JP5711468B2 - 分散型及び一体型の噴流冷却機能を有する熱管理システム - Google Patents

分散型及び一体型の噴流冷却機能を有する熱管理システム Download PDF

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Description

本発明は、概して熱管理システムに関し、特に埋込環境において用いられる熱管理システムに関する。
埋込式電子システムを有する環境(以下、埋込環境又は被加熱環境)では、熱管理が問題となる。このようなシステムでは、通常運転の一環として、埋込式電子機器の適正な性能と信頼性とを得るために除去しなければならない廃熱が発生する。埋込式電子機器の冷却を行なう熱管理システムの設計は、空間が制限されるため、非常に難しい問題がある。埋込式電子システムには、シングルボードコンピュータ、プログラマブルロジックコントローラ(PLC)、オペレータインタフェースコンピュータ、ラップトップコンピュータ、携帯電話、携帯型情報端末(PDA)、パーソナルポケットコンピュータ及びその他の小型電子装置等が挙げられ、熱管理システムに利用できる空間の大きさは限られている。熱管理システムとして受動冷却式ヒートシンク又は強制空冷を用いて、電子部品からの熱除去を補助する方法は周知である。更に、電子部品によって生じる熱を、電子部品が取り付けられているプリント回路板に伝達することにより、より小さい面積からより大きい面積への熱の移動が達成されることも周知である。しかし、このような技術では、熱除去能力は限られている。
米国特許第7,269,471B2号
従って、埋込式電子システムの熱管理システムの改良が求められている。
本発明の一態様は、分散型噴流冷却機能を有するヒートシンクである。ヒートシンクは、少なくとも1つの被加熱体に熱接続するベースを含む。ヒートシンクは更に、ベースに熱結合する配列状のフィンを含む。少なくとも1つの多オリフィス型シンセティックジェット又は多数の単一オリフィス型ジェットが配列状のフィンの側部に設けられる。
本発明のまた他の態様は、分散型及び一体型噴流冷却機能を有するヒートシンクである。ヒートシンクは、少なくとも1つの被加熱体に熱接続するベースを含む。ヒートシンクは更に、ベースに熱結合する配列状のフィンを含む。少なくとも1組のフィンのそれぞれのフィンは、周囲流体をフィンとベースの周囲環境中に噴射するように構成されるシンセティックジェットからなる。
本発明の更に他の態様は、分散型及び一体型噴流冷却機能を有するヒートシンクである。ヒートシンクは、少なくとも1つの被加熱体に熱接続するベースと、ベースに熱結合する配列状のフィンとを含む。ヒートシンクは更に、それぞれのフィンに結合し、周囲流体をフィンとベースとの周囲環境中に噴射するように構成される多数のシンセティックジェットを含む。これらのシンセティックジェットは、少なくとも1組のフィンに設けられる。
上記及びその他の利点と特徴は、添付図面と関連して示される本発明の好適な実施形態の以下の詳細な説明により、より容易に理解されよう。
分散型噴流冷却機能を有するヒートシンクと、このヒートシンクのシンセティックジェットの部分拡大図である。 図1のヒートシンクに用いられる多オリフィス型シンセティックジェットの例示的な構成の図である。 図1のヒートシンクに用いられる例示的な多積層型シンセティックジェット組立体の図である。 可撓性チャンバ壁の収縮に呼応したチャンバからの周囲空気の放出を示す図である。 可撓性チャンバ壁の膨張に呼応したチャンバ内への空気の吸込みを示す図である。 本発明の実施形態のヒートシンクの第1のファン位置を示す図である。 本発明の実施形態のヒートシンクの第2のファン位置を示す図である。 分散型及び一体型噴流冷却機能を有する本発明のまた他の実施形態のヒートシンクの図と、このヒートシンクのシンセティックジェットにおける部分拡大図である。 図8のヒートシンクに用いられる一体型シンセティックジェットを有する単一板型フィンの略図である。 分散型及び一体型噴流冷却機能を有する本発明の他の実施形態のヒートシンクの図であると、このヒートシンクのいくつかのシンセティックジェットを示す部分拡大図である。 図10のヒートシンクに用いられる、シンセティックジェットの例示的な構造を示す断面図である。 図1〜5のヒートシンクのV溝構成を示す図である。 V溝板型フィン構成を示す図である。 ヒートシンクのベースへの熱結合が高められる図8〜9のフィンの具体的な構成を示す図である。
