5gを混合し、120℃に加温して60分間攪拌して溶解した。
次に、得られた溶解液25gに、シクロヘキサノン25g、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)10g、メチルエチルケトン(MEK)39.98g、界面活性剤0.02gを混合して均一になるまで良く攪拌し、ポアサイズ0.22μmのプロピレン(PP)製フィルターでろ過して、有機バインダーを含有せず、アセチルアセトンモリブデンを10重量%含有する金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を作製した。この金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の粘度(25℃)は、5mPa・s程度であった。
[Preparation of coating solution]
Acetylacetone molybdenum (solid at room temperature) (formal name: molybdenum (VI) oxide bis-2,4-pentanedionate [MoO 2 (C 5 H 7 O 2 ) 2 ] (molecular weight = 326.17) 10 g, N-methyl 2-Pyrrolidone (NMP) 7.5 g and acetylacetone 7.5 g were mixed, heated to 120 ° C. and stirred for 60 minutes to dissolve.
Next, 25 g of the resulting solution was mixed with 25 g of cyclohexanone, 10 g of propylene glycol monomethyl ether (PGM), 39.98 g of methyl ethyl ketone (MEK), and 0.02 g of a surfactant, and stirred well until uniform. The solution was filtered with a 0.22 μm propylene (PP) filter to prepare a coating solution for forming a metal molybdenum coating film containing no organic binder and 10% by weight of acetylacetone molybdenum. The viscosity (25 ° C.) of the coating solution for forming a metal molybdenum coating film was about 5 mPa · s.

[金属モリブデン塗布膜の作製]
作製した金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を、25℃の無アルカリガラス基板(10cm×10cm×厚み0.7mm;可視光線透過率=91.2%、ヘイズ値=0.26%、屈折率=1.52)上の全面にスピンコーティング(500rpm×60sec)した後、熱風乾燥機を用いて空気雰囲気中100℃で5分間乾燥し、更にホットプレートを用いて還元性雰囲気(3体積%水素−97体積%窒素)(3リッター/分供給;基板上の雰囲気ガスの平均流速=約0.045m/秒)において、500℃まで50分かけて昇温(昇温速度:10℃/分)し、500℃で30分間加熱処理して金属モリブデンを主成分とする金属微粒子が緻密に充填した金属光沢を有する金属微粒子層からなる実施例2に係る金属モリブデン塗布膜を作製した。
[Production of metal molybdenum coating film]
The prepared coating solution for forming a metal molybdenum coating film was a 25 ° C. alkali-free glass substrate (10 cm × 10 cm × thickness 0.7 mm; visible light transmittance = 91.2%, haze value = 0.26%, refractive index = 1.52) After spin coating (500 rpm × 60 sec) on the entire upper surface, it was dried in an air atmosphere at 100 ° C. for 5 minutes using a hot air dryer, and further reduced atmosphere (3% by volume hydrogen −) using a hot plate. 97 volume% nitrogen) (3 liters / minute supply; average flow rate of atmospheric gas on substrate = approximately 0.045 m / second), heated to 500 ° C. over 50 minutes (temperature increase rate: 10 ° C./minute) The metal-molybdenum coating film according to Example 2 comprising a metal fine particle layer having a metallic luster in which metal fine particles mainly composed of metal molybdenum were densely packed by heat treatment at 500 ° C. for 30 minutes was produced.

なお、上記還元性雰囲気中の500℃までの昇温過程において、200〜300℃の温度領域でアセチルアセトンモリブデンの有機成分が熱分解して無機化し、濃青色の膜色を有する低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した金属酸化物微粒子層が形成され、更に、450〜500℃の温度領域で徐々に低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)の金属モリブデンへの還元が進行して、金属光沢を有する金属微粒子層が形成されることが確認できた。 Note that in the temperature increasing process up to 500 ° C. in the reducing atmosphere, the organic component of acetylacetone molybdenum is thermally decomposed and mineralized in a temperature range of 200 to 300 ° C., and a lower molybdenum oxide having a deep blue film color ( A metal oxide fine particle layer in which metal oxide fine particles mainly composed of MoO x ; 2 ≦ x <3) are densely filled is formed, and further, lower molybdenum oxide (MoO) is gradually added in a temperature range of 450 to 500 ° C. It was confirmed that reduction of x ; 2 ≦ x <3) to metal molybdenum progressed, and a metal fine particle layer having a metallic luster was formed.

