JP5703070B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1から図3は、それぞれ本発明の実施の形態における基板処理装置1の構成の一例を示す正面図、平面図、および側面図である。基板処理装置1は、いわゆるバッチ式の装置であり、複数の基板に一括して処理を施す。
図4は、排気部60の構成の一例を示す斜視図である。図5から図7は、図2のV−V線から見た処理部40および排気部60付近の正面断面図である。ここでは、処理部40および排気部60の詳細な構成について説明する。
図8および図9は、保持部20の構成の一例を示す側面図である。ここでは、搬送ロボット10の構成について説明する。
以上のように、本実施の形態における基板処理装置1において、単一の搬送ロボット10は、本体部12およびアーム部13を有しており、各処理槽41、42は、この搬送ロボット10の可動範囲内となるように、複数の基板Wの搬送空間8に配置されている。これにより、搬送ロボット10は、複数の基板Wを、各処理槽41、42の配置によらず、任意の順番で、各処理槽41、42に対応して貯留された処理液に、浸漬することができる。そのため、各処理液によるバッチ式の基板処理が、任意の順番で実行できる。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
1a ハウジング
8 搬送空間
10 搬送ロボット
12 本体部
13 アーム部
13a 軸心
20 保持部
21(21a、21b) ハンド
22(22a、22b) 揺動部
23(23a、23b) 軸心
30 ローダ・アンローダ部
40 処理部
40a 処理チャンバ
41(41a〜41c) 処理槽(第1処理槽)
42(42a〜42c) 処理槽(第2処理槽)
43(43a〜43c) 蓋部
44(44a〜44c)、45(45a〜45c) 開口
60 排気部
61(61a〜61f) 分岐ダクト(第1排気ダクト)
62 共通ダクト(第2排気ダクト)
64(64a、64b)、65(65a、65b) 排気口
66 排気口(第2排気口)
70 乾燥部
90 制御部
C キャリア
W 基板
Claims (8)
- (a) 複数の処理槽と、
(b) 複数の基板を各処理槽に一括搬送することによって、各処理槽に対応して貯留された処理液に前記複数の基板を浸漬する単一の搬送ロボットと、
を備え、
前記単一の搬送ロボットは、
(b-1) 本体部と、
(b-2) 屈伸するとともに、前記本体部に対して回動することによって、前記本体部から離隔して配置された各処理槽に向かって伸びるアーム部と、
を有し、
前記複数の処理槽のそれぞれは、前記単一の搬送ロボットの可動範囲内となるように、前記複数の基板の搬送空間に配置され、
前記単一の搬送ロボットは、
(b-3) 前記アーム部の先端付近に設けられており、前記アーム部の延伸方向から見て前記本体部と逆側に突出する位置で前記複数の基板を保持するとともに、保持された前記複数の基板を前記処理液に浸漬させる保持部、
を有し、
前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットと近接する第1処理槽は、前記処理液として洗浄液を貯留し、
前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットから見て前記第1処理槽より遠方側に配置された第2処理槽は、前記処理液として薬液を貯留することを特徴とする基板処理装置。 - (a) 複数の処理槽と、
(b) 複数の基板を各処理槽に一括搬送することによって、各処理槽に対応して貯留された処理液に前記複数の基板を浸漬する単一の搬送ロボットと、
を備え、
前記単一の搬送ロボットは、
(b-1) 本体部と、
(b-2) 屈伸するとともに、前記本体部に対して回動することによって、前記本体部から離隔して配置された各処理槽に向かって伸びるアーム部と、
を有し、
前記複数の処理槽のそれぞれは、前記単一の搬送ロボットの可動範囲内となるように、前記複数の基板の搬送空間に配置され、
前記複数の処理槽は、格子状に配置され
前記単一の搬送ロボットは、
(b-3) 前記アーム部の先端付近に設けられており、前記アーム部の延伸方向から見て前記本体部と逆側に突出する位置で前記複数の基板を保持するとともに、保持された前記複数の基板を前記処理液に浸漬させる保持部、
を有し、
格子状に配置された前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットと近接する第1列に配置された第1処理槽は、前記処理液として洗浄液を貯留し、
格子状に配置された前記複数の処理槽のうち、前記単一の搬送ロボットから見て前記第1列より遠方の第2列に配置された第2処理槽は、前記処理液として薬液を貯留することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、
前記保持部は、前記複数の基板が格納されたキャリアを把持し、
前記キャリアは、前記保持部により把持された状態で、搬送され、前記処理液に浸漬されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
(c) 少なくとも前記第2処理槽が配置された処理チャンバと、
(d) 前記処理チャンバの上部に形成された開口に沿って設けられるとともに、第1排気口が形成されており、前記開口付近から前記第1排気口を介して吸い込まれた薬液雰囲気が流通する第1排気ダクトと、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4に記載の基板処理装置において、
(e) 前記処理チャンバと連通接続されており、前記処理チャンバ内の薬液雰囲気が、吸い込まれ、かつ、流通する第2排気ダクト、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4または請求項5に記載の基板処理装置において、
(f) 前記開口を閉鎖可能とされた蓋部、
をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項6のいずれかに記載の基板処理装置において、
(g) 処理されていない前記複数の基板を収容するとともに、処理済みの前記複数の基板を収容するローダ・アンローダ部、
をさらに備え、
前記単一の搬送ロボットは、前記複数の処理槽および前記ローダ・アンローダ部のそれぞれの間で、前記複数の基板を受け渡すことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から請求項6のいずれかに記載の基板処理装置において、
(g) 処理されていない前記複数の基板を収容するローダ部と、
(h) 処理済みの前記複数の基板を収容するアンローダ部と、
をさらに備え、
前記単一の搬送ロボットは、前記複数の処理槽、前記ローダ部、および前記アンローダ部のそれぞれの間で、前記複数の基板を受け渡すことを特徴とする基板処理装置。
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