図1に、分散型噴流冷却機能を有するヒートシンク10を示す。例えば図1に示すように、ヒートシンクは、少なくとも1つの被加熱体20に熱接続するベース12を含む。被加熱体20は、冷却を必要とするいかなる物であって良く、その非限定的な例には、高性能処理装置及びパワーエレクトロニクス等を挙げられる。ベース12(底板又はシンク板)は、当該技術分野において周知の様々な熱伝導材料により形成される。ヒートシンク10は更に、ベースに熱結合する配列状のフィン14を含む。これらのフィンは、例えば図1に示すように、「ピン型フィン」の二次元配列体として構成される。その他の構成において、フィン14は、例えば図6及び7に示すように、フィンの間にスロットを形成する「板型フィン」の一次元配列体の形態をとる。簡潔に言えば、被加熱体20からの熱はベース12に伝達され、更に、ベースがフィン14に熱を伝達する。フィン14により、熱伝達のための表面積が拡大されて、被加熱体20が冷却される。
図の例において、ヒートシンク10は更に、配列状のフィンの側部15、16に設けられる少なくとも1つの多オリフィス型シンセティックジェット30を含む。その他の例示的な構成では、多数の単一ジェットが、配列状のフィンのそれぞれの側部15、16に設けられる。これらの多数の単一ジェットは、単一のオリフィスを含むことを除いて、本明細書に記載の多オリフィス型シンセティックジェットと同様である。図2に示す例では、多オリフィス型シンセティックジェット30の各々は、第1の可撓構造32と、第2の可撓構造34と、第1及び第2の可撓構造の少なくとも一方に結合する少なくとも1つの活物質36と、第1及び第2の可撓構造間に配置されてチャンバを形成する弾性壁38とからなる。図2に示すように、弾性壁は多数のオリフィス39を形成して、チャンバとフィン14の周囲環境との間における流体連通を容易にする。図2に示すオリフィスの数は例示にすぎず、これに限定されるわけではないことに注意されたい。非限定的な一例において、弾性壁38はエラストマーからなる。弾性壁38のその他の例示的な材料には、ポリマー、にかわ、接着剤、金属及び複合材料等を挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
図2の例示的な構成において、活物質36は、第1及び第2の可撓構造32、34の両方に配置される。図示の可撓構造32、34上における活物質36の位置は、純粋に例示的なものであって、本発明は活物質のいかなる特定の位置にも限定されないことに注意されたい。具体的な実施形態において、活物質はそれぞれの可撓構造と同一の広がりを持つ。その他の実施形態において、活物質は可撓構造の単に一部分の上に延在する。活物質は、単一の連続部分の形態をとる。あるいは、多数の不連続部分状の活物質を用いて、それぞれの可撓構造を作動させることもできる。適切な活物質は、電気刺激によって応力を生成することができる物質である。
適切な活物質の例として、圧電材料、磁わい材料(コイルによる磁場が互いに引き付け合う/反発し合う)、形状記憶合金及びモータ不平衡(質量不平衡を有するモータは揺動運動を生成する)等が挙げられる。組をなす圧電材料において、適切な活物質は、2つの圧電層が位相外れで付勢されて屈曲が生じるバイモルフ圧電構成、1つの圧電層が予応力ステンレス鋼シムの上に設けられるサンダー構成、1つの圧電層が黄銅シムの上に設けられるブザー素子構成、及びフレキシブル回路上の圧電繊維複合材料がシムに接合されるMFC構成を含む。活物質には、セラミック材料が組み込まれる。