金属モリブデン塗布膜の無機化と還元処理の製造工程条件、及び得られる膜の膜質を表1に示す。また、作製した金属モリブデン塗布膜の諸特性を実施例1と同様に測定し、その結果を表2に示す。   Table 1 shows the manufacturing process conditions for the mineralization and reduction treatment of the metal molybdenum coating film and the film quality of the obtained film. Further, various characteristics of the produced metal molybdenum coating film were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

(比較例1)
実施例1の金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を用い、300℃まで30分かけて昇温(昇温速度:10℃/分)し、300℃で30分間加熱処理する代わりに、500℃まで50分かけて昇温(昇温速度:10℃/分)し、500℃で30分間加熱処理したところ、アセチルアセトンモリブデンやHPC等の有機成分が燃焼・熱分解して無機化し、無色透明のモリブデン酸化物(MoO)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した金属酸化物微粒子層が形成された。
(Comparative Example 1)
Using the coating liquid for forming a metal molybdenum coating film of Example 1, the temperature was raised to 300 ° C. over 30 minutes (temperature increase rate: 10 ° C./min), and instead of heat treatment at 300 ° C. for 30 minutes, up to 500 ° C. The temperature was increased over 50 minutes (temperature increase rate: 10 ° C./min), and after heat treatment at 500 ° C. for 30 minutes, organic components such as acetylacetone molybdenum and HPC were made inorganic by combustion and thermal decomposition, and colorless and transparent molybdenum A metal oxide fine particle layer in which metal oxide fine particles mainly composed of oxide (MoO 3 ) were densely filled was formed.

続けて、雰囲気を還元性雰囲気(3体積%水素−97体積%窒素)に切り替え(3リッター/分供給;基板上の雰囲気ガスの平均流速=約0.045m/秒)、500℃で30分間の還元処理を施したが、モリブデン酸化物(MO)の金属モリブデンへの還元は進まず、モリブデン酸化物(MoO)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した無色透明の金属酸化物微粒子層を有する比較例1に係るモリブデン酸化物塗布膜を作製した。 Subsequently, the atmosphere is switched to a reducing atmosphere (3 vol% hydrogen-97 vol% nitrogen) (3 liter / min supply; average flow rate of atmospheric gas on the substrate = approximately 0.045 m / sec), at 500 ° C. for 30 min. However, the reduction of molybdenum oxide (MO 3 ) to metal molybdenum did not proceed, and the colorless and transparent metal was finely packed with metal oxide fine particles mainly composed of molybdenum oxide (MoO 3 ). A molybdenum oxide coating film according to Comparative Example 1 having an oxide fine particle layer was produced.

モリブデン酸化物塗布膜の無機化と還元処理の製造工程条件、及び得られる膜の膜質を表1に示す。また、作製したモリブデン酸化物塗布膜の諸特性を実施例1と同様に測定し、その結果を表2に示す。また、得られた比較例1に係るモリブデン酸化物塗布膜の反射プロファイルを、実施例1の金属モリブデン塗布膜の反射プロファイルと共に図2に示す。   Table 1 shows the manufacturing process conditions for the inorganicization and reduction treatment of the molybdenum oxide coating film, and the film quality of the obtained film. Further, various characteristics of the manufactured molybdenum oxide coating film were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2. The reflection profile of the molybdenum oxide coating film according to Comparative Example 1 obtained is shown in FIG. 2 together with the reflection profile of the metal molybdenum coating film of Example 1.