図3に示すように、ヒートシンク10は、単一又は多オリフィス型シンセティックジェット30の積層体60を含む。図1を参照して説明した構成と同様に、積層体60は、配列状のフィン14の側部15、16の一方に設けられる。図3では、2つの多オリフィス型シンセティックジェットの積層体を示すが、積層体60は、冷却用途(例えばフィン14の高さ)によって、いかなる数のシンセティックジェットを含んでも良い。シンセティックジェット30は、図3に示すように、スペーサ42によって分離される。非限定的な一例において、スペーサ42はプラスチックからなる。
図1に概略的に示すように、シンセティックジェット駆動装置40を設けて、少なくとも1つの活物質36に電流を印加して、周囲空気流を生じさせる。シンセティックジェット駆動装置40は、例えば電線又は可撓性相互接続部を用いて活物質136に電気的に結合する。簡潔に言えば、シンセティックジェット駆動装置40からの電流を活物質により受け、機械エネルギーに変換される。例えば図4に示すように、活物質36は、可撓壁32、34に対する応力を生成して、該可撓壁を内方に撓ませて、チャンバ容積の変化とチャンバ70内への周囲空気の流入とを引き起こすと共に、該可撓壁を外方に撓ませて、周囲空気をチャンバ70からオリフィス39を介して噴射する。同様に、図5に示すように、活物質36が可撓性チャンバ壁32、34に対する応力を生成して該可撓性チャンバ壁を膨張させ、その結果チャンバ容積のまた別の変化を引き起こすと、周囲空気はチャンバ70内にオリフィス39を介して引き込まれる。このような態様で、駆動装置40はジェット30を作動させる。
シンセティックジェット駆動装置40は、その他のヒートシンク要素と同じ位置に配置されても良く、又は離れて配置されても良い。電流は、正弦波、方形波、山形波又は何らかのその他の適切な波形として供給され、この電流は、いかなる特定の波形にも限定されないことを理解されたい。しかし、例えば正弦波等のより低い調波を有する電流を用いると、より静かなシンセティックジェット30が得られることが分かった。電流の電圧レベルは、1〜150ボルトの範囲内とされるが、これに限定されるわけではない。電流の周波数は、騒音の低減を要する実施形態では2〜300ヘルツの範囲内、騒音レベルの低減を要さない実施形態では300ヘルツ〜15キロヘルツの範囲内とされる。
図1に示す例示的な構成では、ヒートシンク10は、配列状のフィン14のそれぞれの側部15、16に設けられる多数の多オリフィス型シンセティックジェット30を含む。特に、図1の構成では、配列状のフィン14のそれぞれの側部15、16に設けられる、2つの多オリフィス型シンセティックジェット30がある。図1の矢印で示すように、この例示的な構成において、オリフィスは、空気をフィン14間で誘導し、且つ空気をフィン14間から引き込むように設けられる。
オリフィス39は、所望の冷却流及び配列状のフィン14の構成によって、様々な配置に構成される。一つの例示的な構成では、少なくとも1組のオリフィス39は、周囲流体を直接フィン14に噴射するように配置される。また他の例示的な構成では、少なくとも1組のオリフィス39は、フィン14の対向面11に対して横向きの角度をなして配向される。ある一定の構成では、周囲流体は、例えば図4に示すように、フィン14の平面に対して垂直に噴射される。
例えば図6に示すように、具体的な実施形態において、ヒートシンク10は更に、配列状のフィン14の入口及び出口側21、23の一方に設けられるファン50を含む。ファン50はフィン14を介して周囲流体を引き込むように構成され、ファン50によって引き込まれる周囲流体は、多オリフィス型シンセティックジェット又は多数の単一ジェットから噴射される周囲流体と相互作用して、冷却作用を無噴流状態と比べて更に少なくとも10%高める。フィン14の入口側21にファン50を設ける構成では、ファン50は、流れを配列状のフィンの方へと付勢するように構成される。同様に、配列状のフィンの出口側23に設けられるファン50は、配列状のフィンを介して流れを引き寄せるように構成される。図7では、ファン50が配列状のフィン14の上に設けられ、周囲流体をフィン14に吹き付けるように構成されるまた他の構成を示す。
多数の異なるフィンの構成が、図1〜5のヒートシンクに用いられる。図1に示す構成では、フィン14はピン型フィンであり、規則的な配列で配置される。図12では、フィン14が千鳥配置されて(偏移して)V溝冷却構成をなす、図1〜5のヒートシンクのまた他のピン型フィン構成を示す。図13はV溝板型フィン構成を示す。特定の状況下において、コンピュータシミュレーションの結果から、V溝構成は、例えば図6及び7に示す従来の板型フィン構成と比べて、性能が30パーセント向上することが分かった。冷却作用が向上するのは、主に、ヒートシンクのV溝フィン配列では渦流がより効率的に制限されるからである。ファンからの空気流とは異なり、渦双極子を取り巻く流れ場は、一般的にヒートシンクのフィンの隙間に対して平行ではない速度ベクトルによって構成される。その結果、これらの渦流が従来の(溝を有さない)ヒートシンクに接近する時、その局所接近速度がフィンの隙間と十分に整合せず、隙間における空気への運動量の不完全な伝達が引き起こされる。V溝形成は、双極子内に含まれる運動量の取り込みを向上させると共に、ヒートシンクからの熱伝達を高める。図12及び13では、対称なV溝を有するV溝構成を示すが、本発明はこれらの構成に限定されるわけではなく、非対称のV溝構成も用いられ得ることに注意されたい。同様に、図12及び13では、ジェットのそれぞれの中心線と整合する中心線を有するV溝を示すが、V溝の中心線がジェットの中心線から偏移する偏移構成も用いられ得る。同様に、これらの構成を組み合わせたもの(それぞれのジェットに関して偏移する非対称のV溝)も用いられ得る。
図8〜9に、分散型及び一体型噴流冷却機能を有する本発明の実施形態のまた他のヒートシンク100を示す。例えば図8に示すように、ヒートシンク100は、少なくとも1つの被加熱体20に熱接続するベース12を含む。上述のように、本発明は特定の種類の被加熱体の冷却に限定されるのではなく、むしろ様々な被加熱体の冷却に用いられる。ヒートシンク100は更に、ベース12に熱結合する配列状のフィン114を含む。図8に示す例示的な構成では、「板型フィン」の二次元配列体が用いられる。少なくとも1組のそれぞれのフィンは、周囲流体をフィンとベースとの周囲環境中に噴射するように構成されるシンセティックジェット102を含む。特定の実施形態において、シンセティックジェット102はフィン114の各々に組み込まれる。シンセティックジェット102を図8により詳細に示す。
図11に、図8のヒートシンクに用いられる一体型シンセティックジェットを有する単一板型フィン114を概略的に示す。図9に示すように、一体型ジェット102を有するフィン114の各々は、第1の可撓構造132と、第2の構造134と、第1の可撓構造132に結合する少なくとも1つの活物質136とからなる。活物質136については、ヒートシンク10を参照して上述している。図8〜9の一体型の実施形態において、可撓構造132、134の例示的な材料には、アルミニウム及び銅等の金属を基本とする材料、複合構造、例えば炭素繊維充填材料、及び熱伝導性ポリマーを基本とする材料が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。弾性壁138は、第1及び第2の構造132、134間に配置されることで、チャンバを形成する。弾性壁138は、チャンバと周囲環境との間における流体連通を容易にする少なくとも1つのオリフィス139を形成する。
より具体的な実施形態によれば、第2の構造134は可撓性であり、活物質136は第1及び第2の可撓構造132、134の少なくとも一方に結合する。より具体的な実施形態において、活物質136は両方の可撓構造132、134にも結合し、これらの両方の壁が作動する。上述のように、活物質は単一の連続部分の形態をとり得る。あるいは、多数の不連続部分状の活物質を用いて、それぞれの可撓構造を作動させても良い。
図14に、ヒートシンクのベースへの熱結合が高まる、図8〜9のフィン114の具体的な構成を示す。図14の例示的な構成において、一体型ジェットを有するフィン114の各々は更に、第1及び第2の構造132、134間に延在すると共にフィンをベース12に熱結合させるように設けられる少なくとも1つの熱伝導部140を含む。図14に示す例示的な例において、フィン114は2つの熱伝導部140を含む。熱伝導部140の材料の非限定的な例として、銅等の金属が挙げられる。例示的な構成において、熱伝導部140は、例えばろう付けによって底板に取り付けられる。