(比較例2)
実施例1の金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を用い、300℃まで30分かけて昇温(昇温速度:10℃/分)し、300℃で30分間加熱処理する代わりに、400℃まで40分かけて昇温(昇温速度:10℃/分)し、400℃で30分間加熱処理したところ、アセチルアセトンモリブデンやHPC等の有機成分が燃焼・熱分解して無機化し、無色透明のモリブデン酸化物(MoO)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した金属酸化物微粒子層が形成された。
(Comparative Example 2)
Using the coating solution for forming a metal molybdenum coating film of Example 1, the temperature was increased to 300 ° C. over 30 minutes (temperature increase rate: 10 ° C./min), and instead of heat treatment at 300 ° C. for 30 minutes, up to 400 ° C. Heated over 40 minutes (temperature increase rate: 10 ° C./min) and heat-treated at 400 ° C. for 30 minutes. Organic components such as acetylacetone molybdenum and HPC burned and become inorganic, resulting in colorless and transparent molybdenum. A metal oxide fine particle layer in which metal oxide fine particles mainly composed of oxide (MoO 3 ) were densely filled was formed.

続けて、雰囲気を還元性雰囲気(3体積%水素−97体積%窒素)に切り替え(3リッター/分供給;基板上の雰囲気ガスの平均流速=約0.045m/秒)、400℃から500℃に昇温(昇温速度:10℃/分)し、500℃で30分間の還元処理を施したが、モリブデン酸化物(MO)の金属モリブデンへの還元は進まず、モリブデン酸化物(MoO)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した無色透明の金属酸化物微粒子層を有する比較例2に係るモリブデン酸化物塗布膜を作製した。 Subsequently, the atmosphere is switched to a reducing atmosphere (3 vol% hydrogen-97 vol% nitrogen) (3 liter / min supply; average flow rate of atmospheric gas on substrate = approximately 0.045 m / sec), 400 ° C. to 500 ° C. Was heated at a rate of 10 ° C./min and reduced at 500 ° C. for 30 minutes, but the reduction of molybdenum oxide (MO 3 ) to metal molybdenum did not proceed, and molybdenum oxide (MoO 3 ) A molybdenum oxide coating film according to Comparative Example 2 having a colorless and transparent metal oxide fine particle layer densely filled with metal oxide fine particles mainly composed of 3 ) was produced.

モリブデン酸化物塗布膜の無機化と還元処理の製造工程条件、及び得られる膜の膜質を表1に示す。また、作製したモリブデン酸化物塗布膜の諸特性を実施例1と同様に測定し、その結果を表2に示す。   Table 1 shows the manufacturing process conditions for the inorganicization and reduction treatment of the molybdenum oxide coating film, and the film quality of the obtained film. Further, various characteristics of the manufactured molybdenum oxide coating film were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

Figure 0005729611
Figure 0005729611

Figure 0005729611
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以上の実施例と比較例を比べると、実施例1、2と比較例1、2は、いずれも最終的に500℃の還元処理(3体積%水素−97体積%窒素雰囲気)を施されているが、実施例1、2では、無機化により生じた濃青色の低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を経由しているため、金属モリブデン微粒子が緻密に充填した金属光沢を有する金属モリブデン塗布膜が得られて、その膜抵抗値は低いのに対し、比較例1、2では、無機化により無色透明のモリブデン酸化物(MoO)が生成したため、金属モリブデンまでの還元が進まずにモリブデン酸化物微粒子が緻密に充填した無色透明のモリブデン酸化物塗布膜しか得られず、膜抵抗値が著しく高いことがわかる(実施例1、2の110Ω/□、200Ω/□に対し、比較例1、2は3×1010Ω/□、8×10Ω/□、なお、Ω/□はオーム・パー・スクエアと読む)。 Comparing the above Examples and Comparative Examples, Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were all finally subjected to a reduction treatment at 500 ° C. (3 vol% hydrogen-97 vol% nitrogen atmosphere). However, in Examples 1 and 2, since it passes through dark blue lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) generated by mineralization, the metallic luster in which the metal molybdenum fine particles are densely packed is obtained. In contrast, in Comparative Examples 1 and 2, a colorless and transparent molybdenum oxide (MoO 3 ) was generated by mineralization, so that the metal molybdenum coating was reduced. It can be seen that only colorless and transparent molybdenum oxide coating film densely packed with molybdenum oxide fine particles is obtained without proceeding, and the film resistance is remarkably high (in contrast to 110Ω / □ and 200Ω / □ in Examples 1 and 2). Comparative Example 1, Read the 3 × 10 10 Ω / □, 8 × 10 9 Ω / □, It should be noted, Ω / □ is ohms per square and).