図9に示す例では、1つ以上のシンセティックジェット102を作動させるために、少なくとも1つのシンセティックジェット駆動装置40が設けられる。シンセティックジェット駆動装置40は、例えば電線又は可撓性相互接続部を用いて活物質136に電気的に結合する。上述のように、シンセティックジェット駆動装置40は、その他のヒートシンク要素と同じ位置に配置されても良く、又は離れて配置されても良い。シンセティックジェット102の作用は、図4及び5を参照して上述した多オリフィス型シンセティックジェット30の作用と同様である。
図8〜9及び14を参照して説明した実施形態のヒートシンク100の利点には、より大きい表面積を有する小型で比較的軽量の設計であることが挙げられる。また、この設計は、活物質が本質的にフィンによって保護されるという点において、丈夫である。
更に、シンセティックジェット102は、用途によって、単独で、又は1つ以上のファン50と組み合わせて用いられる。図6を参照して上述したように、ファン50は、配列状のフィン114の入口及び出口側121、123の一方に設けられる。ファンはフィン114を介して周囲流体を引き込むように構成され、ファン50によって引き込まれる周囲流体がシンセティックジェット102から噴射される周囲空気と相互作用して、冷却作用が更に高められるようになっている。同様に、図7を参照して上述したように、ファン50は、配列状のフィン114の上に設けられ、周囲流体をフィン114に吹き付けるように構成される。
図10〜11に、分散型及び一体型噴流冷却機能を有する本発明のまた他のヒートシンク200の実施形態を示す。例えば図10に示すように、ヒートシンク200は、少なくとも1つの被加熱体20に熱接続するベース12を含む。上述のように、被加熱体20は、冷却を必要とするいかなる物であって良い。ヒートシンク200は更に、ベース12に熱結合する配列状のフィン214を含む。少なくとも1組のフィンは、周囲流体をフィン214とベース12との周囲環境中に噴射するように構成されるシンセティックジェット202を含む。図10に示す例示的な構成において、フィン214の各々は、シンセティックジェット202に結合する。しかし、その他の構成(図示せず)では、シンセティックジェット202は、1組のフィン214に関してのみ設けられる。
図11に、図10のヒートシンクに用いられるシンセティックジェット202の例示的な構成の断面図を示す。図11に示す例示的な構成において、シンセティックジェット202は、少なくとも1つの可撓構造232と、第2の構造234と、可撓構造232に結合する少なくとも1つの活物質236とからなる。弾性壁238は、可撓構造232と第2の構造234との間に配置されることで、チャンバを形成する。弾性壁は、参照符号239で示される少なくとも1つのオリフィスを形成して、チャンバと周囲環境との間における流体連通を容易にする。例示的な活物質と弾性壁の材料については上述している。可撓構造232、234の例示的な材料には、金属、導電性ポリマー及びプラスチックが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
図11に示す例示的な構成では、第2の構造234は第2の可撓構造234からなり、活物質236は、第1及び第2の可撓構造の少なくとも一方に結合する。図11に示す具体的な構成では、活物質236は両方の可撓構造232、234に結合して、例えば電流の印加と同時に両方の構造が作動するようになっている。更に、図11に示す構成では、第2の可撓構造234は、シンセティックジェット202が非作動状態にある時に、隙間216によりフィン214の表面211から分離される。