実施例1と比較例1の比較では、いずれも最終的に500℃の還元処理(3体積%水素−97体積%窒素雰囲気)を施されているが、実施例1では、可視光線の全波長領域(380〜780nm)において、金属モリブデン塗布膜は高い反射率を有し、金属光沢を示しているのに対して、比較例1では、金属モリブデンまでの還元が進まずに無色透明のモリブデン酸化物塗布膜しか得らなかったため、酸化物薄膜の基板との干渉作用により450nm辺りの波長で高い反射率は有するものの、それ以外の波長領域では反射率は低く、金属光沢を示していないことがわかる。   In comparison between Example 1 and Comparative Example 1, all of them were finally subjected to reduction treatment at 500 ° C. (3 volume% hydrogen—97 volume% nitrogen atmosphere). In Example 1, all wavelengths of visible light were used. In the region (380 to 780 nm), the metal molybdenum coating film has a high reflectance and exhibits a metallic luster, whereas in Comparative Example 1, the reduction to the metal molybdenum does not proceed and the colorless and transparent molybdenum oxide is oxidized. Since only an object coating film was obtained, it has a high reflectance at a wavelength around 450 nm due to the interference action of the oxide thin film with the substrate, but the reflectance is low in other wavelength regions and does not show a metallic luster. Recognize.

さらに、実施例1、2の金属モリブデン塗布膜は、耐熱性基板への密着性、及び膜強度に優れていることがわかる。   Furthermore, it can be seen that the metal molybdenum coating films of Examples 1 and 2 are excellent in adhesion to a heat-resistant substrate and film strength.

本発明による金属モリブデン塗布膜は、各種塗布方法を用いて各種耐熱性基板上へ極めて安価に形成することが可能であり、得られる金属モリブデン塗布膜は、高い導電性と、優れた密着性と膜強度を有しているため、例えば、カルコパイライト型薄膜太陽電池の背面電極層、液晶ディスプレイやタッチパネルの配線電極等への利用が期待できる。   The metal molybdenum coating film according to the present invention can be formed on various heat resistant substrates at various costs using various coating methods, and the resulting metal molybdenum coating film has high conductivity and excellent adhesion. Since it has film strength, it can be expected to be used for, for example, a back electrode layer of a chalcopyrite thin film solar cell, a wiring electrode of a liquid crystal display or a touch panel, and the like.

Claims (4)

主成分として有機モリブデン化合物を含有する金属モリブデン塗布膜形成用塗布液を、耐熱性基板上に塗布して塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜を乾燥して乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を加熱処理により無機化、及び還元して、金属モリブデンを主成分とする金属微粒子層を形成する加熱還元工程の各工程を経て形成される、金属モリブデン塗布膜の製造方法であって、
前記加熱還元工程が、前記乾燥工程で形成された有機モリブデン化合物を主成分とする前記乾燥塗布膜に対し、まず250〜350℃の加熱処理を行い、前記乾燥塗布膜に含まれる有機成分を熱分解または燃焼、或いは熱分解並びに燃焼により除去した無機化により低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を主成分とする金属酸化物微粒子が緻密に充填した金属酸化物微粒子層を形成した後、更に還元性雰囲気中で450℃以上に昇温する還元処理を施し、前記低級モリブデン酸化物(MoO;2≦x<3)を還元して、金属モリブデンを主成分とする金属微粒子が緻密に充填した金属微粒子層を形成する工程であることを特徴とする金属モリブデン塗布膜の製造方法。
A coating process for forming a coating film by applying a coating solution for forming a metal molybdenum coating film containing an organic molybdenum compound as a main component onto a heat-resistant substrate, and a drying process for drying the coating film to form a dry coating film A method for producing a metal molybdenum coating film, wherein the dry coating film is mineralized and reduced by heat treatment to form a metal fine particle layer containing metal molybdenum as a main component. There,
In the heat reduction step, the dry coating film mainly composed of the organomolybdenum compound formed in the drying step is first subjected to a heat treatment at 250 to 350 ° C. to heat the organic components contained in the dry coating film. Forming a metal oxide fine particle layer densely filled with metal oxide fine particles mainly composed of lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3) by decomposition or combustion, or mineralization removed by thermal decomposition and combustion Thereafter, a reduction treatment is performed in which the temperature is raised to 450 ° C. or higher in a reducing atmosphere to reduce the lower molybdenum oxide (MoO x ; 2 ≦ x <3), thereby forming metal fine particles mainly composed of metal molybdenum. Is a step of forming a metal fine particle layer densely filled with metal molybdenum coating film.
前記有機モリブデン化合物が、アセチルアセトンモリブデン(モリブデン(VI)オキサイドビス−2,4−ペンタンジオネート)[MoO(C]であることを特徴とする請求項1に記載の金属モリブデン塗布膜の製造方法。 The said organic molybdenum compound is acetylacetone molybdenum (molybdenum (VI) oxide bis-2,4-pentandionate) [MoO 2 (C 5 H 7 O 2 ) 2 ]. A method for producing a metal molybdenum coating film. 前記還元性雰囲気が、水素ガス、若しくは、水素ガス或いは有機溶剤蒸気の少なくとも一種以上を含む中性ガスからなる雰囲気であり、前記中性ガスが窒素ガス、不活性ガスのいずれか一種以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の金属モリブデン塗布膜の製造方法。   The reducing atmosphere is an atmosphere comprising hydrogen gas or a neutral gas containing at least one of hydrogen gas or organic solvent vapor, and the neutral gas is at least one of nitrogen gas and inert gas. The method for producing a metal molybdenum coating film according to claim 1 or 2, wherein: 前記塗布工程における金属モリブデン塗布膜形成用塗布液の耐熱性基板上への塗布方法が、インクジェット印刷法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、ディスペンサ印刷法、スリットコート法、ダイコート法、ドクターブレードコート法、ワイヤーバーコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法のいずれかであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の金属モリブデン塗布膜の製造方法。   The coating method for forming the metal molybdenum coating film on the heat resistant substrate in the coating step is an inkjet printing method, a screen printing method, a gravure printing method, an offset printing method, a flexographic printing method, a dispenser printing method, a slit coating method. The metal molybdenum coating film according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating film is any one of a die coating method, a doctor blade coating method, a wire bar coating method, a spin coating method, a dip coating method, and a spray coating method. Manufacturing method.
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JP6618142B2 (en) * 2015-10-14 2019-12-11 小林 博 Method for producing a collection of pellets of synthetic resin covered with a collection of fine particles of metal or alloy, and method for forming a molded article of synthetic resin having properties of metal or alloy
JP2020025069A (en) * 2018-03-19 2020-02-13 株式会社リコー Coating solution for forming oxide, manufacturing method of oxide film, and manufacturing method of field-effect transistor
CN112029066B (en) * 2020-09-18 2022-06-17 苏州世华新材料科技股份有限公司 Rapid-curing polyurethane slow-resilience foam and preparation method thereof
CN117549691A (en) * 2024-01-10 2024-02-13 汕头超声显示器技术有限公司 Manufacturing method of light-transmitting pattern cover plate

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1072673A (en) * 1996-04-30 1998-03-17 Nippon Terupen Kagaku Kk Production of metallic paste and metallic coating
JP2005183653A (en) * 2003-12-19 2005-07-07 Jsr Corp Method for forming cigs-based solar cell and composition therefor
WO2011155635A1 (en) * 2010-06-08 2011-12-15 住友金属鉱山株式会社 Method for producing metal oxide film, metal oxide film, element using the metal oxide film, substrate with metal oxide film, and device using the substrate with metal oxide film

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