シンセティックジェット202の作用は、図4及び5を参照して上述したシンセティックジェット30の作用と同様である。一般に、シンセティックジェット駆動装置40が設けられて、少なくとも1つの活物質236に電流が印加されて、周囲空気流が形成される。シンセティックジェット駆動装置40は、例えば電線又は可撓性相互接続部を用いて活物質236に電気的に結合する。簡潔に言えば、シンセティックジェット駆動装置40による電流の印加と同時に、活物質236は、可撓壁232に対する応力を生成して、可撓壁232を内方に撓ませて、チャンバ容積の変化とチャンバ270内への周囲空気の流入とを引き起こすと共に、該可撓壁を外方に撓ませて、周囲空気をチャンバ270からオリフィス239を介して噴射する。同様に、活物質236が可撓性チャンバ壁232に対する応力を生成して該可撓性チャンバ壁を膨張させ、その結果チャンバ容積のまた別の変化を引き起こすと、周囲空気はチャンバ270内にオリフィス239を介して引き込まれる。このような態様で、駆動装置40はジェット202を作動させる。上述のように、シンセティックジェット駆動装置40は、その他のヒートシンク要素と同じ位置に配置されても良く、又は離れて配置されても良い。電流は、正弦波、方形波、山形波又は何らかのその他の適切な波形として供給され、この電流は、いかなる特定の波形にも限定されないことを理解されたい。
更に、シンセティックジェット202は、用途によって、単独で、又は1つ以上のファン50と組み合わせて用いられる。図6を参照して上述したように、ファン50は、配列状のフィン214の入口及び出口側221、223の一方に設けられ、ファンは、フィンを介して周囲流体を引き込むように構成され、ファンによって引き込まれる周囲流体がシンセティックジェットから噴射される周囲空気と相互作用して、冷却作用が更に高められる。同様に、図7を参照して上述したように、ファン50は、配列状のフィン214の上に設けられ、周囲流体をフィンに吹き付けるように構成される。
限られた実施形態のみに関して本発明を詳細に説明してきたが、本発明がこのような開示の実施形態に限定されないことは容易に理解されよう。むしろ、本発明を改変して、上述されていないが本発明の精神及び範囲に相応するいかなる変形、改変、代替又は等価構成を組み込むことができる。また、本発明の様々な実施形態を説明してきたが、本発明の態様は、上述の実施形態の一部のみを含むことを理解されたい。従って、本発明は、上述の説明に限定されるのではなく、添付の特許請求の範囲によってのみ制限される。

Claims (5)

  1. 分散型噴流冷却機能を有するヒートシンク(10)において、
    少なくとも1つの被加熱体(20)に熱接続するベース(12)と、
    前記ベースに熱結合する配列状のフィン(14)と、
    前記配列状のフィンの第1の側部(15)及び該第1の側部と対向する第2の側部(16)に該フィンに組み込まれて設けられる一対の多オリフィス型シンセティックジェット(30)
    を備えるヒートシンク(10)。
  2. 前記多オリフィス型シンセティックジェットの各々は、
    第1の可撓構造(32)と、
    第2の可撓構造(34)と、
    前記第1及び第2の可撓構造の少なくとも一方に結合する少なくとも1つの活物質(36)と、
    前記第1及び第2の可撓構造間に配置されてチャンバを形成する弾性壁(38)であって、複数のオリフィス(39)を形成して、前記チャンバと前記フィンの周囲環境との間における流体連通を容易にする弾性壁(38)とを備える、請求項1に記載のヒートシンク(10)。
  3. 前記フィン(14)は、ピン型フィンからな、請求項1または2に記載のヒートシンク(10)。
  4. 前記配列状のフィン(14)の上に設けられ、周囲流体を前記フィンに吹き付けるように構成されるファン(50)を更に備える、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のヒートシンク(10)。
  5. 前記フィン(14)は板型フィンからなる、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のヒートシンク(10)。
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